电镀系列之一:孔金属化技术,PCB板普通镀铜工艺

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制作PCB板孔镀锡27878

制作PCB板孔镀锡27878
→粗化→水洗→预浸→活化处理→水洗→加速处 理→水洗→化学镀铜→二级逆流漂洗→水洗→ 浸 酸→ 电镀铜加厚→ 水洗 →干澡
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孔金属化技术
❖ 7.5.1 双面印制板一次化学镀厚铜
❖ 1.用液体感光胶(抗电镀印料)制作双面电路图形。然后 蚀刻图形。
❖ 2.网印或幕帘式涂布液体感光阻焊剂,制出阻焊图形 ❖ 3.再用液体感光胶涂布板面,用阻焊底片再次曝光,显
1.技术原理 ❖ (1) 吡咯的导电机理 ❖ (2)覆铜板上覆盖聚吡咯膜 ❖ (3) 导电膜上电镀铜原理
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孔金属化技术
❖ 2.工艺概述
❖ 使用导电性有机聚合物的直接金属化工艺称之为 DMSⅡ(Direct Metallization SystemⅡ)工艺.它可以分 为前处理,生成导电性聚合物膜和酸性硫酸铜电镀三个基 本阶段,.
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孔金属化技术
❖ 7.3.1等离子体处理法
1.等离子体去钻污凹蚀原理 ❖ 等离子体是电离的气体,整体上显电中性,是一种带电粒
子组成的电离状态,称为物质第四态。 2.等离子体去钻污凹蚀系统 ❖ 印制板专用的等离子体化学处理系统-等离子体去腻污凹
蚀系统
孔金属化双面电路互连型
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等离子体处理工艺过程
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孔金属化技术
❖ 7.7.3碳黑系列――C黑导电膜。 取消化学镀铜工艺的直接电镀工艺的研究,其中较为
成熟的工艺之一是利用碳黑悬浮液的直接电镀,碳黑/石墨 基直接金属化是以石墨为分散相的所谓黑孔化技术。
其工艺程序为: ❖ 1)采用碳黑悬浮液涂覆PCB ❖ 2)干燥,彻底除去碳黑悬浮液中的悬浮介质,在PCB孔壁上
孔金属化技术
1
概述
2
钻孔技术

PCB工艺电镀一次铜工艺介绍

PCB工艺电镀一次铜工艺介绍
35
PANEL PLATING PROCESS
1000
WHAT IS PULSE PLATING? Amps 0
-1000
电流以脉冲的方式输出,达到瞬间
-2000
反电解的效果,使电路板上高电流
-3000
Amps
区造成之差异减至最低。
0.5 sec 10 sec
36
PANEL PLATING PROCESS DC 与 PULSE电镀间的差异
Manganate:
Mn6+ + 4 e- Mn2+
Manganese dioxide:
Mn4+ + 2 e- Mn2+
還原劑可以為 Glyoxal, H2O2 or Hydroxylamine sulfate.
insoluble MnO2
Cu
Mn2+ (soluble)
Cu
9
DESMEAR PROCESS Neutralizer / 中和槽 :
DEBURR设备配置图:
风刀 超音波 风刀 刷磨段
水洗 高压水洗 水洗 超音波 中压 水洗
5
除胶渣(DESMEAR)
WHAT IS SMEAR?
钻孔时树脂产生高温超过Tg
值,而形成融熔状,冷却后
凝固形成胶渣。
Cu
功能 :
去除鑽孔後殘留孔內之基材膠渣 形成孔壁微粗糙度
DESMEAR基本流程:
Sweller
H O
+HNH +HNH +HNH +HNH
Positive charged conditioning polymer
10
DESMEAR PROCESS DESMEAR 后以电子显微镜观察之孔壁粗化清洁情形

PCB电镀铜锡工艺资料

PCB电镀铜锡工艺资料
n 高电流密度区烧焦,中高电流密度区无光泽----Copper Gleam 125T2(CH) Additive 非常低 n改正方法:添加2-3ml/l Copper Gleam 125T-2(CH) Additive
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电镀铜溶液的控制
n 赫尔槽试验(Hull Cell Test)
n仅高电流密度区烧焦,试片的其它区域仍然正常----Copper Gleam 125T-2(CH) Additive 低 n改正方法:添加1ml/l Copper Gleam 125T-2(CH) Additive
: 濃度太低,Байду номын сангаас液導電性差,鍍液分 散能力差。
濃度太高,降低Cu2+的遷移率,電流 效率反而降低,❹對銅鍍層的延伸 率不利。
: 濃度太低,鍍層出現台階狀的粗糙 鍍層,易出現針孔和燒焦;濃度太 高,導致陽極鈍化,鍍層失去光澤 。
: (後面專題介紹)
11
操作條件對酸性鍍銅效果的影響
溫度
溫度升高,電極反應速度加快,允許電流密度提高,鍍 層沉積速度加快,但加速添加劑分解會增加添加劑消耗,鍍層結 晶粗糙,亮度降低。
31
电镀铜溶液的控制
n 赫尔槽试验 (Hull Cell Test)
阴极-
阳极+
32
电镀铜溶液的控制
n 赫尔槽试验(Hull Cell Test)参数
n — 电流: 2A n — 时间: 10分钟 n — 搅拌: 空气搅拌 n — 温度: 室温
33
电镀铜溶液的控制
n 赫尔槽试验(Hull Cell Test)
28
电镀铜溶液和电镀线的评价
n 热冲击测试
测试步骤
(1) 裁板16""x18"’ (2) 进行钻孔; (3) 经电镀前处理磨刷; (4) Desmear + PTH + 电镀; (5) 经电镀后处理的板清洗烘干; (6) 每片板裁上、中、下3小片100mm x 100mm测试板;

PCB孔金属化与电镀

PCB孔金属化与电镀

PCB孔金属化与电镀讲座提纲1孔金属化孔金属化是指在PCB生产中使孔导通而达到层间互连的重要课题和关键工种(序)。

孔是PCB在制板经钻孔(机械或激光等方法)而形成的,而孔金属化主要是把孔壁非导体部分形成导电层。

1.1 孔的结构与质量⑴孔的结构。

经钻孔过的孔壁是由环状的铜层截面和介质材料(一般为树脂和玻纤布等组成)层截面组成的。

铜环截面有着厚度的差别。

介质层截面有着树脂类型差别和玻纤布结构不同。

⑵孔的质量。

孔的质量是指孔壁的质量,主要是指孔壁的粗糙度和污染(钻污)程度。

①孔壁粗糙度。

主要是由钻头(嘴)质量和钻孔参数来决定的。

孔壁粗糙度要求将随着孔径减小而缩小,一般为孔径的10%左右。

实际上,由于孔的减小,孔壁粗糙度要求由过去40∽50µm减小到≤20µm,以保证导通的可靠性。

的树脂)②孔壁污染程度。

当钻头高速旋转时,由于发热引起树脂(特别是低Tg融(熔)化或焦化,从而在孔壁上形成一层薄的介质材料,不仅影响孔金属化进行,而且影响导通孔的可靠性。

1.2 去钻污方法从去钻污发展过程来看,有以下几种方法。

⑴浓硫酸去钻污方法。

利用浓硫酸的强氧化性来清除去孔壁上的树脂污染。

浓硫酸去钻污有效浓度为92∽98%之间,实际上,低于95%浓度的浓硫酸去钻污速度(率)太低,时间太长,因而大多采用≥95%浓度的浓硫酸去钻污。

由于浓硫酸极易吸收空气中的水分而使浓硫酸浓度迅速下降和波动,难以保证去钻污质量,因而也难以实现自动化生产。

同时,由于浓硫酸的粘度大,均匀性处理效果差,而细小孔去钻污根本无法实现。

加上浓硫酸有强烈的腐蚀性,特别要注意劳动保护与条件。

⑵铬酸去钻污方法。

利用铬酸的强氧化性清除孔壁上的树脂钻污。

此法优于浓硫酸,可自动化生产。

但铬酸污染性大,较难于处理。

同时,经铬酸处理的树脂表面光滑,结合力不强。

⑶高锰酸钾处理方法。

利用高锰酸钾的强氧化性而除去污染的树脂。

其加工步骤如下。

①溶胀(swelling)。

pcb线路板电镀工艺流程

pcb线路板电镀工艺流程

pcb线路板电镀工艺流程下载温馨提示:该文档是我店铺精心编制而成,希望大家下载以后,能够帮助大家解决实际的问题。

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PCB电镀-化铜

PCB电镀-化铜

此六图均为SAP 3+2+3切片图;左上为1mil细线与内核板之50倍整体画面。中上 为200倍明场偏光画面,右上为暗场1000倍的呈现,其黑化层清楚可见。左下为 1000倍常规画面,中下为200倍的暗场真像。右下为3000倍ABF的暗场画面,底垫 为1/3oz铜箔与厚电镀铜,铜箔底部之黄铜层以及盲孔左右之活化钯层与化铜层均 清晰可见。
7.盲孔外层孔环 8.通孔孔径 9.通孔孔环 10.Build-up层厚度 11.Core层厚度
印刷电路板各种产品的技术规格要求
PCB类别 最小线宽/线距 最小孔径 孔位精度 曝光对位精度
Desktop PC
100/100μm
0.25mm 0.20mm 盲孔120 μm 0.15mm 盲孔100 μm 盲孔75μm
PTH 孔金属化 传统的 PTH
去钻污 – Securiganth P/P500/MV/BLG
工艺流程 – 功能
只有三个工艺步骤:
溶胀 高锰酸盐 蚀刻 还原


溶胀
使树脂易被高锰酸盐蚀刻攻击


高锰酸盐蚀刻
去除钻污和树脂


还原
除去降解产物和清洁/处理表面. (清洁 / 蚀刻玻璃)
去钻污 – Securiganth P/P500/MV/BLG
去钻污 – Securiganth P/P500/MV/BLG
高锰酸盐蚀刻 – 溶胀之后 – 不经过蚀刻
去钻污 – Securiganth P/P500/MV/BLG
高锰酸盐蚀刻 – 150 秒蚀刻之后
去钻污 – Securiganth P/P500/MV/BLG
高锰酸盐蚀刻 – 240 秒蚀刻之后
还原之后
传统的 PTH

pcb过孔镀铜

pcb过孔镀铜

pcb过孔镀铜过孔镀铜是在印刷电路板(PCB)制造过程中的关键步骤之一。

它涉及将铜沉积在PCB的过孔内壁,以提供良好的导电性和连接性。

本文将探讨过孔镀铜的工艺和应用。

1. 什么是PCB过孔镀铜过孔是PCB上用于贯穿不同层的电气连接的孔。

它们在电子设备中起到重要的连接作用。

过孔镀铜是指通过电化学方法,在过孔内部形成一层致密、均匀的铜层,从而增加导电能力和强度。

2. PCB过孔镀铜的工艺流程(1)准备工作:包括待镀PCB的清洁、去脂和表面处理等,以确保铜能够牢固附着在过孔内壁上。

(2)化学镀液准备:根据制造要求,配制适当的化学镀液,并调整好温度和PH值等参数。

(3)装载工作:将清洁好的PCB放入镀液槽中,并使用夹具、网篮等装载上下料工具,以保证均匀镀铜。

(4)电化学镀铜:在设定的参数设置下,将PCB浸入镀液中,通电进行电化学反应,将铜离子还原并沉积在过孔内部。

(5)清洗和后处理:将镀好铜的PCB进行清洗、中和和除膜等处理,去除多余的铜和表面残留物。

3. PCB过孔镀铜的优点(1)良好的导电性:通过过孔镀铜,可以在PCB内形成连续的导电路径,保证信号和电力传输的可靠性。

(2)良好的连接性:过孔镀铜可使不同层之间的电气连接更加牢固,增强PCB的机械强度和可靠性。

(3)提高抗氧化性:过孔镀铜还可以有效降低PCB过孔和铜层的氧化水平,延长PCB的使用寿命。

(4)适应多层设计:在多层PCB设计中,过孔镀铜可以实现不同层之间的信号、电力和接地等电路的有效连接。

4. PCB过孔镀铜的应用领域PCB过孔镀铜被广泛应用于电子设备的制造中,特别是以下领域:(1)通信设备:如手机、电视等消费电子产品中,需要通过过孔镀铜实现电路和元件的连接。

(2)计算机和网络设备:作为计算机主板或网络设备的重要组成部分,PCB需要进行过孔镀铜以满足高速信号传输和数据处理的要求。

(3)工业自动化:在工业自动化设备中,PCB的可靠性和耐用性对设备的稳定性至关重要,过孔镀铜可以提供可靠的连接和导电性。

PCB工艺电镀工艺一铜工艺二铜工艺流程介绍

PCB工艺电镀工艺一铜工艺二铜工艺流程介绍

7
PANEL PLATING PROCESS
镀铜厚度于板面上之分布
Ideal case + +
Case 1 + +
Case 2 + +
Case 3 + +
8
PANEL PLATING PROCESS
阳极遮板之功能
将电力线分布较密集处以遮板档去Cu+2行进路线,以 达到电力线分布较均匀之铜厚。
Anode Bar
Vertical Panel Plating Process
Acid dip
主成分 硫酸
维持镀铜槽酸度/去除板面氧 化
Acid Copper
主成分 硫酸/硫酸铜/氯离子/光
泽剂
镀铜槽全板电镀
Rinse x 2
主成分 软水 镀铜后水洗板面
Anti-tarnish
主成分 抗氧化剂 降低板面氧化速率
Load/Unload
厂内有硫酸与磺酸两种系列
功能:保护线路/抗蚀刻攻击
使用药品:磺酸系列 磺酸、磺酸亚 锡、 添加剂(Sat 22 及Sat 23) 硫酸系列 硫酸、硫酸亚 锡、 添加剂(Part A 及Part B)
优点:
磺酸系列:药水易管理/稳定性高
硫酸系列:成本较低
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PATTERN PLATING PROCESS
上板 电镀锡 双水洗
清洁(酸 性脱脂)

硫酸(或 磺酸)预

板面烘干
双水洗 水洗 下板
微蚀剂 电镀铜ຫໍສະໝຸດ 双水洗 硫酸预浸夹具消铜
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PATTERN PLATING PROCESS
二次铜制作图示
Dry film photo resister Panel plating Base copper
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电镀系列之一:孔金属化技术,PCB板普通镀铜工艺
线路板在制作过程中,通常要经过钻孔来实现线路的导通以及封装插件。

孔金属化工艺是PCB制造技术中最为重要的工序之一,为了实现孔的金属化,通常采取化学铜(PTH制程)、黑孔(Black Hole)以及导电高分子膜的方法来实现树脂基材的导电,通过这些方法实现的导电层不足以达到使用的条件,因此还需要利用电镀铜的方法来加厚导电层。

(1)化学铜(PTH制程):化学镀铜是利用铜离子在还原剂的条件下还原为金属铜单质的原理。

其过程可以分为三个步骤:沉铜前处理、活化和沉铜。

具体的工艺流程:除油——蓬松——粗化——中和——整孔——水洗——微蚀——水洗——预浸——活化——水解——促化——水洗——沉铜——水洗
化学镀铜液的基本组成包括:铜盐、络合剂、还原剂、pH调节剂以及添加剂。

其中常见的还原剂有甲醛、二甲基氨基硼烷、次亚磷酸盐、水合肼、低价金属盐、还原性糖类等。

其中甲醛价格低廉且所得镀层中的铜相对含量较高,因此使用最多,最广。

但是甲醛有易挥发,不稳定等缺点,近些年如何替代甲醛也是研究的重点。

络合剂是化学镀铜的关键成份之一,可以使铜离子极化增大,达到结晶细致光亮的镀层;另一方面可以使镀液稳定,防止沉淀。

常见的有酒石酸、EDTA、三乙醇胺、三异丙醇胺等。

禾川化学经过研究,开发出一款化学铜药水,具有以下特点:
(1)可用于PCB的孔金属化处理;
(2)具有良好的稳定性,且沉积速率较高;
(3)形成的铜层结晶致密,结合力好,镀层为粉红色;
(4)背光等级好(9.5级以上)。

图1、化学铜镀层颜色(左)以及孔背光(右)
(2)黑孔(Black Hole):黑孔药水是将精细的石墨或导电碳黑粉均匀的分散在去离子水中,利用表面活性剂使石墨或导电碳黑悬浮液保持稳定,并拥有良好的润湿性能,使石墨或导电碳黑能充分被吸附在非导体的孔壁表面上,形成均匀细致的、结合牢固的导电层。

具体的工艺流程:清洁——水洗——整孔——冷风干——黑孔——热风干——黑孔——干燥——微蚀——水洗——风干——镀铜
禾川化学经过研究,开发出一款黑孔药水,具有很好的导电性能、很好结合力,且长期放置,稀释都很稳定。

图2、经过黑孔处理后的线路板镀铜0.9A,10min正反面效果图
(3)导电高分子膜:非导体表面在高锰酸钾碱性水溶液中发生化学反应,生成二氧化锰层,然后在酸性溶液中,单体吡咯或者吡咯系列的杂环化合物在非导体表面上失去质子而聚合,生成紧附的不溶性导电聚合物。

然后将附有这类导电聚合物的线路板直接电镀完成金属化。

该过程工艺主要分成三部分:前处理;生成导电聚合物;硫酸铜电镀。

HN 聚合电镀铜
图3、导电高分子膜法工艺示意图
禾川化学是一家专业从事电镀产品分析、研发的一家公司,具有丰富的分析研发经验,经过多年的技术积累,可以运用尖端的科学仪器、完善的标准图谱库、强大原材料库,彻底解决众多化工企业生产研发过程中遇到的难题,利用其八大服务优势,最终实现企业产品性能改进及新产品研发。

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