研磨与抛光
精密研磨与抛光(精密加工)

表面平滑
在抛光过程中,工件表面逐渐被 磨平,最终达到镜面或高度平滑
的效果。
表面改性
在抛光过程中,工件表面可能会 发生物理或化学变化,如表面层 晶格结构的变化或表面化学成分
的改变。
抛光工艺参数
压力
抛光压力是影响抛光效果的重要参数,压力过大会导致工件表面 损伤,过小则抛光效率低下。
02
精密研磨技术
研磨材料
01
02
03
04
刚玉
常用作研磨材料,具有高硬度 和耐磨性,适用于硬材料的研
磨。
碳化硅
具有高硬度和高韧性,适用于 研磨硬而脆的材料。
氧化铝
具有较好的韧性和耐磨性,适 用于研磨软材料和中等硬度的
材料。
天然磨料
如河砂、海砂等,可用于粗研 磨和抛光。
研磨机理
切削作用
研磨材料表面上的磨粒在压力作 用下切入工件表面,切削出微小
智能化的发展
智能检测与监控系统
通过引入传感器和智能化检测技术,实现对 研磨与抛光过程的实时监测和数据采集,提 高加工过程的稳定性和可靠性。同时,通过 数据分析与处理,优化加工参数,提高加工 效率和表面质量。
自动化生产线
通过集成机器人、自动化设备和智能化管理 系统,构建自动化生产线,实现研磨与抛光 过程的自动化和连续化生产。这将大幅提高 生产效率,降低人工成本,提升企业竞争力
总结词
高分子材料的研磨与抛光是实现高分子材料表面高精度和高光洁度的重要手段。
详细描述
高分子材料的研磨与抛光主要采用金刚石、刚玉等硬质材料作为磨料,通过研磨、抛光等工艺去除高 分子材料表面的凸起和划痕,以提高其表面质量和性能。高分子材料的研磨与抛光广泛应用于塑料、 橡胶、涂料等领域。
[教材]模具的研磨与抛光
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1.述模具研磨与抛光的目的。
2.简述研磨与抛光的基本原理及分类。
3.何选择研磨工具和确定研磨余量?4.确定是否选用抛光工艺的依据是什么?5.抛光方向如何选择?抛光中可能产生的缺陷是什么?简述产生的主要原因及防止措施。
1.主要目的:降低零件表面粗糙度、提高表面形状精度和增加表面光泽。
2.研磨机理:研磨时,研具的研磨面上均匀的涂有研磨剂,当研具和工件在压力作用下做相对运动时,研磨剂对工件表面产生微切削作用,从而时工件得到高的尺寸精度和低的表面粗糙度值;当采用氧化铬、硬脂酸等研磨剂时,研磨剂和被加工表面产生化学作用,形成一层极薄的氧化膜,这层氧化膜很容易被磨掉,在研磨过程中氧化膜不断迅速形成,又很决被磨掉,如此反复,使被加工表面的粗糙度值降低。
研磨的分类:(1)按按研磨抛光中的自动化程度划分:1)手工研磨;2)半机械研磨;3)机械研磨。
(2)按研磨剂的使用条件:1)湿研磨;2)干研磨;3)半干研磨。
抛光的机理:抛光是利用柔性抛光工具和微细磨料颗粒或其他拋光介质对工件表面进行的修饰加工,去除前工序留下的加工痕迹(如:刀痕、磨纹、麻点、毛刺)。
抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度,而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的。
抛光与研磨的机理是相同的,人们习惯上把使用硬质研具的加工称为研磨,而使用软质研具的加工称为抛光。
抛光的分类:按照不同的抛光要求,可分为普通抛光和精密抛光。
3.研具的选择:根据被加工工件的材料性能及其加工表面的形状来选择研具的材料、类型及硬度等参数。
研磨余量的确定:零件在研磨前的预加工,需有足够的尺寸精度、几何形状精度和表面粗糙度。
对表面积大或形状复杂且精度要求高的工件,研磨余量应取较大值。
预加工的质量高,研磨量取较小值。
研磨余量还应结合工件的材质、尺寸精度、工艺条件及研磨效率等来确定。
研磨余量尽量小,一般手工研磨不大于10μm,机械研磨也应小于15μm。
4.是否选用抛光工艺的依据:前道工序加工后得到的工件的表面粗糙度没有达到零件的粗糙度要求或者加工表面存在划伤和压痕等表面缺陷。
第5章 超精密研磨与抛光(康仁科) 大连理工大学

固结磨料研磨
圆柱面和球面的研磨
5.5.1 液中研磨
磨料:微细的 磨料:微细的Al2O3磨粒 磨粒 研具: 研具:聚氨酯 加工液:过滤水、蒸馏水、 加工液:过滤水、蒸馏水、净化水 机理:将研磨操作浸入在含有磨粒的研磨剂中 机理: 进行,借助水波效果, 进行,借助水波效果,利用浮游的微细磨粒进 行研磨加工。以磨粒的机械作用为中心, 行研磨加工。以磨粒的机械作用为中心,由加 工液进行磨粒的分散,起缓冲和冷却作用。 工液进行磨粒的分散,起缓冲和冷却作用。 应用:加工硅片,可以得到完全高质量的镜面。 应用:加工硅片,可以得到完全高质量的镜面。
研具
磨粒
加工液 工件、 工件、研具相对速度 加工压力 加工时间 环境
温 度 尘 埃
室温设定温度± 室温设定温度±0.1℃ ℃ 利用净化槽、 利用净化槽、净化操作台
5.4 超精密平面研磨和抛光
超精密研磨和抛光是加工误差<0.1 µm,表面粗 糙度Ra<0.02 µm的加工方法。 用于制造高精度高表面质量的零件,如大规模 集成电路的硅片,不仅要求极高的平面度,极 小的表面粗糙度,而且要求表面无变质层、无 划伤。光学平晶、量块、石英振子基片平面, 除要求极高平面度、极小表面粗糙度外,还要 求两端面严格平行。
5.5 新原理的超精密研磨抛光
传统的研磨抛光方法是完全靠微细磨粒的机械 作用去除被研磨表面的材质, 作用去除被研磨表面的材质,达到很高的加工 表面。 表面。 最近出现新原理的研磨抛光方法其工作原理有 些已不完全是纯机械的去除, 些已不完全是纯机械的去除,有些不用传统的 研具和磨料。 研具和磨料。这些新的研磨抛光方法可以达到 分子级和原子级材料的去除, 分子级和原子级材料的去除,并达到相应的极 高几何精度和无缺陷无变质层的加工表面。 高几何精度和无缺陷无变质层的加工表面。
研磨与抛光的区别

研磨与抛光的区别
很早以前看过这样一个报道,说是德国、日本等几个国家的科学家耗时5年时间,花了近千万元打造了一个高纯度的硅-28材料制成的圆球,这个1kg纯硅球要求超精密加工研磨抛光,精密测量(球面度,粗糙度,质量..),可谓是世界上最圆的球了。
关于这个圆球的故事
我们明天会具体的介绍一下
今天我们主要是想通过这个视频
来介绍一下超精密抛光工艺
我们经常把研磨和抛光放在一起讲,因为零件经过这两个工序的粗糙度已经十分小了。
首先咱们了解一下它们的区别。
研磨与抛光的区别
研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒,通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工。
研磨可用于加工各种金属和非金属材料,加工的表面形状有平面,内、外圆柱面和圆锥面,凸、凹球面,螺纹,齿面及其他型面。
加工精度可达IT5~IT1,表面粗糙度可达Ra0.63~0.01微米。
抛光是利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。
两者的主要区别在于:抛光达到的表面光洁度要比研磨更高,并且可以采用化学或者电化学的方法,而研磨基本只采用机械的方法,所使用的磨料粒度要比抛光用的更粗,即粒度大。
现代电子工业,超精密抛光是灵魂
超精密抛光技术在现代电子工业中所要完成的使命,不仅仅是平坦化不同的材料,而且要平坦化多层材料,使得几毫米见方的硅片通过这种‘全局平坦化’形成上万至百万晶体管。
精密研磨与抛光ppt课件

课后思考题
习题6-2 习题6-15
第7章 精密研磨与抛光
7.1 研磨抛光机理 7.2 精密研磨、抛光的主要工艺因素 7.3 超精密平面研磨和抛光 7.4 超精密研磨抛光的主要新技术
第1节 研磨抛光机理
一、研磨加工的机理
1.研磨时磨料的工作状态 1)磨粒在工件与研具之间发生滚动,产生滚轧 效果;
2)磨粒压入到研具表面,用露出的磨粒尖端对 工件表面进行刻划,实现微切削加工;
软质磨粒机械抛光(弹性发射加工)
最小切除可以达到原子级,直至切去一层 原子,而且被加工表面的晶格不致变形,能 够获得极小表面粗糙度和材质极纯的表面。 加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速 的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果。 真空中带静电的粉末粒子加速法、空气流或 水流来加速。
化学机械抛光
3.金属材料的研磨
当金属表面用硬度计压头压入时,只在表面 产生塑性变形的压坑,不会发生脆性材料那 样的破碎和裂纹。
研磨时,磨粒的研磨作用相当于极微量切削 和磨削时的状态,且表面不会产生裂纹。
二、抛光加工的机理
抛光的机理:1)以磨粒的微小塑性切削生成切屑, 但是它仅利用极少磨粒强制压入产生作用。2)借助磨 粒和抛光器与工件流动摩擦使工件表面的凸凹变平。
磁流体精密研磨
磁性流体为强磁粉末在液相中分散为胶态尺寸 (<0.015μm)的胶态溶液,由磁感应可产生流动性,特 性是:每一个粒子的磁力矩较大,不会因重力而沉降,磁 化强度随磁场增加而增加。当将非磁性材料的磨料混入磁 流体,置于磁场中,则磨粒在磁流体浮力作用下压向旋转 的工件而进行研磨。磁流体精研的方法又有磨粒悬浮式加 工、磨料控制式加工及磁流体封闭式加工。
五、获得高质量平面研磨抛光的工艺规律
研磨与抛光

第5章模具的研磨与抛光模具的研磨与抛光是以降低零件外表粗糙度,提高外表形状精度和增加外表光泽为主要目的,属光整加工,可归为磨削工艺大类。
他们研磨与抛光在工作成形理论上很相似,一般用于产品、零件的最终加工。
现代模具成形外表的精度和外表粗糙度要求越来越高,特别是高精度、高寿命的模具要求到μm级的精度。
一般的磨削外表不可防止要留下磨痕、微裂纹等缺陷,这些缺陷对一些模具的精度影响很大,其成形外表一部分可采用超精密磨削加工到达设计要求,但大多数异型和高精度外表大都要进行研磨与抛光加工。
对冲压模具来讲,模具经研磨与抛光后,改善了模具的外表粗糙度,利于板料的流动,减小流动阻力,极大地提高了成形零件的外表质量,特别是对于汽车外覆盖件尤为明显。
经研磨刃口后的冲裁模具,可消除模具刃口的磨削伤痕,使冲裁件毛刺高度减少。
塑料模具型腔研磨、抛光后,极大地提高型腔外表质量,提高成形性能,满足塑件成型质量的要求、塑件易于脱模。
浇注系统经研磨、抛光后,可降低注射时塑料的流动阻力。
另外研磨与抛光可提高模具接合面精度,防止树脂渗漏,防止出现沾粘等。
电火花成型的模具外表会有一层薄薄的变质层,变质层上许多缺陷需要用研磨与抛光去处。
另外研磨与抛光还可改善模具外表的力学性能,减少应力集中,增加型面的疲劳强度。
研磨的基本原理与分类研磨是一种微量加工的工艺方法,研磨借助于研具与研磨剂〔一种游离的磨料〕,在工件的被加工外表和研具之间上产生相对运动,并施以一定的压力,从工件上去除微小的外表凸起层, 以获得很低的外表粗糙度和很高的尺寸精度、几何形状精度等,在模具制造中,特别是产品外观质量要求较高的精密压铸模、塑料模、汽车覆盖件模具应用广泛。
1.研磨的基本原理1〕物理作用研磨时,研具的研磨面上均匀地涂有研磨剂,假设研具材料的硬度低于工件,当研具和工件在压力作用下做相对运动时,研磨剂中具有尖锐棱角和高硬度的微粒,有些会被压嵌入研具外表上产生切削作用〔塑性变形〕,有些则在研具和工件外表间滚动或滑动产生滑擦〔弹性变形〕。
研磨与抛光的步骤及注意事项

研磨与抛光的步骤及注意事项研磨与抛光是一种常见的表面处理技术,用于改善材料表面的质量和外观。
无论是金属、木材还是塑料等材料,都可以通过研磨与抛光来获得光滑、平整和亮丽的表面。
本文将介绍研磨与抛光的步骤及注意事项,以帮助读者更好地了解和掌握这一技术。
一、研磨的步骤及注意事项1.准备工作:首先,需要准备好研磨所需的工具和材料,包括砂纸、研磨机、研磨液等。
同时,要确保工作区域干净整洁,以防止杂质进入研磨过程。
2.粗研磨:在进行粗研磨前,要先确定研磨的目标和要求。
根据需要,选择合适的砂纸颗粒大小,然后用研磨机将砂纸固定好。
在研磨过程中,要保持适当的压力和速度,避免过度研磨或过快研磨导致材料损坏。
3.中研磨:中研磨是在粗研磨后进行的,主要目的是去除粗研磨过程中留下的痕迹和磨损。
同样,选择合适的砂纸和研磨液,并控制好研磨的压力和速度,以免影响研磨效果。
4.细研磨:细研磨是在中研磨后进行的最后一道研磨工序。
此时,要使用更细的砂纸,并配合适当的研磨液进行研磨。
细研磨的目的是去除中研磨过程中留下的微小痕迹,使表面更加光滑。
5.清洁与检查:研磨完成后,需要对材料进行清洁,以去除研磨过程中产生的污垢和残留物。
同时,仔细检查研磨后的表面,确保其符合要求。
二、抛光的步骤及注意事项1.准备工作:与研磨类似,抛光也需要准备好相应的工具和材料,如抛光机、抛光毛刷、抛光膏等。
同样,要保持工作区域的干净整洁,以确保抛光效果。
2.粗抛光:粗抛光是最先进行的一道工序,主要用于去除研磨过程中残留的痕迹和瑕疵。
根据需要选择合适的抛光毛刷和抛光膏,并控制好抛光机的转速和压力,以获得理想的抛光效果。
3.中抛光:中抛光是在粗抛光后进行的,目的是进一步改善表面质量和光洁度。
同样,选择合适的抛光毛刷和抛光膏,并控制好抛光机的参数,以获得满意的中抛光效果。
4.细抛光:细抛光是最后一道抛光工序,主要用于提高表面的光亮度和光滑度。
在细抛光时,要选择最细的抛光毛刷和抛光膏,并进行适当的抛光处理,以获得最终的抛光效果。
研磨加工与抛光加工的机理

研磨加工与抛光加工的机理一、研磨加工的机理1.研磨时磨料的工作状态1)磨粒在工件与研具之间发生滚动,产生滚轧效果;2)磨粒压入到研具表面,用露出的磨粒尖端对工件表面进行刻划,实现微切削加工;3)磨粒对工件表面的滚轧与微量刻划同时作用。
2.硬脆材料的研磨一部分磨粒由于研磨压力的作用,嵌入研磨盘表面,用露出的尖端刻划工件表面进行微切削加工;另一部分磨粒则在工件与研磨盘之间发生滚动,产生滚轧效果。
在给磨粒加压时,就在硬脆材料加工表面的拉伸应力最大部位产生微裂纹。
当纵横交错的裂纹扩展并产生脆性崩碎形成磨屑,达到表面去除的目的。
3.金属材料的研磨当金属表面用硬度计压头压入时,只在表面产生塑性变形的压坑,不会发生脆性材料那样的破碎和裂纹。
研磨时,磨粒的研磨作用相当于极微量切削和磨削时的状态,且表面不会产生裂纹。
二、抛光加工的机理抛光的机理:1)以磨粒的微小塑性切削生成切屑,但是它仅利用极少磨粒强制压入产生作用。
2)借助磨粒和抛光器与工件流动摩擦使工件表面的凸凹变平。
三、研磨、抛光的加工变质层不管采取什么加工方法,或多或少要在被加工表面上产生加工变质层,加工变质层使工件材质的结构、组织和组成遭到破坏或接近于破坏状态,使工件表面的力学性能、物理化学性能与母体材料不同,进而影响制成元件的性能,因此在超精密研磨抛光中要求变质层越薄越好。
硬脆材料研磨后的表面,从表层向里依次为:非晶体层或多晶体层、镶嵌结构层、畸变层和完全结晶结构,从弹塑性力学的角度评价变质层,依次为:极薄的塑性流动层、有异物混入的裂纹层、裂纹层、弹性变形层和母体材料。
金属材料研磨后的加工表面变质层与硬脆材料类似。
对于抛光加工后的加工变质层,由表层向里依次为:抛光应力层、经腐蚀出现的二次裂纹应力层、二次裂纹影响层和完全结晶层,整个加工变质层深度约为3μm。
并且加工表面越粗,加工变质层深度越大。
参考资料:/。
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抛光式工具对工件的进给力称为静压力。压力过大,磨料 和工作液不能顺利更新和交换,降低生产效率。压力过小, 降低磨粒对工具的撞击力和切削能力,同样降低效率。 (3)磨料的种类和粒度 高硬度材料的抛光选择碳化硼磨料;硬度不高的脆性材料 采用碳化硅磨料。磨料的粒度于振幅有关:当振幅≥0.05mm 时,磨粒愈大加工效率愈高;当振幅<0.05mm时,磨粒愈小 加工效率愈高。 (4)料液比 磨料混合剂中磨料和工作液的体积或质量之比称为料液比。 过大或过小都会使抛光效率降低。常用的料液比为0.5-1。
筛分法-筛网相邻孔距表示,称为号数,适用于4号-240号 号数愈大表示颗粒愈小。 显微镜分析法-测量颗粒大小,用W×表示,号数愈大表示 颗粒愈大。 一般我们把粒度小于100的称为磨粒,100-240的称为 磨粉,粒度在W40以下的称为微粉。 不同粒度可达到的表面粗糙度如表7-3:
2、研磨抛光液 在研磨抛光中起着调和磨料、使其均匀分布和冷却润滑的 作用。常用的研磨抛光液有矿物油、动物油、植物油三类。 其中10号机油最为广泛,煤油在粗、精加工都可以使用,猪 油也是很好的研磨抛光液,由于含有活性油酸物质,能起化 学反应,抛光效果更好。常用的抛光液如表7-4:
2、特点 1、适用范围广; 2、抛光效果好; 如线切割表面,抛光后尺寸 精度达0.01-0.0025mm,表面 粗糙度达0.04-0.05μm。 3、抛光效率高。 抛光余量微0.01-0.1mm则 需要几分钟或十几分钟。 3、黏弹性研磨抛光剂和设备 这种抛光剂称为黏性磨料 抛光机多为立式对置活塞式,
2、逐步电化学抛光法 (图7-8为DMP-10型电化学修研抛光机) 脉冲直流电源0-24V无级调节,最大输出电流10A,脉冲波 为矩形,160W的电动抛光器,抛光轮的转速为8000-20000 r/min无级调速,快速擦除电化学生产的氧化膜。
逐步抛光法也称为电解磨削加工,是阳极溶解和机械磨 削相结合的一种抛光方法,以电化学阳极溶解为主,磨轮 的作用主要是消除氧化膜。
2、特点 1、适用于加工硬脆材料和不导 电的非金属材料。 2、工具对工件的作用力和热影 凸7-9 响较小,不产生变形、烧伤和 变质层,加工精度达0.01-0.02 mm,粗糙度达1-0.1μm。 3、可以抛光薄壁、薄片、窄缝 和低刚度的零件。 4、设备简单,使用维修方便, 操作容易,成本较低。 5、抛光头无转动,可以做成复杂形状,抛光复杂型腔。
3.抛光的机理 抛光是一种比研磨更微小的切削加工,研磨的研具较硬, 微切削和挤压作用较大,尺寸和粗糙度有明显的变化,抛光 的研具使用软材料,只能降低粗糙度而不能改变尺寸和形状 的精度。粗糙度可达0.4μm以下。 8.1.2 研磨抛光的分类 1、按操作方式分: 手工研磨抛光;机械研磨抛光。 2、按磨料的运动轨迹分: 游离磨料研磨抛光;固定磨料研磨抛光。 3、按研磨抛光的机理分; 机械作用研磨抛光;非机械作用研磨抛光-电能化学能。
电阻较小,电流密度比凹处大,这样突出处先被溶解,从而 降表面低粗糙度,达到抛光的目的。 2、特点 ①电化学抛光量很小,抛光后的尺寸精度和形状精度可控制 在0.01mm以内。 ②电化学抛光效率高,抛光速度不受材料的软硬而影响。 ③工艺简单,操作容易,设备简单,投资小。 ④电化学抛光不能消除原表面的“粗波纹”,对工件表面的基 体粗糙度有要求,一般应为Ra1.6以下才好。 8.2.2 影响电化学抛光质量的因素 1、电解液 电解液的配方和比例要根据加工零件和选用的阴极材料来
8.Байду номын сангаас 电化学抛光
8.2.1 电化学抛光的基本原理和特点 1、基本原理 如图7-6:零件接直流电源 的阳极,耐腐蚀材料(不锈钢 或铝材)作为工具接负极,将 零件、工具放入电解液槽中, 形成电路产生电流,阳极失去 电子产生溶解现象,表面被不 断蚀除,随着溶解的进行,在 阳极表面会生成黏度高、电阻 大的氧化物薄膜,凸出处较薄,
6、超声抛光时影响抛光表面质量的因素 抛光的质量指标主要是表面粗糙度,它与磨料粒度、工件 材料的性质、工具的振幅等有关,通常是:粒度小,材料硬, 超声振幅小,则表面粗糙度的改观就愈大。此外,煤油和机 油比水质工作液效果要好。
8.4 挤压研磨抛光
属于磨料流动加工过程,不但可以进行光整加工还可以去 毛刺,效果非常好。 1、基本原理 将含有磨料的油泥状黏弹性高分子介质组成的黏弹性抛光 剂,用一定的压力挤过被加工表面,实现磨粒对表面的微切 削加工,去除表面微观不平的工艺方法。是一种微磨削或刮 削的工艺方法。
削作用去除表面凸起部分,从而提高表面精度,降低表面粗 糙度。 研磨的过程中,不但有物理作用还有化学作用: (1)微切削作用 磨料在压力的作用下,在研具和工件表面之间滚动,以锋 利的棱角进行微切削加工。 (2)挤压塑性变形的作用 钝化的磨粒对加工表面进行滚压运动,挤压表面粗糙的凸 峰,使其平坦、光滑,对表面产生挤压的塑性变形,还有加 工硬化使表面强化的作用。 (3)化学作用 研磨剂与表面产生化学作用,生成氧化膜,又不断被磨削
4、按研磨抛光剂使用的条件分: (1)湿研磨-磨料和研磨液组成的研磨抛光剂,用于粗研和 半精研 (2)干研磨-将磨料均匀压入研具表面中,一定压力研磨, 一般用于精研加工 (3)半干研磨-糊状研磨膏,用于粗、精研磨都可以。 8.1.3 研磨抛光的加工要素 加工要素如表7-1
8.1.4 研磨抛光剂 是由磨料和研磨抛光液均匀混合而成。 1、磨料 在机械式研磨抛光中,磨料对工件表面进行微切削和挤 压作用,决定了加工的质量。 根据工件表面的软硬、表面粗糙度要求,选择合适的磨 料是必须做的工作。 磨料的种类很多,常用的磨料和适用范围如表7-2 磨料的粒度选择要根据工件研磨抛光前的粗糙度和研磨 抛光后的质量要求来确定,一般粗加工选较大粒度,精加工 选较小粒度。 磨料的粒度常用筛分法和显微镜分析法来确定。
变幅杆的形式有:圆锥形、指数形和阶梯形等。
工具和变幅杆之间采用机械连接或胶合方式连接,工具 沿轴向振动,工具头有固定磨料式和游离磨料式两种。 ◆固定式:金刚石油石、电镀金刚石锉刀、刚玉油石等。 主要用于粗抛光。 ◆游离式:常采用硬木、竹片等材料,在研磨表面涂上研 磨粉和工作液的混合剂,(研磨粉一般为氧化铝或碳化硅 等,工作液一般式煤油或水等),通过超声振动使磨料产 生高速运动达到撞击零件表面的作用。 4、抛光工艺 (1)抛光余量 电火花加工后的模具型腔,进行超声抛光的余量一般为 0.02-0.04mm,特殊情况下抛光余量应≤0.15mm。
⑤研磨抛光的辅助工具 主要有电动机械式手持抛光机;超声波-电火花研磨抛 光工具等。
7.1.6研磨抛光的工艺过程 1、研磨抛光的余量 取决于零件的尺寸、原始表面粗糙度和最终精度要求,一 般抛光的余量只要能去除加工痕迹和变质层就可以。零件公 差较大时就去公差范围内的余量。 2、研磨抛光阶段和轨迹 研磨抛光工艺一般分为粗研磨-细研磨-精研磨-抛光4 个阶段,磨料有粗到细,每次更换都必须清洗研具和工件。 研磨轨迹可以往复、交叉但不能重复。
和毛毡等。灰口铸铁中含有石墨,耐磨性和润滑性很好,研 磨的效果很好常用于淬火钢、硬质合金和铸铁材料的研磨, 特别是精研磨;低碳钢一般用于小孔的研磨;铜用于研磨余 量较大的情况,效率高但光泽差,这能适合粗研磨的加工。 其它软性材料的研具主要用于抛光为主的精研磨。 2、研具 ①油石-常用于粗研磨,是磨料压制烧结而成,分粗、中、 细。根据根据表面粗糙度要求选择。 ②研磨平板-灰口铸铁做成。 ③研磨环-用于车床上对外园的研磨,分固定式和可调式 ④研磨芯棒-固定式外园有螺旋槽容纳研磨剂(膏),可调 式外径根据孔径大小调节。如图7-1研磨环,7-2研磨芯棒
(2)抛光的方式 一般都要经过粗抛、细抛和精抛三个阶段。 粗抛:采用固定式磨料或180号左右的磨料进行; 细抛:采用游离式磨料,粒度在W40左右; 精抛:采用W5-W3.5粒度的磨料进行干抛,不加工作液。 5、影响抛光效率的因素 (1)工具的振幅和频率 从原理上讲,增大振幅和频率会提高抛光的效率,但过大 又会增加能量的消耗和降低变幅杆和工具的使用寿命,一般 情况下振幅控制在0.01-0.1mm,频率控制在16000-25000Hz 之间。 (2)工具对零件表面的静压力
从而提高研磨的效率。 2.研磨的特点 (1)尺寸精度高:加工热量少,表面精度稳定,尺寸精度 可达0.025μm。 (2)形状精度高:球体圆度可达0.025μm,圆柱体圆柱度 可达0.1μm。 (3)表面粗糙度低:粗糙度可达0.1μm。 (4)表面耐磨性提高:摩擦系数减少,接触面增大和加工 硬化都使耐磨性提高。 (5)抗疲劳强度提高:研磨使表面产生残余压应力,提高 了表面的抗疲劳强度。
模具的光整加工
定义:是指降低零件表面粗糙度,提高表面形状精度和增 加表面光泽为主要目的的研磨和抛光加工。 模具表面的精度和粗糙度对模具寿命和制件质量有很大 的影响,电火花加工留下的变质层、磨削加工留下的微裂纹 等都会影响模具的寿命。 8.1 研磨与抛光 8.1.1 研磨的机理 1. 研磨的机理 研磨是使用研具、游离磨料对被加工表面进行微量精加工 的精密加工方法。 它是在工件表面和研具之间放入游离磨料和润滑剂,使两 者产生相对运动,并使其有一定的压力,磨料的棱角产生切
3、研磨抛光膏 是磨料和研磨抛光液的混合物,一般分为硬和软两种。在 硬的研磨膏中磨料主要是氧化铝、碳化硅和金刚石等,粒度 微200、240、W40等磨粉或微粉,磨粒的硬度大于工件的硬 度。软的研磨膏中主要含有氧化铝、氧化铁和氧化铬等粒度 微W20以下的微粉。研磨膏一般可用煤油和汽油稀释。 8.1.5 研磨抛光工具 1、研具材料 定义:研磨抛光中直接于工件表面接触的研磨抛光工具称 为研具。 一般情况下,研具的硬度稍为比工件要软一些。研具材料很 多,有低碳钢、灰口铸铁、黄铜、紫铜、硬木、塑料、皮革
6、抛光表面的原始粗糙度 一般情况下,原始粗糙度要求在2.5-0.8时,采用电化学 抛光才能有较好的效果。 8.2.3 抛光的方式 1、整体电化学抛光法(图7-7) 直流电源0-50V,电流密度 为80-100A/dm2,上下伺服 控制,左右前后拖板调节,间 隙5-10mm,液面高出15-20 阴极采用不锈钢、铅或石墨, 不断搅拌电解液,保持工作温 度。