4-1光学薄膜系统设计
薄膜光学课程设计
光学薄膜课程设计学生姓名学号指导老师年月增透膜1. 参数要求:在1300-1600nm波段中，设计一个垂直入射时透射率为99.9%的膜系。
2. 材料：ZrO2（H）、Al2O3（M）、MgF2（L）3. 基础膜系：G| M 2H L |A优化膜系：G| 0.100H 0.742M 2.198H 1.061L |A4. 曲线图：设计波长为1450nm，采用针式优化。
5. 膜厚控制方法：采用光控的方法对膜厚进行控制。
高反膜1.参数要求：在1300-1600nm波段中，设计一个垂直入射时反射率为99.9%的膜系。
2.材料：TiO2（H）、SiO2（L）3.基础膜系：G| (HL)^12 H |A优化膜系：G| (HL)^12 0.792H |A4.曲线图：设计波长为1450nm。
5.膜厚控制方法：采用光控的方法对膜厚进行控制。
分光膜1.参数要求：在1300-1600nm波段中，设计一个45度角入射时透射率为50%的膜系。
2.材料：TiO2（H）、SiO2（L）3.基础膜系：G| (HL)^4 |A优化膜系：G| 0.382H 0.512L 0.873H 0.942L 0.972H 1.382L 0.721H 0.980L |A 4.曲线图：设计波长为1450nm，入射角为45度。
5. 膜厚控制方法：采用光控的方法对膜厚进行控制。
短波通干涉截止滤光片1.参数要求：光线垂直入射时，在1300-1450nm波段通过，透射率为99%；在1450-1600nm波段截止。
2. 材料：TiO2（H）、SiO2（L）3.基础膜系：G| 0.87LHL (0.5L H 0.5L)^18 0.7LHL |A优化膜系：G| 1.110L 1.292H 1.132L 0.900H 1.116L 1.020H 1.055L (HL)^14 1.000H1.170L 0.911H 1.192L 0.987H 0.619L |A4.曲线图：设计波长为1653nm。
光学膜实验报告
一、实验目的1. 理解光学膜的基本原理和作用；2. 掌握光学膜的制作方法；3. 通过实验验证光学膜的特性；4. 分析光学膜在光学系统中的应用。
二、实验原理光学膜是一种具有特定光学性能的薄膜，其主要作用是反射、透射和偏振。
光学膜的种类繁多，包括增透膜、反射膜、偏振膜等。
本实验主要研究增透膜和反射膜的制作方法及特性。
1. 增透膜：增透膜能够减少光在光学元件表面的反射，提高光的透射率。
其原理是利用不同厚度、不同折射率的薄膜对光的干涉现象，使反射光相互抵消，从而减少反射。
2. 反射膜：反射膜能够增加光在光学元件表面的反射，提高光的反射率。
其原理与增透膜类似，也是利用干涉现象，但要求反射光相互加强。
三、实验仪器与材料1. 实验仪器：光学膜制备系统、紫外-可见光分光光度计、干涉仪、薄膜厚度测量仪等；2. 实验材料：光学玻璃基板、光刻胶、抗蚀剂、清洁剂、光刻机、蒸发源、真空系统等。
四、实验步骤1. 光刻胶涂覆：将光学玻璃基板放入光刻机中，涂覆一层光刻胶，使其均匀覆盖在基板上；2. 光刻：利用光刻机将设计好的图形转移到光刻胶上，形成光刻胶图形；3. 抗蚀：将涂覆光刻胶的基板放入抗蚀剂中，浸泡一段时间，使光刻胶图形部分溶解，形成抗蚀图形；4. 蒸发沉积：将涂覆抗蚀图形的基板放入蒸发源中，通过真空系统使蒸发源蒸发材料，沉积在抗蚀图形上，形成光学膜；5. 洗除抗蚀剂：将沉积光学膜的基板放入清洁剂中，洗除未反应的抗蚀剂，得到光学膜；6. 薄膜特性测试：利用紫外-可见光分光光度计、干涉仪、薄膜厚度测量仪等仪器对光学膜进行测试，分析其光学性能。
五、实验结果与分析1. 增透膜实验结果：通过实验，成功制备了增透膜，其透射率提高了约30%。
测试结果显示，增透膜在可见光范围内的透射率较高，符合实验要求。
2. 反射膜实验结果：通过实验，成功制备了反射膜，其反射率提高了约80%。
测试结果显示，反射膜在可见光范围内的反射率较高，符合实验要求。
薄膜光学技术-4-1
5.基片材料
1). 膨胀系数不同 热应力； 2). 化学亲和力不同 影响膜层附着力和牢固度; 3). 表面粗糙度和缺陷 散射的主要来源。
11
6.基片清洁
残留在基片表面的污物和清洁剂将导致： 1）. 膜层对基片的附着力差； 2）. 散射吸收增大抗激光损伤能力差； 3）. 透光性能变差。
7.膜层材料
聚集密度 微观组织物理结构(晶体结构) 膜层化学成分
薄膜器件机械性能
硬度 牢固度—（附着力）
薄膜器件环境稳定性
盐水盐雾、高湿高温、高低温、水浴、酸碱腐蚀
膜层填充密度对膜层质量的影响
3
薄膜聚集密度P:
蒸气入射角与柱状结构的 生长方向之间的关系：
薄膜中固体部分的体积（柱体的体积） p 薄膜的总体积（柱体 空隙）
以上就是 极值法监控膜层厚度的基础
21
①当选定一个λ作为监控波长时，只要膜层的光 学厚度是λ/4的整数倍，其透射和反射光信号就 具有一个或多个可供明确判断的极值；
(1个极值), (2个极值), nd=250nm
例如：λ0=500nm时, nd=125nm
②对一个欲得到的膜层任意光学厚度（n1d1）， 一定存在一个或数个波长的光可用来依极值法原 理监控其厚度。
利用石英晶体的压电效应，测量石英晶 体振动频率或周期随石英晶片厚度的变化量， 达到测量沉积在石英晶片上的膜层厚度的目 的。
32
1. 频移法
依据石英晶片振动频率 f 与晶片厚度dq成反比 的原理：f=N/dq N—由石英晶片决定的常数 若在此晶片一个表面镀上膜层厚度为 Δdf ， 假设对应的等效石英晶片厚度为Δdq 则：利用关系式 其中： A—晶片被镀面积 f 得： d q d f q 等效石英晶片厚
《物理光学》第4章, 多光束干涉与光学薄膜
At tt ei tt r 2ei 2 tt r 4ei 3 Ai
tt ei i 在光束数目趋于无穷大时， A A 2 e i 1 r
因为
I t At At
r 2 r '2 R
4.2.2 法布里—珀罗干涉仪应用（F-P标准具）
1、研究光谱的超精细结构 设含有两种波长λ1和λ2的光波投射到干涉 仪上,分析靠近条纹中心的(θ＝0)某一点：
m m1 m2
2h2 1
e 2 1 2he
12
e / e
2
不应使两组条纹的相对位移Δe大于条纹的间距e，否则会 发生不同级条纹的重叠现象。当Δe＝e时的Δλ就是标准 具所能检测的最大波长差(也叫标准具的自由光谱范围)：
实际使用的光束，受n限制,λ也有较大宽度，所 以高透过率并不是同时发生在全波段上，而且光束 的入射角也会对R产生影响，所以，单层膜的透射情 形与理想的偏离较大。
2、单层增反膜
如果单层膜的折射率n大于基片的折射率nG，则膜系的反射率 比末镀膜时基片的反射率要大，起增强反射的作用。 在光束正入射情况下，由nh＝λ0/4条件，得到膜系对波长 λ0的反射率为：
讨论:条纹的强度分布随反射率R的变化：
1、当反射率R很小时，透射光IM=I0, Im—>I0 ，条纹对 比度非常低，趋近于零。 2、当反射率R增大时，情况就有很大的不同
1）随着反射率R的增大，透射光暗 条纹的强度降低，亮条纹的宽度变 窄，因而条纹的锐度和对比度增大。 2）当R→1时，透射光干涉图样是
由在几乎全黑的背景上的一组很细
的亮条纹所组成。反射光干涉图样： 与透射光干涉图样互补，是在均匀
《光学薄膜膜系设计》课件
，常用的测量方法有光谱椭偏仪法和光谱反射法等。
03
光学薄膜设计方法
膜系设计的基本原则
光学性能原则
薄膜的光学性能应满足设计要求，如 反射、透射、偏振等特性。
物理化学稳定性原则
薄膜应具有优良的物理和化学稳定性 ，能够经受环境因素的影响，如温度 、湿度、紫外线等。
机械强度原则
薄膜应具有足够的机械强度，能够承 受加工和使用过程中的应力。
干涉色散
由于薄膜干涉作用，不同波长的光 波会产生不同的相位差，导致不同 的干涉效果，从而产生色散现象。
薄膜的光学常数
光学常数定义
01
描述介质对光波的折射率、消光系数等光学性质的一组参数。
薄膜的光学常数
02
对于光学薄膜，其光学常数包括折射率、消光系数、热光系数
等。
光学常数测量
03
通过测量光波在薄膜中的传播特性，可以获得薄膜的光学常数
反射膜的应用案例
总结词
反射膜主要用于将特定波段的光反射回原介质，常用于聚光镜、太阳能集热器等领域。
详细描述
反射膜具有高反射率和宽光谱特性，被广泛应用于太阳能利用和照明工程中。通过将反 射膜镀在金属镜面上，可以大大提高光的反射效率，从而实现高效聚光和散热。此外，
反射膜还用于制作装饰性和广告用反射镜面。
干涉现象
当两束或多束相干光波相遇时，会因相位差而产生明暗相间的干 涉条纹。
干涉条件
为了产生稳定的干涉现象，需要满足相干波源、相同频率、相同 方向和相同振动情况等条件。
薄膜的干涉效应
薄膜干涉原理
当光波入射到薄膜表面时，会因 反射和折射而产生干涉现象。
薄膜干涉类型
根据光波在薄膜中传播路径的不同 ，可分为前表面反射干涉和后表面 反射干涉。
四分之一波片薄膜
四分之一波片薄膜一、引言四分之一波片（quarter-wave plate）是一种光学元件，能够将一束线性偏振光转换为圆偏振光，或者将圆偏振光转换为线性偏振光。
在薄膜制备领域，四分之一波片薄膜因其独特的光学性能而备受关注。
本论文将对四分之一波片薄膜的原理、制备及应用进行详细探讨。
二、四分之一波片薄膜的原理线性偏振光在通过四分之一波片后，其偏振方向将发生45°旋转。
这是因为四分之一波片具有双折射性质，使得光在波片内部产生相位延迟。
当这个相位延迟为λ/4（λ为光的波长）时，出射光将变为圆偏振光。
反之，当圆偏振光通过四分之一波片时，其偏振状态也会发生旋转。
三、四分之一波片薄膜的制备制备四分之一波片薄膜的方法有多种，包括物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）以及溶胶-凝胶法等。
这些方法各有优缺点，适用于不同材料和不同应用场景。
1. 物理气相沉积（PVD）：PVD技术可以制备出高质量的四分之一波片薄膜，但制备过程需要在高真空条件下进行，且制备周期较长。
2. 化学气相沉积（CVD）：CVD技术适用于大面积制备，且制备周期较短。
但该技术需要较高的温度和反应气体，可能对基底材料产生影响。
3. 溶胶-凝胶法：溶胶-凝胶法是一种低温制备方法，适用于制备大面积薄膜。
但该方法需要经过干燥和热处理过程，容易产生裂纹和孔洞。
四、四分之一波片薄膜的应用四分之一波片薄膜因其独特的光学性能，在许多领域都有广泛的应用。
以下是一些主要的应用领域：1. 光学通信：在光纤通信中，四分之一波片可以用于调制信号光，提高通信系统的性能。
2. 光学传感：四分之一波片薄膜可以用于检测微小的光学变化，例如温度、压力和浓度等。
3. 光学显示：在液晶显示中，四分之一波片可以用于控制光的方向和偏振状态，提高显示图像的质量。
4. 光学仪器：在显微镜、望远镜等光学仪器中，四分之一波片可以用于改善成像质量。
5. 太阳能利用：在太阳能电池中，四分之一波片可以用于提高光的吸收效率。
(参考资料)3-2光学薄膜系统设计
在整个透射带，透过率在两个极值之间振荡：
R1
0－g 0 +g
2
膜厚4的偶数倍，
膜层变为虚设层
R2
0－E2 0 + E2
g g
2
膜厚4的奇数倍
产生波纹的原因： 1）等效光学导纳失配(波纹的幅度)(R1-R20)； 2）等效位相厚度随波长变化。
压缩波纹的方法
R1
0－g 0 +g
2
,
R2
通常波纹幅度大小是由等效折射率与基片和入射介质的匹配程度决定的而波纹的密度是由周期数多少决定的因为周期数多那么这个等效层的厚度就大高级次干涉峰就会靠的很近波纹就密
§2.4 干涉截止虑光片
1）什么叫干涉截止滤光片：利用多光束干涉原理，让某一 波长范围的光束高透，而让偏离这一波长区域的光束变为 高反的光学膜片。
主要参数： 中心波长（峰值波长）； 中心波长处的透过率； 通带宽度：透射率降为峰值透过率一半的波长宽度。
两种典型结构： 1）由一长波通膜系和一短波通膜系的重叠带波段形成的通 带。其特点为较宽的截止带和较深的截止度，但不易得到窄 的通带宽度。 2）Fabry-perot（F-P）干涉仪式的滤光膜系。其特点为可得 到很窄的通带宽度，但截止带也较窄，截止度也浅。
2 2 arcsin(1 R )
0 m
2R
中心波长的峰值透射率：
Tmax
T1T2 (1 R)2
当反射膜没有吸收、散射损失，而且反射膜是完全对称时， 滤光片的透射率和光洁基板一样高。
当反射膜有吸收、散射损失时，假定反射膜是完全对称时，
Tmax
T12 (1 R12 )2
(T12
T122 A12 )2
12
光学薄膜制备工艺
辅助系统
加温 充气 工件架 离子轰击 比较片架
温度测量与控制 真空度测量与压强控制 公、自 转 ，均匀性调整 直流与射频 透射、反射、内反射
整理课件
整理课件
改进蒸发工艺、改善膜层的微观结构
基本的思路：附加一定的能量到被镀的表面上去，利用这 些能量移开弱束缚的粒子，使达到基板的材料粒子有高的 迁移率。由于附加了能量，膜料粒子可以穿透比较远的距 离，去找到一个有比较强束缚的位置。从而使膜层的结构 得到改善。
具体实施办法：在膜层沉积的同时，利用电子、光子、离 子将能量附加到基底上去，这不仅有利于清洁被镀表面， 也增加了膜层的致密度。
因油蒸汽喷出的速度不够快而会在到达泵壁前就
因碰撞而升向泵顶，造成严重的返油现象。所以，
扩散泵的加热时间不能太短，一般约需40分钟左
右。
整理课件
真空测量
10~10-1 Pa气体 热传导与气压 关系明显,这是 它的测量范围
10-2~10-6Pa离子流正比与气压， 这就整理是课件它的测量范围
• 冷阴极电离真空计
整理课件
光学膜厚监控系统
整理课件
石英晶体法监控膜厚，主要是利用了石英晶体的两个效应，即 压电效应和质量负荷效应。
石英晶体压电效应的固有频率不仅取决于其几何尺寸，切 切割类型而且还取决于晶片的厚度。当品片上镀了某种膜层， 使品片的厚度增大，则品片的固有频率会相应的衰减。石英晶 体的这个效应是质量负荷效应。石英晶体膜厚监控仪就是通过 测量频率或与频率有关的量进行膜厚测量的
近十几年的趋势是利用荷能的离子完成基片清 洁和改善膜层结构的任务
整理课件
离子体增强的离子辅助技术
• 等离子源采用热阴极、筒状 阳极及轴向发散形磁场，在 辅助沉积过程中，放电气体 (Ar气)进入APS源，放电产生 的等离子体在交叉电磁场的 作用下被拔出APS，并在电磁 场作用下漂向基板，放电气 体形成的等离子体形成一个 园维体充满基板下的空间。 这时充入反应气体(O2等)，等 离子体电离并激活反应气体 及从电子枪蒸发出的材料分 子，并在基板上得到符合化 学计量比的电介质薄膜。
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Au P P 接近于Ag
P P B
一般要求
紫外区 反射率 可见区 红外区
硬度 附着力 稳定性 制备工艺
银膜用作玻璃的前表面镀层:
当银膜作为玻璃后表面的内反射镀层时，通常是在银膜 的外面镀一层铜，再镀一层铬，然后刷上保护漆，以防 止反射镜的“银变”。
增强金属反射镜
金属的复折射率可写为 n ik ，光在空气中垂直入射时，其 反射率为 2 1 (n ik ) (1 n 2 ) k 2 R 1 (n ik ) (1 n 2 ) k 2
y0 y sub
,V型膜
双层 λ0/4λ0 y1 /4 y2 λ 0/4 λ 0/2 三层 λ 0/4 λ 0/2 λ 0/4 λ 0/4 λ 0/2 λ 0/2 y1 y2 y1 y2 y3 y1 y2 y3
( y1 / y2 ) 2 y0 / ysub
λ /2虚设，在λ 0反射率等于λ 0/4单层;可有二个零反射波 长，W型膜 零反射条件：y0 y3 用于ysub <1.65
一、试探法：
初始结构 计算机数值计算 修改设计参数 计算机数值计算
二、光学自动设计方法
半自动设计 全自动设计（无需初始结构）
初始结构的光谱特性
通过某种数学方法 改进结构的光谱特性 修改膜层结构 —) 理想的光谱特性 变小 评价函数
—) 理想的光谱特性 评价函数
评价函数：
F ( x)
评价函数
n越小越好，k越大越好
倾斜入射:
N n ik r
0 0
p
here, 0
n0 s , 0 n0 cos 0 cos 0
p
N , s N cos 1 cos 1
麻烦: cosθ 1是虚数。
cos1 1 sin 2 1 1 ( i
2 2 y1 ysub
,宽带低反射，
,宽带低反射，
零反射条件：y3 y1 用于ysub >1.65
y sub y0
4、超宽带减反射膜的设计
只用高低两种材料
更多的膜层数：5、7、9、11……….
减反射膜应用于光学系统时的考虑 （1）玻璃表面镀膜后会出现光谱选择性，所以镀膜的玻璃 表面会显现鲜艳的颜色，众多的玻璃表面串在一起应用，统 一的颜色取向会使系统的色彩还原出现问题，所以应该对复 杂系统的减反射膜进行色彩平衡设计。
(
2 n2
ng
) n0
n2 n1 ng / n0
图2 双层V型膜的反射率曲线
用矢量法求出双层增透膜的各层厚度
只有当矢量r1、r2和r3组成封闭三角形才能使合矢量为零。因此只 须以矢量r1的始点和终点为圆心，分别以r3和r2为半径作两个园， 两个园的交点就是满足合矢量为零条件的矢量r2和r3头尾相接的 点，然后从矢量图上即可量得2δ1、2δ2的值。显然，图示的两种 方式，都能使三角形封闭。解(b)的膜层总厚度比解(a)的小，它对 波长的敏感性也较小，所以通常取此解。
采用变折射率的所谓非均匀膜，它的折射率随着厚度的增 加呈连续的变化；
采用几层折射率不同的均匀薄膜构成多层增透膜；
麦克劳得导纳图解技术简介
双层增透膜的导纳轨迹
HL
H:ZrO2(2.07) L:SiO2(1.46) H:Y2O3(1.79) L:SiO2(1.46)
H 1L
麦克劳得导纳图解技术简介
矢量法用来分析单层薄膜情况：
可见当厚度为某一波长1/4，并且r1=r2时剩余反射为零：
n0 n1 n1 n2 r 则n1 1 r 2即 n0 n1 n1 n2
n0n2
运用矩阵法分析1/4波长厚度时的情况：
i sin 1 co s 1 C 1 1 B 2 i sin co s 1 1 1 2n1d1 其中： 1 2 2 C n Y 1 n2 B n0 Y R n Y 0
如果在金属上镀以折射率为n1、n2的两层 0 4 厚度的介质膜， 并且n2紧贴金属，那么在垂直入射时，波长 0 的导纳为
2
n n 0 n2 2 n n0 1 n 2
2 1
2
n0 Y R n Y 0
2
n n 0 n2 2 n n0 1 n2
2 1
2
欲使中心波长处反射率等于零，
n1
（2）光线在系统中对减反射膜面的入射角相差很大，多层 膜在较大入射角情况下，会使减反射性能劣化。
（3）有些高折射率玻璃在短波有吸收，所以高效增透部分应 放于短波，如果整个系统彩色平衡达不到要求，还应在减反 射膜设计中有意消减某些波段的光谱。 （4）对于大入射角界面和高折射玻璃在系统中可考虑 用单层膜。
②膜系特别复杂或投点数太多时，优化效应不高。
§3.1 增 透 膜
单层增透膜
单层增透膜是减少界面反射的最 简单途径，如右图用矢量法分析：
n0 n1 n1 n2 r1 , r2 n0 n1 n1 n2
从矢量图上可以看到，合振幅矢量r随着r1和2之间的 夹角2δ而变化合矢量端点的轨迹为一园周。 当膜层 的光学厚度为某一波长的四分之一时，则两个矢量的 方向完全相反。
n0 sin 0 2 n sin 0 2 n0 sin 0 2 ) 1 (k 2 n 2 )( 02 ) i 2 nk ( ) 2 2 2 n ik n k n k
2 2 i 2
2 2 a ib 2
rp rs
n0 / cos 0 ( n ik ) / ( a ib) r1 p ir2 p n0 / cos 0 ( n ik ) / ( a ib) n0 cos 0 (n ik )(a ib) r1s ir2 s n0 cos 0 (n ik )(a ib)
n0 n2
理想的单层增透膜条件是，膜层的光学厚度为四分之一波 长，其折射率为入射介质和基片折射率乘积的平方根。
当选定基片ng时， 单层增透膜Rmin随n1降低而降低。
当选定膜层的折射率时， 单层增透膜Rmin随ng提高而降低。
单层增透膜的缺点： 1. 对大多数应用来说，剩余反射率还太高。 2. 从未镀膜表面反射的光线，在色彩上仍保持中性， 而从镀膜表面反射的光线破坏了色的平衡。
减反射膜的工艺要点:
（1）尽量采用机械、物理、化学等性能好的少数几种材料 设计非λ0/4膜厚的减反射膜。 （2）最常用的低折射率材料：MgF2、SiO2，最常用的高 折射率材料：TiO2（可见+红外）、Ta2O5（近紫外+可见 +红外）、ZrO2（紫外+可见+红外）。
（3）MgF2膜制备基片温度至少需在250℃以上，或离子 辅助，才能获得足够牢固的薄膜。
插入半波长层后成为：型膜 0
4 2 个四分之一波长层，可以降低W型膜低反射区中央的反射率
凸峰，又保持半波长层的光滑光谱特性作用。
0
中间半波长层分成折射率稍稍不同的两
曲线a
曲线b 三层增透膜改进
前后的光谱反射率曲线
曲线c
减 反 射 膜
层数 厚度 导纳 y1 特 零反射条件： y 1 零反射条件: 性 单层 λ 0/4
例：单层膜 F*(x) 1、确定极值范围：Ａ～Ｂ； 2、随机投点，只得留下Ｆ（ x ）最小的１０个点及对应的结构； 3、找出最佳１０点的对应的区间A’ B’; 4、继续投点试验直到最佳10点评价函数统计结果，均方根达到某一精度，终止 试验，此时评价最小，F*（ x ）对应的膜系结构即为最优结构。 5、此种方法有一定局限性：①最佳结果遗漏
非规整双层层增透膜
膜系： Air 2L/.38H/ Sub H:ZrO2(2.07) L:SiO2(1.46)
二. 双层增透膜
1. V型膜(
0
4
0
4 ) ：在中心波长的反射率为零
在限定两层膜的光学厚度都是四分 之一的波长下，欲使中心波长的反 射率减至零，折射率应满足：
n1
或：
Y n0
* W R ( ) R ( )
权重
膜系的光谱特性
理想光谱特性
求导法 （瞎子下山法） 数学方法： 直接算法 （试验法） 光学薄膜优化设计的特殊性： F（x） 多维 F（x）=F(λ,θ,n0,ng,Ni,di…….) F（x）是一个多峰函数，容易使F（x）陷入局部极值
全搜描法（工作量太大） 试验法 统计试验法
R p | rp |2 Rs | rs |2
p arctg (r2 p / r1 p ) s arctg (r2 s / r1s )
三种金属膜的特性和工艺
特 性 Al B M 接近于Ag
B B M
高的真空度 低基板温度 快蒸
Ag P B B
P P P
高的真空度 低基板温度 快蒸
一、金属反射膜
新镀的金属反射膜的反射率曲线
下图为1、2、4、8、16、32、64、128nm铝膜反射率的理论曲 线
不同厚度Al膜的反射对比
100 90 80 70 60
% Reflectance
50 40 30 20 10 0
-0 500 1000 1500 2000 2500 3000 3500 4000 4500 5000 5500 6000 6500 7000 7500 8000 8500 9000 9500 10000
2. W型膜( 4 2) ：在中心波长的两侧可望 有两个反 射率极小值，光谱反射率曲线呈W型。
0
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图2.4 双层W型膜的反射率曲线
三. 多层增透膜（宽带增透膜）： 又四分之一波长层或半 波长层构成，可以看作是V型膜和W型膜的改进形式。