气体吸附分析技术基础
吸附技术知识点总结

吸附技术知识点总结一、概述吸附技术是一种物理或化学过程,通过在固体表面或孔隙中吸附气体、液体或溶质来分离或提纯物质的方法。
吸附技术具有高效、节能、环保、易操作、低成本等优点,在化工、环保、能源、医药等领域得到了广泛应用。
吸附技术可分为气体吸附和液体吸附两种类型,其中气体吸附主要用于气体分离和净化,液体吸附主要用于溶剂回收和废水处理。
二、吸附过程的基本原理吸附过程是指物质在固体表面或孔隙中附着的过程,其基本原理可归结为几种主要机制:1. 物理吸附:也称范德华吸附,是指气体或液体分子在固体表面附着的一种物理现象。
其特点是吸附力弱,吸附物质易脱附。
物理吸附是一种可逆过程,通常在低温和高真空条件下发生。
2. 化学吸附:指气体或液体分子在固体表面形成化学键而附着的过程。
其特点是吸附力强,吸附物质难脱附。
化学吸附是一种不可逆过程,通常发生在较高温度和压力条件下。
3. 吸附热力学:吸附过程的热力学基础是吉布斯自由能的变化,吸附热力学理论可用于描述物质在固体表面或孔隙中的吸附行为,包括吸附等温线、吸附等压线等。
4. 吸附动力学:吸附过程的动力学基础是质量传递、传质速率、平衡时间等,用于描述物质在固体表面或孔隙中的吸附速率和平衡时间等动态过程。
三、气体吸附技术气体吸附技术是指利用固体吸附剂吸附气体分子的方法,常用于气体分离和净化领域。
1. 吸附剂的选择:气体吸附剂通常为多孔性固体,如活性炭、分子筛、铝土矿、氧化铝、硅胶等。
根据吸附剂的孔径、比表面积、孔隙分布等特性选择适合的吸附剂。
2. 吸附分离:气体吸附分离常用于分离气体混合物,如氧气/氮气、二氧化碳/甲烷等。
通常利用吸附剂在一定温度、压力下对气体混合物进行吸附分离,根据各气体在吸附剂上的吸附力差异实现气体分离。
3. 吸附净化:气体吸附净化常用于去除气体中的有害成分,如有机物、硫化物、氮氧化物等。
通常利用吸附剂对气体中的有害成分进行吸附,实现气体净化和净化剂再生。
大气污染控制工程第四章气态污染物处理技术基础

加大MA,可有以下几种途径: 1)加大传质推动力△P=PA-PA* 2)增加气相传质系数KG 3)增加气液两相的有效传质面积A
气体吸附
吸附理论 几种常见的吸附剂 固定床吸附系统 流化床吸附器
吸附理论
吸附机理 物理吸附:气体分子和固体间形成弱键,
X
液相中溶质的摩尔数 液相中溶剂的摩尔数
x 1 x
Y
气相中溶质的摩尔数 气相中惰性组分摩尔数
y 1 y
操作线和平衡线图(见下图)
吸收塔的物料衡算和操作线方程
Gm,1 y1 Lm,2 x2 Gm,2 y2 Lm,1x1
因为总的气体流量 (或液体流量)在塔 顶和塔底是不同的, 上面的方程式一般不 能进一步简化。这个
不同反应类型的增强因子表达式
(1)不可逆瞬时反应
A(溶质) bB(反应物) C(反应产物)
=1+rS
扩散系数比 r ≡ DB/D 计量浓度比 S ≡CBL/bCi
对增强因子的补充说明
扩散系数比r通常接近于1,且难于人为
地改变它;计量浓度比S那可以在很大的
范围内改变,而为影响的主要因素。
当其他条件不变而增大CBL时,则变大, 其极限条件是:当CBL达某一临界浓度 CBLc ,液相对溶质无传质阻力
吸附过程示意图
通常气相吸附质浓度高,过程受固相控 制;气相吸附质浓度低,过程受气膜控 制
吸附平衡
气固两相长时间接触,吸附与脱附达到 动态平衡
吸附等温线 在一定温度下,吸附量与吸附质平衡分 压之间的关系曲线被称为吸附等温线
吸附等温线有五种基本类型(见下图)
基本吸附等温线
(1)型:Langmuir等温吸附 (2)、(3)型:多分子层吸附 (4)、(5)型:多分子层吸附,并且吸附质在吸附
变压吸附气体分离技术

气体吸附分离技术的基础
被吸附的气体分子在固体表面上形成的吸 附层,称为吸附相。吸附相的密度比一般 气体的密度大得多,有可能接近液体密度。 当气体是混合物时,由于固体表面对不同 气体分子的压力差异,使吸附相的组成与 气相组成不同,这种气相与吸附相在密度 上和组成上的差别构成了气体吸附分离技 术的基础。
Q 吸 附 量 Q4
高压 p1 p2 0 T2 温度 低压
Q3 Q2 Q1 T1
T
由描述吸附平衡的等温吸附线知道,在同 一温度下,吸附质在吸附剂上的吸附量随吸 附质的分压上升而增加;在同一吸附质分压 下,吸附质在吸附剂上的吸附量随吸附温度 上升而减少;也就是说加压降温有利于吸附 质的吸附,降压加温有利于吸附质的解吸或 吸附剂的再生。
露点或露点温度是在固定气压 之下,空气中所含的气态水达 到饱和而凝结成液态水所需要 降至的温度。
谢谢大家
欢迎批压过程(A-B): 经真空解吸再生后的吸附器处于过程的 最低压力P0、床内杂质吸留量为Q1(A点). 在此条件下 用产品组分升压到吸附压力P3,床内杂质吸留量Q 1不 变(B点)。 2.吸附过程(B-C): 在恒定的吸附压力下原料气不断进入吸 附器,同时输出产品组分. 吸附器内杂质组分的吸留量 逐步增加,当到达规定的吸留量Q3时(C点)停止进入原 料气,吸附终止. 此时吸附器内仍预留有一部分未吸附 杂质的吸附剂(如吸附剂全部被吸附杂质,吸留量可为 Q4,C’点)。
按吸附剂的再生方法将吸附分 离循环过程分成两类:变温吸 附法和变压吸附法。
变压吸附法
在加压下进行吸附,减压下进行解 吸。由于循环周期短,吸附热来不及 散失,可供解吸之用,所以吸附热和 解吸热引起的吸附床温度变化一般不 大,波动范围仅在几度,可近似看作 等温过程。
气体吸附原理

气体吸附原理气体吸附是指气体分子在固体表面上附着的现象,它是一种重要的物理化学过程,广泛应用于化工、环保、能源等领域。
气体吸附原理是指气体分子在与固体表面相互作用时,通过吸附作用在固体表面上形成一层吸附层的过程。
气体吸附过程是一个复杂的物理化学过程,它受到多种因素的影响。
其中,最重要的是吸附剂的性质和气体分子的性质。
吸附剂的性质包括孔径大小、孔隙结构、化学成分等,而气体分子的性质则包括分子大小、极性、化学活性等。
这些因素共同作用,决定了气体在固体表面上的吸附行为。
气体吸附过程可以分为物理吸附和化学吸附两种类型。
物理吸附是指气体分子与吸附剂表面之间的范德华力作用,它是一种弱相互作用力,通常发生在低温下。
而化学吸附则是指气体分子与吸附剂表面发生化学键结合的过程,它是一种强相互作用力,通常发生在高温下。
在气体吸附过程中,吸附剂的孔隙结构对吸附性能起着至关重要的作用。
孔隙结构可以影响吸附剂的比表面积、孔体积和孔径分布等参数,从而影响气体分子在吸附剂表面上的扩散和吸附速率。
通常情况下,孔径越小,吸附剂的比表面积和孔体积越大,气体分子在其表面上的吸附性能也越好。
此外,气体分子的性质也对气体吸附过程产生重要影响。
一般来说,分子大小越小、极性越大、化学活性越高的气体分子,其在固体表面上的吸附性能也越好。
这是因为这些气体分子更容易与吸附剂表面发生相互作用,从而形成稳定的吸附层。
在工业应用中,气体吸附技术被广泛应用于气体分离、气体储存、气体检测等领域。
例如,在天然气净化过程中,气体吸附技术可以有效去除天然气中的杂质气体,提高天然气的纯度。
在气体储存领域,气体吸附技术可以将气体分子吸附到多孔吸附剂中,实现气体的高效储存和释放。
总之,气体吸附原理是一个复杂而重要的物理化学过程,它受到多种因素的影响。
通过深入研究气体吸附原理,可以更好地理解气体分子在固体表面上的吸附行为,为气体吸附技术的应用和发展提供理论基础和技术支持。
大气污染与防治第八章气态污染物控制技术基础.

800
0.92 673 22 393 423 600
800
0.794 873 4 473 -573 ——
800
0.794 873 5 473 -573 ——
800
—— 873 13 473 -573 ——
常用吸附剂特性
分子筛特性
气体吸附的影响因素
操作条件
低温有利于物理吸附;高温利于化学吸附 增大气相压力利于吸附
利用混合气中各组分在溶液中溶解度差异而使气体混合物中
各组分分离的单元操作称为吸收过程。 吸收操作的依据:混合物各组分在某种溶剂(吸收剂)中溶 解度(或化学反应活性)的差异。 溶质:混合气体中能够显著溶解的组分称为溶质或吸收质; 惰性组分:不被溶解的组分称为惰性组分(惰气)或载体; 吸收剂:吸收操作中所用的溶剂称为吸收剂或溶剂; 吸收液:吸收操作中所得到的溶液称为吸收液或溶液,其成 分为溶质A和溶剂S;
吸附剂性质
比表面积(孔隙率、孔径、粒度等)
fVm W N0 A f 22.4 103
-比表面积,m2/g
f -单位体积气体铺成单分子层的面积,m2/mL
N0-阿佛加德罗常数
A -吸附质分子横截面积,m2 Vm-吸附剂表面被单分子铺满时的气体体积,mL W-吸附剂的重量,g
气体吸附的影响因素
典型吸附质分子的横截面积
气体吸附的影响因素
吸附质性质、浓度
临界直径-吸附质不易渗入的最大直径 吸附质的分子量、沸点、饱和性 单位吸附剂吸附的吸附质的量 静活性-吸附达到饱和时的吸附量 动活性-未达到平衡时的吸附量
吸附剂活性
常见分子的临界直径
气体吸附总结报告范文(3篇)

第1篇一、报告概述随着工业生产的不断发展,气体吸附技术在环保、化工、医药等领域得到了广泛应用。
本报告旨在总结气体吸附技术的原理、分类、应用及其在我国的发展现状,为我国气体吸附技术的进一步研究和应用提供参考。
一、气体吸附原理气体吸附是指气体分子在固体表面上的吸附现象。
根据吸附剂与吸附质之间的相互作用力,气体吸附可分为物理吸附和化学吸附。
1. 物理吸附物理吸附是指气体分子与吸附剂表面之间的范德华力作用。
物理吸附具有可逆性,吸附过程不需要化学反应,吸附热较低。
2. 化学吸附化学吸附是指气体分子与吸附剂表面发生化学反应,形成化学键。
化学吸附具有不可逆性,吸附过程需要化学反应,吸附热较高。
二、气体吸附分类根据吸附剂的不同,气体吸附可分为以下几类:1. 分子筛吸附分子筛是一种具有笼状结构的吸附剂,具有良好的吸附性能。
分子筛吸附剂主要用于分离和净化气体,如天然气、氢气等。
2. 活性炭吸附活性炭具有大量的微孔和比表面积,具有良好的吸附性能。
活性炭吸附剂广泛应用于空气净化、水质净化、溶剂回收等领域。
3. 负载型吸附剂负载型吸附剂是指将吸附剂负载在载体上,以提高吸附剂的使用效果。
负载型吸附剂具有吸附容量大、吸附速度快、易于再生等优点。
4. 特种吸附剂特种吸附剂是指具有特殊功能的吸附剂,如金属有机骨架材料(MOFs)、碳纳米管等。
特种吸附剂在气体分离、催化、传感器等领域具有广泛应用前景。
三、气体吸附应用1. 环保领域气体吸附技术在环保领域具有广泛应用,如废气治理、水质净化、土壤修复等。
例如,活性炭吸附剂可用于去除废气中的有机污染物,降低环境污染。
2. 化工领域气体吸附技术在化工领域主要用于分离和提纯气体。
例如,分子筛吸附剂可用于分离天然气中的甲烷和乙烷,提高天然气利用率。
3. 医药领域气体吸附技术在医药领域主要用于药物分离、提纯和合成。
例如,活性炭吸附剂可用于去除药物生产过程中的杂质,提高药物纯度。
4. 其他领域气体吸附技术在食品、能源、材料等领域也具有广泛应用。
气体吸附与分离技术的研究进展

气体吸附与分离技术的研究进展气体吸附与分离技术是近年来备受关注的一个研究领域,其应用广泛,例如在气体纯化、环境保护、能源、化学、医药等方面均有着重要的作用。
其研究进展也一直处在不断更新的状态,本文将通过介绍其研究现状和前景展示其发展趋势和未来应用方向。
1. 气体吸附与分离技术的基本原理气体吸附与分离技术是利用吸附材料对气体分子的选择性吸附,从而实现气体的分离和纯化的一种方法。
这种选择性吸附的基础是气体分子在吸附材料表面相互作用的力,通常有物理吸附和化学吸附两种形式。
其中,物理吸附是指分子与表面之间的范德华力或静电力相互作用,常见的吸附材料有活性碳、分子筛、多孔材料等;而化学吸附则是指分子与表面形成共价键或配位键的化学作用,常见的吸附材料有金属有机框架材料(MOF)等。
2. 气体吸附与分离技术的研究现状目前,气体吸附与分离技术的研究已经涉及到多个重要领域,例如环境保护、医药、能源等。
在环境保护方面,气体吸附与分离技术可以应用于有害气体的分离和治理,例如二氧化碳的捕集和处理、甲醛、苯等有害气体的去除等。
在医药方面,气体吸附与分离技术可以应用于医药分离、净化和气体治疗等方面。
在能源方面,气体吸附与分离技术可以帮助实现能源的高效利用和储存,例如天然气和煤炭气化后的气体分离和净化等。
为了实现气体的高效分离和纯化,研究人员不断尝试寻找更加高效的吸附材料。
近年来,金属有机框架材料成为研究的焦点之一,其主要特点是结构稳定、孔径可控、内部孔壁具有一定的官能团等,这使得金属有机框架材料在吸附和分离方面具有很高的潜力。
例如,一些金属有机框架材料能够很好地吸附和分离小分子气体,例如氧气、氮气等;而另一些金属有机框架材料则可以实现对大分子气体的有效分离,例如甲烷、丙烷等。
此外,还有一些新型吸附材料在研究中也表现出了很高的潜力,例如金属有机骨架材料、多孔聚合物、离子液体等,这些材料都具有较高的气体选择性和吸附容量,对于气体分离和纯化也有很好的应用前景。
psa气体变压吸附分离技术

psa气体变压吸附分离技术PSA气体变压吸附分离技术: 从简到繁,由浅入深导语:气体分离和纯化是工业领域的一个关键过程,而PSA (Pressure Swing Adsorption)气体变压吸附分离技术,作为一种高效、经济、灵活的分离技术方案,日益受到广泛关注和应用。
本文将从深度和广度的角度,全面评估PSA气体变压吸附分离技术,并通过多个层面的探讨,帮助读者更好地理解这一重要的技术。
一、基础概念1.1 PSA气体变压吸附分离技术的定义和原理PSA气体变压吸附分离技术是一种基于吸附剂对气体成分具有不同的吸附亲和力的原理上所实现的分离技术。
该技术通过高压吸附和低压解吸的循环操作,利用吸附剂对气体成分的选择性吸附特性,实现对混合气体分离和纯化的目的。
该技术主要应用于各类气体的纯化、富集、去除杂质等过程,可以高效、经济地达到对目标成分的高纯度分离。
1.2 PSA气体变压吸附分离技术的发展历程PSA技术的发展可以追溯到上世纪50年代早期,最早用于氢气的分离和纯化。
随着科学技术的不断进步和工业需求的增长,PSA技术逐渐应用于多个领域,涉及的气体种类也从氢气扩展到氧气、氮气、甲烷等多种气体。
近年来,PSA技术在能源、化工、环保等行业得到广泛应用,成为气体处理领域的一项重要技术工艺。
二、关键工艺与技术参数2.1 吸附剂的选择和设计吸附剂是PSA技术中的核心元素,其选择和设计直接影响系统的性能和效率。
根据不同的气体吸附特性,需要选择适合的吸附剂,并根据工艺要求进行载气和吸附剂的匹配。
常用的吸附剂有活性炭、分子筛、硅胶等。
吸附剂的选择应综合考虑吸附容量、吸附速度和再生能力等因素,以达到对目标成分高效吸附与解吸的要求。
2.2 PSA循环过程参数的优化PSA循环过程包括吸附、解吸、排附和再生等多个阶段,其中各阶段的参数优化对系统的性能至关重要。
如吸附时间和解吸时间的选择、吸附和解吸压力的调节、再生步骤的优化等,都需要综合考虑吸附剂的性能和工艺的经济性,以实现气体分离的高效率和低能耗。
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N2, CO2, Ar物理吸附结果对比
尽管N2, Ar和CO2动力学直径类 似,分别为0.36,0.34和 0.33nm,但三种吸附质的吸附行 为完全不同。
BET surface area (m2/g) N2 CO2 Ar 1.009E+03 1.012E+03 9.433E+02 Langmuir surface area (m2/g) 1.029E+03 1.049E+03 9.647E+02
300
0.40 0.35
Amount Adsorbed (cc(STP)/g)
250
Cumul. Pore Volume (cc/g)
0.30 0.25 0.20 0.15
200
N2 Ar
CO2
N2
150
100
CO2
Ar
0.10 0.05 0.00
50
0 1E-7 1E-6 1E-5 1E-4 1E-3 0.01 0.1 1
物理吸附 吸附 化学吸附
范德华力 化学键力
气体吸附
气体吸附的应用
分离,提纯,净化,除湿…...催化
表面,孔道的表征
面 积
体 积
2. 仪器:分析方法的实现
仪器结构
真空泵
气体
分析过程
⑷ ⑶ ⑵
⑴
吸附脱附曲线的形成
回滞环的形成
吸附过程
脱附过程
原因:测试过程为吸附脱附的动态过程。
回滞环形状与孔型的关系
原子发射光谱
原子发射光谱的产生
通常情况下,原子处于基态,在激发光作用下,原子获得足够的能 量,外层电子由基态跃迁到较高的能级状态即激发态。处于激发态的原 子是不稳定的,其寿命小于10-8s,外层电子就从高能级向较低能级或 基态跃迁。多余能量以电磁辐射的形式发射出去,这样就得到了发射光 谱。 原子发射光谱法是光学分析法中产生与发展最早的一种。在近代各 种材料的定性、定量分析中,原子发射光谱法发挥了重要作用。特别是 新型光源的研制与电子技术的不断更新和应用,使原子发射光谱分析获 得了新的发展,成为仪器分析中最重要的方法之一。
240 220 200 180 160 140 120 100 80 60 40 20 0 -20 1E-7 1E-6 1E-5 1E-4 1E-3 0.01 0.1 1
N2
H2
H2
0.0
0.2
0.4
0.6
0.8
1.0
Relative Pressure (P/Po)
Relative Pressure (P/Po)
Kr在表征极低比表面积方面具有明显优势
H2物理吸附
主要用于储氢材料的性能表征
300 280 260
300
N2 Amount Adsorbed (cc(STP)/g)
280 260 240 220 200 180 160 140 120 100 80 60 40 20 0 -20
Amount Adsorbed (cc(STP)/g)
分析方法适用于其他非腐蚀性气体
化学吸附
ICP分析技术基础
胡林彦
2010.10.26
概要
原理:原子光谱分析方法 仪器:分析方法的实现 样品:消解过程
1. 原理:原子光谱分析方法
原子光谱
原子光谱: 由原子中的电子在能 量变化时所发射或吸收的 一系列光所组成的光谱。
原子光谱是一些线状光 谱,发射谱是一些明亮的 细线,吸收谱是一些暗 线。原子的发射谱线与吸 收谱线位置精确重合 。
ICP-AES简介
样品
ICP
等离子体是一种由自由电子、离子、 中性原子与分子所组成的在总体上呈 中性的气体。 感应线圈由高频电源耦合供电,产 生垂直于线圈平面的磁场。如果通 过高频装置使氩气电离,则氩离子 和电子在电磁场作用下又会与其它 氩原子碰撞产生更多的离子和电 子,形成涡流。强大的电流产生高 温,瞬间使氩气形成温度可达 10000k的等离子焰炬(ICP)。
2
4
6
8
10
12
14
Relative Pressure (P/Po)
Pore Width (angstrom)
Kr物理吸附
低温氮气吸附测比表面的下限,一般是1m2/g,不适用于 更低的比表面积测量。 氪气吸附最大的优点就是在液氮温度下其饱和蒸汽压只有 约2.6mmHg,所以,在吸附等温线的测定范围内,达到 吸附平衡后残留在死空间中的未被吸附的氪气量变化就会 很大,可以测得准确,因此氪气适合于低比表面积的测 定。
N2物理吸附表征极低比表面积
0.02 1.8 1.6 0.01
Amount Adsorbed (cc(STP)/g)
1.4 1.2 1.0 0.8 0.6 0.4 0.2 0.0 -0.2
Amount Adsorbed (cc(STP)/g)
0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0
0.00
-0.01
例:吸附点选择与比表面积
微孔分子筛
压力点选择0.05-0.35之间 时,不能得到合理的结果。
例:吸附点选择与比表面积
压力点选择0.01以下时,可 以得到合理的结果。
BET模型与Langmuir模型对比
3. 拓展:多种气体吸附
背景
77K下的氮气是微孔和介孔分析最常用的标准吸附质。 优点:化学惰性,不易发生化学吸附,易得,成本低。 缺点:其应用具有局限性。 应一些特殊要求,除氮气外的其他气体越来越多地被应用 于吸附分析。如:精确的孔道分析,超低比表面积测量, 特定气体吸附性能考察等。
激发源 激发温度/K 稳定性 应用范围 稍差 较好 好 最好 定性分析,矿物、纯物质、难挥发元素的定量分析 试样中低含量组分的定量分析 金属、难激发元素的定量分析 溶液的定量分析
直流电弧 4000-7000 交流电弧 4000-7000 火化 ICP 瞬间10000 6000-8000
2. 仪器:分析方法的实现
CO2 0℃下的吸附等温线
0.4 300
300
Amount Adsorbed (cc(STP)/g)
250
200
150
Amount Adsorbed (cc(STP)/g) Cumul. Pore Volume (cc/g)
N2
N2
0.3 250
200 0.2
100
150
CO2
CO2
0.1
50
100
Ar N2
Amount Adsorbed (cc(STP)/g)
250
Cumul. Pore Volume (cc/g) Amount Adsorbed (cc(STP)/g)
N2
200
N2
150
Ar
100
50
Ar
0 1E-6
0.6 10
0.8 12
1.0
14
Relative Pressure (P/Po)
-0.02
-0.03
-0.04 0.0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5
Relative Pressure (P/Po)
Relative Pressure (P/Po)
P C −1 P 1 = • + V ( P0 − P ) CVm P0 CVm
Kr物理吸附表征极低比表面积
0.0080 0.0075
3.样品:消解过程
ICP-AES对样品的要求
目前,气体、液体、固体样品均可引入 ICP光源。但最广泛、优先考虑仍是将液体 引入ICP光源的方法。从实践看来,溶液雾 化法有很好的效果与实用性。
溶液物化法的特点
固体样品经处理分解转化为液体后,元素都以离子状存在于溶液中,消除 了元素的赋存状态、物理特性所引起的测定误差。 在进行分析时,根据不同类型的样品,一般称取0.1—1 g 固体样品进行化 学处理,这就有较好的取样代表性。 液体试样以雾化法引入ICP光源,基本上消除了各元素从固体样品中蒸发 的分馏现象,使各元素的蒸发行为趋于一致,改善了分析的准确度及精密 度。 由于上一条所提出的现象,各元素的蒸发行为趋于一致,为多元素同时测 定创造了有利条件。 采用各元素的化合物(高纯)可以很容易地来配制各元素的标准溶液及基 体元素匹配溶液。这一点对固体样品直接引入ICP光源来讲,标准样品的 配制是很困难的。 液体引入ICP光源的溶液雾化法相对来讲有较好的稳定性,能获得良好的 分析准确度和精密度,各应用领域均能接受。 溶液雾化法可进行约70个元素的测定;并可在不改变分析条件的情况下, 进行同时的、或顺序的主、次、微量浓度的多元素的测定。 各种化学预处理方法,适用于各种类型的样品。 溶液雾化法相对来讲操作比较易于掌握,适合于大量样品的分析工作。
ICP-AES仪器结构
定性测量
定量测量
Intensity
I = aC
Concentration
ICP-AES的特点
ICP光源具有良好的原子化、激发和电离能力,具有很好的检出限。 对于多数元素,其检出限一般为0.1~100ng/ml。 ICP光源具有良好的稳定性,具有很好的精密度,当分析物含量不是 很低即明显高于检出限时,其RSD一般可在1%以下,好时可在0.5% 以下。 ICP发射光谱法受样品基体的影响很小,参比样品无须进行严格的基 体匹配,一般情况下可不用内标,具有良好的准确度。 ICP发射光谱法的分析校正曲线具有很宽的线性范围,在一般场合为5 个数量级,好时可达6个数量级。 ICP发射光谱法具有同时或顺序多元素测定能力,特别是固体成像检 测器的开发和使用及全谱直读光谱仪的商品化更增强了它的多元素同 时分析的能力。 ICP发射光谱法在一般情况下无须进行基体匹配且分析校正曲线具有 很宽的线性范围,所以它操作简便易于掌握,特别是对于液体样品的 分析。