真空蒸镀的原理及设备
蒸镀机原理和基本工作流程
蒸镀机原理和基本工作流程蒸镀机是一种常见的金属表面处理设备，主要用于在金属表面形成一层金属膜，以提高其外观、耐腐蚀性和导电性等性能。
本文将介绍蒸镀机的原理和基本工作流程。
一、蒸镀机原理蒸镀机利用电子束或热源将金属材料加热至其熔点以上，然后使其蒸发并沉积在被处理物表面上，形成一层金属膜。
这种技术被称为物理气相沉积（PVD）。
在蒸镀机中，金属材料通常以块状或丝状形式放置在炉内。
通过加热，金属材料逐渐蒸发并形成金属蒸汽。
然后，金属蒸汽通过真空泵抽出到反应室，在被处理物表面上沉积形成金属膜。
二、蒸镀机基本工作流程蒸镀机的基本工作流程包括下列几个步骤：1.真空抽气。
首先，将被处理物放置在真空室内，然后启动真空泵，将室内气体抽出。
在真空室内，真空度通常要达到10^-5Pa以下。
2.加热金属材料。
将金属材料加热至其熔点以上，使其蒸发。
可以使用电子束或热丝等加热源。
3.沉积金属蒸汽。
金属蒸汽进入反应室，通过真空泵抽出。
在被处理物表面上沉积形成金属膜。
沉积速率通常在1~10纳米/秒之间。
4.冷却。
在蒸镀结束后，关闭加热源，将真空室内的温度降至室温以下。
然后，打开室内的气门，将气体充入室内，以恢复大气压力。
5.取出被处理物。
最后，将被处理物取出，进行后续的加工和处理。
三、蒸镀机的应用蒸镀机广泛应用于电子、光学、航空航天、汽车、家电等行业中。
例如，在电子行业中，蒸镀机常用于生产半导体器件、薄膜电容、光伏电池等产品。
在汽车行业中，蒸镀机常用于汽车灯具、轮毂、门把手等零部件的表面处理。
蒸镀机作为一种先进的表面处理设备，已经成为现代工业中不可或缺的一部分。
通过蒸镀机的处理，可以使金属表面形成坚硬、光滑、美观的金属膜，从而提高产品的质量和使用寿命。
高真空蒸发镀膜设备工作原理
高真空蒸发镀膜设备工作原理
高真空蒸发镀膜设备是一种常用的薄膜工艺设备，其工作原理主要是通过高速电子束轰击蒸发源，使其物质表面分子逸出，生成高温高压蒸汽流。
然后将物质蒸汽流引入真空室内，经过几步复杂的过程，使其在基板表面形成一层均匀、致密、高质量的薄膜。
具体来说，高真空蒸发镀膜设备的工作流程如下：
1. 准备基板：首先，将待镀膜基板放置在真空室内，并通过真空泵将其抽取至高真空状态，以保证后续的蒸发过程不受气体干扰。
2. 加热蒸发源：将待蒸发的物质加热至其沸点以上，使其物质表面分子逸出，生成高温高压蒸汽流。
为了保证均匀蒸发，通常采用旋转蒸发源或线性蒸发源等特殊结构。
3. 控制蒸发速度：通过调节蒸发源中的电子束功率和蒸发源与基板之间的距离等参数，控制蒸发速度和蒸发量，以达到所要求的薄膜厚度和性能。
4. 收集蒸发物：蒸发物会在真空室内四处飘散，为了避免影响设备性能和安全，需要安装蒸发物收集系统，将蒸发物收集起来。
5. 沉积薄膜：最后，将蒸发物经过几步复杂的过程，如气体扩散、表面扩散、吸附、沉积等，在基板表面形成一层均匀、致密、高质量的薄膜。
总之，高真空蒸发镀膜设备的工作原理是利用高速电子束轰击蒸发源，产生高温高压蒸汽流，再将其引入真空室内，最终形成一层均匀、致密、高质量的薄膜。
该设备广泛应用于半导体、光电、化工、
航空等领域，是现代工业制造中必不可少的关键设备之一。
《真空蒸镀概述》课件
真空度：确保蒸镀过程中无空气干扰，提高薄膜质量 温度：控制蒸镀材料的蒸发温度，保证薄膜厚度均匀 压力：控制蒸镀腔内的压力，防止薄膜破裂 速度：控制蒸镀材料的蒸发速度，保证薄膜厚度均匀 角度：控制蒸镀材料的蒸发角度，保证薄膜厚度均匀 时间：控制蒸镀过程的时间，保证薄膜厚度均匀
均匀性：蒸镀过程中，材料在真空环境下均匀分布，保证涂层质量 精确性：蒸镀技术可以精确控制涂层厚度和成分，提高产品质量 环保性：蒸镀过程中无有害气体排放，符合环保要求 适用性：蒸镀技术适用于多种材料和基材，应用广泛
珠宝首饰：真空蒸镀 技术可以应用于珠宝 首饰的表面处理，如 镀金、镀银等，使首 饰更加美观、耐用。
家居装饰：真空蒸镀 技术可以用于家居装 饰品的表面处理，如 镀金、镀银等，使装 饰品更加美观、耐用。
汽车装饰：真空蒸镀 技术可以用于汽车装 饰品的表面处理，如 镀金、镀银等，使装 饰品更加美观、耐用 。
汇报人：
添加 标题
其他表面处理技术：包括电镀、化学镀、喷涂 等，各有优缺点。
添加 标题
比较：真空蒸镀技术具有更好的薄膜质量、更均匀 的薄膜厚度、更好的附着力等优点，但也存在成本 高、设备复杂等缺点。
添加 标题
结合：真空蒸镀技术与其他表面处理技术可以结合使用， 以实现更好的表面处理效果。例如，真空蒸镀技术可以用 于制备薄膜，而其他表面处理技术可以用于改善薄膜的性 能或外观。
在基材上
离子镀法：利 化学气相沉积
用离子轰击材 法：利用化学
料，使其在真 反应生成蒸汽， 空中形成蒸汽， 然后在真空中 然后沉积在基 沉积在基材上
材上
激光蒸镀法： 利用激光加热 材料，使其在 真空中形成蒸 汽，然后沉积
在基材上
半导体制造：用于 制造集成电路、太 阳能电池等
真空蒸发镀膜蒸镀
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2. 残余气体对制膜旳影响
（1）残余气体旳蒸发速率Ng： N g 3.5131022
g Pg
M gTg
(13)
（2）到达基片旳气体分子与蒸气分子之比(面源)：
N g Pg Nd P
MT
r 2
Pg K
M gTg Acos cos P
(14) （ g）
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（2）电子束加热蒸发源 电子束集中轰击膜料旳一部分而进行加热旳措施。
图8.2.5 电子束加热蒸发源
电子束加热蒸发源由： 阴极、加速电极、阳极 （膜料）构成。
还有高频加热蒸发源、 激光蒸发源等。
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优点:
（1）能够直接对蒸发材料加热； （2）装蒸发料旳容器能够是冷旳或者用水冷却，从而 可防止
点e
4 r
cos 2
m cos 4 r 2
（7）
小型平面蒸发源： m cos cos t r 2
令： cos cos h / r h /
h2 x2 ，
在x=0处：cos=cos=1
m
∴ t0 4 h2 (点源) (9)
m
t0 h2
（8） (面源) (10)
(1/cm2·s)
(5)
小型圆平面源：
Nd
AN e
cos r 2
cos
(1/cm2·s)
(6)
β、θ为蒸气入射方向分别与蒸刊 登面和接受表面法向旳夹角 。
图8.2.3 、角旳意义
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（4）蒸发制膜旳厚度
∵τ时间内，蒸发材料旳总量：m =ANe，密度：
蒸镀机原理和基本工作流程
蒸镀机原理和基本工作流程蒸镀机是一种常用的表面处理设备，主要用于在材料表面涂覆一层金属薄膜，以改善材料的表面性能和外观。
蒸镀技术是利用电子束或热阴极等方式将金属材料加热至一定温度，使其蒸发成蒸汽，然后在真空环境下沉积在待处理材料表面上。
下面将介绍蒸镀机的原理和基本工作流程。
蒸镀机的原理主要包括蒸发源、真空系统和基底加热系统。
蒸发源是将金属材料加热至蒸发温度的装置，通常采用电子束或热阴极来提供能量。
真空系统用于创造高度真空的环境，以确保金属材料蒸发后能够在无氧环境下沉积在基底表面。
基底加热系统则用于加热待处理材料，以提高金属薄膜的附着力和致密性。
蒸镀机的基本工作流程如下：首先，将待处理材料放置在真空腔室内，并通过真空系统将腔室抽成高度真空。
然后，通过蒸发源加热金属材料，使其蒸发成蒸汽。
蒸汽在真空环境中扩散并沉积在待处理材料表面上，形成金属薄膜。
同时，通过基底加热系统加热待处理材料，以提高金属薄膜的附着力和致密性。
整个过程需要控制蒸发源的温度、真空度和沉积时间等参数，以确保薄膜的质量和厚度符合要求。
蒸镀机在实际应用中具有广泛的用途，可以用于制备导电膜、防腐蚀膜、装饰膜等不同类型的功能薄膜。
通过控制不同金属材料的蒸发源和沉积条件，可以实现对薄膜成分、结构和性能的精确调控。
因此，蒸镀技术在电子、光学、材料等领域都有重要应用，为改善材料性能和拓展新功能提供了有效手段。
蒸镀机是一种重要的表面处理设备，通过将金属材料蒸发成蒸汽并沉积在待处理材料表面上，实现了对薄膜成分、结构和性能的精确控制。
蒸镀技术在电子、光学、材料等领域具有广泛应用前景，为材料表面改性和功能化提供了重要技术支持。
希望本文对蒸镀机的原理和工作流程有所了解，并能为相关领域的研究和应用提供参考。
(工艺技术)真空蒸镀金属薄膜工艺
真空蒸镀金属薄膜工艺一、概述真空蒸镀金属薄膜是在真空条件下，将金属蒸镀在薄膜基材的表面而形成复合薄膜的一种新工艺。
被镀金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等，其中用的最多的是铝。
在塑料薄膜或纸张表面（单面或双面）镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄膜，它广泛地用来代替铝箔复合材料如铝箔/塑料、铝箔/纸等使用。
镀铝薄膜与铝箔复合材料相比具有以下特点：（1）大大减少了用铝量，节省了能源和材料，降低了成本，复合用铝箔厚度多为7～8pm，而镀铝薄膜的铝层厚度约为0.05nm左右，其耗铝量约为铝箔的1/140～1/180，且生产速度可高达450m/min。
（2）具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现针孔和裂口，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。
（3）具有极佳的金属光泽，光反射率可达97%；且可以通过涂料处理形成彩色膜，其装潢效果是铝箔所不及的。
（4）可采用屏蔽式进行部分镀铝，以获得任意图案或透明窗口，能看到内装物。
（5）镀铝层导电性能好，能消除静电效应；其封口性能好，尤其包装粉末状产品时，不会污染封口部分，保证了包装的密封性能。
（6）对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。
由于以上特点，使镀铝薄膜成为一种性能优良、经济美观的新型复合薄膜，在许多方面已取代了铝箔复合材料。
主要用于风味食品、农产品的真空包装，以及药品、化妆品、香烟的包装。
另外，镀铝薄膜也大量用作印刷中的烫金材料和商标标签材料等。
二、镀膜基材镀铝薄膜的基材主要是塑料薄膜和纸张。
真空蒸镀工艺对被镀基材有以下几点要求：（1）耐热性好，基材必须能耐受蒸发源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。
（2）从薄膜基材上产生的挥发性物质要少；对吸湿性大的基材，在镀膜前理。
（3）基材应具有一定的强度和表面平滑度。
（4）对蒸镀层的粘接性良好；对于PP、PE等非极性材料，蒸镀前应进行表面处理、以提高与镀层的粘接性。
常用的薄膜基材有：BOPET、BONY、BOPP、PE、PVC等塑料薄膜和纸张类。
面板的真空蒸镀机原理
面板的真空蒸镀机原理
真空蒸镀是一种常用的表面镀膜技术，用于在材料表面形成一层薄膜。
面板的真空蒸镀机是一种专用设备，用于在面板上进行镀膜。
面板的真空蒸镀机的原理如下：
1. 创建真空环境：首先，将面板放置在真空室内，通过抽气系统将真空室内的气体抽出，创造出高真空环境。
2. 加热源：在真空室内加入一种或多种合适的金属材料（如铜、铝、铬等）以及其他需要镀膜的材料。
然后，通过电阻加热或电子束加热等方式对这些材料进行加热。
3. 金属材料蒸发：加热后，金属材料开始蒸发。
由于真空室内的高真空环境，金属材料直接从固态向气态过渡，形成蒸汽。
这些金属蒸汽随后在真空室内扩散。
4. 沉积：面板在真空室内有许多位置以待镀膜，这些位置被称为基板。
当金属材料蒸发后，蒸汽会在基板表面上沉积形成一层薄膜。
薄膜的厚度可以通过控制蒸发的时间和速度进行调节。
需要注意的是，为了获得更加均匀和稳定的薄膜沉积，镀膜机通常会增加一些环境控制措施，如旋转基板、外加磁场等。
真空蒸镀技术在面板制造中应用广泛，可以用于增强面板的耐磨性、防刮擦性，以及提供各种颜色和表面效果等。
真空蒸发镀膜与设备使用维护
（4）感应加热式蒸发源
其原理是将装有膜材的坩埚 放在螺旋线圈的中央（不接触） ， 在线圈中通以高频电流，膜材在 高频电磁场感应下产生强大的涡 流，使膜材升温，直至蒸发。膜 材体积越小，感应频率越高。
三、间歇式真空蒸发镀膜机
间 歇 式真空 镀膜机中，真空 室内制膜过程的 工 作情况是间歇 的。左图是 我国 某公司生产的间 歇 式 ZZS800－ 1/D 型箱式真空 镀膜机的镀膜室 结 构图。该 室主 要由箱体、 球形 工件架、基片烘 烤装置、 粒子源、 电子枪、电阻蒸 发装置、蒸发挡板等构件组成。 真空室的直径为 800 毫米，由不锈钢焊接而成。箱体壁上焊有 水管， 冷却箱体。 系统还配有基片烘烤装置， 烘烤温度可在 0～350℃ 范围内进行调节。 电阻蒸发电流可稳定工作在 350A 以上。电子枪采用 e 型 270° （电）磁偏转式电子枪 ，蒸发束流 0～750mA 可调。 蒸发挡板是保证膜质量的又一措施， 它位于电阻蒸发组件及电子 枪的上方。挡板传动轴采用气缸驱动，并用威尔逊或磁流体密封形式 引入，使挡板与外界隔绝。
反应溅射、磁控溅 射、对向靶溅射 直流二极型 多阴极型 真空 ARE 型、增强 ARE 离子 数 10～5000ev LPPD 型 镀膜 HCD 型 高频型 低压等离子化学 化学反应 CVD 热扩散 相沉积（PCVD） （LPVCD） 等离子增强化学气 气相沉积 集团离子束镀膜 单一离子束镀膜
注：PVD－物理气相沉积（Physical Vapor Deposition） CVD－化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition） PCVD－等离子体增强化学气相沉积（Plasma Chemical Vapor Deposition） LPCVD－低压化学气相沉积（Low Pressure Chemical Vapor Deposition）
蒸镀机操作手册
按下停机按钮 切断电源
穿戴防护服 预防化学物质伤害
保持设备清洁 减少事故发生
● 06
第6章 蒸镀机操作手册总结
操作技巧总结
熟练掌握蒸镀机操作技巧可以提高工作效率、 延长设备寿命。正确的操作方式能够有效避免 设备故障，保持生产效率稳定。在操作过程中 要注意细节，确保每一个步骤都按照标准流程 进行。
准备工作
在操作蒸镀机前，需要进行系统开机检查，确 保所有设备正常工作；同时要对真空泵进行抽 空，以确保腔体内的真空度符合要求；最后需 要装载材料到蒸镀机内部，确保准备工作齐全。
操作步骤
设定蒸发功率
开始蒸发
调整蒸镀机的功率，以满足 蒸发材料的需求
启动蒸镀机，让材料开始蒸 发并沉积在目标表面上
调节腔体压力
蒸镀机工作原理
加热材料 将材料加热至蒸发温度
真空蒸发 通过真空系统将蒸发的物质沉 积到基材表面
蒸镀机特点
高效性能
01 快速蒸镀过程
广泛应用
02 适用于多种材料
稳定性强
03 镀膜均匀稳定
蒸镀机与其他镀膜设备对比
蒸镀机 工作原理简单 操作便捷
溅射镀膜设备 膜层均匀度高 成本较低
离子镀膜设备 膜层致密度高 生产效率高
操作技巧总结
注意细节
延长寿命
每个步骤都要按标准流程进 行
熟练掌握技巧有助设备长久 使用
保持稳定 正确操作可维持生产效率
提高效率 有效操作可提高工作效率
操作经验分享
多年的操作经验积累，有助于准确识别故障、 快速处理问题。通过分享经验，可以帮助新手 更快速上手，提高整体团队的操作水平。在操 作过程中要注意观察，及时处理异常情况，确 保设备稳定运行。
真空蒸镀银实验报告(3篇)
第1篇一、实验目的1. 了解真空蒸镀的原理和操作方法。
2. 掌握银膜在真空蒸镀条件下的制备过程。
3. 分析银膜的质量及其影响因素。
二、实验原理真空蒸镀是一种利用真空环境，将待蒸镀材料加热至汽化升华，然后在基板上沉积形成薄膜的工艺。
本实验采用真空蒸镀方法制备银膜，其主要原理如下：1. 将待蒸镀材料（银）放入真空室内，加热至汽化升华。
2. 在真空环境下，银蒸气分子到达基板表面并沉积，形成银膜。
3. 通过调节真空度、加热温度、蒸发速率等参数，控制银膜的厚度和均匀性。
三、实验材料与设备1. 实验材料：银靶、玻璃基板、真空蒸镀机、真空泵、加热器、温度控制器等。
2. 实验仪器：电子天平、金相显微镜、X射线衍射仪等。
四、实验步骤1. 将玻璃基板清洗干净，晾干后放入真空蒸镀机中。
2. 打开真空泵，将真空室内压力降至1.0×10^-3 Pa。
3. 启动加热器，将银靶加热至600℃。
4. 当银靶温度稳定后，开启蒸镀机，使银靶蒸气分子沉积在玻璃基板上。
5. 调节蒸镀时间，制备不同厚度的银膜。
6. 关闭加热器和真空泵，取出基板，清洗并晾干。
五、实验结果与分析1. 银膜厚度通过调节蒸镀时间，制备了不同厚度的银膜。
利用电子天平测量银膜的质量，计算厚度。
实验结果表明，银膜厚度与蒸镀时间呈正相关，即蒸镀时间越长，银膜厚度越大。
2. 银膜均匀性利用金相显微镜观察银膜的表面形貌。
实验结果表明，银膜表面平整，无明显缺陷，均匀性良好。
3. 银膜成分利用X射线衍射仪分析银膜的成分。
实验结果表明，银膜主要由纯银组成，无杂质。
4. 影响因素分析（1）真空度：真空度越高，银膜质量越好，因为高真空度有利于银蒸气分子在基板上的沉积，减少氧化等不良影响。
（2）加热温度：加热温度越高，银蒸气分子运动越剧烈，有利于银膜的形成。
但过高温度可能导致银膜熔化，影响质量。
（3）蒸发速率：蒸发速率越快，银膜越厚，但过快蒸发可能导致银膜不均匀。
六、实验结论1. 本实验成功制备了银膜，并通过调节蒸镀时间、真空度、加热温度等参数，控制了银膜的厚度和均匀性。
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真空蒸镀的原理及设备
真空蒸镀（Vacuum Deposition）是一种涂层加工技术，利用真空环境下的高温或电子束等方式将金属或无机化合物材料转化为薄膜，实现对底材的改性、功能化或美化等效果。
它广泛用于电子、光电、航天、汽车、建筑等各行业中的表面处理和表面高强度涂覆，例如LED 封装、晶体管、太阳能电池等产品。
一般来说，真空蒸镀主要通过以下几个步骤完成：首先在真空设备中去除空气，将底材进行清洗、抛光等表面处理，以充分发挥应力和结构的稳定性。
接下来，在真空环境下，加热金属固体材料直至蒸发，形成金属蒸气。
利用精密控制的电子源（如电子枪）、电弧、反应炉等方式，将金属蒸气沉积在底材表面，形成均一和致密的薄膜。
最后通过冷却等方式，使薄膜稳定，并对其进行其它后续处理，如切割、清洗等。
真空蒸镀设备由真空系统、辅助系统和控制系统三部分组成。
其中，真空系统主要由泵、阀门、仪表、泄漏探测器等组成，用于控制真空度。
辅助系统提供必要的能量、空气、水等，包括电子枪、电弧
阱、反应炉、离子束枪、激光等不同工作方式的组件，用于加热、蒸发、沉积等工艺操作。
控制系统则是整个设备的大脑，由计算机、PLC
等手段控制相关参数和工艺流程，确保各个步骤的准确和稳定性。
不同材料的真空蒸镀通过选择不同的金属原料、反应条件、厚度
等参数，可以控制薄膜的性能、光学、机械、化学等方面来满足客户
的需求。
例如，氧化膜具有良好的化学惰性和耐腐蚀性；反射镀膜用
于反射光线、增强亮度和耐腐蚀性；导电膜用于电磁屏蔽、耐磨等等。
总的来说，真空蒸镀技术达到了很高的精度和可靠性，被广泛应
用于高科技领域的表面加工和新材料开发中，是现代工业不可替代的
重要手段之一。