太阳能电池之抗反射膜优化设计
三层减反射膜的模拟及其在太阳电池中的应用
电池 的量 子效 率 与 ＡＭ１ ． ５太 阳光 谱 特 性设 计 减 反 射
膜 并应 用 到器 件上 的 系统研 究 尚报道 较少 。
ｅ ａ ｎ ｇ ｔ ｌ ｉ ｇ ’ ｈ ＼ ’ ｔ ‘ ， 、 厂 ． ／
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Ｉ Ｔ Ｏ ｌ ａ ｙ ｅ ｒ ， ｈｉ ｇｈ ｒ ｅ ｓ ｉ ｓ ｔ ａ ｎ ｃ ｅ ｌ ａ ｙ ｅ ｒ ， ＣｄＳ ／ Ｃｄ Ｔ ｅ
使 用该减 反射 薄 膜后 ， 电池 的 量 子 效率 提 高 了 ７ ． ３ ；
光 电转换 效 率从 １ ２ ． ５ 提 高到 １ ３ ． １ ． ５ ；Ｈ４ ； 量 子 效率
中图分 类 号 ： Ｔ Ｎ３ ０ ４ 文献 标识 码 ： Ａ
示 。入射 光线 到达 太 阳电池 功能 层部分 的多 少直 接关 系到 太 阳电池 光 生 电流 的强 弱 。在 Ａｌ 。 Ｏ。 ／ Ｈ４ ／ Ｍｇ Ｆ 三层 减反 射膜 的 优 化 过程 中 ， 通过 改 变 三 层 减 反射 膜 中各 层 的厚 度 ， 经 过 软 件模 拟计 算 得 到 一 系列 不 同 的 入 射 到功 能层 的 透 过率 曲线 ， 用 以计 算 使 用减 反 射 膜 之 后 的短路 电流值 ， 从 中得 到使 短 路 电 流最 大 的三 层 减 反射 膜结 构 。软件 中“ Ｍａ ｔ ｅ ｒ ｉ ａ ｌ ｓ ” 数据 库用 于本设 计 的减反 射膜 材料 的折 射 率数据 均 由实验 室 所制 备 的样 品经分 光光 度法 计算 所得 。
２ 理 论 模 拟
２ ． １ 光 路 模 型 的 建 立
文 章编 号 ： １ ０ ０ １ － ９ ７ ３ １ （ ２ Ｏ １ ３ ） ０ ４ — ０ ６ ０ ３ — ０ ４
GaAs基底TiO2,SiO2减反射膜的反射率性能分析
GaAs基底TiO2/SiO2减反射膜的反射率性能分析肖祥江, 涂洁磊（教育部可再生能源材料先进技术与制备重点实验室，云南省农村能源工程重点实验室，云南师范大学太阳能研究所，昆明，云南，650092 中国）摘要：本文设计并制备了适用于砷化镓（GaAs）多结太阳电池的TiO2/SiO2双层减反射膜，通过实测反射谱来验证了理论设计的正确性。
工作中，利用编程分析了TiO2、SiO2单层膜的厚度及其折射率对双层膜系反射率的影响。
结果显示，在短波范围(300nm～600nm)，TiO2膜厚对反射率的影响要大于SiO2，而SiO2折射率对反射率的影响比TiO2大；在中波范围(600nm～900nm)，随着单层膜的厚度和折射率的增加，双层膜系反射率存在一个最小值，变化趋势是先降低，而随后增加。
同时，计算结果得到SiO2和TiO2的最优物理膜厚分别为78.61nm和50.87nm，此时在短波段中心波长λ1=450nm处最小反射率为0.0034％，在中波段中心波长λ2=750nm处最小反射率为0.495％。
采用电子束蒸发法在GaAs基底上淀积TiO2/SiO2双层膜，厚度分别为78nm和50nm。
实测短波和中波相应的反射率极小值分别为0.37％和2.95％，与理论结果吻合较好。
关键词：薄膜光学；GaAs多结太阳电池；TiO2/SiO2双层减反射膜；电子束蒸发；折射率Analysis of reflectance performance of TiO2/SiO2 antireflection coating on GaAsSubstrateXiao Xiang-jiang , Tu Jie-lei(Education Ministry Key Laboratory of Renewable Energy Advanced Materials and Manufacturing Technology, Yunnan provincial key Laboratory of Renewable Energy Engineering, Solar Energy Research Institute, YunnanNormal University , Kunming Yunnan, 650092 , CHINA)Abstract: TiO2/SiO2double-layer antireflection coatings of GaAs multi-junction solar cells was designed and fabricated in this paper. And the validity of theoretical design was further verified .At work, influence of TiO2 and SiO2 layer thickness and the refractive index on the reflectance of film system was analyzed. The results show film thickness of TiO2is greater than SiO2 on the reflectance in the short wavelength(300nm～600nm),but the refractive of SiO2 is greater than TiO2 on the reflectance.At center wavelength(600nm～900nm), with increase of the single-layer film thickness and refractive index , reflectivity of bilayer system has a minimum, the trend is to reduce and to increase subsequently. Simultaneously, the optimal physical thickness of SiO2 and TiO2 is 78.61nm and 50.87nm respectively by programming calculation. And then the minimum reflectance of 0.0034％is obtained at center wavelength λ1=450nm in the short wavelength and the minimum reflectance of 0.495％is obtained at center wavelength λ2=750nm in the middle wavelength. TiO2/SiO2 double-layer coatings were deposited on GaAs substrate by electron beam evaporation and the physical thickness is 78.61nm and 50.87nm respectively.Practical minimum reflectance is 0.37％at λ1=449nm and 2.65％at λ2=748nm ,which is close to theoretical value.Key words:thin film optics; GaAs multi-junction solar cells;TiO2/SiO2 double-layer anti-reflection coating; electron beam evaporation; refractive index0 引言太阳辐射能是重要的能源，是取之不尽用之不竭的、无污染的、廉价的、人类能够自由利用的能源，基金项目：云南省重点基金项目（2009CC012）、云南省中青年学术技术带头人后备人才（2008PY054）、长江学者和创新团队发展计划资助作者简介：肖祥江（1987-），男，云南省人，硕士。
太阳能玻璃减反增透膜研究现状及前景展望
太阳能玻璃减反增透膜研究现状及前景展望摘要：太阳能光伏发电装置的构成包括光伏玻璃，空气与光伏玻璃之间存在界面会导致太阳光反射，所折射的太阳光无法进入到光电转换中，从而容易出现光损耗问题。
减反射膜的合理应用，能够有效控制因折射率而产生的光损耗，所以在太阳能光伏发电装置中，需要镀减反射膜。
减反射膜不仅需要拥有良好的性能，也需要在不同环境下保持稳定性，满足光伏产业低成本与均匀成膜的标准。
关键词：光伏玻璃；减反射膜；研究太阳能光伏是目前最具发展潜力的清洁能源之一，各国相关从业者正全力开发各种先进技术与新产品，希望能提高光电转换效率。
而决定晶硅太阳能电池转换效率的因素中，最重要的决定因素是光电组件中的晶硅技术，其次是保护光电组件的太阳能光伏玻璃；相对而言，提高太阳能光伏玻璃的光学特性，要比提高晶硅电池的转换效率更容易，成本更低。
目前大部分的光伏封装玻璃为低铁超白压花玻璃，透光率可达91.5%以上，通过在太阳能光伏玻璃表面镀制一层减反射层有望进一步提升晶体硅光伏组件的发电功率。
本文系统介绍太阳能玻璃减反射膜的研究进展，并分析太阳能玻璃减反射膜存在的问题，对其发展趋势进行了展望。
一、太阳能玻璃减反射膜的研究现状溶胶-凝胶法是制备增透减反膜的常用方法，一般溶胶-凝胶法制备增透减反膜是以硅酸酯为原料，在酸或碱催化作用下，发生水解、缩聚等反应，生成一种颗粒状网状结构或线性网状结构的硅溶胶，一定条件下将溶胶在超白光伏玻璃基体上成膜，膜层经固化和钢化后形成增透减反膜。
从增透减反膜常见结构类型概括可分三类：（1）纳米实心颗粒减反射膜；（2）纳米介孔减反射膜；（3）纳米空心球颗粒减反射膜。
（一）纳米实心颗粒减反射膜早期的减反射膜是由几十到上百纳米粒径大小的 SiO2纳米颗粒堆积形成的薄膜，可通过球形颗粒大小来调节膜层透光率。
早在1947年1/4波长的二氧化硅减反射膜就被提出，到了1968年，用碱催化法制备的单分散球形二氧化硅颗粒制得了折射率低至1.22的减反射膜。
电子专用材料的光电转换效率考核试卷
B. TPT
C.玻璃
D.金属背板
16.以下哪些因素会影响非晶硅太阳能电池的性能？()
A.光照强度
B.温度
C.电池厚度
D.制造工艺
17.以下哪些是提高砷化镓太阳能电池效率的方法？()
A.优化材料组分
B.改进电池结构
C.使用抗反射涂层
D.提高电池面积
18.以下哪些是钙钛矿太阳能电池的优点？()
1.以下哪些因素会影响光电材料的光电转换效率？()
A.光照强度
B.材料表面粗糙度
C.环境温度
D.材料的带隙宽度
2.太阳能电池的主要类型包括哪些？()
A.硅太阳能电池
B.砷化镓太阳能电池
C.钙钛矿太阳能电池
D.燃料电池
3.提高太阳能电池的光电转换效率可以采取哪些措施？()
A.减少表面反射
B.增加电池片厚度
考生姓名：__________答题日期：____年__月__日得分：_________判卷人：_________
一、单项选择题（每题1分，共20分）
1. ______
2. ______
3. ______
4. ______
5. ______
6. ______
7. ______
8. ______
9. ______
6.在太阳能电池中，______是影响其稳定性和寿命的关键因素之一。
7.目前市场上应用最广泛的太阳能电池材料是______。
8.钙钛矿太阳能电池的优势在于其______和______。
9.提高砷化镓太阳能电池效率的方法之一是______材料组分。
10.太阳能电池组件的封装材料主要包括______、______和______。
关于太阳能电池减反射膜的研究报告
关于太阳能电池减反射膜的研究报告作者：杨嘉贺（江西南昌理工学院南昌 330044）【摘要】在太阳电池表面形成一层减反射薄膜是提高太阳电池的光电转换效率比较可行且降低成本的方法。
应用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)系统，采用SiH4和NH3气源以制备氮化硅薄膜。
研究探索了PECVD生长氮化硅薄膜的基本物化性质以及在沉积过程中反应压强、反应温度、硅烷氨气流量比和微波功率对薄膜性质的影响。
通过大量实验，分析了氮化硅薄膜的相对最佳沉积参数，并得出制作战反射膜的优化工艺。
【关键词】太阳电池；PECVD减反射；氮化硅薄膜一、引言太阳能光伏技术是将太阳能转化为电力的技术，其核心是半导体物质的光电效应。
最常用的半导体材料是硅。
光伏电池由P型和N型半导体构成，一个为正极，一个为负极。
阳光照射在半导体上时，两极交界处产生电流，阳光强度越大，电流就越强。
太阳能光伏系统不仅只在强烈阳光下运作，在阴天也能发电。
晶体硅是当前太阳能光伏电池的主流。
目前晶体硅电池光电转换效率可以达到20％，并已实现大规模生产。
除效率外，光伏电池的厚度也很重要。
薄的硅片(wafer)意味着较少的硅材料消耗，从而可降低成本。
在查阅了大量国内外相关文献，并结合我国对晶体硅太阳电池技术开发的迫切需要，在制备太阳电池减反射膜(氮化硅薄膜)的工艺中，对气体流量比、微波功率、沉积压强和温度对减反射膜性质的影响进行了研究，通过大量有效的工作及一系列工艺数据，得出了制作减反射膜，分析了氮化硅薄膜的相对最佳沉积参数和优化工艺。
二、减反射膜（增透膜）工作原理2.1基本概念：在了解减反射薄膜原理之前，要先了解几个简单的概念：第一，光在两种媒质界面上的振幅反射系数为(1-ρ)／(1+ρ)，其中ρ为界面处两折射率之比。
第二，若反射光存在于折射率比相邻媒质更低的媒质内，则相移为180°；若该媒质的折射率高于相邻媒质的折射率，则相移为零。
第三，光因受薄膜上下两个表面的反射而分成2个分量，这2个分量将按如下方式重新合并，即当它们的相对相移为180°时，合振幅便是2个分量振幅之差；称为两光束发生相消干涉。
降低太阳能电池表面反射率研究分析
降低太阳能电池表面反射率研究分析摘要：太阳能电池正面的一次反射损耗高，一直是制约光伏转换效率的关键挑战。
由于半导体层的折射率高于空气，部分太阳光在空气与半导体界面处丢失。
在空气和半导体之间形成逐渐变化的折射率，可以最大限度地减少表面反射，加强光捕获并促进pn结内的载流子分离，从而降低太阳能电池正面的一次反射损耗。
本文介绍的AAO纳米光栅和倒金字塔纳米结构，可有效降低表面反射损耗。
关键词：折射率； AAO纳米光栅；倒金字塔能源是发展和经济增长的主要驱动力，工业革命后全球能源在很大程度上依赖于化石燃料，而化石燃料的过度开采和使用，导致与能源生产相关的全球变暖、资源枯竭和生物多样性丧失等环境问题逐渐暴露。
2015年9月25日，可持续发展峰会在纽约召开，联合国共193个成员国于峰会上表决通过了17个可持续发展目标，旨在以综合方式解决社会、经济和环境三个维度的发展问题，向可持续发展道路转型。
可持续发展被定义为在不损害后代需求的情况下满足当代人的需求，可再生能源替代化石燃料势在必行。
电力作为一种功能性能源形式，是工业、农业以及现代设备运行的基础。
随着人口的增长和经济的发展，电力需求增长率逐年增加，而太阳能是一种很有前途的可再生能源。
光伏太阳能电池板技术(PV)在其运行过程中不会排放温室气体(GHG)，因此被认为是一种环境友好型技术，已研发出单晶硅电池、非晶硅电池、砷化镓电池和钙钛矿电池等不同类型的太阳能电池。
其中硅太阳能电池具有寿命长、性能可靠、价格低廉等优点，在光伏领域应用广泛。
光伏太阳能系统主要以并网和离网两种形式用于发电，并网系统主要应用于大型太阳能发电厂和城市区域小型分布式光伏发电，离网系统主要应用于家庭和小型商业电网。
为了满足全球对能源的需求，设计与制作具有高转换效率的太阳能电池是关键，提高太阳能电池的光电转换效率显得尤为重要。
作者简介：闫晓峰(1993-)，男，河南濮阳人，助理工程师，研究方向为新能源1 晶硅太阳能电池制备工艺流程随着晶硅太阳能电池经的工艺技术不断革新，光电转换效率不断提升，但是常规晶硅太阳能电池的生产工艺流程并无根本性改变。
单晶硅太阳能电池表面PECVD淀积SiN减反射膜工艺研究
南通大学毕业设计（论文）立题卡2、课题来源是指：1.科研，2.社会生产实际，3. 其他。
3、课题类别是指：1.毕业论文，2.毕业设计。
4、教研室意见：在组织专业指导委员会审核后，就该课题的工作量大小，难易程度及是否符合专业培养目标和要求等内容提出具体的意见和建议。
5、学院可根据专业特点，可对该表格进行适当的修改。
摘要等离子增强化学气相淀积氮化硅减反射薄膜已经普遍应用于光伏工业中，其目的是在晶体硅太阳能电池表面形成减反射薄膜，同时达到了良好的钝化作用。
氮化硅膜的厚度和折射率对电池性能都有重要的影响。
探索最佳的工艺条件来制备最佳的薄膜具有重要意义。
本课题是利用Roth&Rau的SiNA设备进行淀积氮化硅薄膜的实验，介绍了几种工艺参数对薄膜生长的影响，获得了生长氮化硅薄膜的最佳工艺条件，制作出了高质量的氮化硅薄膜。
实验中使用了椭偏仪对样品进行膜厚以及折射率的测量。
关键词：等离子增强化学气相淀积，氮化硅薄膜，太阳能电池，光伏效应，钝化ABSTRACTSiN from plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is widely used in P-V industry as an antireflection thinfilm on the surface of crystal silicon solar cell. In addition this process takes advantage of an exellent passivation effect. Both the thickness and refractive index of the SiN film make important influences to the performance of solar cells. So it is very important to find the best process parameters to deposit the best film. In this paper, the experiment of SiN film deposition was completed with the equipment named SiNA produced by Roth&Rau. The influence of the parameters to the gowth of the film was introduced based on the experiment, and the best parameters to produce the top-quality SiN film were obtainted. The Spectroscopic ellipsometry was used to test the thickness and refractive index of the samples during the experiment.Key words:PECVD, SiN film, solar cell, photovoltaic effect, passivation目录摘要 (I)ABSTRACT (II)第一章绪论 (1)1.1 太阳能光伏产业发展现状和未来 (1)1.2 晶体硅太阳能电池技术的发展 (1)1.3 本课题的主要内容 (2)第二章单晶硅太阳能电池的原理与工艺 (3)2.1 p-n结电池的基本结构 (3)2.2 p-n结电池的基本原理 (3)2.3 单晶硅太阳能电池工艺流程 (5)第三章PECVD淀积氮化硅薄膜的基本原理 (8)3.1 化学气相淀积技术 (8)3.2 PECVD的原理和结构 (9)3.3 PECVD薄膜淀积的微观过程 (10)3.4 PECVD淀积氮化硅的性质 (11)3.5 表面钝化与体钝化 (11)第四章实验 (13)4.1 PECVD设备简介 (13)4.2 PECVD 设备操作流程 (14)4.3 SiN减反射膜PECVD镀制工艺流程 (15)4.4 最佳薄膜厚度和折射率的理论计算 (16)4.5 实验数据及分析 (17)4.6 实验总结 (19)第五章结束语 (20)参考文献 (22)致谢 (23)第一章绪论从2003年开始，全球化石能源的缺乏引发了能源价格不断攀升，可再生能源也因此得到了更多的重视，太阳能光伏行业迎来了发展的春天。
减反增透膜的设计方案
这就是说，在这个新的角度上，这个薄膜可以被看作是在较短波
Wuxi Elva-tech Co.,Ltd.
Vacuum project department
无锡爱尔华科技有限公司 ELVA-TECH
长处的1/4光波光学厚度（QWOT）。在这个角度上，较短波长的光将 会产生180°的相位差，即为完全相消干涉。同时，由于不再代表原 来发生干涉的波长的QWOT，所以干涉量相对于原始波长也减少了。因 此，在原始波长处的反射率就会降低，而最小反射率也就会随着入射 角的增加而逐渐向较短的波长方向迁移。如图7所示，这种效应在大 约30°之前非常薄弱。但是对于45°的入射角来说，反射率最小值的 迁移就变得非常明显了。从图7中也很容易看出，膜层的减反射率也 显著下降了。
要理解这个现象我们需要一直在头脑中坚持三个事实第一是叠加原理第二就是光线在两种不同的透明介质的交界面时会发生反射的事实第三是光线在进入较密的光学介质时会被压缩的事实
无锡爱尔华科技有限公司 ELVA-TECH
AR 膜生产线的设计方案
公司背景： 无锡爱尔华公司成立于 2002 年九月，是由无锡市机械局、科技 局和留日归国学者刘晓萌出资参股共同创建。公司原来业务是围绕 太阳能电池相关生产设备以及一些电子产品的生产销售，目前全面 进入真空镀膜设备的制造和研发。公司去年产值人民币 5 千万，今 年将达到一个亿。主要产品围绕光电、太阳能等领域的设备和工艺， 已有产品有太阳能电池板层压机、等离子刻蚀机、等离子化学气相 沉积设备，正在为日企制造一条大面积高反连续镀膜生产线。其设 备的质量档次达到或接近国外水平。
膜层厚度的变化也会提高或降低膜层的反射率。要理解这个现 象，我们需要一直在头脑中坚持三个事实：第一是叠加原理；第二， 就是光线在两种不同的透明介质的交界面时会发生反射的事实；第 三，是光线在进入较密的光学介质时，会被压缩的事实。
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近年來太陽電池抗反射膜優化設計已逐 漸被發展。 •在中原大學的研究中。 •使用Film Star光學薄膜模擬軟體。 •模擬Si3N4單層抗反射膜，針對設計波長 580nm，掃描300~900nm波長範圍 。 •模擬結果反射率都在20%以下。
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•模擬雙層抗反射膜(TiO2/SiO2) 。 •針對設計波長420nm，掃描300~900nm波長 。 •模擬結果反射率都在10%以下。
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圖一 單層抗反射膜優化設計
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圖二 單層抗反射膜優化設計的角移效應
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•雙層抗反射膜優化設計。 •以SiO(1.8)/ TiO2(2.35)為材料。 •由模擬結果可知，最佳的光學薄膜厚度為 0.2475λ0/0.2273λ0。 •Air|0.2475L 0.2273H|矽基板，全區域平 均在只針對可見光波段與近紅外光 區0.38～1.2μm波段做設計，但日後模擬 會延伸至紫外光，甚至包含10μm附近遠紅 外光區，所謂雙波段區域抗反射膜設計， 因此，選用材料以能涵蓋太陽光譜者為優 先考慮。
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單層及雙層抗反射膜優化設計的角移效 應顯示，入射角度越高，則平均反射率越高 。但日後我們會設計到不管入射角多大，平 均反射率還是會降的很低。
太陽能電池之抗反射膜優化設計
陳建良, 陳義軒, 林家豪, 吳東穎, 徐富興, *葉倍宏
崑山科技大學 光電系
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摘要
•本論文以自行研發的光學薄膜模擬軟體來 模擬太陽能電池的抗反射膜優化設計。 •此研究中使用SiO和TiO2兩種低、高折射率 材料，掃描波長從0.38到1.2μm，以極小 化搜尋演算法，尋找全區域最低的平均反 射率。
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[4] Sung-Mok Jungb, Young-Hwan Kim, Seong-Il Kim,Sang-Im Yoo, 《Design and fabrication of multi-layer antireflection coating for III-V solar cell》 , Current Applied Physics, vol. 1, pp. 538-541, 2011. [5] 李正中，《薄膜光學與鍍膜技術》，(藝軒圖書) [6] 葉倍宏，《薄膜光學-電腦輔助模擬與設計》
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5.REFERENCES
[1] 鄭竣謙，《雙層抗反射膜覆蓋三接面三一五 族太陽電池之研究》,中原大學，碩士論文 [2] 林松荺，《抗反射膜於矽基薄膜太陽能電池 之光學性質研究》，崑山科技大學 [3] 葉致仰，《寬波段廣角度抗反射膜設計之 研究》，國立台灣大學電機資訊學院光電系 工程研究所，碩士論文
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Thank you for your attention.
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•模擬結果顯示，ㄧ層的抗反射膜設計為 Air|0.2828L|矽基板，全區域平均反射率 值8.01% •二層的抗反射膜設計為Air|0.2475L 0.2273H|矽基板，全區域平均反射率值 4.595% •三層抗反射膜設計，則有簡併為雙層抗反 射膜設計的現象。
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1. 簡介
•太陽電池表面的反射率大小是決 定轉換效率的重要關鍵。 •所以必須要用抗反射膜來增加入 射光在太陽電池表面的穿透率。
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•圖四所顯示的角度有0度、30度、60度，對 應的平均反射率依序為4.595%、6.438%、 19.142%。
•三層抗反射膜設計，則有簡併為雙層抗反 射膜設計的現象。
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圖三 雙層抗反射膜優化設計
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圖四 雙層抗反射膜優化設計的角移效應
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4.結論
太陽光譜中涵蓋範圍很廣，輻射能量主 要集中在可見光區，其次是近紅外光區與 10μm附近的遠紅外光區，以及最少部分的 紫外光區。
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3.各膜層不考慮色散與吸收，折射率固定， 其中空氣n0=1，矽基板ns=3.4，低折射率材 料SiO(1.8)，高折射率材料TiO2(2.35)。 4.設計波長λ0 =0.6μm。 5.光學厚度nd為唯一的設計變數，其搜尋範 圍從0λ0到0.5λ0 。
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3.結果與討論
•模擬單層抗反射膜優化設計 •以SiO(1.8)當作材料，模擬結果可知，最佳 的光學薄膜厚度為0.2828λ0。 •Air|0.2828L|矽基板，全區域平均反射率值 8.01% •圖二所顯示的角度有0度、30度、60度，對應 的平均反射率依序為8%、9.742%、21.442%。
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2. 模擬步驟
以極小化搜尋演算法
(minimizing search algorithm)
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F(θi，n，d，λ)=ΣR 尋找全區域平均反射率值最低的方式 ，即得最佳的抗反射膜設計。
Θi：入射角，n：折射率，d：幾何膜厚， λ ：波長 ， R：反射率
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在測試單層及多層抗反射膜之前，假設 所有抗反射膜滿足下列各狀況： 1. 入射角θi=0 。 2. 光譜範圍0.38～1.2μm，並區分成100個 搜尋波段 。