氧化铈抛光粉

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抛光粉氧化铈

抛光粉氧化铈

抛光粉氧化铈
抛光粉氧化铈
一、简介
抛光粉氧化铈是一种细小的、细腻的铈氧化物粉末,它可以用于抛光和清洁金属表面,尤其是用于自然石材的抛光处理。

由于氧化铈粉末的质地细腻,它可以被用于抛光软金属表面,比如铝、钢和铜,以及用于清洁汽车漆面、塑料外壳和木制品表面。

二、用途
抛光粉氧化铈用于抛光金属表面,可以有效地去除表面的轻微污渍,抛光软金属,如铝、钢和铜,以及用于清洁汽车漆面、塑料外壳和木制品表面,可以有效去除氧化层、腐蚀迹象、折旧和褪色等。

此外,它还可以用于家具的抛光、贵重物品的处理,以及常规清洁和保养程序。

三、优点
由于抛光粉氧化铈具有极细的颗粒结构,所以它通常能够实现快速而有效地抛光金属表面,尤其是用于自然石材的抛光处理时,效果更好,而且可以去除超细颗粒,提升表面光洁度,减少表面尘埃和污垢。

此外,氧化铈粉末的耐磨性也很好,因此它也可以用于常规清洁和保养程序,以确保金属表面的抛光效果。

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减薄研磨抛光过程中氧化铈抛光粉的使用和作业指导

减薄研磨抛光过程中氧化铈抛光粉的使用和作业指导

减薄研磨抛光过程中氧化铈抛光粉的使用和作业指导在当前TFT面板和玻璃的主要抛光加工处理过程中,通常使用是氧化铈抛光粉。

根据现在薄化企业的通常作业规范和需求,以下进行汇总整理相关流程步骤和使用要求,以供大家参考。

一、研磨抛光过程中,抛光粉需调配成一定抛光需求的抛光液,其使用控制主要分三部分1、抛光液的配比1)抛光液浓度的确定和调整;2)抛光液PH值的控制和调整;2、抛光液的使用中的浓度、PH值的监控和更换3、抛光液的流量控制抛光液的配比抛光液浓度的确定和调整(注:为了保证调配水的纯度,务必使用RO纯水调配氧化铈抛光液)1、通常使用抛光液的溶度控制在密度为:1.03~1.05之间。

新的抛光液的调配,纯水每公斤以100克氧化铈抛光粉(配比:1:10)为标准(注:根据不同生产需求和抛光粉材料性质特点,不同企业也将抛光液纯水和抛光粉配比在1:7的情况),旧的抛光液密度若≤1.03则需要添加抛光粉,若>1.05则加水稀释。

注:在配制抛光液时,由于抛光粉结块情况,建议加入适量的RO 热水进行调配并手动搅拌,然后使用过滤网过滤至抛光机搅拌桶内,充分搅拌5分钟并循环2分钟以上,以便抛光粉和RO水的充分融合。

2、通常抛光液的PH值控制在数值8左右时,抛光液抛光效率能达到较佳状态。

若PH过小偏酸性时可以适量添加一些氢氧化钠来中和,反之PH值过大偏碱性时,可以适当添加一些像柠檬酸或冰醋酸等来调整PH的范围。

抛光液的使用中浓度、PH值的监控时间和更换周期1、在实际抛光作业中,建议每4小时检测一次抛光液的浓度和PH值,每班次添加1~2次左右抛光粉。

2、抛光机台容器中的抛光液建议每30天全部更换一次3、按抛光液的比重在4~8%的情况,在监测过程中发现抛光液浓度减小,添加抛光粉量的简易计算参考公式如下:每升添加量=(12%-当前比重)kg/L。

抛光液的流量控制1、抛光液按单边流量为:每分钟2500cc的参考建议。

二、薄化企业在抛光过程中抛光液作业指导书参考:1.密度计校准1)将密度计放于量筒中。

抛光粉资料

抛光粉资料

平磨工序的技术要领氧化铈抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点,与传统抛光粉-铁红粉相比,不污染环境,易于从沾着物上除去等优点。

广泛的应用到平板玻璃、光学玻璃、荧光屏、光学玻璃零件、示玻管、眼镜片,不锈钢、水晶制品、陶瓷制品等各种抛光加工领域的最终抛光,用氧化铈抛光粉抛光透镜,一分钟完成的工作量,如用氧化铁抛光粉则需要30~60分钟。

.淡黄或黄褐色助粉末。

密度7.13g/cm3。

熔点2397℃。

不溶于水和碱,微溶于酸。

在2000℃温度和15Mpa压力下,可用氢还原氧化铈得到三氧化二铈,温度游离在2000℃间,压力游离在5Mpa压力时,氧化铈呈微黄略带红色,还有粉红色,其性能是做抛光材料。

详细内容名称:氧化铈;cerous oxide分子式:Ce02分子量:172.13CAS 号:12014-56-1规格:按纯度分为:低纯:纯度不高于99%,高纯:99.9%~99.99%,超高纯99.999%以上按粒度分为:粗粉、微米级、亚纳米级、纳米级安全说明:产品无毒、无味、无刺激、安全可靠,性能稳定,与水及有机物不发生化学反应,是优质玻璃澄清剂、脱色剂及化工助剂。

主要用作玻璃脱色剂、玻璃抛光粉、也是制备金属铈的原料,高纯氧化铈也用于生产稀士发光材料.溶于水,能溶于强无机酸。

用作玻璃的脱色、澄清剂、高级抛光粉,还用于陶瓷电工、化工等行业。

稀土在各种玻璃中主要作用(1)稀土抛光作用??稀土抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点,与传统抛光粉—铁红粉相比,不污染环境,易于从沾着物上除去等优点。

用氧化铈抛光粉抛光透镜,一分钟完成的工作量,如用氧化铁抛光粉则需要30~60分钟。

所以,稀土抛光粉具有用量少、抛光速度快以及抛光效率高的优点。

而且能改变抛光质量和操作环境。

一般稀土玻璃抛光粉主要用富铈氧化物。

氧化铈之所以是极有效的抛光用化合物,是因为它能用化学分解和机械摩擦二种形式同时抛光玻璃。

稀土铈抛光粉广泛用于照相机、摄影机镜头、电视显像管、眼镜片等的抛光。

(完整)氧化铈抛光汇总及效果分析,推荐文档

(完整)氧化铈抛光汇总及效果分析,推荐文档

氧化铈抛光汇总及效果分析随着光学技术和集成电路技术的迅猛发展,对光学元器件的精密和超精密抛光、集成电路的化学机械抛光技术的要求越来越高,甚至达到了极为苛刻的程度,尤其是在表面粗糙度和缺陷的控制方面。

铈系稀土抛光粉(VK-Ce02)因具有切削能力强、抛光精度高、抛光质量好、使用寿命长等特点,在光学精密抛光领域已占有极其重要的地位。

一、氧化铈抛光粉的种类氧化铈抛光粉根据氧化铈的含量分为低铈、中铈、高铈抛光粉,其切削力和使用寿命也由低到高。

1. 高铈抛光粉VK-Ce02,含氧化铈95%以上,浅黄色,比重在7.3左右,主要适用于精密光学镜头的高速抛光。

该抛光粉的性能优良,抛光效果好。

2. 中铈抛光粉,含氧化铈70%~85%之间,黄色或褐色,比重在6.5左右,主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。

3. 低铈系稀土抛光粉,含氧化铈40%~60%之间,适用于电视机显像管、眼镜片和平板玻璃等的抛光。

二、氧化铈抛光粉的应用领域氧化铈抛光粉VK-Ce02,主要用于玻璃制品的抛光,大的行业来说,主要应用于以下领域:1. 眼镜、玻璃镜片抛光;2. 光学镜头、光学玻璃、透镜等;3. 手机屏玻璃、手表面(表门)等;4. 液晶显示器各类液晶屏;5. 水钻、烫钻(发卡,牛仔裤上的钻石)、灯饰球(大型大厅内的豪华吊灯);6. 水晶工艺品;7. 部分玉石的抛光;三、氧化铈的抛光机制CeO2颗粒的硬度并不高,如下表所示,氧化铈的硬度远低于金刚石、氧化铝,也低于氧化锆和氧化硅,与三氧化二铁相当。

因此仅从机械方面来看,以低硬度的氧化铈去抛光基于氧化硅的材料,如硅酸盐玻璃、石英玻璃等,是不具有技术可行性的。

但是氧化铈却是目前抛光基于氧化硅材料甚至氮化硅材料的首选抛光粉。

可见氧化铈抛光还具有机械作用之外的其他作用。

常用研磨、抛光材料的硬度在CeO2晶格中通常会出现氧空位使得其理化性能发生变化,并对抛光性能产生一定的影响。

常用的氧化铈抛光粉中均含有一定量的其他稀土氧化物,氧化镨(Pr6O11)也为面心立方晶格结构,可适用于抛光,而其他镧系稀土氧化物没有抛光能力,它们可在不改变CeO2晶体结构的条件下,在一定范围内与之形成固溶体。

抛光剂氧化铈

抛光剂氧化铈

抛光剂氧化铈一、概述抛光剂氧化铈是一种常用的金属表面抛光材料,其主要成分为氧化铈和纳米级氧化硅。

它具有优异的抛光效果、高温稳定性和耐腐蚀性等特点,在航空航天、汽车制造、电子设备等领域得到广泛应用。

二、抛光剂氧化铈的制备方法1. 溶胶-凝胶法该方法是将金属硝酸盐或有机金属化合物与水或有机溶剂混合,形成溶胶,经过加热干燥后形成凝胶。

然后将凝胶进行高温煅烧,得到氧化铈粉末。

最后将氧化铈粉末与纳米级氧化硅混合即可制备出抛光剂氧化铈。

2. 共沉淀法该方法是将金属离子和沉淀剂同时加入反应体系中,在适当的条件下共同沉淀形成固体颗粒。

经过洗涤、干燥等处理后得到氧化铈粉末。

最后将氧化铈粉末与纳米级氧化硅混合即可制备出抛光剂氧化铈。

三、抛光剂氧化铈的应用领域1. 航空航天领域在航空航天领域,抛光剂氧化铈主要用于制造飞机发动机叶片、涡轮叶片等高精度金属零件的表面抛光。

其优异的抛光效果和高温稳定性能可以有效提高零件表面的质量和寿命。

2. 汽车制造领域在汽车制造领域,抛光剂氧化铈主要用于汽车发动机、变速器等金属零件的表面抛光。

其优异的耐腐蚀性能可以有效延长零件的使用寿命。

3. 电子设备领域在电子设备领域,抛光剂氧化铈主要用于制造集成电路、硬盘等金属零件的表面抛光。

其优异的抛光效果可以提高电子产品的性能和稳定性。

四、抛光剂氧化铈与环境保护1. 抛光剂氧化铈不含有害物质,对环境无污染。

2. 抛光剂氧化铈的制备过程中采用的是绿色合成方法,不会产生有害废气和废水。

3. 抛光剂氧化铈具有优异的耐腐蚀性能和高温稳定性能,可以延长金属零件的使用寿命,减少对环境的影响。

五、抛光剂氧化铈的发展前景随着工业技术的不断发展和人们对产品质量要求的提高,抛光剂氧化铈在航空航天、汽车制造、电子设备等领域将得到更广泛的应用。

同时,抛光剂氧化铈也将不断进行技术升级和改进,以满足不同行业对表面抛光材料的需求。

抛光粉氧化铈

抛光粉氧化铈

抛光粉氧化铈
抛光粉氧化铈是一种常见的材料,它具有很多优良的性能,被广泛应用于各个领域。

氧化铈是一种无机化合物,化学式为CeO2,它是一种白色粉末,具有良好的化学稳定性和热稳定性。

抛光粉氧化铈是由氧化铈制成的一种粉末,它具有很高的抛光效果和光泽度,被广泛应用于金属、陶瓷、玻璃等材料的抛光和加工中。

抛光粉氧化铈的制备方法有很多种,其中最常见的是化学合成法。

化学合成法是通过化学反应将氧化铈制成抛光粉氧化铈的方法。

这种方法具有制备工艺简单、成本低廉、产品质量稳定等优点,因此被广泛应用于工业生产中。

抛光粉氧化铈的应用范围非常广泛,它可以用于金属、陶瓷、玻璃等材料的抛光和加工中。

在金属加工中,抛光粉氧化铈可以用于不锈钢、铝合金、铜合金等材料的抛光和光亮处理,可以使金属表面光滑、亮丽、耐腐蚀。

在陶瓷加工中,抛光粉氧化铈可以用于瓷器、陶器等材料的抛光和光亮处理,可以使陶瓷表面光滑、亮丽、耐磨损。

在玻璃加工中,抛光粉氧化铈可以用于玻璃制品的抛光和光亮处理,可以使玻璃表面光滑、透明、耐磨损。

抛光粉氧化铈是一种非常重要的材料,它具有很高的抛光效果和光泽度,被广泛应用于金属、陶瓷、玻璃等材料的抛光和加工中。

随着科技的不断发展,抛光粉氧化铈的应用范围将会越来越广泛,它将会成为各个领域中不可或缺的材料之一。

氧化铈抛光粉生产建设项目可行性研究报告 (一)

氧化铈抛光粉生产建设项目可行性研究报告 (一)

氧化铈抛光粉生产建设项目可行性研究报告(一)一、项目概述氧化铈抛光粉是一种新型的高性能细粒子材料,具有抛光效果好、耐腐蚀、高硬度、细腻光滑等特点,被广泛应用于金属表面抛光和玻璃加工等领域。

本项目旨在投资建设一条年产2000吨氧化铈抛光粉生产线,以满足市场需求。

二、市场分析随着现代工业技术的不断进步和机械加工工艺的不断改进,金属表面的抛光需求日益增长。

而氧化铈抛光粉作为一种高效、环保、耐用的抛光剂被越来越多的行业所重视。

目前氧化铈抛光粉的市场需求在逐年攀升,市场潜力十分巨大。

根据市场调研数据,国内氧化铈抛光粉市场规模已超过10亿元,而市场供应依然不足,因此氧化铈抛光粉的发展前景仍然十分广阔。

三、技术实力通过资深的技术人员,我公司拥有高端的生产技术,成熟的生产工艺和严谨的生产标准。

投资建设氧化铈抛光粉生产线,我们将采用先进的生产工艺和设备,确保产品质量的稳定性和可靠性。

四、投资收益1.投资规模:本项目总投资1000万元。

2.预计年销售收入:3000万元。

3.预计年销售利润率:20%。

4.预计年纳税额:200万元。

5.投资回收期:5年。

五、风险分析1.市场风险:氧化铈抛光粉市场已有多个品牌竞争,且市场需求受多种因素影响,存在市场风险。

2.技术风险:氧化铈抛光粉生产需要先进的技术支持,技术不足将影响产品质量和市场竞争力。

3.原材料价格波动风险:氧化铈抛光粉生产需要消耗大量的原材料,原材料价格波动将会影响产品成本和利润。

六、结论综合上述风险分析和收益预测,投资建设氧化铈抛光粉生产线的风险较小、收益可观,具有一定的可行性。

同时,我们将努力优化产品品质、提高生产效率,不断满足客户需求,促进企业可持续发展。

抛光粉 氧化铈

抛光粉 氧化铈

抛光粉氧化铈一、简介抛光粉是一种用于金属、塑料、石材等材料的表面抛光和修复的材料。

而氧化铈是一种常用于抛光粉中的重要成分。

本文将深入探讨抛光粉中的氧化铈的特性及其在抛光过程中的应用。

二、氧化铈的特性2.1 物理特性1.颜色:氧化铈呈黄色至白色。

2.晶体结构:氧化铈晶体结构为立方晶系,具有高度有序的结构。

3.密度:氧化铈的密度约为7.13 g/cm³。

2.2 化学特性1.化学稳定性:氧化铈具有较高的化学稳定性,在大多数常见酸和碱中都不容易溶解。

2.氧化还原性:氧化铈是一种重要的氧化剂,可参与氧化还原反应。

3.热稳定性:氧化铈在高温下仍具有较好的稳定性,适用于高温抛光过程。

三、抛光粉中氧化铈的应用3.1 抛光粉的分类根据不同的需求和材料,抛光粉可以分为多种类型,常见的有钢链抛光粉、钢陶瓷抛光粉、树脂抛光粉等。

我们将重点关注含有氧化铈的抛光粉。

3.2 氧化铈在抛光粉中的作用氧化铈在抛光粉中担当着重要的角色,主要有以下作用:1.硬度调节:氧化铈可以调节抛光粉的硬度,使其适用于不同硬度的材料的抛光过程。

2.表面平整度:氧化铈颗粒的尺寸和形状可以影响抛光后材料的表面平整度。

3.清洁效果:氧化铈作为氧化剂,能够有效去除被抛材料表面的污渍和氧化层。

4.光亮度提升:氧化铈在抛光过程中能够提升材料的光亮度,增加其视觉效果。

四、抛光粉中氧化铈的制备方法4.1 化学合成法1.溶胶-凝胶法:通过溶胶-凝胶反应制备氧化铈颗粒。

2.水热合成法:在高温高压条件下,在水溶液中合成氧化铈颗粒。

4.2 物理制备法1.气相沉积法:通过高温蒸发或等离子喷雾等方法,在气相条件下制备氧化铈粉末。

2.燃烧法:通过将金属铈或其化合物与氧化剂在高温条件下反应,生成氧化铈颗粒。

五、抛光粉氧化铈的应用领域5.1 金属抛光1.不锈钢抛光:氧化铈作为抛光粉的成分之一,在不锈钢表面抛光中起到了关键作用,能够使不锈钢表面光亮度得到提升。

2.铝制品抛光:氧化铈作为抛光粉的成分,能够去除铝制品表面的氧化层,使其表面更加光滑。

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氧化铈抛光粉
简介:
氧化铈抛光粉广泛用于玻璃抛光,具有切削力强、抛光时间短、使用寿命长、抛光精度高的优点。

氧化铈抛光粉根据氧化铈的含量分为低铈、中铈、高铈抛光粉,其切削力和使用寿命也由低到高
微观形貌(北京国瑞升科技有限公司)(2张)。

成分结构:
氧化铈抛光粉主要成份为二氧化铈(CeO2),其次分别为氧化镧
(La2O3)、氧化镨(Pr2O3),此外还含有微量的氧化硅、氧化铝和氧化钙。

发展历史:
随着稀土工业的发展,于二十世纪 30 年代,首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。

在第二次世界大战中,稀土抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。

由于稀土抛光粉具有抛光效率高、质量好、污染小等优点,激发了西方国家的研究热情。

这样,稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。

国外于 60 年前开始生产稀土抛光粉,二十世纪 90 年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种。

目前,国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家(年生产能力为 200 吨以上者。

其中,法国罗地亚公司年生产能力为 2200 多吨,是目前世界上最大的稀土抛光粉生产厂家。

美国的抛光粉年产量达1500 吨以上。

日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳铈矿、粗氯化铈和氯化稀土三种,工艺上各不相同。

日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。

1968 年,我国在上海跃龙化工厂首次研制成功稀土抛光粉。

目前国内已有14 个稀土抛光粉生产厂家(年生产能力达30 吨以上者),但与国外相比仍有较大差距,主要是稀土抛光粉的产品质量不稳定,未能达到标准化、系列化,还不能完全满足各种工业领域的抛光要求。

生产工艺:
原料:
目前,我国生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种:(1) 氧化铈(CeO2) ,由混合稀土盐类经分离后所得 (w(CeO2)=99%);(2) 混合稀土氢氧化物 (RE(OH)3) ,为稀土精矿(w(REO)≥50%) 化学处理后的中间原料(w(REO)=65% ,w(CeO2)≥48%);(3) 混合氯化稀土(RECl3) ,从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土(主要含La ,Ce ,Pr 和Nd ,
w(REO)≥45% ,w(CeO2)≥50%);(4) 高品位稀土精矿(w(REO)≥60% ,
w(CeO2)≥48%) ,有内蒙古包头混合型稀土精矿,山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿。

工艺:
高铈系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化铈为原料,以物理化学方法加工成硬度大、粒度均匀、细小,呈面心立方晶体的粉末产品。

其主要工艺过程为 : 原料→ 高温→ 煅烧→ 水淬→ 水力分级
→ 过滤→ 烘干→ 高铈稀土抛光粉产品。

主要设备有 : 煅烧炉,水淬槽,分级器,过滤机,烘干箱。

主要指标 : 产品中w(REO)=99% ,
w(CeO2)=99%; 稀土回收率约95%。

该产品适用于高速抛光。

这种高铈抛光粉最早代替了古典抛光的氧化铁粉(红粉)。

中铈系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65% ,w(CeO2)≥48%) 为原料,以化学方法预处理得稀土盐溶液,加入中间体( 沉淀剂) 使转化成
w(CeO2)=80% ~ 85% 的中级铈系稀土抛光粉产品。

其主要工艺过程为: 原料→ 氧化→ 优溶→ 过滤→ 酸溶→ 沉淀→ 洗涤过滤→ 高温煅烧→ 细磨筛分→ 中级铈系稀土抛光粉产品。

主要设备有 : 氧化槽,优溶槽,酸溶槽,沉淀槽,过滤机,煅烧炉,细磨筛分机及包装机。

主要指标 : 产品中 w(REO)=90% , w(CeO2) =80% ~ 85% ; 稀土回收率约 95% ; 平均粒度 0.4 微米~ 1.3微米。

该产品适用于高速抛光,比高级铈稀土抛光粉进行高速抛光的性能更为优良。

低铈系稀土抛光粉的制备
以少铕氯化稀土(w(REO)≥45% ,w(CeO2)≥48%) 为原料,以合成中间体( 沉淀剂) 进行复盐沉淀等处理,可制备低级铈系稀土抛光粉产品。

其主要工艺过程为 : 原料→ 溶解→ 复盐沉淀→ 过滤洗涤→
高温煅烧→ 粉碎→ 细磨筛分→ 低级铈系稀土抛光粉产品。

主要设备有 : 溶解槽,沉淀槽,过滤机,煅烧炉,粉碎机,细磨筛分机。

主要指标 : 产品中 w(REO)=85% ~ 90% , w(CeO2)=48% ~ 50%; 稀土回收率约 95%; 平均粒径 0.5微米~ 1.5微米。

目前,国内生产的低级铈系稀土抛光粉的量最多,约占总产量的 90% 以上。

应用领域:
由于铈系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能,所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用,如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。

高铈系稀土抛光粉,主要适用于精密光学镜头的高速抛光。

该抛光粉的性能优良,抛光效果较好,由于价格较高,国内的使用量较少。

中铈系稀土抛光粉,主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光,该抛光粉与高铈粉比较,可使抛光粉的液体浓度降低11% ,抛光速率提高35% ,制品的光洁度可提高一级,抛光粉的使用寿命可提高30% 。

目前国内使用这种抛光粉的用量尚少,有待于今后继续开发新用途。

低铈系稀土抛光粉,适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光。

此外,其它抛光粉用于对光学仪器,摄像机和照相机镜头等的抛光,这类抛光粉国内用量最多,约国内总用量 85% 以上。

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