电子级氨水的概况
电子化学品分析
湿电子化学品概述湿电子化学品，又称超净高纯试剂或工艺化学品，是指主体成分纯度大于 99.99%，杂质离子和微粒数符合严格要求的化学试剂。
主要以上游硫酸、盐酸、氢氟酸、氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、丙酮、乙醇、异丙醇等为原料，经过预处理、过滤、提纯等工艺生产得到的高纯度产品。
湿电子化学品是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种液体化工材料，是电子技术与化工材料相结合的创新产物，具有技术门槛高、资金投入大、产品更新换代快等特点。
湿电子化学品的分类1.按用途分湿电子化学品按用途主要分为通用化学品和功能性化学品两类。
其中通用化学品以高纯溶剂为主，例如氧化氢、氢氟酸、硫酸、磷酸、盐酸、硝酸等；功能性化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的配方类或复配类化学品，主要包括显影液、剥离液、清洗液、刻蚀液等。
湿电子化学品主要品种一览2.按应用领域分湿电子化学品目前广泛应用在半导体、平板显示、太阳能电池等多个领域，其中液晶面板领域增速快。
即按下游产品应用的工艺环节分，主要有平板显示制造工艺的应用、半导体制造工艺的应用及太阳能电池板制造工艺的应用。
其中平板显示制造领域对湿电子化学品的需求量最高，半导体制造工艺用湿电子化学品是技术要求最高，太阳能电池板制造用湿电子化学品盈利能力一般。
湿电子化学品按应用领域分类湿电子化学品的应用湿电子化学品主要应用在半导体、平板显示、太阳能光伏领域等微电子器件制造领域，广泛应用于超大规模集成电路、LED、TFT-LCD 面板制造过程、太阳能硅片的蚀刻与清洗。
超净高纯试剂的应用多种多样，例如在晶圆生产过程中对于晶圆的清洗，在芯片制造光刻工艺中的刻蚀、显影和洗脱过程，同时在芯片制造和 PCB 板制造中的电镀液（例如硫酸铜）的制备原料硫酸也属于超净高纯试剂范畴。
晶圆清洗试剂是前端加工关键工艺。
由于集成电路内各元件及连线相当微细，因此制造过程中，如果遭到尘粒、金属的污染，很容易造成晶片内电路功能的损坏，形成短路或断路等，导致集成电路的失效以及影响几何特征的形成。
2024年氨水市场需求分析
氨水市场需求分析简介本文将对氨水市场需求进行深入分析，主要包括市场概况、需求主体、需求特点以及未来发展趋势等方面。
市场概况行业背景氨水是一种重要的化工原料，广泛应用于农业、化工、医药等多个领域。
随着社会经济的快速发展，氨水市场持续扩大。
市场规模根据市场调研数据显示，氨水市场每年的市场规模呈现稳步增长的趋势。
据预测，未来几年内氨水市场的规模将进一步扩大。
需求主体农业领域氨水在农业领域被广泛应用于作物生长过程中的营养补充和土壤改良。
农民、农业合作社以及农业企业等都是农业领域氨水需求的主体。
化工领域化工领域对氨水需求主要体现在合成氨、合成尿素、合成盐酸等生产过程中，这些化工产品是其他行业的原材料。
化工企业是化工领域氨水需求的主要主体。
医药领域氨水在医药领域主要用于制药过程中的化学中间体生产，如制备酰胺类、酰胺类等。
制药企业是医药领域氨水需求的主要主体。
需求特点稳定需求氨水市场的需求相对稳定，农业、化工以及医药领域的需求均有一定的稳定性。
季节性需求在农业领域，氨水的需求存在一定的季节性特点。
农作物的生长季节，尤其是春季和秋季，氨水需求量较大。
增长需求随着经济的发展和行业的创新，氨水的需求呈现逐步增长的趋势。
尤其是农业领域的需求不断扩大，带动了氨水市场的增长。
未来发展趋势技术创新随着科技的进步，氨水生产技术不断创新，将会提高生产效率和降低成本，进一步推动氨水市场的发展。
环保需求环保意识的增强推动了对环保型氨水的需求。
未来，对低含氮和低氨挥发的绿色氨水的需求将进一步增加。
产业升级随着氨水市场的不断扩大，竞争也日益激烈。
产业升级将是氨水市场未来的趋势，产品质量、品牌营销以及服务等将成为企业竞争的关键因素。
结论氨水市场需求呈现稳步增长的态势，农业、化工和医药等领域是氨水的主要需求主体。
随着技术创新、环保需求和产业升级的推动，氨水市场将继续发展壮大。
企业应抓住机遇，不断提高产品质量和服务水平，以满足市场需求，谋求更大的发展空间。
半导体氨水标准-概述说明以及解释
半导体氨水标准-概述说明以及解释1.引言1.1 概述概述:半导体工业是一种高度技术密集型和精密制造的行业，它在现代科技发展中扮演着至关重要的角色。
在半导体的生产过程中，氨水是一种常用的原料，用于表面清洁、去除氧化物和脏物等。
由于氨水对半导体产品的质量和性能有着直接影响，因此制定和实施氨水标准变得至关重要。
本文将探讨半导体氨水标准的重要性，以及氨水在半导体制造中的应用。
同时，我们还将介绍氨水标准的制定与实施过程，以及对未来半导体行业发展的展望。
通过详细的分析和研究，希望读者能更好地理解和认识半导体氨水标准的重要性，以及对半导体产业的推动作用。
1.2 文章结构文章结构部分的内容：本文主要分为引言、正文和结论三部分。
引言部分主要包括概述、文章结构和目的几个小节。
在概述部分，将介绍半导体氨水标准的背景和意义；文章结构部分将介绍本文的结构安排，即分为引言、正文和结论三大部分；目的部分将说明本文撰写的目的和意义。
正文部分将分为三小节：半导体的重要性、氨水在半导体制造中的应用和氨水标准的制定与实施。
将详细介绍半导体产业的重要性，氨水在半导体制造过程中的作用以及相关的标准制定情况。
结论部分将总结半导体氨水标准的必要性、展望未来半导体行业发展以及对整篇文章进行简要的总结，并提出未来的研究方向和展望。
通过以上结构安排，读者可以清晰了解本文的主要内容和撰写思路，有助于更好地理解和阅读全文。
1.3 目的:本文的主要目的是探讨半导体制造过程中氨水标准的重要性，并对当前标准的制定与实施进行深入分析。
通过对氨水在半导体制造中的应用和影响进行全面了解，旨在强调制定和遵守氨水标准的必要性，以确保半导体生产过程的质量和稳定性。
通过本文的研究，希望能够为半导体行业的发展提供一定的参考和指导，为未来半导体技术的发展奠定坚实的基础。
2.正文2.1 半导体的重要性半导体作为现代电子工业的基础材料，扮演着至关重要的角色。
从智能手机、平板电脑到计算机、汽车和航空航天领域，几乎所有电子产品都离不开半导体技术的支持。
2023年高纯电子级氨气行业市场环境分析
2023年高纯电子级氨气行业市场环境分析
随着化工、半导体、太阳能、涂料、玻璃、医药等行业的不断发展，高纯电子级氨气的需求量也在不断增加。
这种气体不仅广泛应用于半导体生产，还被作为医药和化工领域的重要原料，因此市场前景广阔。
一、市场需求情况
从半导体制造、涂料、医药、太阳能等需求领域分析，高纯电子级氨气的需求量正呈逐年上升趋势。
尤其是在半导体生产中，氨气被广泛用于硅片制造和电子芯片的制造等方面，而半导体产业正处于快速发展的阶段，对高纯度氨气的需求也在不断增加。
此外，医药和化工领域也对高纯氨气有着强烈的需求。
总体来看，高纯电子级氨气市场份额庞大。
二、行业竞争情况
高纯电子级氨气市场竞争较为激烈。
目前，国内外一些大型化工公司、气体公司和仪器仪表公司均参与了该领域的竞争。
其中，国外公司具有一定的技术和品牌优势，行业份额较大。
同时，国内相关企业也在积极推进技术创新，提高产品质量和竞争力，争取在市场上取得更大的份额。
三、市场发展趋势
随着科技的不断发展，高纯电子级氨气的应用领域将会更加广泛，特别是在新兴产业领域，如能源存储、新材料等领域中的应用前景巨大。
随着新产业的发展，对氨气的需求也将不断增长，对市场的发展带来机遇。
同时，环保和能效等问题的日益突出，
将促进行业技术和产品升级，提高产品的质量、环保性和安全性，推动市场健康有序的发展。
四、市场规模
据市场调研报告，高纯电子级氨气市场规模也在不断扩大。
预计未来几年，市场的年复合增长率将达到20%以上，市场规模也将随之扩大。
同时，国内产业化规模将不断扩大，国内市场份额也将得到明显提高。
氨水在电子行业中的应用及效果评估
氨水在电子行业中的应用及效果评估电子行业是现代工业的重要组成部分，工业生产中常常需要利用和处理各种化学物质。
氨水作为一种重要的化学物质，广泛应用于电子行业中的多个环节，其应用效果也备受关注。
本文将就氨水在电子行业中的应用和效果进行评估。
首先，氨水在电子行业中的应用非常广泛。
在电子器件制造过程中，氨水常常被用作清洗剂。
它可以去除表面上的油脂和污垢，保证电子器件表面的干净和光滑。
此外，氨水还可以作为刻蚀剂，用于腐蚀金属、陶瓷和半导体材料，以加工制造微电子器件。
在电子元件组装过程中，氨水也可以用作保护剂和过渡剂，可以防止电子元件受到气体和湿气的侵蚀，提高元件的质量和可靠性。
其次，氨水在电子行业中的应用效果也是非常显著的。
作为清洗剂，氨水能够迅速去除电子器件表面的各种污垢，在保证清洁的同时不对器件造成损伤。
尤其是对于一些敏感的器件，氨水的低反应性和高容溶性是其应用的重要优势。
作为刻蚀剂，氨水的加工效果也是非常出色的。
它可以快速而均匀地腐蚀材料表面，形成所需的微细结构和精细图案。
此外，氨水作为保护剂和过渡剂，能够有效地隔离和阻止外界的侵蚀因素，从而延长电子元件的寿命。
然而，尽管氨水在电子行业中具有广泛的应用和良好的效果，但也存在一些潜在的问题和风险需要注意。
首先，氨水是一种具有刺激性气味的化学物质，在使用过程中可能对人体产生刺激和伤害，因此需要采取有效的防护措施，如戴口罩、手套等。
其次，氨水的使用量和浓度需要严格控制，过量使用或浓度过高可能会对环境和器件造成不可逆的损害。
另外，氨水对一些材料和元件可能具有一定的腐蚀性，需要根据实际情况进行选择和使用。
为了保证氨水在电子行业中的应用安全和效果，需要在使用过程中严格按照相关的操作规程和安全标准进行操作。
首先，应选择适当的氨水品牌和规格，确保其质量和纯度符合要求。
其次，在使用氨水前应进行充分的准备工作，如将作业区域进行充分通风，准备好相应的个人防护装备等。
在使用过程中，应遵循正确的操作步骤，避免与其他化学物质混合使用，避免产生危险反应。
电子级氨水的生产工艺与质量指标
电子级氨水的生产工艺与质量指标2.1 电子级氨水制法电子级氨水是用高纯氨通入高纯水中吸收，再经微孔滤膜处理即可。
电子级氨水合成的关键步骤是高纯氨的制备。
2.1.1 高纯氨制备传统方法传统高纯氨工艺主要有三种：1、工业氨经三级吸附除去油、水及部分碳氢化合物，膜压机压缩后送入精馏塔，二次精馏除去低沸点杂质，吸附器进一步除水得高纯氨。
2、工业氨用吸附法除去水，采用间歇精馏法除去低沸点杂质，得到99.999%的高纯氨。
3、工业氨经精馏、多重吸附、超滤、终端纯化得到99.9999%的高纯氨。
图2.1 几种有代表性的吸附剂暇射程度与时间的曲线吸附初期各吸附剂对NH中H0的吸附纯化程度曲线，1～7为不同试验的吸附剂。
图2.2 高纯氨生产工艺流程图1.工业级NH3；2．2’脱油干燥器；3．3’吸附器4．精馏塔；5．高纯NH3；6冷却水槽；7．过滤器；I脱油剂；II III IV干燥吸附剂表2.1 精馏提纯NH3工艺条件2.1.2 高纯氨制备其他方法武汉华灿光电有限公司的专利CN1907855提出一种直接合成高纯氨的方法，其特征在于：先对合成氨所需的两种原材料——氮气N2和氢气H2进行提纯，然后再把它们合成为氨，从而得到所需的高纯氨；或者再经过简单的分离，把其中的N2和H2分离出来，从而得到所需的高纯氨。
用这种方法获得高纯氨克服了以往提纯的困难，所以成本降低很多，高纯氨的价格将会大大降低。
江阴市润玛电子材料有限公司的专利CN101143728发明一种超高纯氨水的生产工艺，包括以下工艺步骤：（1）将液氨罐内的液氨输入缓冲罐；（2）缓冲罐的氨气通入第一个清洗塔中；（3）第一个清洗塔内的氨气进入第二个清洗塔内被去离子水吸收成氨水，并释放出比较纯的氨气；（4）第二个清洗塔内的氨气进入第三个清洗塔内被去离子水吸收成氨水，并释放出纯度极高的氨气；（5）第三个清洗塔纯度极高的氨气输入吸收塔后氨气被吸收塔内的去离子水大量的吸收；（6）在超净环境内，用过滤器对出吸收塔的氨水进行过滤分装得到超高纯的氨水成品。
电子级氨水的消费分析与预测
电子级氨水的消费分析与预测4.1 我国电子级氨水下游消费现状与消费结构分析4.1.1 我国电子级氨水消费现状分析得益于电子行业迅猛发展，我国电子级氨水消费量不断增加。
2005年我国电子级氨水消费量达到吨，2006年我国电子级氨水消费量达到吨，2007年我国电子级氨水消费量达到吨，2008年我国电子级氨水消费量达到吨。
受金融危机影响，2009年我国电子级氨水消费增长较少，消费量为吨，2005～2009年增长在6.4%。
根据我们的调查以及一些业内人士透露，前几年我国电子级氨水进口量约在吨/年左右。
近两年，随着我国半导体高端材料、LED等材料、太阳能材料的的迅速发展，我国电子级氨水消费量大幅增长，2010年估计在吨，2011年达到吨左右。
表4.1 2005～2011年我国电子级氨水产、供、需平衡表图4.1 2005～2011年我国电子级氨水产、供、需走势图4.1.2 我国电子级氨水消费结构分析电子级氨水的消费结构见下表。
表4.2 我国电子级氨水消费结构表图4.2 我国电子级氨水消费结构图4.2 我国电子工业发展分析与预测电子工业是研制和生产电子设备及各种电子元件、器件、仪器、仪表的工业。
是军民结合型工业。
由广播电视设备、通信导航设备、雷达设备、电子计算机、电子元器件、电子仪器仪表和其他电子专用设备等生产行业组成。
改革开放30年来，在世界电子工业生产由高成本向低成本地区转移大趋势下，中国电子工业获得了长足的发展。
特别1995～2005年间，中国电子工业的产量在世界电子工业生产总量中的比重，一下从3％提高到18％，接近当年的世界第一生产大国一美国(19％)，并很快超过美国成为世界第一生产大国。
但是，中国电子信息产业核心技术长期受制于人，以粗放式经营追求速度，仅靠出口和投资拉动，并以低成本为竞争利器，因此中国电子信息产业大而不强，竞争力弱，效益低下。
4.2.1 电子工业政策4.2.2 电子工业地位4.2.3 LED行业超纯氨是微电子氮化硅掩蔽膜的主要原材料，其反应为：750—850℃SiH4+NH3 Si3N4+H2 N2 850—900℃SiCl4+NH3 Si3N4+HCl N2虽然NH3在半导体制造用量不大，但在光电子领域、超纯氨是十分重要的原材料，NH3的质量好坏直接决定发光二极管（LED）的亮度，它的价格高低左右着LED的经济性。
氢氧化铵(氨水)
氢氧化铵(氨水)Ammonia solutionCas 号：【1336-21-6】M D L：--MFCD00066650分子式：H5NO 分子量：17.03别名：阿摩尼亚水Ammonium water Ammonium solution Ammonium hydroxide Aqua ammonium订货信息：品名规格包装单价订购氢氧化铵(氨水) 电子级500ml 88元订购氢氧化铵(氨水) for HPLC，≥25% in H2O 4L 280元订购氢氧化铵(氨水) for HPLC，≥25% in H2O 500ml 68元订购氢氧化铵(氨水) AR 12 x 500ml 180元订购性状：无色透明液体。
为氨的水溶液。
氨含量越多，密度越小。
易挥发逸出氨气，有强烈的刺激性气味。
能与乙醇混溶。
呈强碱性。
能从空气中吸收二氧化碳。
与硫酸或其他强酸反应时放出热。
与挥发性酸放在近处能形成烟雾。
密度约0.88g/ml(20℃)。
中等毒，半数致死量(大鼠，经口)350mg/kg。
有腐蚀性。
催泪性。
质量标准：GB/T631-89项目Item分析纯化学纯(AR) (CP)含量(NH3)Assay,%25-28 25-28蒸发残渣Evaporation residue,%≤0.002 0.004氯化物(Cl)Chloride,% ≤0.00005 0.0001硫化物(S)Sulfide,%≤0.000020.00005硫酸盐(SO4)Sulfate,%≤0.00020.0005磷酸盐(PO4)Phosphate,%≤0.00010.0002碳酸盐(以CO2计)Carbonate,%≤0.0010.002镁(Mg)Magnesium,% ≤0.0001 0.0005钙(Ca)Calcium,% ≤0.0001 0.0005铁(Fe)Iron,% ≤0.00002 0.00005钠(Na)Sodium,% ≤0.0005 --钾(K)Potassium,% ≤0.001--铜(Cu))Copper,% ≤0.00001 0.00005铅(Pb)Lead,% ≤0.00005 0.0001还原高锰酸钾物质（以O计),% ≤0.0008 0.0008Potassium permanganate reducingsubstances协118-97项目Item优级纯(GR)含量(NH3)Assay,%25-28蒸发残渣Evaporation residue,%≤0.002氯化物(Cl)Chloride,% ≤0.00005硫化物(S)Sulfide,%≤0.00002硫酸盐(SO4)Sulfate,%≤0.0001磷酸盐(PO4)Phosphate,%≤0.00005碳酸盐(以CO2计)Carbonate,%≤0.001镁(Mg)Magnesium,% ≤0.0001钙(Ca)Calcium,% ≤0.0001铁(Fe)Iron,% ≤0.00001钠(Na)Sodium,% ≤0.0001钾(K)Potassium,% ≤0.0001铜(Cu))Copper,% ≤0.000005铅(Pb)Lead,% ≤0.00001还原高锰酸钾物质（以O计),% ≤0.0008 Potassium permanganate reducingsubstances项目名称Item ACS Grade 含量(以NH3计)Assay ≥20.0-30.0% 氯化物(Cl)Chloride(Cl) ≤0.5ppm磷酸盐(PO4)Phosphate ≤2ppm硫酸盐(SO4)Sulfate ≤2ppm汞（Hg)Mercurous（Hg) ≤1ppb铝(Al)Aluminum(Al) ≤1ppb钡(Ba)Barium(Ba) ≤1ppb硼(B)Boron(B) ≤5ppb镉(Cd)Cadmium(Cd) ≤1ppb钙(Ca)Calcium(Ca) ≤1ppb铬(Cr)Chromium(Cr) ≤1ppb钴(Co)Cobalt(Co) ≤1ppb铜(Cu)Copper(Cu) ≤1ppb铁(FeIron(Fe) ≤5ppb铅(PbLead(Pb) ≤1ppb锂(Li)Lithium(Li) ≤1ppb镁(Mg)Magnesium(Mg) ≤1ppb锰(Mn)Manganese(Mn) ≤1ppb钼(Mo)Molybdenum(Mo) ≤1ppb钾(K)Potassium(K) ≤1ppb硅(Si)Silicon(Si) ≤5ppb钠(Na)Sodium(Na) ≤5ppb锶(Sr)Strontium(Sr) ≤1ppb锡(Sn)Tin(Sn) ≤1ppb钛(Ti)Titanium(Ti) ≤1ppb钒(V)Vanadium(V) ≤1ppb锌(Zn)Zinc(Zn) ≤1ppb锆(Zr)Zirconium(Zr) ≤1ppb品级Grade LC-MS级(eluent additive for LC-MS ) 外观Appearance 无色液体红外光谱鉴别Infrared spectrometry Conforms浓度concentration ≥25% in H2O蒸发残渣evaporation residue ≤0.001%氯chloride (Cl-): ≤0.2 ppm磷酸盐phosphate (PO43-): ≤0.2 ppm硫酸根sulfate (SO42-): ≤1 ppmcation traces by ICP-MSAg: ≤0.01 ppmAs, Sb (as As): ≤0.01 ppmAu: ≤0.01 ppmB: ≤0.01 ppmBa: ≤0.01 ppmBe: ≤0.01 ppmBi: ≤0.01 ppmCa: ≤0.01 ppmCd: ≤0.01 ppmCo: ≤0.01 ppmCr: ≤0.01 ppmCu: ≤0.01 ppmFe: ≤0.01 ppmGa: ≤0.01 ppmGe: ≤0.01 ppmIn: ≤0.01 ppmK ≤0.01 ppmLi: ≤0.01 ppmMg: ≤0.01 ppmMn: ≤0.01 ppmMo: ≤0.01 ppmNa: ≤0.01 ppmNi: ≤0.01 ppmPb: ≤0.01 ppmPt: ≤0.01 ppmSn: ≤0.01 ppmSr: ≤0.01 ppmTi: ≤0.01 ppmTl: ≤0.01 ppmZn: ≤0.01 ppmZr: ≤0.01 ppmsuitability in accordance for LC-MS28% in H2O, ≥99.999% trace metals basis ：外观Appearance Clear Colorless Liquid氨NH3 28.0 - 30.0 % （Titration by HCL）痕量金属分析Trace Metal Analysis ≤20.0 ppm纯度Purity ≥99.999% Based On Trace Metals Analysis 浓度concentration ≥28% NH3 in H2O (T)anion tracesbromide (Br-): ≤0.05 ppmcarbonate (CO2): ≤10 ppmchloride (Cl-): ≤0.5 ppmfluoride (F-): ≤0.1 ppmiodide (I-): ≤0.05 ppmnitrate (NO3-): ≤0.5 ppmnitrite (NO2-): ≤0.1 ppmphosphate (PO43-): ≤0.05 ppmsulfate (SO42-): ≤0.1 ppmcation traces by ICP-MSAg: ≤0.01 ppbAl: ≤0.2 ppbAs: ≤0.5 ppbAu: ≤0.01 ppbBa: ≤0.01 ppbBe: ≤0.01 ppbBi: ≤0.01 ppbCa: ≤1 ppbCd: ≤0.01 ppbCe: ≤0.01 ppbCo: ≤0.01 ppbCr: ≤0.05 ppbCs: ≤0.01 ppbCu: ≤0.5 ppbDy: ≤0.01 ppbEr: ≤0.01 ppbEu: ≤0.01 ppbFe: ≤0.5 ppbGa: ≤0.01 ppbGd: ≤0.01 ppbHf: ≤0.01 ppbHg: ≤0.5 ppbHo: ≤0.01 ppbIn: ≤0.01 ppbIr: ≤0.01 ppbK: ≤1 ppbLa: ≤0.01 ppbLi: ≤0.01 ppbLu: ≤0.01 ppbMg: ≤0.1 ppbMn: ≤0.1 ppbMo: ≤0.05 ppbNa: ≤1 ppbNd: ≤0.01 ppbNi: ≤0.1 ppbPb: ≤0.02 ppbPd: ≤0.01 ppbPr: ≤0.01 ppbPt: ≤0.01 ppbRb: ≤0.01 ppbRe: ≤0.01 ppbRh: ≤0.01 ppbRu: ≤0.01 ppbSb: ≤0.1 ppbSm: ≤0.01 ppbSn: ≤0.1 ppbSr: ≤0.01 ppbTb: ≤0.01 ppbTe: ≤0.01 ppbTh: ≤0.01 ppbTi: ≤0.05 ppbTl: ≤0.01 ppbTm: ≤0.01 ppbU: ≤0.01 ppbV: ≤0.05 ppbW: ≤0.01 ppbY: ≤0.01 ppbYb: ≤0.01 ppbZn: ≤0.5 ppbZr: ≤0.01 ppb贮存：密封阴凉保存。
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电子级氨水的概况
1.1 电子级氨水的基本概念与分类
中文名称：氨水
英文名称：Ammonium hydroxide
中文别名：氢氧化铵
CAS RN：1336-21-6
EINECS号：215-647-6
分子式：NH4OH
分子量：35.04
电子级就是电子纯（MOS）：适用于电子产品生产中，电性杂质含量极低。
电子级氨水主要用于电子行业。
过去几年来电子行业的快速发展带动了电子级氨水生产的快速发展，电子级氨水的产业的发展进入了一个新的阶段。
1.2 电子级氨水的理化性质
电子级氨水具有氨水的所有性质。
氨水是氨的水溶液，无色有强烈刺激性气味。
氨含量越多，密度越小。
熔点-77℃。
能溶于水、乙醇、醚。
与酸中相反应产生热，有强烈的刺激臭味。
对人体的眼、鼻及破损皮肤有敏感的刺激性。
有腐蚀性。
最浓的氨水密度为0.88g/cm3，浓度为35.28％(质量百分数)。
在氨水中既有自由的氨分子，也有水合氨分子和铵离子，主要形成水合氨分子，实质上是氨分子和水供给的氢以配位键相结合形成的。
只有一小部分水合氨分子电离成铵根离子和氢氧根离子，故溶液显弱碱性。
25℃时，氨水的电离常数为K=1.8×10-5。
氨水吸收二氧化碳，生成碳酸氢铵；吸收二氧化硫，生成亚硫酸铵或亚硫酸氢铵。
在常温下氨水可被Cl2、KMnO4等强氧化剂氧化。
跟酸反应生成铵盐。
跟Ag+、Cu2+、Cr3+、Zn2+等金属离子作用生成络离子。
氨水具有弱碱性。
易挥发，随温度升高和放置时间延长而增加挥发率，且浓度的增大挥发量增加。
氨水有一定的腐蚀作用，碳化氨水的腐蚀性更加严重。
对铜的腐蚀比较强，钢铁比较差，对水泥腐蚀不大。
对木材也有一定腐蚀作用。
1.3 电子级氨水的主要应用领域
氨水多用于农业，称农用氨水，其来源可以是合成氨厂的产品，也可以专门用液氨或气氨加水配制，有的还可以是化工生产过程中的副产品。
农用氨水的氨浓度一般控制在含氮量15%～18%的范围内，碳化度量最好大于100%。
施肥简便，方法也较多，如沟施、面施、随着灌溉水施或喷洒施用。
军事上作为一种碱性消毒剂，用于消毒沙林类毒剂。
常用的是10%浓度的稀氨水（密度0.960），冬季使用浓度则为20%。
氨水在无机工业用于制选各种铁盐。
毛纺、丝绸、印染等工业用于洗涤羊毛、呢绒、坯布，溶解和调整酸碱度，并作为助染剂等。
有机工业用作胺化剂，生产热固性酚醛树脂的催化剂。
医药上用稀氨水对呼吸和循环起反射性刺激，医治晕倒和昏厥，并作皮肤刺激药和消毒药。
也用作洗涤剂、中和剂、生物碱浸出剂。
电子级氨水主要用于电子行业的清洗，以及其下游化合物的合成。
虽然NH3在半导体制造用量不大，但在光电子领域、超纯氨是十分重要的原材料。
1.4 电子级氨水对环境的影响
1.4.1 对环境的影响
一、健康危害
侵入途径：吸入、食入。
健康危害：吸入后对鼻、喉和肺有刺激性引起咳嗽、气短和哮喘等；可因喉头水肿而窒息死亡；可发生肺水肿，引起死亡。
氨水溅入眼内，可造成严重损害，甚至导致失明；皮肤接触可致灼伤。
慢性影响：反复低浓度接触，可引起支气管炎。
皮肤反复接触，可致皮炎，
表现为皮肤干燥、痒、发红。
二、毒理学资料及环境行为
毒性：属低毒类。
急性毒性：LD50 350mg/kg(大鼠经口)，分解速度越快，可形成爆炸性气氛。
若遇高热，容器内压增大，有开裂和爆炸的危险。
1.4.2 现场应急监测方法:
检测管法
1.4.3 实验室监测方法:
纳氏试剂比色法(GB7479-87)；水杨酸分光光度法(GB7481-87)
1.4.4 环境标准:
表1.1 氨水的环境标准表
1.4.5 应急处理处置方法:
一、泄漏应急处理
疏散泄漏污染区人员至安全区，禁止无关人员进入污染区，建议应急处理人员戴自给式呼吸器，穿化学防护服。
不要直接接触泄漏物，在确保安全情况下堵漏。
用大量水冲洗，经稀释的洗水放入废水系统。
用沙土、蛭石或其它惰性材料吸收，然后以少量加入大量水中，调节至中性，再放入废水系统。
如大量泄漏，利用围堤收容，然后收集、转移、回收或无害处理后废弃。
二、防护措施
呼吸系统防护：可能接触其蒸气时，应该佩带防毒面具。
紧急事态抢救或逃生时，建议佩带自给式呼吸器。
眼睛防护：戴化学安全防护眼镜。
防护服：穿工作服。
手防护：戴防化学品手套。
其它：工作现场禁止吸烟、进食和饮水。
工作后，淋浴更衣。
保持良好的卫生习惯。
三、急救措施
皮肤接触：立即用水冲洗至少15分钟。
若有灼伤，就医治疗。
眼睛接触：立即提起眼睑，用流动清水或生理盐水冲洗至少15分钟。
或用3%硼酸溶液冲洗。
立即就医。
吸入：迅速脱离现场至空气新鲜处。
保持呼吸道通畅。
呼吸困难时给输氧。
呼吸停止时，立即进行人工呼吸。
就医。
食入：误服者立即漱口，口服稀释的醋或柠檬汁，就医。
灭火方法：雾状水、二氧化碳、砂土。
1.5 电子级氨水的包装储运
内容摘自六鉴网()发布《电子级氨水技术与市场调研报告》。