第三章微电子封装流程教材

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第三章 微电子封装工艺流程
一、塑料封装工艺流程
以PBGA为例介绍一下封装制程
PBGA:
TOP VIEW
BOTTOM VIEW
PBGA的详细制程(Package process)
Taping
印记
Marking
烘烤
Cure
贴片
晶圆植入
晶圆切割
Wafer Mount Die Saw
晶片黏结
Die Attach
4.预型片不能过量使用,否则会造成材料溢流,降低可靠度 5.预型片也能用不易氧化的纯金片。不过结合温度较高。
玻璃胶黏结法。
适用于陶瓷等较低成本的晶片粘结技术
3种涂胶的方法:
1.戳印(stamping) 2.网印(Screen Printing) 3.点胶(Syringe Transfer)
放好晶片后加热,除去胶中的有机成分,并使玻璃熔融结合。
优化步骤:1. IC晶片背面镀有一薄层的金
2. 基板的晶片座上植入预型片(Perform).厚度约25mm,面积约为晶片的三分之一 的金-2wt%硅合金薄片。用于弥补基板孔洞平整度不佳造成的不完全结合。用于 大面积晶片的结合。
3. 由于预型片成分并非金硅完全互溶的合金,硅团块仍会有氧化现象,所以还必须 有交互摩擦的动作,还必须在氮气环境下反应。
* 易产生的问题 : Die Crack (晶片破裂)
Blade
锯口宽度
Wafer Sawing Stage
Spindle Speed Saw Blade
Wafer
Wafer Feeding Direction Wafer Mount Tape
Wafer Wash/Dry Stage
Water Nozzle
封模
Molding
打线接合
离子清除
烘烤
Wire Bond Plasma Cleaning Cure
烘烤
Cure
植球
Ball Mount
助焊剂清除
Flux Clean
单颗化
包装及运送
Singulation Packing&Delivery
Packaging Process
切割
Sawing
WWaaffeerr
片的粘结固定。
实现步骤:1.将IC晶片置于已镀有金膜的基板晶片座上,加热到425˚C,然后
由金-硅之间的相互扩散作用完成结合。 2.通常在热氮气的环境中进行,防止硅高温氧化。 3. 基板与晶片反应前先相互磨擦(Scrubbing),以除去氧化层,加
反映界面的润湿性,否则会导致孔洞 (void ) 产生而使结合强度 与热传导性降低。同时也造成应力不均匀而导致IC晶片破裂损坏。
Tape Speed
Wafer
2、绷片和分片
绷片:经划片后仍粘贴在塑料薄膜上的圆片,如需要分离成 单元功能芯片而又不许脱离塑料薄膜时,则可采用绷片机进 行绷片,即把粘贴在薄膜上的圆片连同框架一起放在绷片机 上用一个圆环顶住塑料薄膜,并用力把它绷开,粘在其上的 圆片也就随之从划片槽处分裂成分离的芯片。这样就可将已 经分离的但仍与塑料薄膜保持粘连的芯片.连同框架一起送 入自动装片机上进行芯片装片。现在装片机通常附带有绷片 机构。 分片:当需人工装片时,则需要进行手工分片,即把已经经 过划片的圆片倒扣在丝绒布上,背面垫上一张滤纸,再用有 机玻璃棒在其上面进行擀压,则圆片由于受到了压应力而沿 着划片槽被分裂成分离的芯片。然后仔细地把圆片连同绒布 和滤纸一齐反转过来,揭去绒布,芯片就正面朝上地排列在 滤纸上,这时便可用真空气镊子将单个芯片取出,并存放在 芯片分居盘中备用。
片键合和装架。根据目前各种封装结构和技术要求,装
片的方法可归纳为导电胶粘接法、银浆或低温玻璃烧结
法和低熔点合金的焊接法等几种,可根据产品的具体要
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求加以选择。
芯片
芯片 粘接剂
金属化布线 芯片
黏结方法:
1.共晶黏结法。 2.玻璃胶黏结法。 3.高分子胶黏结法。 4.焊接黏结法 。
共晶黏结法。
原理:利用金-硅和金在3wt%金。363˚C时产生的共晶(Eutectic)反应特性进行IC晶
•水的冲洗速度 : 80~100 mm/sec
• 切割方法: : 单步切割(single) 分步切割 (step ) 斜角切割 (bevel)
* 刀片转速 : 30,000~40,000 rpm Full Cutting(105%)
Al Ni
金刚石小颗粒 (3~6 micro meter)
* DI Water(去离子水的作用): 洗去硅的残留碎片 电阻系数 : 16~18 Mohm
Die attach
3、基板的金属化布线 在基板的表面形成与外界通信的薄膜型金属互连线
4、芯片装片
Die attach
把集成电路芯片核接到外壳底座(如多层陶瓷封装)
或带有引线框架的封装基板上的指定位置,为丝状引线
的连接提供条件的工艺,称之为装片。由于装片内涵多
种工序,所以从工艺角度习惯上又称为粘片、烧结、芯
晶圆切割
Die Saw
切割是为了分离Wafer上的晶粒(die),切割完后,一颗颗 晶粒就井然有序的排列在胶带上。同时由于框架的支撑可避 免胶带皱褶而使晶粒互相碰撞,并且还可以支撑住胶带以便于 搬运。
wafer
钢制框 架
Au膜互连线
Si芯片
Wafer Sawing
DI water 去离子水
割刀 蓝色胶带
Die
贴片
Die Attach
打线&打金线
Wire Bonding
Wire
塑模
Molding
贴锡球
Solder Ball Attach
单颗化
Singulation
Molding Compound
Packing
Final Test
Solder Ball
1、划片
Wafer Sawing
划片就是把已制有电路图形的集成电路圆片切割分离成
具有单个图形(单元功能)的芯片,常用的方法有金刚刀划片、
砂轮划片和激光划片等几种:金刚刀划片质量不够好,也
不便于自动化生产,但设备简单便宜,目前已很少使用;
激光划片属于新技术范踌,正在推广试用阶段。目前使用
最多的是砂轮划片,质量和生产效率都能满足一般集成电
路制作的要求。
晶元切割前首先必须在晶元背面贴上胶带(Blue Tape), 晶圆粘片 并固定在钢制的框架上,完成晶元粘片(Wafer Mount & tape Wafer Mount Mount)的动作,然后再送进晶元切割机上进行切割。
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