全国镀膜线分布表
第四章 真空蒸发镀膜法
第五节 蒸发源的类型
真空蒸发所采用的设备根据其使用目的不同 可能有很大的差别， 可能有很大的差别，从最简单的电阻加热蒸 镀装置到极为复杂的分子束外延设备， 镀装置到极为复杂的分子束外延设备，都属 于真空蒸发沉积的范畴。 于真空蒸发沉积的范畴。 在蒸发沉积装置中， 在蒸发沉积装置中，最重要的组成部分就是 物质的蒸发源。 物质的蒸发源。
第一节 真空蒸发镀膜原理
定义：真空蒸发镀膜(蒸镀) 一．定义：真空蒸发镀膜(蒸镀)是 在真空条件下， 在真空条件下，加热蒸发物质使 气化并淀积在基片表面形成固 之气化并淀积在基片表面形成固 体薄膜，是一种物理现象。 体薄膜，是一种物理现象。 广泛地应用在机械、电真空、 广泛地应用在机械、电真空、无 线电、光学、原子能、 线电、光学、原子能、空间技术 等领域。 等领域。 加热方式可以多种多样。 加热方式可以多种多样。
24
P (P ) v a
MT 22 P (Torr) ≅ 3.51×10 v 分子/(厘 2 ⋅ 秒 米 ) MT
分 /(厘 2 ⋅ 秒 子 米 )
m M −4 Rm = mRe = P ≅ 4.37×10 P (Pa) 克/(厘米2 ⋅ 秒 ) V V 2π RT T M ≅ 5.84×10 P (Torr) 克/(厘 2 ⋅ 秒 米 ) V T
三个基本过程： 四. 三个基本过程：
（1）加热蒸发过程，包括由凝聚相转变为气相（固相或液相 ）加热蒸发过程，包括由凝聚相转变为气相（ →气相）的相变过程。每种蒸发物质在不同温度时有不同的 气相）的相变过程。 气相 饱和蒸气压，蒸发化合物时，其组合之间发生反应， 饱和蒸气压，蒸发化合物时，其组合之间发生反应，其中有 些组成以气态或蒸气进入蒸发空间。 些组成以气态或蒸气进入蒸发空间。 （2）气化原子或分子在蒸发源与基片之间的输运，即这些粒 ）气化原子或分子在蒸发源与基片之间的输运， 子在环境气氛中的飞行过程 飞行过程。 子在环境气氛中的飞行过程。飞行过程中与真空室内残余气 体分子发生碰撞的次数， 体分子发生碰撞的次数，取决于蒸发原子的平均自由程以及 从蒸发源到基片之间的距离，常称源-基距 基距。 从蒸发源到基片之间的距离，常称源 基距。 淀积过程， （3）蒸发原子或分子在基片表面上的淀积过程，即蒸气凝聚、 ）蒸发原子或分子在基片表面上的淀积过程 即蒸气凝聚、 成核、核生长、形成连续薄膜。由于基板温度远低于蒸发源 成核、核生长、形成连续薄膜。 温度， 温度，因此沉积物分子在基板表面将发生直接从气相到固相 的相转变过程。 的相转变过程。
磁控溅射镀膜实验报告
近代物理实验磁控溅射镀膜宋爽核12 2011011723指导老师：王合英 2013-5-24【摘要】本实验根据气体辉光放电和磁场约束电子运动的原理，运用真空系统和磁控溅射镀膜技术，测量了基片加热温度和真空度变化的关系，溅射气压、溅射功率和溅射速率的关系，并在载玻片上镀上了铜膜。
关键词：磁控溅射镀膜，辉光放电，溅射速率，溅射气压、溅射功率一．前言当今信息社会，众多通讯机器的心脏部分，离不开以薄膜技术为基础而制作的元器件、电子回路、集成电路等。
磁控溅射镀膜是目前应用最为广泛的薄膜制备方法之一。
磁控溅射技术是在普通的溅射技术基础上发展起来的。
溅射是近年来在真空镀膜中得到广泛应用的一种成膜方法。
溅射法是利用高能离子（电场加速正离子，由电极间工作气体在强电场作用下电离产生）高速冲击负极溅射材料表面，发生碰撞。
由于高能离子的能量大于靶材原子表面结合能，从而使靶材表面的原子或分子等得到入射离子的能量，逐渐溢出表面形成溅射。
溅射镀膜就是基于荷能离子轰击靶材时的溅射效应，整个过程都是建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。
而磁控溅射技术工作原理如图1所示：图1 磁控溅射原理就是在电子运动过程中，用磁场和电场同时作用于电子，磁场B垂直于电场E，靶极表面附近的电子在互为正交的电、磁场作用下，受到洛仑兹力作用而沿螺旋路径运动，这就延长了电子在空间运动的时间，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地利用电子的能量，并能尽量避免高能粒子直接轰击样品表面。
磁控溅射具有“低温”、“高速”两大特点，故又称为高速低温溅射技术。
二、实验图2 高真空磁控溅射镀膜机真空室结构示意图按各部分的功能分类，该设备主要由真空系统、溅射镀膜系统、测量及控制系统三部分组成：1、真空系统及其测量真空系统为溅射镀膜提供一个高真空的薄膜生长环境，本底真空度的高低也直接影响薄膜的结构和性能，是薄膜制备最基本和重要的条件。
真空度底，镀膜室内残余气体分子多，薄膜受残余气体分子的影响，使其性能变差。
普通玻璃,中等透光热反射镀膜玻璃,Low-E玻璃,区别和不同
普通玻璃,中等透光热反射镀膜玻璃,Low-E玻璃,区别和不同普通玻璃，中等透光热反射镀膜玻璃，Low-E玻璃，区别和不同一、概述我国是能源消耗大国，目前全国单位建筑面积能耗是发达国家的2-3倍以上，面对严峻的事实，发展节能建筑刻不容缓。
国家建设部提出：到2010年，新建建筑争取1/3以上能够达到节能建筑标准。
同时，全国城镇建筑总耗能要实现节能50%的目标。
Low-E玻璃和热反射镀膜玻璃是建筑节能领域的主要材料，下面把这两种玻璃性能比较一下。
二、热能的形式及玻璃组件的传热自然环境中的最大热能是太阳辐射能，其中可见光的能量仅占约1/3，其余的2/3主要是热辐射能。
自然界另一种热能形式是远红外热辐射能（图1中虚线），其能量分布在4～50μm波长之间。
在室外，这部分热能是由太阳照射到物体上被物体吸收后再辐射出来的，夏季成为来自室外的主要热源之一。
在室内，这部分热能是由暖气、家用电器、阳光照射后的家具及人体所产生的，冬季成为来自室内的主要热源。
太阳辐射投射到玻璃上，一部分被玻璃吸收或反射，另一部分透过玻璃成为直接透过的能量。
被玻璃吸收太阳能使其温度升高，并通过与空气对流及向外辐射而传递热能，因此最终仍有相当部分透过了物体，这可归结为传导、辐射、对流形式的传递。
对暖气发出的远红外热辐射而言，玻璃不能直接透过，只能反射或吸收它，最终仅以传导、辐射、对流的形式透过玻璃，因此远红外热辐射透过玻璃的传热是通过传导、辐射及与空气对流体现的。
玻璃吸收能力的强弱，直接关系到玻璃对远红外热能的阻挡效果。
辐射率低的玻璃不易吸收外来的热辐射能量，从而玻璃通过传导、辐射、对流所传递的热能就少，低辐射玻璃正是限制了这一部分的传热。
以上两种形式的热能透过玻璃的传递可归结为两个途径：太阳辐射直接透过传热、对流传导传热。
透过每平方米玻璃传递的总热功率Q可由下式表示：Q=630Sc+U（T内-T外）式中630是透过3mm透明玻璃的太阳能强度，（T内-T外）是玻璃两侧的空气温度，均是与环境有关的参数。
真空镀膜技术与离子镀膜
第一节 薄膜的物理气相沉积
2.1.2 PVD法
1
真空蒸发镀膜法 气体与蒸气
2
第一节 薄膜的物理气相沉积
2.1.2 PV个特定的温度，高于此温度时，气体不能通过等温压缩而液化，这个温度称为该气体的临界温度。 温度高于临界温度的气态物质称为气体，低于临界温度的气态物质称为蒸气。 注意：蒸气不是理想气体！只有在很低气压下，近似符合理想气体方程。
假定ΔvapHm与温度无关，或因温度范围较小， ΔvapHm可以近似作为常数，积分上式，得：
1、应用范围： 蒸气压小于1Torr； 2、A、B由实验确定 3、合理地选择蒸发材 料及确定蒸发条件。
第二节 薄膜的物理气相沉积
1
6.2.2 PVD法
2
真空蒸发镀膜法 饱和蒸气压：
03
第一节 薄膜的物理气相沉积
2.1.2 PVD法
二、小平面蒸发源
蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
特点：发射特性具有方向性 在θ角方向蒸发的材料质量与cosθ成正比
最大厚度：正上方：θ=0，φ=0时：
第一节 薄膜的物理气相沉积
2.1.2 PVD法
01
蒸发源的蒸发特性及膜厚分布 点源与小平面蒸发源相比，厚度的均匀性要好一些 但淀积速率要低得多，单位质量的原料所得膜厚1/4
02
第一节 薄膜的物理气相沉积
2.1.2 PVD法
01
蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
03
克努曾蒸发源
02
λ>>2r, λ>>l，分子流
04
第一节 薄膜的物理气相沉积
2.1.2 PVD法
01
蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
02
由ds蒸发到dσ上的质量
真空镀膜试验分析报告
真空镀膜试验分析报告根据您的要求，我将直接开始写真空镀膜试验分析报告的内容。
试验目的：本次试验旨在评估真空镀膜工艺对材料性能的影响，分析其表面特性以及涂层的质量和性能。
试验方法：1. 准备试验样品：选择适当的试验材料，并根据试验要求切割成合适的尺寸和形状。
2. 真空镀膜操作：将试样放置在真空镀膜设备中，控制好镀膜时间、温度和压力等参数。
使用合适的镀膜材料，如金属、氧化物或金属合金等。
3. 镀膜监测：通过合适的检测装置，监测镀膜过程中的厚度、成分和结构等性能指标。
4. 表面分析：使用表面形貌观察仪、扫描电子显微镜（SEM）等仪器，对涂层的表面形貌、颗粒分布和结构等进行表征。
5. 物性测试：对试样的硬度、附着力、抗腐蚀性能等进行测试，评估涂层性能。
试验结果分析：1. 表面形貌：根据SEM观察结果，涂层表面呈现均匀、光滑且无明显缺陷的特征。
2. 涂层厚度：经过厚度测试，涂层的平均厚度为Xμm，与设计要求相符。
3. 成分分析：通过X射线衍射（XRD）测试，涂层主要由金属元素和少量氧化物组成，符合预期的材料成分。
4. 硬度测试：涂层的硬度达到X Hv，显示出较好的耐磨性和抗刮擦性能。
5. 附着力测试：根据标准试验方法，涂层的附着力符合评定标准，显示出较好的黏附力。
6. 抗腐蚀性能：经过盐雾试验，涂层表现出优异的抗腐蚀性能，在X小时的测试中未出现明显的腐蚀迹象。
结论：本次真空镀膜试验表明，所采用的镀膜工艺能够获得均匀、致密且具有良好性能的涂层。
涂层具有较高的硬度、优异的附着力和抗腐蚀性能，可满足相关应用的要求。
然而，在后续应用中，还需要进一步测试和评估涂层的稳定性、耐久性和其它特定性能，以确保其适用性和可靠性。
附注：在本文中，为避免标题相同的文字，我没有提供分析报告的标题。
第三章_溅射镀膜
（1）靶材料 (表 3-2、图 3-9)
a.溅射率S 随靶材元素原子序数增加而增大。 b.晶格结构不同，S不同，六方晶格〉面心立方。 c.与表面清洁度有关，清洁度高，S大。 d.升华热大，S小。
均逸出速度如图3－19和图3－20所示。原子序数Z＞20时，
各元素的平均逸出能量差别增大，而平均速度差别较小。
整理版ppt
3838
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由图3－21可见，不同方向逸出原子的能量分布
不相同的。
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溅射原子的能量和速度具有以下几个特点： (1)重元素靶材被溅射出来的原子有较高的逸出能 量，而 轻元素靶材则有高的原子逸出速度；
击，即使自然游离源不存在，导电也 将继续下 去。 （2）维持辉光放电的电压较低，且不变 。 （3）电流的增大与电压无关，只与阴极板上产生辉光
的表面积有关。 （4）正常辉光放电的电流密度与阴极材料和气体的种类
有关。
气体的压强与阴极的形状对电流密度的大小 也有影响。电流密度随气体压强增加而增大。凹面形阴 极的正常辉光放电电流密度，要比平板形阴极大数十倍 左右。
离子层已无法向四周扩散，正离子层便向阴极 靠拢，使正离子层与阴极间距离缩短。要想提 高电流密度，必须增大阴极压降使正离子有更 大的能量去轰击阴极，使阴极产生更多的二次 电子。 ➢ 由于正常辉光放电时的电流密度仍比较小，一 般薄膜溅射选择在非正常辉光放电区工作，有 利于提供大面积的均匀溅射和薄膜沉积。
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（3）过渡区 （CD区域 ） 离子轰击阴极，释放出二次电子， 二次电子与中性气体分子
光学镀膜产品常见不良分析及改善方法
光学镀膜产品常见不良分析及改善方法镀膜产品的不良，部分是镀膜工序的本身造成的，部分是前工程遗留的不良，镀膜最终的品质是整个光学零件加工的（特别是抛光、清洗）的综合反映，对策镀膜不良时必须综合考虑，才能真正找到不良产生的原因，对策改善才能取得成效。
一、膜强度膜强度是镜片镀膜的一项重要指标，也是镀膜工序最常见的不良项。
膜强度的不良（膜弱）主要表现为：① 擦拭或用专用胶带拉撕，产生成片脱落；② 擦拭或用专用胶带拉撕，产生点状脱落；③ 水煮15分钟后用专用胶带拉撕产生点状或片状脱落；④ 用专用橡皮头、1Kg力摩擦40次，有道子产生；⑤ 膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子。
改善思路：基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力。
膜强度不良的产生原因及对策：① 基片与膜层的结合。
一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因。
由于基片表面在光学冷加工及清洗过程中不可避免地会有一些有害杂质附着在表面上，而基片的表面由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入在破坏层的杂质（如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主要），很难以用一般的方法去除干净，特别对于亲水性好，吸附力强的基片尤其如此。
当膜料分子堆积在这些杂质上时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。
此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附也差，同样会影响膜强度。
硝材化学稳定性差，基片在前加工过程中流转过程中，表面已经受到腐蚀，形成了腐蚀层或水解层（也许是局部的、极薄的）。
膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差，膜牢固度不良。
基片表面有脏污、油斑、灰点、口水点等，局部膜层附着不良，造成局部膜牢固度不良。
改善对策：㈠加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。
㈡加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油汽挥发。
光学镀膜材料的应用及工艺
光学镀膜材料的应用及工艺（一）光学镀膜材料的分类（二）1、从化学组成上，薄膜材料可分为：氧化物类：Al2O3、SiO、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2等氟化物类：MgF2、BaF2、YF3、Na3AlF6等其它化合物类：ZnS、ZnSe、PbTe等金属（合金）类：Al、Cr、Ti、Ag、Al-Ti、Ni-Cr等2、从材料功能分，镀膜材料可分为：（1）光介质材料：起传输光线的作用。
这些材料以折射、反射和透射的方式改变光线的方向、强度和相位，使光线按预定要求传输，也可吸收或透过一定波长范围的光线而调整光谱成份。
（2）光功能材料：这种材料在外场（力、声、热、电、磁和光）的作用下，光学性质会发生变化，因此可作为探测、保护和能量转换的材料（如AgCl2,WO3等）。
（二）光学镀膜材料的特点从化学结构上看，固体材料（薄膜）中存在着以下键力： 1. 离子键：离子晶体中，每个离子被一定数量的异号离子所包围，离子晶体中作用力较大，所以离子键很牢固，这就决定了离子晶体具有熔点高、沸点高和硬度大、强度高的特点； 2. 共价键：主要通过同质原子贡献电子构成的极性或非极性双原子偶化学键。
共价键在气体分子结构中较为普遍，如H2,Cl2,CCl4等。
金属键中也常出现不同程度的共价键力；3. 原子键：（或金属键）：原子键也十分牢固，这类键组成的化合物（Si，SiC及氮化物）也具有硬度高、强度大和熔点高的特点； 4. 分子键（或范德华键）：把原子联结成分子的力相当大，而分子之间的键又十分弱（MgCl2等），因此，这类键组成的化合物具有熔点低，强度低的特点。
实际上，固体化合物中化合键的组成是组合型的，就是说一种化合物中原子或分子的结合力并不是纯粹由单一键连结的，往往是以上几种键交互作用的。
（三）由于化学键的特性，决定了不同薄膜材料或薄膜具有以下不同特点：（1）氧化物膜料大都是双电荷（或多电荷）的离子型晶体结构，因此，决定了氧化物膜料具有熔点高、比重大、高折射率和高机械强度。
薄膜光学第四章光学镀膜工艺教学讲义
➢薄膜厚度监控技术
1）直接观测薄膜颜色变化的目视法； 一定结构的膜层对不同波长的光具有不同的透过率。白
光入射，反射光就会表现出颜色。 互补色原理：紫色黄绿，紫蓝黄，蓝橙，红蓝
绿，绿紫红。 特点：结构简单，操作方便，但精度低，受外界、人为因素 影响较大。
2）测量薄膜透过率和反射率极值法； 测量正在镀制膜层的反射率或透过率随膜层厚度增加过
教学目的和要求
了解和掌握影响光学薄膜质量的主要因素以及控制方法。
4.1 光学薄膜器件的质量要素
➢ 光学镀膜器件的光学性能 光学薄膜的光学常数：折射率和厚度。
膜层折射率误差来源、膜层厚度误差来源 膜层折射率误差来源 1）膜层的填充密度，也叫聚集密度。它是膜层的实材体积和 膜层的几何轮廓之比。 2）膜层的微观组织物理结构。即使用同样的膜层材料，采用 不同的物理气态沉积技术（PVD），得到的膜层具有不同的 晶体结构状态，具有不同的介电常数和折射率。
基片清洁的影响：残留在基片表面的污物和清洁剂将导致 1）膜层对基片的附着力差； 2）散射或吸收增大，抗激光损伤阈值低； 3）透光性能变差。
基片的表面污染来源： 1）基片表面抛光后存储时间较长，表面水渍、油斑和霉斑； 2）工作环境中的灰尘及纤维物质被零件表面吸附； 3）离子轰击时负高压电极溅射，在基片表面形成斑点； 4）真空系统油蒸汽倒流造成基片表面污染等。 提高清洁度的方法： 1）常打扫工作环境（最好建无尘车间）、经常打扫真空室； 2）对于新抛光基片表面，可用脱脂纱布蘸乙醇与乙醚混合物 进行擦洗；对于存储时间较长的基片表面，可用脱脂纱布或 棉花蘸最细的氧化铈或红粉进行更新，擦拭时要尽量均匀， 不要破坏表面面形。 3）基片表面油脂、水或其它溶剂的表面薄层，可利用离子轰 击来清洁。
LOW-E镀膜玻璃的色差分析及解决办法
LOW-E 镀膜玻璃的色差分析及解决方法镀膜玻璃的色差有存在于一片玻璃上的，也有存在于玻璃片与片之间的。
在生产中造成镀膜玻璃色差的缘由很多，本文主要从以下两方面就色差产生的缘由和解决方法进展分析。
一：玻璃原片方面假设玻璃原片本身存在色差，确定会导致镀膜玻璃产生色差。
尤其是本底着色的浮法玻璃，不同批次生产的浮法玻璃由于原料和工艺条件的变化很简洁导致颜色不全都产生色差。
玻璃原片由于存放时间过长,外表发霉或与包装材料之间发生反响，产生纸纹等缺陷以及浮法玻璃在退火过程中外表沾上油或水等形成油迹、水迹等去除不掉玻璃原片在钢化处理时产生斑点、斑纹，这些缺陷镀膜后也会产生色差。
玻璃原片的透射比较高，其外表上的斑纹、水迹等质量缺陷大多数情况下用肉眼看不出来，但玻璃镀上膜以后就很明显地表露出来。
有的浮法玻璃在生产过程中形成宽度一样的直线型线道，俗称暗道，镀膜前不易看出，镀膜后却很明显。
再有玻璃厚度不均，可见光透射比相差较大也会导致产生色差。
在日常生产中由于玻璃原片质量问题导致镀膜玻璃产生色差的状况较多，因此，确定要做好玻璃原片的选购和质量检验工作。
二：薄膜方面镀膜玻璃的膜层是其价值所在,也是其质量好坏的关键。
在玻璃原片质量符合标准的前提下，膜层不均匀是镀膜玻璃色差产生的根本原因，其中包括膜层厚度不均和膜层材质成份不均两个方面。
单质金属膜镀膜玻璃的膜层是由一层或几层单质金属膜组成的，膜层厚度的均匀性打算了镀膜玻璃的可见光透射比和颜色的均匀性，保证各个膜层厚度均匀就能保证没有色差。
复合膜玻璃的膜层是由几层功能不同的薄膜组成的，各层薄膜厚度及材质成份的变化都会或多或少地影响镀膜玻璃的目的。
因此，在生产过程中严格把握工艺参数保证每层薄膜厚度及材质成分均匀格外重要。
影响膜层均匀性的主要因素有：1 阴极的磁场分布离线镀膜玻璃的生产是利用真空磁控溅射的工作原理，利用磁场束缚电子的运动，使轰击靶材外表的高能离子数量增多，从而到达快速镀膜的特点。
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华 中 地 区
河
南 安 徽 合计
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全国LOW-E生产线分布状况一览表
（三）
地区 省份 上 序号 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 公司名称 上海耀皮工程玻璃有限公司 上海北玻镀膜技术工业有限公司 福耀集团（上海）汽车玻璃有限公司 上海泰圣隆玻璃有限公司 上海星鲨玻璃科技有限公司 上海耀建玻璃有限公司 浙江中力节能玻璃制造有限公司 浙江东亚工程玻璃有限公司 浙江大明玻璃有限公司 浙江工程玻璃有限公司 浙江和合光伏玻璃技术有限公司 福莱特光伏玻璃集团股份有限公司 联海（国际）玻璃技术有限公司 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 台玻长江玻璃有限公司 苏州华东镀膜玻璃有限公司 东泰（昆山）真空镀膜工程有限公司 江阴沐祥节能装饰工程有限公司 江苏天成镀膜玻璃有限公司 张家港新宇特种玻璃制品有限公司 苏州优贝特玻璃有限公司 江苏耀华特种玻璃有限公司 江苏华尔润集团 南京圣韩玻璃有限公司（停产） 港玻集团南京耀皮玻璃有限公司 南京苏洋玻璃有限公司 江苏北玻节能玻璃科技有限公司
全国LOW-E生产线分布状况一览表 （一）
地区 省份 山 序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 公司名称 青岛锦绣前程节能玻璃有限公司 台玻青岛玻璃有限公司 威海蓝星玻璃股份有限公司 淄博盛达创业玻璃有限公司 山东玻璃总公司淄博中齐建材有限公司 临邑清源集团 山东蓝玻玻璃科技有限公司 山东连云玻璃有限公司 新奥光伏能源有限公司 石家庄玉晶玻璃有限公司 河北晶瑞玻璃制品有限公司 沙河市金安实业有限公司 沙河市正大玻璃有限公司 河北庚昌钢化玻璃有限公司 沙河市四环玻璃有限公司 邯郸市奥德装饰工程有限公司 黄骅荣达玻璃有限公司 河北鑫美玻璃科技有限公司 秦皇岛耀优工程玻璃有限公司 秦皇岛开发区华光工业技术玻璃有限公司 河北永拓节能玻璃有限公司 北京金晶智慧有限公司 北京冠华东泰玻璃科技有限公司 北京富海韵通科技有限公司 北京中玻北方新材料股份有限公司 北京物华天宝镀膜科技有限公司 天津南玻工程玻璃有限公司 天津耀皮玻璃有限公司 天津北玻玻璃工业技术有限公司 台玻天津玻璃有限公司
海
浙 华 江 东
地 江 区苏ຫໍສະໝຸດ 全国LOW-E生产线分布状况一览表 （四）
地区
省份 江 西 湖 北
序号 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97
公司名称 安源玻璃有限公司 咸宁南玻玻璃有限公司 武汉台玻玻璃公司 武汉市荣泰玻璃公司 明达玻璃（武汉）有限公司 武汉长利玻璃有限公司 洛阳新晶润工程玻璃有限公司 洛阳北方玻璃技术股份有限公司 金堆城洛阳节能玻璃有限公司 河南海纳川科技股份有限公司 金玻玻璃科技（河南）有限公司 河南商丘市隆鑫玻璃有限公司 合肥光合玻璃有限公司 安徽蓝泰新材料有限公司（在建） 信义光伏产业（安徽）控股有限公司
东 华
河 北
地
北
区
北
京 天
津
天
津
31
天津信义玻璃有限公司
全国LOW-E生产线分布状况一览表 （二）
地区 省份 序号 东 黑龙江 32 北 辽宁 33 地 34 区 35 四 36 西 南 37 川 地 38 区 39 重 40 庆 41 42 福 43 44 建 45 华 46 47 南 48 广 49 地 50 51 区 52 东 53 54 55 公司名称 黑龙江健中特种玻璃有限公司（在建) 信义玻璃（营口）有限公司 成都南玻玻璃有限公司 明达玻璃（成都 ）有限公司 台玻成都玻璃有限公司 中建材（内江）玻璃高新技术有限公司 绵阳市中邦节能玻璃有限公司 信义节能玻璃（四川）有限公司 重庆川工实业有限公司 重庆渝虎玻璃有限公司 明达玻璃（厦门 ）有限公司 福耀玻璃工业集团股份有限公司 福耀汽车玻璃有限公司 福州新福兴玻璃有限公司 东莞南玻工程玻璃有限公司 广东中航特种玻璃技术有限公司 信义玻璃工程（东莞）有限公司 信义汽车玻璃（东莞）有限公司 佛山市中南罗森玻璃有限公司 台玻华南玻璃有限公司 格兰特工程玻璃（中山）有限公司 惠州市龙玻节能玻璃有限公司 佛山市高明南亮玻璃制品有限公司 江门耀皮工程玻璃有限公司