离子束表面处理技术
金属表面处理的新技术与新进展
金属表面处理的新技术与新进展金属表面处理技术是一门综合性学科，涉及到材料科学、化学、物理学等多个领域。
随着科技的进步和工业的发展，对金属表面处理技术的要求也越来越高。
本文将重点介绍近年来金属表面处理领域的新技术和进展。
1. 等离子体技术等离子体技术是在高温、高能量的条件下，通过电离气体产生等离子体，利用等离子体中的高能电子、离子和自由基等活性粒子对金属表面进行改性和处理的一种技术。
等离子体技术具有处理速度快、效果好、可控性强等优点，可以实现金属表面的清洁、刻蚀、氧化、涂层等处理。
2. 激光技术激光技术是利用高能量的激光束对金属表面进行处理的一种技术。
激光技术具有能量密度高、聚焦性好、加工精度高等优点，可以实现金属表面的精密加工和微结构制造。
近年来，激光技术的应用范围不断扩大，包括激光切割、激光焊接、激光打标、激光雕刻等。
3. 电化学技术电化学技术是利用电解质溶液中的电场作用，使金属表面发生化学反应，实现金属表面的处理和改性。
电化学技术具有处理效果稳定、可控性强、环保等优点，广泛应用于金属的腐蚀防护、表面涂层、表面硬化等领域。
4. 纳米技术纳米技术是利用纳米材料的特殊性质，对金属表面进行处理和改性的一种技术。
纳米技术可以实现金属表面的纳米结构制造，具有提高金属表面的硬度、耐磨性、耐腐蚀性等优点。
近年来，纳米技术在金属表面处理领域的应用得到了广泛的关注和研究。
5. 生物表面处理技术生物表面处理技术是利用生物体的特殊性质，对金属表面进行处理和改性的一种技术。
生物表面处理技术可以实现金属表面的生物功能化，具有提高金属表面的生物相容性、抗菌性等优点。
生物表面处理技术在医疗、生物制造等领域具有广泛的应用前景。
以上介绍了金属表面处理领域的一些新技术和新进展。
这些技术和进展为金属表面的处理提供了更多的选择和方法，也推动了金属表面处理技术的发展和创新。
后续内容将详细介绍每种技术的原理、应用实例和发展趋势等。
6. 紫外光固化技术紫外光固化技术是利用紫外光的能量，使金属表面的涂层材料在短时间内快速固化的一种技术。
溅射镀膜原理
溅射镀膜原理导语：溅射镀膜是一种常见的表面处理技术，通过高能离子束轰击或高频电弧放电等方式，将材料的原子或分子从靶材中剥离，然后沉积在基底表面，形成一层均匀致密的薄膜。
本文将从溅射镀膜的原理、应用以及未来发展等方面进行介绍。
一、溅射镀膜的原理溅射镀膜是一种物理气相沉积技术，其原理可简单描述为：在真空环境中，将被称为靶材的材料置于离子轰击源前，通过加热或电弧放电等方式，使靶材表面的原子或分子获得足够的能量，从而剥离出来。
随后，这些高能粒子在真空环境中自由运动，最终沉积在基底表面，形成一层薄膜。
溅射镀膜的原理主要包括以下几个方面：1. 高能离子轰击：通过加热或电弧放电等方式，使靶材表面的原子或分子获得足够的能量，从而剥离出来。
这些高能粒子具有较高的动能，能够提供足够的动能给剥离源，使其从靶材中脱离。
2. 沉积过程：高能离子剥离出来的原子或分子在真空环境中自由运动，最终沉积在基底表面。
在沉积过程中，这些原子或分子会在基底表面扩散并重新排列，形成一层均匀致密的薄膜。
3. 薄膜成核和生长：在沉积过程中，原子或分子首先会发生成核，形成一些微小的团簇。
随着沉积的继续，这些团簇会逐渐生长并融合，最终形成连续的薄膜。
二、溅射镀膜的应用溅射镀膜是一种广泛应用于材料科学和工程领域的表面处理技术。
它可以改善材料的性能、增强材料的耐磨、耐腐蚀和耐高温性能，同时也可以调控材料的光学、电学和磁学性质。
以下是溅射镀膜在各个领域的应用举例：1. 光学薄膜：溅射镀膜可以用于制备具有特定光学性能的薄膜，如反射镜、透镜、滤光片等。
这些薄膜可以用于光学仪器、显示器件和光电子器件等领域。
2. 电子器件：溅射镀膜可以用于制备集成电路、薄膜晶体管和太阳能电池等电子器件。
通过控制溅射过程中的工艺参数和靶材成分，可以调控薄膜的电学性能，实现对器件性能的优化。
3. 金属涂层：溅射镀膜可以用于制备耐磨、耐腐蚀和耐高温的金属涂层，如刀具涂层、汽车零部件涂层和航空发动机涂层等。
离子碳氮共渗
离子碳氮共渗离子碳氮共渗是一种常用的表面处理技术，可以在金属表面形成一层具有良好性能的碳氮化合物薄膜，从而提高金属的硬度、耐磨性和耐蚀性等性能。
本文将从离子碳氮共渗的原理、工艺及应用方面进行介绍。
一、离子碳氮共渗的原理离子碳氮共渗是利用离子束或离子气体对金属表面进行处理，通过碳氮元素的离子淀积和扩散，形成一层碳氮化合物薄膜。
在离子碳氮共渗过程中，金属表面的离子轰击和热扩散作用会引起金属表面的物理和化学变化，从而使金属表面形成高硬度、高耐磨和高耐蚀的碳氮化合物层。
离子碳氮共渗工艺主要包括三个步骤：准备工作、共渗处理和后处理。
1. 准备工作：包括金属基体的清洗和预处理。
金属基体的清洗是为了去除表面的油污、氧化物和其他杂质，以保证共渗过程的顺利进行。
预处理包括表面活化处理和预共渗处理，以提高共渗层与金属基体的结合强度。
2. 共渗处理：共渗处理是离子碳氮共渗的核心步骤。
在共渗过程中，通过选择合适的离子源和工艺参数，将碳离子和氮离子注入到金属基体表面，从而形成碳氮化合物薄膜。
共渗过程中的离子束轰击和热扩散作用使得金属表面发生物理和化学反应，从而形成致密的碳氮化合物层。
3. 后处理：后处理是为了消除共渗过程中产生的残余应力和改善共渗层的性能。
常用的后处理方法包括热处理、机械加工和表面处理等。
三、离子碳氮共渗的应用离子碳氮共渗技术在金属加工和表面处理领域有着广泛的应用。
主要应用于以下几个方面：1. 工具材料：离子碳氮共渗可以显著提高工具材料的硬度和耐磨性，从而延长工具寿命，提高加工效率。
常见的应用包括模具、刀具、钻头等。
2. 机械零部件：离子碳氮共渗可以提高机械零部件的表面硬度和耐磨性，从而提高零部件的使用寿命和工作性能。
常见的应用包括轴承、齿轮、凸轮等。
3. 汽车零部件：离子碳氮共渗可以提高汽车零部件的表面硬度和耐磨性，从而提高汽车的使用寿命和行驶安全性。
常见的应用包括曲轴、凸轮轴、活塞环等。
4. 刀具涂层：离子碳氮共渗可以作为刀具涂层的一种前处理方法，提高刀具涂层与基体的结合强度，从而提高刀具的使用寿命和切削性能。
离子刻蚀原理-概述说明以及解释
离子刻蚀原理-概述说明以及解释1.引言1.1 概述离子刻蚀是一种常用的微纳加工技术，通过利用离子束对材料表面进行加工，实现对微纳结构的刻蚀和改变。
离子刻蚀技术广泛应用于半导体制造、光学元件制备、微纳电子器件制备等领域。
离子刻蚀的基本原理是将离子束照射到材料表面，利用离子的冲击力和能量将表面原子或分子击出，从而改变材料表面的形貌和化学组成。
离子束经过加速、准直和聚焦等处理后，可以形成高速的、具有一定能量的离子束。
这些离子束照射到材料表面时会发生核反应、电离、弹性散射等过程，从而引起材料表面的刻蚀。
离子刻蚀技术在半导体制造中起着重要作用。
例如，在集成电路制造中，需要通过离子刻蚀来形成晶体管、金属导线、电容器等微纳结构。
离子刻蚀技术还可以用于制备光学器件，如光纤、激光器等。
此外，离子刻蚀技术还可以用于制备微纳电子器件、生物芯片等。
离子刻蚀技术具有高加工精度、可控性强、加工速度快等优点。
通过调节离子束的能量、束流密度、照射时间等参数，可以实现对材料表面的精确加工。
然而，离子刻蚀也存在一些问题，例如在刻蚀过程中可能出现侧向腐蚀、粗糙度增加等现象，需要进一步的研究和改进。
综上所述，离子刻蚀是一种重要的微纳加工技术，具有广泛的应用领域和潜力。
随着科技的不断进步和发展，离子刻蚀技术将继续得到改进和完善，为微纳加工领域的发展提供更多可能性。
1.2 文章结构文章结构部分的内容如下：文章结构部分主要介绍了本篇长文的组织结构和各个章节的内容概述。
本文主要分为以下几个章节：1. 引言：通过本章节，我们将会对离子刻蚀的基本概念作出简要阐述，并介绍本篇长文的整体结构和目的。
2. 正文：本章节将详细介绍离子刻蚀的基本原理，包括离子刻蚀的定义、刻蚀机制、刻蚀设备等内容。
同时，我们还将探讨离子刻蚀在不同领域中的应用，如半导体加工、纳米技术等。
3. 结论：在本章节中，我们将对离子刻蚀的基本原理进行总结，概括归纳其优势和局限性，并对离子刻蚀的未来发展进行展望，提出一些可能的研究方向和应用前景。
离子源蒸镀-概述说明以及解释
离子源蒸镀-概述说明以及解释1.引言1.1 概述离子源蒸镀是一种高端的表面涂层技术，通过离子激发和束缚的方式将材料蒸发成薄膜，使其沉积在目标材料表面，从而达到增强表面性能、提高耐磨、耐腐蚀性能的效果。
离子源蒸镀技术在航空航天、光电子、医疗器械等领域有着广泛的应用，对提升产品质量和增强竞争力具有重要意义。
本文将从离子源蒸镀的原理、应用和优势等方面进行深入探讨，旨在为读者提供全面的了解和指导。
1.2 文章结构本文主要分为三个部分：引言、正文和结论。
- 引言部分将介绍离子源蒸镀的概念和意义，以及本文的写作背景和目的。
- 正文部分将详细介绍离子源蒸镀的原理、应用以及其在工业生产中的优势和重要性。
- 结论部分将对离子源蒸镀进行总结，展望其未来发展趋势，并提出一些结论性观点。
通过以上结构，读者将能够全面了解离子源蒸镀的相关知识和重要性，进而对其在实际应用中起到的作用有更深入的理解。
1.3 目的离子源蒸镀作为一种先进的薄膜沉积技术，在材料科学和工程领域具有重要的应用价值。
本文旨在深入探讨离子源蒸镀的原理、应用和优势，以便更好地理解这一技术的工作机制和实际应用场景。
通过对离子源蒸镀进行详尽的分析和讨论，我们的目的是为读者提供全面的知识和信息，促进该技术在各个领域的更广泛应用，推动其在未来的发展和进步。
我们希望通过本文的介绍，读者能够更加深入地了解离子源蒸镀技术的重要性和潜力，从而为相关领域的研究和工程实践提供有益的参考和指导。
2.正文2.1 离子源蒸镀的原理:离子源蒸镀是一种利用离子束轰击材料表面使其蒸发并沉积在基底上的表面处理技术。
其原理主要包括以下几个方面：1. 离子源生成：离子源蒸镀主要通过离子源器产生电离的原子或分子。
离子源器会加速电子，撞击气体原子或分子，使其电离并形成离子。
这些离子经过加速和聚焦后形成高速的离子束。
2. 离子束轰击：产生的离子束会被引导到目标材料表面，在其表面形成能量巨大的离子轰击。
考夫曼离子束流
考夫曼离子束流的优点包括束流能量可调节、束流稳定性好、束流直径可控等。它被广泛 应用于材料表面处理、薄膜沉积、离子注入、离子刻蚀等领域。离子束处理可以改变材料的 表面性质，例如增强材料的硬度、改善材料的附着力等。
Hale Waihona Puke 考夫曼离子束流总的来说，考夫曼离子束流是一种重要的离子束源技术，具有广泛的应用前景。它在材料 科学、微电子制造、光学涂层等领域发挥着重要的作用。
考夫曼离子束流
考夫曼离子束流（Kaufman ion beam) 是一种常用的离子束源技术，用于产生高能离子 束。它由物理学家 William Kaufman 在20世纪60年代开发。
考夫曼离子束流的主要组成部分包括离子源、加速器、聚焦系统和束流控制系统。离子源 通常是一个带电的金属或化合物材料，通过加热或电离来产生离子。离子经过加速器获得高 能量，然后通过聚焦系统进行束流聚焦，最终形成一个高能离子束。
脉冲直流磁控溅射镀膜技术
脉冲直流磁控溅射镀膜技术
脉冲直流磁控溅射镀膜技术是一种先进的表面处理技术，被广泛应用于各个领域，包括电子、光电、光学、材料科学等。
本文将介绍脉冲直流磁控溅射镀膜技术的原理和应用。
脉冲直流磁控溅射镀膜技术是一种利用离子束轰击和表面沉积的方法，通过控制电子束能量和离子束能量，实现薄膜材料的沉积。
其基本原理是将材料置于真空腔室中，通过电子束的加热使材料融化，然后通过离子束的轰击将融化的材料沉积在基底表面上。
脉冲直流磁控溅射镀膜技术具有很多优势。
首先，它可以在常温下进行，避免了高温处理对基底材料的损伤。
其次，由于离子束轰击的效果，镀膜膜层的致密性和附着力都有很大提高。
此外，脉冲直流磁控溅射镀膜技术可以制备出高纯度、高质量的薄膜材料，具有很好的化学稳定性和机械性能。
脉冲直流磁控溅射镀膜技术在各个领域都有广泛应用。
在电子领域，它可以制备出高导电性和高反射率的金属膜，用于各种电子器
件的制造。
在光电领域，它可以制备出具有特定光学性能的薄膜材料，用于太阳能电池、液晶显示器等光电器件中。
在光学领域，它可以制备出具有特定透过率和反射率的薄膜，用于光学镜片、滤光片等器件中。
在材料科学领域，它可以制备出具有特定功能和性能的复合薄膜，用于材料改性和功能化。
总之，脉冲直流磁控溅射镀膜技术是一种非常有价值的表面处理技术。
其原理简单，应用广泛，可以制备出高质量、高性能的薄膜材料。
随着科技的不断进步，脉冲直流磁控溅射镀膜技术将会在更多领域得到应用，并为我们的生活带来更多便利和创新。
真空电镀的原理
真空电镀的原理
真空电镀是一种高科技表面处理技术，它通过在真空环境下利用电化学反应对材料表面进行镀膜加工，从而改变其外观、物理性质和化学性质。
该技术广泛应用于汽车、航空航天、电子、建筑等领域，是一种重要的表面处理方式。
真空电镀的原理是利用电子束或离子束轰击材料表面，使其表面原子或分子脱离，并在真空中形成电子云。
同时，在真空中加入所需的镀层材料，然后通过放电加热、蒸发或溅射等技术使镀层材料转化为离子态，再利用高压电场将镀层材料的离子引入被镀材料表面，在表面析出成薄膜，从而完成镀层加工。
真空电镀技术的优点在于能够在真空状态下进行加工，避免了空气中的氧化作用，从而保证了镀层的质量和耐腐蚀性。
此外，真空电镀技术还可实现多种材料的镀层加工，如金属、合金、陶瓷等，从而增强了材料的功能和使用价值。
总之，真空电镀技术是一种高效、环保、精密的表面处理技术，它的应用范围广泛，能够满足不同领域对于材料表面处理的要求，并带来良好的经济效益和社会效益。
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离子束表面处理技术 离子束加工是利用离子束对材料进行成形或表面改性的加工方法，是一种原子级的加工技术。离子注入、离子沉积和强脉冲离子束材料 改性等离子束加工工艺已在工业中获得大量应用。目前，正在研究开发一些新的离子束加工工艺。
关键词：离子束加工 离子注入 表面处理
Ion beam machining is the use of ion beam surface modification of materials forming or processing methods and it is an “atomiclevel” process technology. Ion implantation. Ion beam deposition. and Intense pulsed ion beam materials modification have been applied in dustry .some newer ion beam process technologies are being studied and developed. Keywords: Ion beam machining Ion implantation Surface Treatment
离子束加工技术是70年代发展起来的一种特种加工，具有加工精度高，易精确控制，污染少，加工应力、变形极小等特点。目前，离子束材料表面改性技术的研究和推广应用已经取得了巨大的成就，其标志之一就是离子注入微细加工技术的发展。离子注入微细加工技术已经成为超大规模集成电路微细加工的关键技术，推动了现代电子技术工业的飞速发展。 离子材料改性的工程问题是离子注入引起材料表面成分、微观结构变化和新的化合物析出，由此引起材料表面（硬度）、摩擦学特性和化学特性的变化。离子束可控地形成材料表面成分的改变、结构变化和温升效应是离子束材料改性的三把利剑。其构筑的工艺特性远超于其他工艺。因此，离子束表面处理有着诱人的研究和应用前景。 1.离子注入 离子注入是指离子从离子源中引出的离子经过加速管加速电位的加速获得很高的能量（动能），而后进入磁分析器使离子纯化，分析出的离子再加速，经过两维偏转扫描器使离子束均匀地注入到材料表面，通过电荷积分仪精确地测量注入离子数量，调节注入离子的能量可精确地控制离子注入深度，故将它称之为精细掺杂。 离子束注入技术: 非金属离子注入。氮离子注入金属、钛合金、铝合金；碳离子注入金属；硼离子注入钢；氧离子注入钛合金、铝；气体离子注入材料等。 金属离子注入。金属蒸发真空弧（MEVVA）离子源金属注入；钛离子注入钢表面；重金属离子注入H13钢；金属注入440C不锈钢等。 此外还有离子注入WC合金钢，离子注入改善TiN和TiC沉积膜，长程离子注入，双注入和共注入等。 以上离子的注入通过改变材料化学成分，结构，形成新相，通过改变材料的物理和化学特性，从而明显提高提高材料的硬度、抗疲劳性、抗磨损性、抗氧化特性和抗腐蚀性等。 与一般的材料相比，离子束注入具有以下的特点： 1)注入的元素和添加的元素可任意选取基本材料不受限制。同时注入或添加元素时不受温度和固溶度的限制，可在高温、低温和室温下进行。注入或添加的原子不受基体固溶度的限制，不受扩散系数和化合结合力的影响。 2)可精确控制参杂数量和参杂深度。自动化程度高，可精确地注入量。离子注入横向扩散可忽略，深度均匀，参杂杂质纯度高。 3)不会产生涂层，直接离子注入不改变工件尺寸，适合于精密机械件的表面处理，如 航空，航天领域。 4)功耗低，节省材料，处理成品率可以达到100%。 5)不需要采用有毒化学物质，也不会产生任何有害的废物，实现绿色生产。 6)适于各种固体材料和粉末材料的改性要求，如半导体、液晶、非晶态、金属和非金属材料等。 7)存在生产效率低，加工成本高，设备复杂、投资高、技术难度达 困难。同时存在常规的离子注入深度很浅，离子表面衍射使得离子注入很难得到高浓度掺杂等难题。 2.离子束增强沉积 离子束沉积原理。由蒸发构成的原子枪提供原子流，会沉积到沉底（材料）上形成薄膜，在沉积的过程中伴随离子束轰击，增加沉积原子能量，增强沉积。离子束增强沉积的基本结构： 1）蒸发源（加热炉加热，电子束轰击或离子束轰击）提供原子蒸发流。 2）在蒸发源的上方放置安装样品的样品台，在其下方放置离子枪，在沉积过程，进行离子束轰击。 3）膜厚检测器:可安置在样品附近，用来检测沉积过程中薄膜厚度变化和蒸发速率。 4）法拉利筒：可安置在样品附近，用来检测沉积过程中轰击的速流。 5）真空靶室：所有上述部件均安放在一个大的真空靶中。 6）进气源：为了进行离子化学反应成膜，可通入氮、氧和炭的化合物气体。 表1-1 应用 膜材料 基本材料 厚度/mm 沉积速率/(mm/min) 抗腐蚀 Al 钢，Ti,合金 <=40000 2000 Ca 钢 Zn 钢 抗磨损 HfN,ZrN 钢，Mo 1000~5000 80~1000 Tin,TiCN,BN 钢，WC-Co TiC,WC 高速钢，模具钢 润滑 Pb,Au,Mg,MoS2 金属 100~1000 100~1000 Al,MoSi2,PbSn 金属 合金，石墨 塑料 Cr,In(Sn)O 塑料 <=10000 光学装饰 SiO2,ZrO2 玻璃，塑料 500~1000 ZrC,TiC,TiN 金属 键合 Ag Be <=10000 1000 Cu Ta,W,Nb,氧化物 X射线阳极 Al,Mg,Ag Cu <=40000 离子束增强沉积在工业生产上得到广泛的应用，如表1-1所示。可以看出，用Ca、Al和Zn用于金属件抗腐蚀，沉积过程不含有氢脆现象的出现；用Ca沉积直升飞机部件，可以阻止海水腐蚀；用离子束增强沉积硬质碳化物和碳化物薄膜可以改善成型模具、刀具和工件的使用寿命，使寿命可以提高2 到10倍。用离子束增强沉淀所得到的光学模具有致密而晶粒小的晶态结构，具有很好的光学特性等。由此可见，离子束增强沉淀（IBAD)技术是一项先进的镀膜技术，必将受到越来越多的青睐。 3.强脉冲离子材料改进技术 强脉冲离子束（Intense Pulse Ion Beam），亦称高功率脉冲离子束（High-power Pulse Ion Beam）技术用于材料表面处理，是正在发展中的崭新的离子束材料技术。这种技术是利用短脉冲高功率密度的离子束照材料表面，引起材料表面快速加热和快速冷却改变材料表面的结构和成分。这种结构和成分的变化也即改变材料表面形貌、硬度、抗磨损特性和抗氧化等特性。 IPIB技术的特点出自于超短脉冲和超高能量密度的离子束，在所注入的材料有着比常规离子束更强的相互作用，出现熔化汽化现象，使材料表面改性效果更强，改性更深，由此引起了以系列的特点。 1）IPIB注入改性的主导因素是离子束的能量密度和功率密度，注入量在10^13--10^14/cm^2,即可以得到很好的改性效果。IPIB注入效率可以提高4个数量级。 2）IPIB注入由于是材料表面绝热的快热和快冷的改性过程，表面形成了很好的改性层，而集体仍然保持室温，体材料不受影响。 3）束斑打，注入效率高，处理速度高，且价格相对便宜。 4)设备加工简单，结构紧凑，造价低廉，适合工业化生产。 近十来年国际上在IPIB材料表面改性、界面混熔、薄膜沉积和纳米粉末颗粒合成等方面开展了广泛的研究并取得了很大进展，但是能够提供制定工艺依据的系统实验和相关报导非常少。尤其在我国对IPIB技术的研究还是个全新的领域，从装置技术到应用原理和工艺，以及对优先应用领域的开发等各个方面的研究工作都有待开展。其中脉冲能量密度效应是关键。 除上述三种离子束表面处理技术之外，离子束还有离子刻蚀加工技术，磁过滤离子束沉淀技术，全方位离子注入技术等。离子束在医学，生物科学，DNA改性等方面发挥着无可取代的地位。 4.国内外进行的一些研究 随着离子注入工业的发展，科学家在各个领域都取得了不同大小的进展。2008年6月间在美国加州蒙特雷举办了17届国际离子注入技术大会（IIT2008）会议主要内容广泛涉及注入半导体工业的技术与工艺，如掺杂工艺，离子注入设备，材料科学，过程控制与生产效率，及新技术的研究与应用。超浅结工艺及其引发的问题是近些年以及未来相当一段时间内研究热点，是对离子束技术的挑战、会议表明，美日欧技术发达国家为实现离子掺杂的深降至10nm范围，在掌握非常低能量的强流离子掺杂技术上，已经投入很大力量，取得重要进展，看到了希望。英国的哈威尔（Harwell）有限公司，美国Zemet公司，欧洲各国，俄罗斯等在粒子注入技术方面都取得了重大的研究成果。美国用离子注入滚珠轴承可以形成自润滑，使寿命可以提高400倍。在军工，航天和卫星上得以应用。 我国于80年代初开始离子束加工技术研究。其中对离子注入工艺研究较为深入。目前我国在生物技术领域的应用成果丰硕。利用离子束重组DNA，育成的Vc高产新菌株，在国际上处于领先水平。利用离子束辅助农杆菌遗传转化法，育成了一批抗病(虫)转基因水稻新品系；利用离子束介导法将玉米DNA转入水稻，育成了一批光合效率比原品种高80％的高光效水稻；将大豆DNA转入小麦，育成了蛋白含量高达25．3％的高蛋白小麦。有关论文在国际上产生了重大影响。 另外在国内，重金属离子束注入制备高隔离活性相催化材料及其在选择氧化反应中的应用、陆地棉花粉氮离子束注入引起的生物学效应研究，N+离子束注入米曲霉诱变效应的研究，离子束注入后对番茄特征特性的诱变效应，低能离子束注入甘草的当代刺激效应和诱变效应的RAPD分析，低能离子束注入红色链霉菌的育种研究，超低能氮离子束注入二倍体水稻的生物学效应和低能氮离子束注入马齿苋的生物学效应研究等都取得了一定的成果。 5．离子束技术发展展望 独具特色的离子束注入技术，离子束沉积，强脉冲离子束材料改性等在优化材料表层具有其他工艺无法取代的特性，在工业中得到广泛应用。离子束注入硬化膜可以得到超硬膜，离子束最引人注意的是合成多层膜，特别是多层纳米薄膜，这在未来工程工业应用中将起到其他技术无法达到的效果。离子束的独特的技术，在改造传统工艺中必将发挥更大的作用，取代低效率，高能量、高消耗和高污染的老传统工艺，建立新型绿色工业，在国民经济和国防建设中发挥重要作用。 参考文献 [1] 吉卫喜.现代制造技术与装备．北京：高等教育出版社 2005. [2] 张通和，吴瑜光.离子束表面工程技术与应用．北京：机械工业出版社 2005. [3] 饶勤.离子束加工及其在航天工业中的应用. 航空工程与维修.1995.