真空镀膜温度控制分析

真空镀膜温度控制分析

苏州辰杰真空镀膜有限公司

真空镀膜温度控制分析

温度是所有化学反应重要参数,尤其在反应式镀膜、光学度膜、温度控制、其重要性,更是手屈一指。依实际制程需求,有著不同范围与精度之控制方式之进度,因CPU之进步,使得温度控制器,已完全进入。

计算机化时代,于PVD设备中温度控制应用及要求如下:

温度控制需求精度应用控制所需功能

60~80℃+-5% 塑料基材除水气

腔体除水

1. 多点设定启动

2. Autotuning

180~250℃+-5% 金属基材除水气

膜质改善

1. 多点设定启动

2. Autotuning

3. 多段控制

250~380℃+-3% 光学玻璃基材镀膜1. 多点设定启动

2. Autotuning

3. Remote D/A , A/D

4. 多段控制

400~750℃+-1% 反应式镀膜1. 多点设定启动

2. Autotuning

3. Remote D/A , A/D

4. 多段控制

真空镀膜实验报告

真空镀膜实验报告 摘要:本实验在获得真空环境的基础上,在真空室内进行镀膜。在实验中需要复习获得真空的步骤和注意事项,学会使用蒸发镀膜设备,和在玻璃上镀锡的操作方法。 关键词:真空镀膜 蒸发镀膜 引言: 真空镀膜又叫物理气相沉积,它是利用某种物理过程,如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。在薄膜沉积技术发展的最初阶段,由于蒸发法相对于溅射法具有一些明显的优势,包括较高的沉积速度,相对较高的真空度以及由此导致的较高的薄膜质量等,因此蒸发法受到了相对教大程度的重视。但另一方面,溅射法也有自己的优势,包括在沉积多元合金薄膜时化学成分容易控制,沉积层对衬底的附着力较好等。 真空镀膜的操作是将固体材料置于真空室内,在真空条件下,将固体材料加热蒸发,蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时,蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。 正文: 一、实验原理 1、真空泵简介 (1)机械泵 机械泵通过不断改变泵内吸气空腔的容积,使被抽容器内气体的体积不断膨胀压缩从而获得真空,常用的是旋片式机械泵。它主要由定子、转子、旋片、弹簧等组成。机械泵的极限真空度为Pa 1 10 ,它主要由机械泵油的饱和蒸汽压和泵的机械加工精度决定的。当达到极限真空度时,抽气和漏气的速度相等,真空度不再变化。如果将两个机械泵组合起来,可以将真空度提高一个数量级。

旋片式机械泵使用注意: 1) 检查油槽中油液面的高度是否符合规定,机械泵转子的转动方向与规定方向是否一 致; 2) 机械泵停止工作时,要立即使进气口与大气相通,防止回油现象。这步由机械泵上 的电磁阀自动进行。 3) 机械泵不宜工作过长,否则会影响使用寿命。 (2)扩散泵 扩散泵利用气体扩散现象来抽气的。利用高速定向喷射的油分子在喷嘴出口处的蒸汽流中形成一低压,将扩散进入蒸汽流的气体分子带至泵口被前级泵抽走。 扩散泵使用注意: 启动压强低于1Pa ,保证绝大部分的气体分子以定向扩散形式进入高速蒸汽流,高压会导致一些副反应的发生,影响真空的形成。扩散泵一般能达到-5到-7的压强数量级。 2、真空的测量 测量真空的装置称为真空计,常用的油热耦真空计和电离真空计。 热耦真空计可以测量0.1~10Pa 的压强,利用低压下气体的热传导与压强成正比的原理;电离真空计利用电子与气体分子碰撞产生电离电流随压强变化的原理制成,可测量范围是10的-1~-6数量级。注意,电离真空计必须在0.1Pa 一下使用,否则会损坏装置。 3、蒸发镀膜 蒸发镀膜是在真空中通过电流加热,电子束轰击加热和激光加热等方法,使薄膜材料蒸

真空镀膜机安全操作规程

真空镀膜机安全操作规程 一.开机前作到: 1.检查工作环境清洁、干净。 2.检查电线无破损,接地牢固。 3.检查真空室、镀膜转架及工位器具清洁、无油污。 4.机械泵、罗茨泵油位过半。 5.检查四只阀加注满3#真空脂,真空室转轴加注满3#真 空脂。 6.罗茨泵转轴处油杯加满机械泵油。 7.准备相关工位器具,适量J-7钨丝、ABOO型99.99% 的铝丝。 8.接通水、气、电,气压0.5-0.6Mpa,水压0.3-0.4Mpa。二.操作要点: 1.通电,开启机械泵,3分钟后开启阀3,开扩散泵,预 热1-1.5小时。 2.镀膜转架装夹产品、铝丝、钨丝,转架进烘箱预热(温 度、时间符合工艺)。 3.开阀4,开启真空室,转架进真空室,卡销定位,试转 动平稳无异常振动。 4.关闭真空室,关阀4,关阀3,开阀2,开始抽气,开 启复合真空计。 5.当真空度达至-0.1Mpa时,开启罗茨泵。

6.当真空度达到1-1.5Pa(52-64格)时,关阀2,开阀3, 开阀1。 7.当真空度达到2×10-2Pa时,开启转动(转速符合工艺), 分二次进行蒸镀(电压、时间符合工艺),蒸镀结束关 复合真空计。 8.停止蒸镀0.5-1分钟后关转动,关阀1,关罗茨泵。 9.开阀4,开真空室,拉出镀膜转架,取下成品,换装待 镀产品,装上铝丝,进行下次工作。 10.严守开关阀、泵的顺序步骤,防止损坏设备。 11.生产中注意产品安装到位牢固。 12.注意转架电极、紧固件是否松脱,及时加固补全。 13.及时更换断裂、积球、老化的钨丝。 三.关机及保养: 1.拉出转架后,关扩散泵,冷却1-1.5小时,后关阀3, 关机械泵。 2.关整机电源,关冷却水、关高压空气。 3.每星期检查清洁镀膜转架工装。 4.每三个月检查更换机械泵油。 5.每六个月检查更换罗茨泵油、扩散泵油。 制定:王思忠审批: 时间:2002.09.10 时间:

分子生物学实验室常用仪器及使用方法

实验指导 目录 实验一分子生物学实验室常用仪器及使用方法实验二质粒DNA的提取-碱裂解法 实验三琼脂糖凝胶电泳 实验四限制性内切核酸酶的酶切与鉴定 实验五大肠杆菌感受态细胞的制备及转化 实验六动物组织细胞基因组 DNA提取 实验七 DNA的定量 实验八 PCR基因扩增 实验九琼脂糖凝胶电泳分离与纯化目的DNA 实验十 DNA重组 实验十一动物组织细胞总RNA的提取 实验一分子生物学实验室常用仪器及使用

事实证明,在科学飞速发展的今天,无论从事哪个领域的研究,要想突破,除了有良好的理论基础外,更重要的是依赖于先进的技术和优良的仪器设备以及良好的研究环境。一个标准的分子生物学实验室除了具有一般生物学实验室的常规仪器设备外,还具有一些特殊用途的仪器,这些仪器一般较精密,价格昂贵。下面介绍这些仪器的使用方法和注意事项。 一、冷冻离心机 低温分离技术是分子生物学研究中必不可少的手段。基因片段的分离、酶蛋白的沉淀和回收以及其它生物样品的分离制备实验中都离不开低温离心技术,因此低温冷冻离心机成为分子生物学研究中必备的重要仪器。在国内,有多个厂家生产冷冻离心机,本实验室的高速冷冻离心机为GL-20G-Ⅱ型(上海安亭),落地式。配有角式转头:6×50ml、12×10ml和12×1.5ml。极限转速20000rpm。 1. 安装与调试 离心机应放置在水平坚固的地面上,应至少距离10cm以上且具有良好的通风环境中,周围空气应呈中性,且无导电性灰尘、易燃气体和腐蚀性气体,环境温度应在0~30℃之间,相对湿度小于80%。试转前应先打开盖门,用手盘动转轴,轻巧灵活,无异常现象方可上所用的转头。转子准确到位后打开电源开关,然后用手按住门开关,再按运转键,转动后立即停止,并观察转轴的转向,若逆时针旋转即为正确,机器可投入使用。 2. 操作程序 (1)插上电源,待机指示灯亮;打开电源开关,调速与定时系统的数码管显示的闪烁数字为机器工作转速的出厂设定,温控系统的数码管显示此时离心腔的温度。 (2)设定机器的工作参数,如工作温度,运转时间,工作转速等。 (3)将预先平衡好的样品放置于转头样品架上,关闭机盖。 (4)按控制面板的运转键,离心机开始运转。在预先设定的加速时间内,其运速升至预先设定的值。 (5)在预先设定的运转时间内(不包括减速时间),离心机开始减速,其转速在预先设定的减速时间内降至零。 (6)按控制面板上的停止键,数码管显示dedT,数秒钟后即显示闪烁的转速值,这时机器已准备好下一次工作。 3. 注意事项 (1)离心机应始终处于水平位置,外接电源系统的电压要匹配,并要求有良好的接地线,机器不使用,要拔掉电源插头。

真空镀膜试验

真空镀膜实验 一、 实验目的 真空镀膜技术广泛地应用在现代工业和科学技术中,光学仪器的反射镜,增透镜,激光器谐振腔的高反射膜,计算机上存储和记忆用的磁性薄膜,以及材料表面的超硬薄膜。此外在电子学、半导体等其它各尖端学科也都采用了真空技术。 本实验的目的是学习真空蒸发镀膜技术。通过本门实验,要求学生掌握如下几点:①较系统了解真空镀膜仪器的结构;②了解真空系统各组件的功能;③了解石英晶体振荡器测厚原理;④掌握真空蒸镀的基本原理;⑤了解真空镀膜仪器的基本操作。 二、预习要求 要求学生在实验之前对真空系统有一定了解,可以通过以下几本相关书籍获得相关信息。《薄膜材料制备原理、技术及应用》—— 唐伟忠著,冶金工艺出版社出版社;《薄膜物理与技术》—— 杨邦朝,王文生编著,电子科学出版社;《薄膜技术》—— 王力衡,清华大学出版社;《薄膜技术》—— 顾培夫,浙江大学出版社;《真空技术物理基础》—— 张树林,东北工学院出版社;《真空技术》—— 戴荣道,电子工业出版社。 三、实验所需仪器设备 实验过程需要的主要设备为DMDE 450型光学多层镀膜机。 真空镀膜机:本实验使用DMDE-450光学多层镀膜机,其装置结构如图3所示。它主要由真空系统、蒸发设备及膜厚监控系统组成。真空系统由各种真空器件组成,主要包括:真空室;真空泵(机械泵、和分子泵);真空导管;各种真空阀门和测量真空度的真空计等。高真空阀门为碟式,机械泵与分子泵的连通阀门为三同式,将阀门拉出时,机械泵可以直接对镀膜室抽气,推入时机械泵与分子泵连通,同时也切断了机械泵与镀膜室的连接。 蒸发系统由真空钟罩,蒸发电极(共有二对), 活动挡板,蒸发源,底盘等组成。蒸发源安装在电 图3镀膜机装置图 1电离管 2高真空碟阀 3分子泵 4机械泵 5低真空磁力阀 6储气桶 7低真空三同阀 8磁力充气阀 9热偶规 10钟罩 11针型阀

微生物实验操作步骤

微生物试验操作步骤 1.前期准备工作(红色字体需要购买) 10ml离心管(80管)、培养皿(预实验36板,正式试验648板,共计684板)、EP管(预实验36管,正式试验108管,144管)、枪头(5ml、1ml、200ul)、生理盐水现配现用(0.85)2.,灭菌处理 将离心管、枪头、生理盐水、培养基放入高压灭菌锅中灭菌处理后待用。 3.制备不同梯度的样品溶液 预实验 a.梯度稀释试验前一天晚上取置于-80℃盲肠食糜样品于4℃冰箱融化,将需要用到的离心管和EP管分别编号待用。试验期间取盲肠食糜0.5~1g于灭菌后的10ml离心管中,按1:10比例加入生理盐水,制成10-1浓度的样品溶液。然后取0.5ml10-1浓度的样品溶液于下一离心管,按1:10比例加入生理盐水,制成10-2浓度的样品溶液。然后然后取0.1ml10-2浓度的样品溶液于EP管中,按1:1010-3比例加入生理盐水,制成10-3浓度的样品溶液。然后依次如上分别配制10-4、10-5、10-6、10-7、10-8样品溶液。每一次取样前离心管和EP管都要在微型振荡器上震荡混匀。 b.接种和培养:按照平板涂布法进行。分别取各稀释管溶液100μl接种到选择性培养基,大肠杆菌选择性培养基置普通培养箱,37℃培养24h。乳酸菌选择性培养基置5%CO2培养箱,37℃培养48h。双歧杆菌选择性培养基置厌氧发酵罐内,37℃培养48h。沙门氏菌选择性培养基置普通培养箱,37℃培养24h。 c. 微生物计数与鉴定:采用常规微生物平板菌落计数法,选择长有30-300个菌落的平板较为合适,用每克肠道内容物中细菌个数的对数表示( 1gCFU /g) 正式试验 按照预实验操作步骤及适宜梯度进行试验。 4.培养基 总需氧菌营养琼脂(NA)34567 乳酸菌MRS琼脂碱性厌氧234567 双歧杆菌BL琼脂厌氧234567产气袋 大肠杆菌麦康凯需氧234567 沙门氏菌XLD 需氧2345

真空镀膜实验报告

近代物理实验报告 真空镀膜实验 学院 班级 姓名 学号 时间 2014年4月20日

真空镀膜实验实验报告 【摘要】: 真空镀膜也叫物理气相沉积(PVD:physics vaporous deposit),它是利用某种物理过程,如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。本实验中用到的是蒸发镀膜法来进行真空镀膜,从而了解真空镀膜的原理和操作。 【关键词】:真空镀膜、蒸发镀膜法 【引言】:真空镀膜也叫物理气相沉积(PVD:physics vaporous deposit),它是利用某种物理过程,如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。在薄膜沉积技术发展的最初阶段,由于蒸发法相对溅射法具有一些明显的优点,包括较高的沉积速度,相对较高的真空度以及由此导致的较高的薄膜质量等,因此蒸发法受到了相对较大程度的重视。但另一方面,溅射法也具有自己的一些优势,包括在沉积多元合金薄膜时化学成分容易控制,沉积层对衬底的附着力较好等。同时,现代技术对于合金薄膜材料的需求也促进了各种高速溅射方法以及高钝靶材,高钝气体制备技术的发展,这些都使得溅射法制备的薄膜质量得到了很大的改善。如今,由于气相中各组分能够充分的均匀混合,制备的材料组分均匀,易于掺杂,制备温度低,适合大尺寸薄膜的制备,并且能够在形状不规则的衬底上生长薄膜等优点,不仅上述两种物理气相沉积方法已经大量应用于各个技术领域之中,而且为了充分利用这两种方法各自的优点,还开发出了许多介于上述两种方法之间的新的薄膜沉积技术。 【正文】 一、实验原理 真空镀膜是在真空室中进行的(一般气压低于1.3×10-2Pa),当需要蒸发的材料(金属或电介质)加热到一定温度时,材料中分子或原子的热振动能量可增大到足以克服表面的束缚能,于是大量分子或原子从液态或直接从固态(如SiO2、ZnS)汽化。当蒸汽粒子遇到温度较低的工件表面时,就会在被镀工件表面沉积一层薄膜。

生物实验操作步骤

生物实验操作步骤 一、安装显微镜和对光: A 、操作步骤: 1.一手握住镜臂,一手托住镜座,把显微镜轻轻地放在实验台上,镜臂靠近身体略偏左,镜座距实验台边缘约5厘米。安装好目镜和物镜。 2.转动转换器,使低倍物镜对准通光孔。转动遮光器,使最大的光圈对准通光孔。 3、左眼注视目镜内,同时双手转动反光镜(光强用使用平面镜、光弱使用凹面镜),使光线反射到镜筒里,直到整个视野呈雪白色为止。 4.整理复位:把显微镜的外表擦拭干净。取下镜头放入镜盒内,并将镜筒缓缓下降到最低处。最后把显微镜放进镜箱里,放回原处。 B 、去年考卷: C 、评分标准: (1)安装好物镜和目镜(1分) (2)能将显微镜对好光观察(2分) 记录:雪白色或亮白色(1分) (3)整理器材(1分) 二、制作并观察洋葱鳞片叶临时玻片标本: A 、操作步骤: 1、用干净的纱布把载玻片和盖玻片擦干净。 2、用滴管在载玻片中央滴一滴清水。 3、用刀片在洋葱内表面划一个“井”字,用镊子撕下表皮,然后把它放在载玻片中央的水滴中,用解剖针轻轻地将其展平; 4、用镊子夹起盖玻片,使其一边接触载玻片上面的液滴,然后缓缓地盖在液滴上,盖片时要防止装片上出现气泡; 5、在载玻片的一侧滴一滴碘液,在另一侧用吸水纸吸引,重复几次,使染液浸润到整个标本; 6、安装显微镜和对光; 7、将制作的装片安放在显微镜的载物台上,然后将镜筒缓缓下降直到物镜接近玻片; 8、用左眼注视目镜,调节粗准焦螺旋使镜筒缓缓上升,直到在视野中看到细胞图像,然后旋转细准焦螺旋,使物像更清晰; 9、移动装片,在视野中找到一个完整的细胞进行仔细观察; 10、整理复位:取下玻片标本,平移方式(防止折断盖玻片)取下盖玻片并连同载玻片一起放回原处。取下镜头放入镜盒内,将镜筒下降到最低处,然后把显微镜放进镜箱里。把其他废弃物放入垃圾桶并把实验桌抹干净。 B 、去年考卷: C 、评分标准: (1)用纱布将载玻片、盖玻片擦拭干净(1分) (2)在载玻片中央滴一滴清水(1分) (3)用刀片切取一块洋葱鳞片叶,用镊子撕取鳞片叶的内表皮置于载玻片上清水中并用解剖针将表皮展平,盖上盖玻片(1分) (4)将一滴碘液滴在盖玻片的一侧,用吸水纸从对侧引流使碘液扩散到整个标本(1分) (5)将制作好的临时装片放在显微镜下观察(1分) 记录:气泡(1分) 细胞核(1分) 细准焦螺旋(1分) 左上方(1分) (6)整理器材(1分) 三、制作并观察口腔上皮细胞临时玻片标本: A 、操作步骤: 1、用干净的纱布把载玻片和盖玻片擦干净; 2、用滴管在载玻片中央滴一滴生理盐水; 3、用清水漱口,清除口腔中食物碎屑,用消毒牙签粗的一端在口腔侧壁上轻轻刮几下; 4、将牙签上附着的碎屑放在载玻片的生理盐水中涂抹几下; 用镊子夹起盖玻片让一侧先接触生理盐水在轻轻放平,避免出现 。 你观察到的细胞内染色最深的结构是 如果想让物像更清晰,应转动 。如果物像在视野的左上方,应将玻片标本向 移动,才能使物像移到视野中间。

实验十二真空镀膜

实验十二 真空镀膜 引言 在真空中使固体表面(基片)上沉积一层金属、半导体或介质薄膜的工艺通常称为真空镀膜。早在19世纪,英国的Grove 和德国的Pl ücker 相继在气体放电实验的辉光放电壁上观察到了溅射的金属薄膜,这就是真空镀膜的萌芽。后于1877年将金属溅射用于镜子的生产;1930年左右将它用于Edison 唱机录音蜡主盘上的导电金属。以后的30年,高真空蒸发镀膜又得到了飞速发展,这时已能在实验室中制造单层反射膜、单层减反膜和单层分光膜,并且在1939年由德国的Schott 等人镀制出金属的FabryPerot 干涉滤波片,1952年又做出了高峰值、窄宽度的全介质干涉滤波片。真空镀膜技术历经一个多世纪的发展,目前已广泛用于电子、光学、磁学、半导体、无线电及材料科学等领域,成为一种不可缺少的新技术、新手段、新方法。 实验目的 1.了解真空镀膜机的结构和使用方法。 2.掌握真空镀膜的工艺原理及在基片上蒸镀光学金属、介质薄膜的工艺过程。 3.了解金属、介质薄膜的光学特性及用光度法测量膜层折射率和膜厚的原理。 实验原理 从镀膜系统的结构和工作机理上来说,真空镀膜技术大体上可分为“真空热蒸镀”、“真空离子镀”及“真空阴极溅射”三类。 真空热蒸镀是一种发展较早、应用广泛的镀膜方法。加热方式主要有电阻加热、电子束加热、高频感应加热和激光加热等。 1.真空热蒸镀的沉积条件 (1)真空度 由气体分子运动论知,处在无规则热运动中的气体分子要相互发生碰撞,任意两次连续碰撞间一个分子自由运动的平均路程称为平均自由程,用λ表示,它的大小反映了分子间碰撞的频繁程度。 P d kT 22πλ= (8.2-1) 式中:d为分子直径,T为环境温度(单位为K),P为气体压强。 在常温下,平均自由程可近似表示为: ) (1055m P -?≈λ (8.2-2) 式中:P 为气体平均压强(单位为Torr)。 表8.2-1列出了各种真空度(气体平均压强)下的平均自由程λ及其它几个典型参量。 真空镀膜的基本要求是,从蒸发源出来的蒸汽分子或原子到达被镀基片的距离要小于镀膜室内残余气体分子的平均自由程,这样才能保证:

真空镀膜工安全操作规程标准范本

操作规程编号:LX-FS-A73952 真空镀膜工安全操作规程标准范本 In The Daily Work Environment, The Operation Standards Are Restricted, And Relevant Personnel Are Required To Abide By The Corresponding Procedures And Codes Of Conduct, So That The Overall Behavior Can Reach The Specified Standards 编写:_________________________ 审批:_________________________ 时间:________年_____月_____日 A4打印/ 新修订/ 完整/ 内容可编辑

真空镀膜工安全操作规程标准范本 使用说明:本操作规程资料适用于日常工作环境中对既定操作标准、规范进行约束,并要求相关人员共同遵守对应的办事规程与行动准则,使整体行为或活动达到或超越规定的标准。资料内容可按真实状况进行条款调整,套用时请仔细阅读。 1.在机床运转正常情况下,开动机床时,必须先开水管,工作中应随时注意水压。 2.在离子轰击和蒸发时,应特别注意高压电线接头,不得触动,以防触电。 3.在用电子枪镀膜时,应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃最好用铅玻璃,观察时应戴上铅玻璃眼镜,以防X射线侵害人体。 4.镀制多层介质膜的镀膜间,应安装通风吸尘装置,及时排除有害粉尘。 5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。 6.酸洗夹具应在通风装置内进行,并要戴橡皮

真空镀膜机操作指导

真空镀膜实验指导 真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜、射频溅射镀膜和离子镀膜等。本实验通过介绍蒸发镀膜原理,掌握蒸发镀膜的操作方法。真空镀膜技术在电真空、无线电、光学、固体物理、原子能和空间技术中有广泛的应用。 1真空镀膜原理: 1.1蒸发镀膜机理 蒸发镀膜是真空镀膜的一种,它是在高真空条件下将物质加热到沸腾状态,沸腾出来的原子或分子溅落在固体材料表面,形成一层或多层膜的方法。凡是在沸腾温度下不分解或不变性的物质都可以用此法蒸镀成膜。 蒸发原子的成膜过程比较复杂,这里只能粗略描述如下:溅落原子首先被固体表面吸附,当表面温度低于某一临界温度时,原子开始“核化”——部分原子凝聚成团,出现若干“岛”,然后这些“岛”逐渐吸收周围的原子而长大,众多的“岛”相互连接成一片而成一块连续的膜。蒸发镀膜的条件主要有两个,分别介绍如下: 1.2高真空 我们希望蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面,这样,蒸发镀膜的速度高,成膜质量也好。相反,如果真空度低,有大量的空气分子存在,一方面,蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞,阻碍了膜材分子的扩散,降低了蒸镀的速度,影响了膜的均匀性,另一方面,空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高,必然要加大加热功率;更有甚者,空气的存在可能使膜材的某些成分氧化,引起成分变性;在连接着抽气机的情况下,若不能很快完成镀膜,膜料将被抽走。因此,蒸发镀膜需要在高真空条件下进行。当然,真空度也不需要绝对地高。事实上,只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。如果膜材到基底的距离为10 --20cm,根据自由程公式 (d是分子的直径,n是分子数密度) 不难估计真空度在Pa以上就可以满足要求。 1.3材料洁净 材料的洁净包括膜料的洁净和基底材料的洁净。这一要求似乎是不言而喻的。如果材料中混有颗粒状或纤维状的杂质,将直接影响膜的均匀性和牢固度;如果混有可融的化学成分,将影响膜的物理性质,如亮度、表面张力、电导率等等。所以,膜材和基底的清洗工作必须认真对待。 2真空技术

真空镀铝机安全操作规程详细版

文件编号:GD/FS-9694 (操作规程范本系列) 真空镀铝机安全操作规程 详细版 The Daily Operation Mode, It Includes All The Implementation Items, And Acts To Regulate Individual Actions, Regulate Or Limit All Their Behaviors, And Finally Simplify Management Process. 编辑:_________________ 单位:_________________ 日期:_________________

真空镀铝机安全操作规程详细版 提示语:本操作规程文件适合使用于日常的规则或运作模式中,包含所有的执行事项,并作用于规范个体行动,规范或限制其所有行为,最终实现简化管理过程,提高管理效率。,文档所展示内容即为所得,可在下载完成后直接进行编辑。 1 目的:为了减少直至消除违章操作造成的工伤安全事故,为了减少直至消除违章或不规范操作对设备造成的损害,特制定本文件,为操作镀铝机提供正确指引。 2 范围:适用于本公司钟南街厂区所有镀铝机。 3 职责: 3.1 机长和辅助:执行本文件规定项目和内容。 3.2 主管:监督当班人员按本文件规定执行,负责日常巡查和纠正违章操作。 3.3 设备管理部:负责全厂区范围内巡回检查,

发现和取证各车间违章操作行为。 4 操作具体要求: 4.1工作准备 按本设备使用说明的各项要求,检查设备的供电、供水、供气、油位等各部分状态是否正常,保证三相电压>370V,保证油水分离器处的气压> 0.55Mpa、冷却水进水压力>0.2Mpa(LDL5的水压≥0.15 Mpa),<0.3 Mpa,确保其通畅、可靠和安全。[备注:交接班时,关闭V2、V6 V1、V5后开启滑阀泵、打开气镇阀进行气镇半小时再关闭气镇阀(也可以在关闭V1、V5而且真空度≤90Pa(9×103)的情况下进行),并经常排放滑阀泵内的冷凝水,1-7月排放1次/3小时间;7-12月排放1次/5小时。 4.2 镀膜准备工作

真空镀膜工艺流程

真空镀膜工艺流程-标准化文件发布号:(9456-EUATWK-MWUB-WUNN-INNUL-DDQTY-KII

真空镀膜工艺流程 一、真空镀膜的工艺流程大致可用以下的方框图表示: 二、具体说明如下: 1、表面处理:通常,镀膜之前,应对基材(镀件)进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥,避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊材料,如PE(聚乙烯)料等,还应对其进行改性,以达到镀膜的预期效果。 2、底涂:底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。采用喷涂方法,可采用SZ-97T镀膜油;采用浸涂方法,可采用SZ-97、SZ-97+1等油,具体应视镀件材料而定。 3、底涂烘干:SZ-97镀膜油系列均为自干型漆,烘干的目的是为了提高生产效率。通常烘干的温度为60-70oC,时间约2小时。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。 4、镀膜:镀膜时,应保证镀膜机的真空度达到要求后,再加热钨丝,并严格控制加热时间。同时,应掌握好镀膜用金属(如铝线)的量,太少可能导致金属膜遮盖不住底材,太多则除了浪费外,还会影响钨丝寿命和镀膜质量。 5、面涂:通常面涂的目的有以下两个方面:A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性;B、为水染着色提供可能。SZ-97油系列产品均可用于面涂,若镀件不需着色,视客户要求,可选用911、911-1哑光油、889透明油、910哑光油等面油涂装。 6、面涂烘干:通常面涂层较底涂层薄,故烘干温度较低,约50-60oC,时间约1~2小时,用户可根据实际情况灵活把握,最终应保证面涂层彻底干燥。如果镀件不需着色,则工序进行到此已经结束。 7、水染着色:如果镀件需要进行水染着色,则可将面漆已经烘干的镀件放进染缸里,染上所需颜色,之后冲洗晾干即可。染色时要注意控制水的温度,通常在 60~80oC左右,同时应控制好水染的时间。水染着色的缺点是容易褪色,但成本较低。

溅射镀膜操作流程

JGP-560C双室磁控溅射沉积系统操作规范系统的气路图如图: 一、前期准备: 打开循环水(循环水能及时降温,主要是抽水泵能正常工作),打开墙上电源,打开总电源,打开控制电源

注:循环水的有效降温同样是维持实验条件稳定和实验参数进行的有力保障。其主要影响设备是抽水泵。所以在确定水箱充有足够水的前提下还要确保泵的正常工作。 抽真空: 1.开机械泵开关; 开旁抽阀V1(V7),开复合真空计,对溅射真空室(进样室)进行抽真空(粗抽真空);

3.当气压低于20 Pa时,关旁抽阀V1(V7); 开电磁阀DF1(DF2),开闸板阀G2(G3),启动分子泵T1(T2);

5.开电离真空计(细抽真空)。 注:真空区域可划分为五类: 粗真空区域×105Pa—×103Pa 低真空区域×103Pa—×10-1Pa 高真空区域×10-1Pa—×10-6Pa 超真空区域×10-6Pa—×10-12Pa 极高真空区域<×10-12Pa 这种气体的量的变化也会对各类生产过程产生很大影响。对镀膜过程也不例外。例如物质在真空中的沸点比在大气中的低,在真空条件下

可以降低物质大量蒸发所需的温度,因而在真空镀膜室内镀膜材料可以在较低的温度下大量蒸发。在低真空区域中氧气相应少了,物质被氧化的可能性大大的变小,因而真空镀膜时能够得到纯度较高的有实用价值的镀膜层。所以稳定的真空度能有效保证各实验参数的进行,保证镀膜质量。 三、装样 检查闸板阀G3是否关闭,确认G1,V7,V5确实关闭; 缓慢打开放气阀V6,向进样室充气; 充气完成后,打开带窗活开门,将放好样品的样品托一一放入样品库内(一次可放置6个样品托); 关闭放气阀V6,对样品室抽真空。 四、处理样品(进样室中,退火炉在上,反溅靶在下) 用磁力传递杆取下样品托,将样品托放置在反溅靶表面; 将复合真空计由自动调为手动; 稍关闭闸板阀G3,打开截止阀V5; 开流量计,预热3min; 开气瓶开关,调节流量阀MFC3,通过调节流量以及闸板阀开关控制真空到3~5Pa;

真空镀膜操作规程

真空镀膜操作规程 准备: 1、开启设备总电源,稳压器,确认三相供电电压正常:370— 440V; 2、开启电容补偿器; 3、确认水池冷却水水量充足(见浮标尺)打开循环水泵; 4、根据工艺要求,确定是否需要启动冷水机以及启动几台冷水机;启动 前应确认冷水机入口水压-3kg ,内部增压泵旋转正常,可采用自动或手动方式启动; 5、确认各部分冷却水循环系统完好,确认扩散泵循环水工作正 常,紧急冷却系统准备就绪; 6、确认工艺气体气压不低于20 个大气压 7、装基膜: A 、领膜:镀膜工按生产任务单要求,从净化室中领到基膜时,应立即检 查该膜是否合格,有无花纹、斑点、划伤、污迹,收卷是否整齐等直接观测到的问题,如有应立即向生产主管报告,以决定是否采用; B、装轴:操作时必须带手套,将合格的基膜放在专用膜托架上,取一对尺 寸相同的轴安装好,安装时请注意膜的正反面,确认一切准备就绪了,即可吊装。吊装时必须轻拿轻放,严禁碰撞,必须保持基膜水平,以 免膜打滑引起螺纹状; C、装膜:确认冷辊无冷凝水后,即可装膜,装膜时不要对着膜讲话,

以保持膜面干净。注意不要碰透过率分析仪的探头,装膜时应保证 膜在冷辊的中心; D、按任务书车速要求设置镀膜速度、张力; E、试卷:引膜完成后,手动预卷几圈,打开张力控制器,启动冷辊、 收卷、卷膜(其中ITO膜卷1 —2m,前档膜和建筑膜卷20m )。仔细观察膜是否走正,启动是否容易,冷辊是否与膜同步,走速是否 平稳,膜是否变形、起皱、划伤等等,并及时处置,最后用记号笔 在放料端画起始标志线; 8、按生产任务书要求确认各靶位、布气系统、电源配置正确, 靶材量充足,确认无其他物品遗忘在真空室内或小车上,关闭真空室; 抽真空 1、扩散泵预加热(约需40 分钟):启动维持泵,确认运转正常后,打开维持阀(灯亮),逐一打开扩散泵; 2、低抽:确认真空室门已关闭启动计算机,进入镀膜系统监控程序,充气阀关闭,启动机械泵( 1 、2),确认机械泵正常运行后,开预抽阀,五分钟后打开复合真空计,打开罗茨泵开关, (当真空达到1500Pa 时,罗茨泵允许信号灯(红灯)亮,再延 迟25 秒后,罗茨泵自动启动);

初中生物实验操作步骤

实验名称:观察植物细胞 1、用洁净的纱布把载玻片和盖玻片擦拭干净 2、把载玻片放在试验台上,用滴管在载玻片的中央滴一滴清水。 3、①用镊子从洋葱鳞片叶内侧撕取一小块透明薄膜内表皮。②把撕下的内表皮浸入载玻片的水滴中,用镊子把它展平。 4、用镊子夹起盖玻片,使它的一边先接触载玻片上的水滴,然后缓缓地放下,盖在要观察的材料上。 5、把一滴稀碘液滴在盖玻片的一侧。染 6、用吸水纸从盖玻片的另一侧吸引,使染液浸润标本的全部。 观察人的口腔上皮细胞 1、用干净的纱布把载玻片和盖玻片擦拭干净。 2、把载玻片放在实验台上,用滴管在载玻片的中央滴一滴生理盐水 3、用凉开水把口漱净。用消毒牙签从口腔侧壁处轻轻刮几下,牙签上就附着了一些碎屑。把牙签放在载玻片的生理盐水滴中均匀地涂抹几下。 4、用镊子夹起盖玻片,使它的一侧先接触载玻片上的液滴,然后缓缓放平。 5、在盖玻片的一侧滴加稀碘液(染),另一侧用吸水纸吸引,使染液浸润到标本的全部。 观察鸡卵的结构 1.取一个鸡卵,观察其外部形态。(放大镜,气孔) 2.将鸡卵的钝段轻轻敲出裂纹,将碎裂的卵壳连同紧贴壳的膜除去,观察鸡卵的气室。(镊子,卵壳,外卵壳膜和气室) 3.用剪刀将气室下的内卵壳膜剪破。(剪刀) 4.将卵壳膜内的卵白和卵黄转移到培养皿中,卵黄完整。(培养皿) 5.观察鸡卵的结构。若未见胚盘,可用镊子夹起细系带把卵黄轻轻翻转。 观察种子的结构 1.观察菜豆种子的结构 ⑴取一粒浸软的菜豆种子,观察它的外形[来源:学|科|网Z|X|X|K] ⑵剥去种子最外面的一层薄皮-------种皮,分开合拢着的两片子叶。 ⑶用放大镜仔细观察子叶.胚根.胚轴和胚芽,看看它们各有什么特点? 2观察玉米种子的结构 ⑵一粒浸软的玉米种子,观察它的外形。 ⑵用刀片将这粒种子从中央纵向剖开。 剖面上滴一滴碘液,在用放大镜仔细观察被碘液染成蓝色的胚乳以及未被染成蓝色的果皮和种皮,胚芽,胚根,胚轴和子叶,看看它们各有什么特点? 测定某种食物中的能量 1.取一只锥形瓶(50毫升),量筒量取30毫升水注入其中,再将它固定在铁架台上。 2.再锥形瓶里放入一支温度计(温度计下端要浸入水中,但不要接触锥形瓶的瓶底) 3.参照右图安装好试验装置,并测定水温。 4.称出一粒干燥花生种子的质量,将这粒种子放倒火焰上点燃, 5.将刚刚燃烧的花生种子尽快放倒锥形瓶底部。待这粒花生种子完全燃烧后,测量水温。 6.计算:Q=CM△T=30×4.2×(t2-t1)(把测量的温度代入,得出数据)

真空镀膜操作规程

真空镀膜操作规程 准备: 开启设备总电源,稳压器,确认三相供电电压正常:370—440V;开启电容补偿器; 确认水池冷却水水量充足(见浮标尺)打开循环水泵; 根据工艺要求,确定是否需要启动冷水机以及启动几台冷水机;启动前应确认冷水机入口水压-3kg,内部增压泵旋转正常,可采用自动或手动方式启动; 确认各部分冷却水循环系统完好,确认扩散泵循环水工作正常,紧急冷却系统准备就绪; 确认工艺气体气压不低于20个大气压 装基膜: 领膜:镀膜工按生产任务单要求,从净化室中领到基膜时,应立即检查该膜是否合格,有无花纹、斑点、划伤、污迹,收卷是否整齐等直接观测到的问题,如有应立即向生产主管报告,以决定是否采用; 装轴:操作时必须带手套,将合格的基膜放在专用膜托架上,取一对尺寸相同的轴安装好,安装时请注意膜的正反面,确认一切准备就绪了,即可吊装。吊装时必须轻拿轻放,严禁碰撞,必须保持基膜水平,以免膜打滑引起螺纹状;

装膜:确认冷辊无冷凝水后,即可装膜,装膜时不要对着膜讲话,以保持膜面干净。注意不要碰透过率分析仪的探头,装膜时应保证膜在冷辊的中心; 按任务书车速要求设置镀膜速度、张力; 试卷:引膜完成后,手动预卷几圈,打开张力控制器,启动冷辊、收卷、卷膜(其中ITO膜卷1—2m,前档膜和建筑膜卷20m)。仔细观察膜是否走正,启动是否容易,冷辊是否与膜同步,走速是否平稳,膜是否变形、起皱、划伤等等,并及时处置,最后用记号笔在放料端画起始标志线; 按生产任务书要求确认各靶位、布气系统、电源配置正确,靶材量充足,确认无其他物品遗忘在真空室内或小车上,关闭真空室;抽真空 扩散泵预加热(约需40分钟):启动维持泵,确认运转正 常后,打开维持阀(灯亮),逐一打开扩散泵; 低抽:确认真空室门已关闭启动计算机,进入镀膜系统监 控程序,充气阀关闭,启动机械泵(1、2),确认机械泵正常运行后,开预抽阀,五分钟后打开复合真空计,打开罗茨泵开关,。(当真空达到1500Pa时,罗茨泵允许信号灯(红灯)亮,再延迟25秒后,罗茨泵自动启动); 高抽:当罗茨泵启动五分钟后,打开热偶真空计,当真空度达到5Pa时,开高阀允许信号灯(红灯)亮,此时确认扩散泵预热已完成(加热40分钟或油窗油面达到规定位置情况下),关闭预抽阀,依次打开各前级阀,关维持阀、关维持泵。依次打开各路

生物实验操作步骤

生物 一、A类实验操作练习题 1.用显微镜观察洋葱鳞片叶表皮细胞 实验器材及设置:显微镜、载玻片、盖玻片、吸水纸、纱布、滴管、单面刀片、镊子、清水、稀碘液、解剖针、小块木板、洋葱鳞片叶、擦镜纸(备用)。 [附]显微镜状态:目镜已安装好,最大光圈对准通光孔,转换器上两个物镜位于通光孔两侧,呈外八字形,镜筒降到最低处。 实验要求:(1)制作洋葱鳞片叶表皮细胞临时装片; (2)用显微镜观察洋葱鳞片叶表皮细胞。 方法步骤: (一)、制作洋葱鳞片叶表皮细胞临时装片 1. 准备用洁净的纱布把载玻片和盖玻片擦拭干净;用滴管在载玻片中央滴1-2滴清水。 2. 取材用刀片切取一块洋葱鳞片叶(大约0.5cm2),用镊子撕取洋葱鳞片叶的内表皮;把撕取的表皮浸入载玻片上的水滴中,并展平。 3.盖盖玻片用镊子夹起盖玻片,使它的一边先接触载玻片上

的水滴,然后缓缓地放下,盖在要观察的材料上。 4.染色把一滴碘液滴在盖玻片的一侧,用吸水纸从盖玻片的另一侧吸引,使染液浸润标本全部。 (二)、用显微镜观察洋葱鳞片叶表皮细胞 1.取镜与安放一手握镜臂,一手托镜座,把显微镜放在实验台中央略偏左,距实验台边缘约7cm。 2.对光上升镜筒,转动转换器,使低倍物镜对准通光孔;一只眼注视目镜,另一只眼睁开,同时转动反光镜,使视野明亮。 3.安放玻片将玻片轻放载物台上,标本正对通光孔的中心,用压片夹压住玻片的两端。 4.调焦双手转动粗准焦螺旋,使镜筒缓缓下降,同时眼睛从侧面看着物镜下降,直到物镜接近玻片;一只眼注视目镜,同时转动粗准焦螺旋,使镜筒缓缓上升至视野中出现物像,微调细准焦螺旋使物像清晰。 5.观察移动玻片,将物像移到视野中央,在低倍镜下观察洋葱鳞片叶表皮细胞。 2.用显微镜观察人的口腔上皮细胞 实验器材及设置:显微镜、载玻片、盖玻片、吸水纸、纱布、滴

真空镀膜实验

真空(蒸发)镀膜实验(初稿) 真空镀膜也叫物理气相沉积(PVD:physics vaporous deposit),它是利用某种物理过程,如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。在薄膜沉积技术发展的最初阶段,由于蒸发法相对溅射法具有一些明显的优点,包括较高的沉积速度,相对较高的真空度以及由此导致的较高的薄膜质量等,因此蒸发法受到了相对较大程度的重视。但另一方面,溅射法也具有自己的一些优势,包括在沉积多元合金薄膜时化学成分容易控制,沉积层对衬底的附着力较好等。同时,现代技术对于合金薄膜材料的需求也促进了各种高速溅射方法以及高钝靶材,高钝气体制备技术的发展,这些都使得溅射法制备的薄膜质量得到了很大的改善。如今,由于气相中各组分能够充分的均匀混合,制备的材料组分均匀,易于掺杂,制备温度低,适合大尺寸薄膜的制备,并且能够在形状不规则的衬底上生长薄膜等优点,不仅上述两种物理气相沉积方法已经大量应用于各个技术领域之中,而且为了充分利用这两种方法各自的优点,还开发出了许多介于上述两种方法之间的新的薄膜沉积技术。 [实验目的] 1.了解真空(蒸发)镀膜机的基本结构和使用方法。 2.掌握真空蒸发法制备铝膜的工艺。 [实验仪器] 真空(蒸发)镀膜机, 铝丝,蒸发舟,基片(硅片或载玻片或石英片),去离子水,酒精 [实验原理] 1.成膜质量的影响因素 真空镀膜是在真空室中进行的(一般气压低于1.3×10-2Pa),当需要蒸发的 材料(金属或电介质)加热到一定温度时,材料中分子或原子的热振动能量可增大到足以克服表面的束缚能,于是大量分子或原子从液态或直接从固态(如SiO2、ZnS)汽化。当蒸汽粒子遇到温度较低的工件表面时,就会在被镀工件表面沉积一层薄膜。 以下仅就源加热方式、真空度对膜层质量的影响及蒸发源位臵对薄膜均匀性的影响等问题作简要说明。 (1)源加热方式 图1(a)(b)为电阻型源加热器,它们由高熔点的金属做成线圈状(称为丝源)或舟状(称为舟源)。加热源上可承载被蒸发材料。由于挂在丝源上的被蒸发物质(如铝丝)可形成向各个方面发射的蒸汽流,因此丝源可用为点源,而舟源则

镀膜操作注意事项2

镀膜操作注意事项 真空镀膜过程中观察和操作注意事项: 1)镀膜过程中注意Ti3O5和SiO2的光斑及真空度变化束流等,光斑尽可能在正中心区,视窗玻璃采用1.1mm的不良品档片切割成圆形作为防污板。四炉更换一块。 2)充氧流量计数值和真空度变化,充氧Ti2O5,SiO2的情况。 3)枪灯丝电压,电流,高压数值表变化 4)工件转动50V-100V是否正常 5)坩埚转动Ti3O5,SiO2是否常 6)坩埚上方挡板动作是否正常 7)晶控仪曲线变化及速率膜厚度设置点是否正常 8)扩散泵温度及烘烤温度是否正常 9)镀膜过程中是否有掉片且镜片掉在坩埚正上方,立即停止运行 10)新加膜料SiO2应在真空度为8.0E-103Pa进行对SiO2的熔料(注意,挡板关闭状态,束流不得大过25,坩埚必须在转动状态) 11)对设备周身前后的卫生应认真的打扫干净及真空室卫生,门和真空室之间密封条处进行擦拭。 12)对每炉产品前操作流程应认真对待,正确操作对真空室,左右壁上的锡纸,膜料,晶振,枪灯丝,应按时更换,为防止镀膜中出现异常减少损失。13)镀膜过程要经常性通过观察窗查看工转上的产品是否有掉片或异样现象,进行记录,同时观察修正板是否有抖动现象,以便下一炉进行完全固定。14)观察晶控调动幅度,并观察高压是否有打火现象。要进行记录,并在下一炉注意清洁电子枪及周边区域,观察接线柱松动等现象。 15)光斑形状在极低的光线下可以看到光斑形状与电子枪灯丝形状一样,左右前后的扫描。在镀膜前开启电子枪灯丝后要停顿一分钟再开高压,让灯丝足够的加热,再加高压,避免灯丝在高压场下产生变形。影响光斑和影响镀膜曲线变形。

真空镀膜机的详细结构

真空镀膜机的详细结构 高真空镀膜机,镀膜机是目前制作真空条件应用最为广泛的设备。其相关组成及各部件:机械泵、增压泵、油扩散泵、冷凝泵、真空测量系统. 下面本人详细介绍各部分的组成及工作原理。 一、真空主体——真空腔 根据加工产品要求的各异,真空腔的大小也不一样,目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M 等,腔体由不锈钢材料制作,要求不生锈、坚实等,真空腔各部分有连接阀,用来连接各抽气泵浦。 二、辅助抽气系统 此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+p olycold”组成 排气流程为:机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态,为扩散泵后继抽真空提供前提,之后当扩散泵抽真空腔的时候,机械泵又配合油扩散泵组成串联,以这样的方式完成抽气动作。 排气系统为镀膜机真空系统的重要部分,主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三大部分组成。 机械泵:也叫前级泵,机械泵是应用最广泛的一种低真空泵,它是用油来保持密封效果并依靠机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积,使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空。 机械泵有很多种,常用的有滑阀式(此主要应用于大型设备)、活塞往复式、定片式和旋片式(此目前应用最广泛,本文主要介绍)四种类型。 机械泵常常被用来抽除干燥的空气,但不能抽除含氧量过高、有爆炸性和腐蚀性的气体,机械泵一般被用来抽除永久性的气体,但是对水气没有好的效果,所以它不能抽除水气。旋片泵中起主要作用的部件是定子、转子、弹片等,转子在定子里面但与定子不同心轴,象两个内切圆,转子槽内装有两片弹片,两弹片中间装有弹簧,保证了弹片紧紧贴在定子的内壁。 它的两个弹片交替起着两方面的作用,一方面从进气口吸进气体,另一方面压缩已经吸进的气体,将气体排出泵外。转子每旋转一周,泵完成两次吸气和两次排气。当泵连续顺时针转动时,旋片泵不断的通过进气口吸入气体,又从排气口不断的排出泵外,实现对容器抽气的目的。为了提高泵的极限真空度,均将泵的定子浸在油里面这样,在各处的间隙中及有害空间里面经常保持足够的油,把空隙填满,所以油一方面起到了润滑作用,另一方面又起了密封和堵塞缝隙及有害空间的作用,防止气体分子通过各种渠道反流到压强低的空间去。 机械泵是从大气开始工作的,它的主要参数有极限真空,抽气速率,此为设计与选用机械泵的重要依据。单级泵可以将容器从大气抽到1.0*10-1PA的极限真空,双级机械泵可以将容器从大气抽到6.7*10-2帕,甚至更高。 抽气速率,是指旋片泵按额定转数运转时,单位时间内所能排出气体的体积,可以用下公式计算: Sth=2nVs=2nfsL fs表示吸气结束时空腔截面积,L表示空腔长度,系数表示转子每旋转一周有两次排气过程,Vs表示当转子处于水平位置的时候,吸气结束,此时空腔内的体积最大,转速为n。

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