光学镀膜(课资资源)
光学镀膜介绍知识讲解

反射率光譜圖
1. 光線照在未經處理的平整表面基材(PC、PMMA或GLASS)上時,集中在某一個角度反射的光線進入眼中會讓人覺得昏眩,這就是”眩光”所造成的影響。抗眩的原理是以表面處理的方式使表面變得粗糙不平整,在不平整的表面狀態使照在上面的光線散射,光線因而散射到各個角度而不會集中在某一個特定角度。 2. 抗眩光產品一般應用於螢幕上當作保護片使用
如何分辨鍍膜面?
1. 如何提高穿透率 2. 抗反射介紹 3. 抗眩光介紹
二、抗反射原理及應用
1. 當光線經過玻璃並不是100%穿透,玻璃兩個表面都會產生反射,玻璃本身 的材質也吸收光,因此玻璃的穿透+玻璃的反射+玻璃的吸收=100%。
100% 入射光
玻璃材質吸收0.5%
第一面玻璃反射4%
MIL-STD-810E
無變異
使用NaCl (比重5%) 鹽霧暴露於35℃環境中測試
濕度
MIL-C-48497A
無變異
溫度35℃/濕度95%,24小時後作耐磨性測試
可溶性
MIL-C-48497A
無變異
將玻璃放置於室溫15~32℃中,24小時後觀察其變化
環境耐久性測試總表
1. 耐磨性主要是測試鍍膜層與基材間的附著程度,製程條件及蒸鍍靶材 均會影響耐磨性的好壞。 2. 耐磨測試一般會將橡皮擦、鋼絲絨或無塵布綑綁於耐磨測試機的測試 頭上,並施加重量於測試頭上方,測試次數結束後觀察測試基材表面 是否有刮傷痕跡出現。
鹽霧測試機
腐蝕性測試
1. 將基材放置於恆溫恆濕機中,可調整測試溫度及相對濕度,測試後 可觀察鍍膜層表面是否有變異並測試耐磨性。
恆溫恆濕機
濕氣測試
1. 將測試基材放置於室溫環境中,經過數小時後觀察其鍍膜層表面是否 有變異,此項耐久性測試是最簡易之方法。
光学镀膜材料的理论与实践

光学镀膜材料的理论与实践光学镀膜是一种将薄膜涂覆在光学元件表面以改变其光学性质的技术。
该技术广泛应用于光学仪器、显示器、太阳能电池板、摄像头等领域。
光学镀膜材料的理论与实践涉及镀膜材料的选择、反射率的计算、薄膜生长机理等方面,以下将对其进行探讨。
首先,对于光学镀膜材料的选择,种类繁多,常用的有金属薄膜、二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜等。
选择合适的材料取决于具体应用的要求。
光学镀膜材料的选择应考虑其透过率、反射率、抗衰减性等因素。
例如,太阳能电池板需要高透过率和低反射率,因此采用透明导电薄膜和抗反射膜进行涂覆。
其次,光学镀膜材料的反射率计算是非常重要的一步。
反射率是指光线在光学元件表面发生反射的比例。
根据光的干涉原理,我们可以通过控制光的相位来实现反射率的调控。
常用的计算方法有薄膜设计软件、多层介质膜的等效折射率计算公式等。
根据所需的光学特性,可以通过优化设计来得到理想的反射率。
最后,光学镀膜材料的实践需要了解薄膜生长机理。
薄膜生长是指在真空下,通过蒸发、溅射、离子束沉积等技术将原材料沉积在基底表面生成薄膜的过程。
薄膜生长机理涉及到材料的析出过程、表面扩散、固体反应等原理。
了解薄膜生长机理可以帮助我们控制薄膜的结构和性能,提高薄膜的质量和光学特性。
综上所述,光学镀膜材料的理论与实践是光学镀膜技术的重要组成部分。
正确选择光学镀膜材料、准确计算光学特性和了解薄膜生长机理,将有助于提高光学元件的性能和质量,拓展光学应用领域。
随着科技的不断发展,我们相信光学镀膜技术将会取得更加广泛的应用和突破。
光学真空镀膜原理 应用 光谱 培训

光学真空镀膜原理应用光谱培训1.光学真空镀膜是利用真空环境下的物理气相反应进行材料表面处理的技术。
The principle of optical vacuum coating is the technology of material surface treatment using physical gas phase reaction in vacuum environment.2.光学真空镀膜能够提高材料的光学性能和表面质量。
Optical vacuum coating can improve the optical performance and surface quality of materials.3.该技术常用于制备镜片、滤光片、太阳能电池等光学和电子器件。
This technology is commonly used in the preparation of lenses, filters, solar cells and other optical and electronic devices.4.光学真空镀膜依靠控制材料的沉积速率和厚度,实现不同的光学效果。
Optical vacuum coating relies on controlling thedeposition rate and thickness of materials to achievedifferent optical effects.5.利用光学真空镀膜技术可以提高材料的耐磨性和耐腐蚀性能。
The use of optical vacuum coating technology can improve the wear resistance and corrosion resistance of materials.6.镀膜设备操作和维护需要专业的培训和技能。
The operation and maintenance of coating equipmentrequire professional training and skills.7.光学真空镀膜的应用范围涵盖光学、电子、航空航天等领域。
特殊镜片光学技术—镀膜镜片(眼镜光学技术课件)

3、D、a一定时 λ↑ Δx ↑ 波长越长,条纹间距越宽
4、若用白光照射,每一级都是彩色条纹分布。
四、杨氏双缝干涉
He-Ne激光
例题1
以单色光照射到相距为a=0.3mm的双 缝上,双缝与屏幕的垂直距离D=1m。从第 一级明纹到同侧第五级明纹间的距离为 9.0mm,求单色光的波长;若入射光的波 长为800nm,求相邻明纹的间距。
• 教学目标
– 掌握光的相干性条件 – 掌握镀膜镜片相干相消原理 – 各种镀膜眼镜片
• 知识要求
– 镜片的镀膜原理—薄膜干涉的应用 – 各种镀膜眼镜片
• 能力要求
• 计算镀膜膜层的最小厚度 • 了解各种膜层的特点
• 素质要求
– 独立学习、独立思考 – 发现和总结实验现象及规律 – 团队合作 – 爱护实验仪器
图4-1 杨氏双缝实验原理图
在单色平行光前放
一狭缝S,S前又放有 与S平行而且等距离的 两条平行狭缝S1和S2, 两缝之间的距离很小, 这时S1和S2构成一对 相干光源。从S1和S2 射出的光将在空间叠
加,在光屏上看到明、
暗相间的条纹,即干 涉现象。
两相邻明条纹的间距
x D
d
图4-2 双缝干涉示意图
• 教学目标
– 了解不镀膜镜片的缺点
• 知识要求
– 不镀膜镜片的缺点
能力要求
会分析实际工作中因镜片不镀膜而产生的问题
• 素质要求
– 独立学习、独立思考 – 发现和总结实验现象及规律 – 团队合作 – 爱护实验仪器
1.透射率下降
当光线入射镜片的表面时,会发生反射,反射率随着 镜片的折射率增加而增加,因而进入眼睛的光线变暗,会 感觉视物不清晰。
[实验仪器] 钠灯光源、单缝、双缝、干板架、二维调整架、测微目 镜、接收屏
光学镀膜介绍范文

光学镀膜介绍范文光学镀膜是一种通过在光学元件表面上沉积一层或多层薄膜,以实现对光的传播和反射特性进行调控的技术。
通过调整薄膜的材料、厚度和结构,可以使光的反射、透射和吸收特性得到优化,从而达到改善光学器件性能和实现特殊功能需求的目的。
光学镀膜的基本原理是利用光的干涉现象。
当光波遇到一个并不是完全不透光的表面时,一部分光波会被反射,一部分光波会被透射。
当光波从表面反射回来时,在这个时候的光波与入射光波产生干涉效应。
光学镀膜技术就是通过在光学元件表面添加一层或多层的薄膜,来改变反射和透射的光的干涉效应,从而达到控制光的性质的目的。
光学镀膜的制备过程通常使用物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)这两种方法。
物理气相沉积包括蒸发镀膜、溅射镀膜和离子束镀膜等,而化学气相沉积则包括化学气相沉积、热分解沉积和有机金属化学气相沉积等。
在光学镀膜的制备过程中,选择合适的材料和薄膜结构是非常重要的。
常见的薄膜材料包括金属、氧化物、氟化物和硫化物等。
这些材料的选择依据于所需的光学特性,如透过率、反射率和波长依赖性等。
薄膜的厚度和结构对光学性能也有重要影响,可以通过在线测量和控制薄膜厚度来达到要求。
光学镀膜的应用非常广泛。
在摄影镜头、眼镜、太阳能电池、半导体器件等领域,光学镀膜被用来增加光学元件的透过率和降低反射率,提高设备的性能。
在激光器、光纤通信和光学仪器等领域,光学镀膜用于滤波器、偏振器、分束器和反射镜等器件的制备,用来选择特定的光波或调整光波的性质。
在光学显示器件中,光学镀膜被用作透明电极和透明导电层。
总结起来,光学镀膜是一种通过在光学元件表面上沉积一层或多层薄膜来改变光的传播和反射特性的技术。
通过优化薄膜材料、厚度和结构,可以改善光学器件性能和实现特殊功能需求。
光学镀膜在各种不同领域中都有广泛的应用,对于改善光学设备性能、提高光学器件效率具有重要意义。
光学镀膜基础知识

K9,折射率大概是1.52@632.8nm,垂直入射时的R=(1-1.52)2/ (1+1.52)2 = (0.52/2.52) 2 =4.25%
T=1-4.25%=95.75%
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u反射膜
n 金属膜材料的选择原则: n 先考虑使用波段的要求 n 反射率要求 n 使用环境 n 制作成本等 n 常用有Al,Ag,Au,Pt等材料镀膜
光学镀膜基础知识
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钟福明 2014.11.5
培训内容
p 光学薄膜简单介绍 1.1为什么要镀膜; 1.2什么是光学薄膜; 1.3光学薄膜的应用; 1.4光学薄膜分类;
p 镀膜 2.1真空度; 2.2真空系统的主要结构; 2.3蒸发系统; 2.4离子源; 2.5膜厚监控系统;
比方说,平时戴的眼镜、数码相机、 各式家电用品等,皆能被称之为光学薄 膜技术应用之延伸。
倘若没有光学薄膜技术作为发展基础 ,近代光电、通讯或是雷射技术发展速 度,将无法有所进展。可以毫不夸张地 说,几乎所有的光学系统、光电系统或 光电仪器都离不开光学薄膜的应用。这 些都显示出光学薄膜技术研究发展重要 性。
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1.4 薄膜的分类
光学薄膜种类繁多,按照它们所实现性能不同可以 分为: u增透膜(又叫减反膜)AR(Anti-Reflection)
我们都知道当光线从折射率为n0的介质射入折射率为n1的另一介质 时在两介质的分界面上就会产生光的反射, 如果介质没有吸收,分界面 是一光学表面,光线又是垂直入射,则反射率R为:
光学镀膜材料

光学镀膜材料氮化物氮化硅氮化铝氮化硅氮化钛氮化硼硼化物硼化铬(CrB) 二硼化铬(CrB2)六硼化镧(LaB6) 五硼化二钼(Mo2B5)硼化铁(FeB) 二硼化铪陶瓷靶材(HfB2) 硼化二铬(Cr2B)硼化铌(NbB) 二硼化铌(NbB2硼化二钼(Mo2B)硼化钽(TaB) 二硼化锆(ZrB2) 硼化二钨(W2B)硼化钨(WB) 二硼化钒(VB2)硼化钒(VB) 二硼化钛(TiB2)Tantalum Boride (TaB2) 三硼化五铬(Cr5B3)氟化物氟化铝(AlF3) 氟化钡(BaF3)氟化镉(CdF2)氟化钙(CaF2)氟化铈(CeF3) 氟化镝(DyF3) 氟化铒(ErF3)氟化铪(HfF4)氟化钾(KF) 氟化镧(LaF3) 氟化铅(PbF2) 氟化钠(NaF)氟化锂(LiF) 氟化镨(PrF3) 氟化镁(MgF2) 氟化钕(NdF3)氟化钐(SmF3) 铝氟酸钠(冰晶石)(Na3AlF6) 氟化锶(SrF2) 氟化钍(ThF4)氟化钇(YF3) 氟化镱(YbF3)硒化物硒化铋(Bi2Se3) 硒化铟(In2Se3)硒化钼(MoSe2)硒化镉(CdSe) 硒化铅(PbSe) 硒化铌(NbSe2)硒化钽(TaSe2) 硒化钨(WSe2) 硒化锌(ZnSe)硅化物二硅化钴(CoSi2) 二硅化铌(NbSi2)硅化三铬(Cr3Si) 二硅化铬(CrSi2)二硅化钽(TaSi2) 硅化三钒(V3Si)二硅化铪(HfSi2)二硅化钼(MoSi2) 二硅化钒(VSi2)二硅化钛(TiSi2) 三硅化五钽(Ta5Si3) 二硅化锆(ZrSi2) 二硅化钨(WSi2) 三硅化五钛(Ti5Si3)硫化物硫化锑(Sb2S3) 硫化镉( CdS)硫化铁(FeS)硫化砷(As2S3) 硫化铅(PbS) 硫化钼(MoS2)硫化铌(NbS1.75) 硫化钽(TaS2) 硫化钨(WS2)硫化锌(ZnS)碲化物碲化镉(CdTe) 碲化铌(NbTe2)碲化锌(ZnTe)碲化铅(PbTe) 碲化钽(TaTe2) 碲化铟(InTe)碲化钼(MoTe2) 碲化钨(WTe2) 磷化铟(InP)砷化铅(PbAs) 掺铬一氧化硅(Cr-SiO) 砷化铟(InAs)混合物。
光学镀膜基础知识PPT

倘若没有光学薄膜技术作为发展基础 ,近代光电、通讯或是雷射技术发展速 度,将无法有所进展。可以毫不夸张地 说,几乎所有的光学系统、光电系统或 光电仪器都离不开光学薄膜的应用。这 些都显示出光学薄膜技术研究发展重要 性。
的法布里-玻珞干涉仪,是一 种最有意义的进展,它是干 涉带通滤光片的一种基本结 构。
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Ø金属滤光片 • 金属滤光膜的一般
特性曲线 • 示例图片:
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u 我们常用的薄膜材料:
• 电介质薄膜材料:Ta2O5,SiO2,TiO2,Al2O3,MgF2,Nb2O5…… • 金属薄膜材料:
Au,Ag,Cu,Cr/Ni
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1.3 光学薄膜应用
从精密及光学设备、显示器设备到日 常生活中的光学薄膜应用;
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光学薄膜的应用可以分为以下几大类: • 提高光学效率、减少杂光。如高效减反射膜、
高反射膜。 • 实现光束的调整或再分配。如分束膜、分色膜
、偏振分光膜就是根据不同需要进行能量再分 配的光学元件。 • 通过波长的选择性透过提高系统信噪比。如窄 带及带通滤光片,长波通、短波通滤光片等。 • 实现某些特定功能。如ITO透明导电膜、保护膜 等。
光学薄膜技术的分类:
•
物理气相沉淀(PVD):俗称真空镀膜,设计物理特性间的能量
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增透膜
光线(黑色)射到增透膜上,有 一部分反射出来(蓝色);有一 部分折射入增透膜(青色),又 经增透膜第二面反射(黄色), 再折射出来(红色)。 由于青色,黄色光行程为两个1/4 波长,即0.5倍波长。因此红色和 蓝色两列光相位差为半波长,叠 加而抵消。即光能都进入增透膜 后进入镜头。故叫增透。单层增 透膜厚度都是需要增透波长的1/4
Hale Waihona Puke 12© 2006, ZTE Corporation. All rights reserved.
反射膜-介质反射膜:
介质反射膜:
基本原理:电介质反射膜是建立在多光束干涉基础 上的。与增透膜相反,在光学表面上镀一层折射率 高于基体材料的薄膜,就可以增加光学表面的反射 率。最简单的多层反射是由高、低折射率的二种材 料交替蒸镀而成的,每层膜的光学厚度为某一波长 的四分一。在这种条件下,参加叠加的各界面上的 反射光矢量,振动方向相同。合成振幅随着薄膜层 数的增加而增加
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增透膜
用途: 所有透过型光学系统如照相机、测距仪、潜望镜、 显微镜等各种视觉观察和测量系统
指标说明 : 单层增透:对于一般玻璃反射R<1.5%@532nm, 在可见光区可做到R<2% 多层窄带增透:可做到R<0.1%@所需波长 多层宽带增透:可做到Rave<0.5%@可见光区
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分光膜-能量分光膜:
1)能量分光膜:(普通分光膜)
按照一定的光强比把光束分成两部分的薄膜,这 种薄膜有时仅考虑某一波长,叫做单色分光膜;有 时需要考虑一个光谱区域叫做宽带分光膜;用于可 见光的宽带分光膜,又叫做中性分光膜。这种膜也 常在斜入射下应用,由于偏振的影响,二束光的偏 振状态可以相差很多,在有些工作中,可以不考虑 这种差别,但在另一些工作中(例如某些干涉仪), 则要求两束光都是消偏振的,这就需要设计和制备 消偏振膜。
1)保护铝:在紫外区常用的金属薄材料是铝,在可 见光区常用铝(和银)
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反射膜-金属反射膜
R>88%@可见光区
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的折射率 n (例如:1.8) (1)由空气直接进入玻璃 穿透率= 4×1.0×1.8 / ( 1+1.8 )2=91.84% (2)由空气进入镀膜后再进入玻璃 穿透率=[ 4×1.0×1.5 / ( 1+1.5 )2] × [ 4×1.5×1.8 /
( 1.5+1.8 )2]=95.2%
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增透膜
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增透膜
多层增透膜 1)多层窄带增透:多个膜层叠加对单个波长光进 行反复干涉相消以使得反射率达到最小 2)多层宽带增透:多个膜层叠加对不同波长的反 射光都进行干涉相消从而达到对一个宽波段的光增 透
光学镀膜
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分类
增透膜 单层增透 多层增透 反射膜 金属反射膜 介质反射膜 分光膜 普通分光 偏振分光 消偏振分光 二相色分光膜
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增透膜
单层增透膜:
理论解析 :
若是由介质 n1垂直入射至 n2 反射率=[ (n2 -n1) / (n1+n2) ]2 穿透率=4n1n2 / (n1+n2)2 若是空气的折射率是 1.0 ,镀膜的折射率 nc (例如:1.5) ,玻璃
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反射膜
金属反射膜
基本原理 :一般金属都具有较大的消光系数,当 光束由空气入射到金属表面时,进入金属内的光振 幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少, 而反射光能增加。消光系数越大,光振幅衰减越迅 速,进入金属内部的光能越少,反射率越高。
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增透膜
疑问:
反射回来干涉相消了,怎么就增透了呢?
回答:
光具有能量 对同频率的光,光强越大,能量越大, 在照射光的能量不变的前提下,增透膜减少反射光 的光强(能量),根据能量守恒,入射光的能量必 然增加 光强增大 也就是所谓“增透”,这里增透 是指增加入射光能量,绿光反射回来后相互抵消了, 从能量上来说光的能量没有消耗,这就相当于进入 的光能要大了,达到增透效果
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反射膜-介质反射膜:
一般指标:R>99.5%@可见光或指定骄波阳段书屋
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分光膜
主要作用是把入射光分为反射光和透射光两部分的 一种薄膜元件。分光膜可以用作各类激光器谐振腔 (平平腔、共焦腔、共心腔、凹凸腔、半共心腔等) 的腔镜,也可以用作激光器外围光路衰减光强的元 件等。分光膜可用于高功率激光或大能量激光,也 可用于普通的各种工业化激光器。总之在光通讯、 激光工业、激光显示、医学设备、勘测设备、精密 仪器及半导体等领域都有用到
反射膜-金属反射膜
2)保护银,红外区常用金、银
>95%可见光区 >98%微米红外区
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反射膜-金属反射膜
3)保护金 :在0.65微米后的红外光区具有非常高的 反射率
>95%0.65-2微米 >98%2-12微米红外光区 骄阳书屋