光学镀膜 PPT
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《光学薄膜设计理论》课件

总结词
随着光电器件的发展,光学薄膜的应用领域也在不断 扩展。新型光电器件对光学薄膜的要求更高,需要不 断探索新的应用领域和场景。
详细描述
光学薄膜在新型光电器件中具有广泛的应用前景。例 如,在激光器、太阳能电池、光电传感器等领域中, 光学薄膜可以起到增益介质、反射镜、滤光片、保护 膜等作用。此外,随着光电器件的微型化和集成化发 展,光学薄膜的应用场景也在不断扩展,如光子晶体 、微纳光学器件等。这些新型光电器件的发展将进一 步推动光学薄膜技术的进步和应用领域的拓展。
薄膜的均质膜系法
总结词
将多层薄膜视为一个整体,并使用均质膜系法来计算反射、透射和吸收系数的方 法。
详细描述
均质膜系法是一种更精确的光学薄膜设计方法。它将多层薄膜视为一个整体,并 使用均质膜系法来计算反射、透射和吸收系数。这种方法适用于薄膜层数较多、 折射率变化较大的情况,能够更准确地模拟薄膜的光学性能。
光的波动理论概述
光的波动理论认为光是一种波动现象,具有振动 、传播和干涉等特性。
波动方程的推导
通过麦克斯韦方程组推导出波动方程,描述光波 在介质中的传播规律。
波前的概念
光的波动理论中引入了波前的概念,用于描述光 波的相位和振幅。
光的干涉理论
光的干涉现象
光的干涉是指两束或多束相干光波在空间某一点叠加时,产生明 暗相间的干涉条纹的现象。
按制备方法分类
03
物理气相沉积、化学气相沉积、溶胶-凝胶法等。
光学薄膜的应用
光学仪器
照相机、望远镜、显微镜等。
光电子
激光器、光探测器、光放大器等。
通信
光纤、光波导、光放大器等。
摄影
滤镜、镜头镀膜等。
02
光学薄膜设计基础
镀膜机的基本结构 ppt课件

介绍Optorun光学镀膜设备
设备型号讲解
设备型号举例:OTFC 1300 DBI
设备种类 大小 配置
•设备种类分为 OTFC和 Gener •真空室大小分为600、900、1300、1550、1800、2350 •配置说明:
C: 冷凝泵 D: 扩散泵 B: 电子枪 I: 离子源
设备机构总成
1. 真空腔体 2. 抽气以及排气系统 3. 真空测量仪器 4. 全自动蒸发控制系统 5. 真空室加热、基板系统 6. 基板高速旋转机构 7. 电子束蒸发系统 8. RF射频离子源 9. 高精度光学监控系统 10. 石英晶振以及速率监控系统 11. 真空压力自动控制系统 12. 冷却水压缩空气系统 13. 冷凝器
电脑(相当于人体大脑)根据光学膜厚计提 供的反射率实时变化曲线,在反射率变化到 事先设定的停止位置的一瞬间停止材料蒸镀, 从而得到所需要的膜厚。
监控片玻璃
10. 加 热 丝
温度对膜层原子或分子提供额外能量补充,在膜层折射率、 应力、附着力、硬度和不溶性都会因基片温度的不同而有较 大差异
侧壁加热
升温优点:
镀膜前MASK注意事项
MASK设定角度18°。 当角度不是18°时调节 此螺丝 确认MASK支杆是否卡 在MASK槽上
8. 石 英 晶 振 以 及 速 率 监控系统
水晶holder
水晶旋转机构
石英晶体的频率飘移 与附加上的质量的关 系: 附加上的质量 增加,振荡频率降低
质量 = 密度 X 面积 X 厚度
紧急停止按钮
其它部分与OTFC 电控柜相同
GL离子源控制器
光学监控系统1
[HOM2-N]分光器
[HOM2-L]投光器
[HOM2-F] Fiber
设备型号讲解
设备型号举例:OTFC 1300 DBI
设备种类 大小 配置
•设备种类分为 OTFC和 Gener •真空室大小分为600、900、1300、1550、1800、2350 •配置说明:
C: 冷凝泵 D: 扩散泵 B: 电子枪 I: 离子源
设备机构总成
1. 真空腔体 2. 抽气以及排气系统 3. 真空测量仪器 4. 全自动蒸发控制系统 5. 真空室加热、基板系统 6. 基板高速旋转机构 7. 电子束蒸发系统 8. RF射频离子源 9. 高精度光学监控系统 10. 石英晶振以及速率监控系统 11. 真空压力自动控制系统 12. 冷却水压缩空气系统 13. 冷凝器
电脑(相当于人体大脑)根据光学膜厚计提 供的反射率实时变化曲线,在反射率变化到 事先设定的停止位置的一瞬间停止材料蒸镀, 从而得到所需要的膜厚。
监控片玻璃
10. 加 热 丝
温度对膜层原子或分子提供额外能量补充,在膜层折射率、 应力、附着力、硬度和不溶性都会因基片温度的不同而有较 大差异
侧壁加热
升温优点:
镀膜前MASK注意事项
MASK设定角度18°。 当角度不是18°时调节 此螺丝 确认MASK支杆是否卡 在MASK槽上
8. 石 英 晶 振 以 及 速 率 监控系统
水晶holder
水晶旋转机构
石英晶体的频率飘移 与附加上的质量的关 系: 附加上的质量 增加,振荡频率降低
质量 = 密度 X 面积 X 厚度
紧急停止按钮
其它部分与OTFC 电控柜相同
GL离子源控制器
光学监控系统1
[HOM2-N]分光器
[HOM2-L]投光器
[HOM2-F] Fiber
镀膜技术PVD-PPT幻灯片课件

5
Hale Waihona Puke 最早出现的金属沉积工艺钨W(Tm=3380℃) 钽Ta(Tm=2980℃) 钼Mo(Tm=2630℃)
6
蒸发装置的选择和运用很重要
热效率:热传导和热辐射对薄膜制备是不利的 (必须使坩埚或电极冷却)
For example, 在1500°C下蒸发Al: 选用合适的蒸发源, 所需能量为2.4kW.h/kg; 用电阻丝蒸发,所需能量为7-20kW.h/kg; 用TiB2电阻加热蒸发, 所需能量为50-100kW.h/kg;
溅射:常用的物理气相沉积方法。
溅射 RF磁控溅射 DC磁控溅射 离子束溅射 —反应溅射,活性气体,生长化合物薄膜。
分子束外延:MBE,超高真空,缓慢蒸发过程,多蒸发源,生长外延的单晶薄 膜。(ALE, MLE)
1
PVD的概念:在真空度较高的环境下,通过加热或高能
粒子轰击的方法使源材料逸出沉积物质粒子(可以是原子、 分子或离子),这些粒子在基片上沉积形成薄膜的技术。 其技术关键在于:如何将源材料转变为气相粒子(而非CVD 的化学反应)!
② 单个入射离子轰击出的产物粒子数与入射离子的能量/质量都有关;
均可用弹性碰撞理论解释!
22
③ 溅射产物粒子的平均速度 >> 蒸发出的粒子。
溅射镀膜的基本物理过程:
溅射镀膜何以实现?
气体放电 等离子体 带电离子 电场作用 离子加速 高能离子 撞击靶材 溅射 发射靶材原子 飞向基板 形成 沉积 获得薄膜!
所以可蒸发材料受到限制; 蒸发率低; 加热速度不高,蒸发时待蒸发材料如为合金或化合物,
则有可能分解或蒸发速率不同,造成薄膜成分偏离蒸发物 材料成分。
高温时,钽和金形成合金,铝、铁、镍、 钴等与钨、钼、钽等形成合金
《镀膜工艺》课件

激光镀膜:利用激光照射靶材,使其表 面原子或分子溅射出来,在基材表面形 成薄膜
电子束蒸发镀膜:利用电子束加热靶材, 使其在真空环境下蒸发,在基材表面形 成薄膜
化学镀膜工艺
化学镀膜工艺简介 化学镀膜工艺的分类 化学镀膜工艺的应用领域 化学镀膜工艺的发展趋势
复合镀膜工艺
原理:通过在基材表面沉积多层不同性质的薄膜,形成复合膜层 特点:具有多种功能,如耐磨、耐腐蚀、抗反射等 应用:广泛应用于光学、电子、机械等领域 工艺流程:包括预处理、沉积、后处理等步骤
固化阶段:通过加热、光 照等方法使镀膜材料固化
检测阶段:检查镀膜层的 厚度、均匀性等性能指标
后处理阶段:对镀膜后的 工件进行清洗、抛光等处 理,提高其表面质量
后处理
清洗:去除残留 的化学物质和杂 质
干燥:去除水分, 防止腐蚀和氧化
抛光:提高表面 光洁度,改善外 观
检验:检查镀膜 质量,确保符合 标准要求
研发方向:环保、 节能、高效、多功 能
应用领域:电子、 光学、生物、医疗、 航空航天等
研发成果:新型纳 米材料、有机无机 复合材料、生物材 料等
未来展望:新材料 的研发和应用将推 动镀膜工艺的发展 ,提高产品质量和 性能,拓展应用领 域。
镀膜工艺的绿色化与可持续发展
绿色镀膜:采用 环保材料,减少 对环境的污染
镀膜工艺流程
前处理
目的:去除工件表面的油污、锈迹等杂质 步骤:清洗、除油、除锈、除氧化皮等 设备:清洗机、除油机、除锈机等 材料:清洗剂、除油剂、除锈剂等 注意事项:确保工件表面清洁,避免污染后续镀膜过程
镀膜
准备阶段:选择合适的镀 膜材料和设备
清洗阶段:去除工件表面 的油污、锈迹等
镀膜阶段:将镀膜材料均 匀地涂覆在工件表面
电子束蒸发镀膜:利用电子束加热靶材, 使其在真空环境下蒸发,在基材表面形 成薄膜
化学镀膜工艺
化学镀膜工艺简介 化学镀膜工艺的分类 化学镀膜工艺的应用领域 化学镀膜工艺的发展趋势
复合镀膜工艺
原理:通过在基材表面沉积多层不同性质的薄膜,形成复合膜层 特点:具有多种功能,如耐磨、耐腐蚀、抗反射等 应用:广泛应用于光学、电子、机械等领域 工艺流程:包括预处理、沉积、后处理等步骤
固化阶段:通过加热、光 照等方法使镀膜材料固化
检测阶段:检查镀膜层的 厚度、均匀性等性能指标
后处理阶段:对镀膜后的 工件进行清洗、抛光等处 理,提高其表面质量
后处理
清洗:去除残留 的化学物质和杂 质
干燥:去除水分, 防止腐蚀和氧化
抛光:提高表面 光洁度,改善外 观
检验:检查镀膜 质量,确保符合 标准要求
研发方向:环保、 节能、高效、多功 能
应用领域:电子、 光学、生物、医疗、 航空航天等
研发成果:新型纳 米材料、有机无机 复合材料、生物材 料等
未来展望:新材料 的研发和应用将推 动镀膜工艺的发展 ,提高产品质量和 性能,拓展应用领 域。
镀膜工艺的绿色化与可持续发展
绿色镀膜:采用 环保材料,减少 对环境的污染
镀膜工艺流程
前处理
目的:去除工件表面的油污、锈迹等杂质 步骤:清洗、除油、除锈、除氧化皮等 设备:清洗机、除油机、除锈机等 材料:清洗剂、除油剂、除锈剂等 注意事项:确保工件表面清洁,避免污染后续镀膜过程
镀膜
准备阶段:选择合适的镀 膜材料和设备
清洗阶段:去除工件表面 的油污、锈迹等
镀膜阶段:将镀膜材料均 匀地涂覆在工件表面
特殊镜片光学技术—镀膜镜片(眼镜光学技术课件)

3、D、a一定时 λ↑ Δx ↑ 波长越长,条纹间距越宽
4、若用白光照射,每一级都是彩色条纹分布。
四、杨氏双缝干涉
He-Ne激光
例题1
以单色光照射到相距为a=0.3mm的双 缝上,双缝与屏幕的垂直距离D=1m。从第 一级明纹到同侧第五级明纹间的距离为 9.0mm,求单色光的波长;若入射光的波 长为800nm,求相邻明纹的间距。
• 教学目标
– 掌握光的相干性条件 – 掌握镀膜镜片相干相消原理 – 各种镀膜眼镜片
• 知识要求
– 镜片的镀膜原理—薄膜干涉的应用 – 各种镀膜眼镜片
• 能力要求
• 计算镀膜膜层的最小厚度 • 了解各种膜层的特点
• 素质要求
– 独立学习、独立思考 – 发现和总结实验现象及规律 – 团队合作 – 爱护实验仪器
图4-1 杨氏双缝实验原理图
在单色平行光前放
一狭缝S,S前又放有 与S平行而且等距离的 两条平行狭缝S1和S2, 两缝之间的距离很小, 这时S1和S2构成一对 相干光源。从S1和S2 射出的光将在空间叠
加,在光屏上看到明、
暗相间的条纹,即干 涉现象。
两相邻明条纹的间距
x D
d
图4-2 双缝干涉示意图
• 教学目标
– 了解不镀膜镜片的缺点
• 知识要求
– 不镀膜镜片的缺点
能力要求
会分析实际工作中因镜片不镀膜而产生的问题
• 素质要求
– 独立学习、独立思考 – 发现和总结实验现象及规律 – 团队合作 – 爱护实验仪器
1.透射率下降
当光线入射镜片的表面时,会发生反射,反射率随着 镜片的折射率增加而增加,因而进入眼睛的光线变暗,会 感觉视物不清晰。
[实验仪器] 钠灯光源、单缝、双缝、干板架、二维调整架、测微目 镜、接收屏
光学镀膜ppt课件

光学镀膜
© 2006, ZTE Corporation.
1
分类
增透膜 单层增透 多层增透 反射膜 金属反射膜 介质反射膜 分光膜 普通分光 偏振分光 消偏振分光 二相色分光膜
2
© 2006, ZTE Corporation. All rights reserved.
增透膜
单层增透膜: 理论解析 : 若是由介质 n1垂直入射至 n2 反射率=[ (n2 -n1) / (n1+n2) ]2 穿透率=4n1n2 / (n1+n2)2 若是空气的折射率是 1.0 ,镀膜的折射率 nc (例如:1.5) ,玻璃的折射率 n (例如:
带通膜 带通膜
通用指标 截止区截止深度:<0.1% 半带宽 <10nm
27
© 2006, ZTE Corporation. All rights reserved.
作业:
作业: 分光膜:普通分光,偏振分光,消偏振分光 滤光膜或二向色分光膜:长波通,短波通,带通 任选四个找出其应用的具体实力及说明 例子:
名称 偏振分光膜
应用 法拉第电流传感器
说明
利用磁光效应改变光的偏振面,当电流变 化,由于磁性变化导致光在导光棒中偏振 面的改变,从而测量电流,由于需要对光 起偏和检偏,且检偏需要分光以检测S和P 光在不同电流影响下的分光比 ,所以需要 用到偏振分光棱镜,高级的传感器用到的 偏振器实际是格兰泰勒棱镜等高偏振度, 高透过率的元件
7
© 2006, ZTE Corporation. All rights reserved.
增透膜 用途:
所有透过型光学系统如照相机、测距仪、潜望镜、显微镜等各种视觉观察和测 量系统 指标说明 : 单层增透:对于一般玻璃反射R<1.5%@532nm,
© 2006, ZTE Corporation.
1
分类
增透膜 单层增透 多层增透 反射膜 金属反射膜 介质反射膜 分光膜 普通分光 偏振分光 消偏振分光 二相色分光膜
2
© 2006, ZTE Corporation. All rights reserved.
增透膜
单层增透膜: 理论解析 : 若是由介质 n1垂直入射至 n2 反射率=[ (n2 -n1) / (n1+n2) ]2 穿透率=4n1n2 / (n1+n2)2 若是空气的折射率是 1.0 ,镀膜的折射率 nc (例如:1.5) ,玻璃的折射率 n (例如:
带通膜 带通膜
通用指标 截止区截止深度:<0.1% 半带宽 <10nm
27
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作业:
作业: 分光膜:普通分光,偏振分光,消偏振分光 滤光膜或二向色分光膜:长波通,短波通,带通 任选四个找出其应用的具体实力及说明 例子:
名称 偏振分光膜
应用 法拉第电流传感器
说明
利用磁光效应改变光的偏振面,当电流变 化,由于磁性变化导致光在导光棒中偏振 面的改变,从而测量电流,由于需要对光 起偏和检偏,且检偏需要分光以检测S和P 光在不同电流影响下的分光比 ,所以需要 用到偏振分光棱镜,高级的传感器用到的 偏振器实际是格兰泰勒棱镜等高偏振度, 高透过率的元件
7
© 2006, ZTE Corporation. All rights reserved.
增透膜 用途:
所有透过型光学系统如照相机、测距仪、潜望镜、显微镜等各种视觉观察和测 量系统 指标说明 : 单层增透:对于一般玻璃反射R<1.5%@532nm,
光学镀膜基础知识PPT

比方说,平时戴的眼镜、数码相机、 各式家电用品等,皆能被称之为光学薄 膜技术应用之延伸。
倘若没有光学薄膜技术作为发展基础 ,近代光电、通讯或是雷射技术发展速 度,将无法有所进展。可以毫不夸张地 说,几乎所有的光学系统、光电系统或 光电仪器都离不开光学薄膜的应用。这 些都显示出光学薄膜技术研究发展重要 性。
的法布里-玻珞干涉仪,是一 种最有意义的进展,它是干 涉带通滤光片的一种基本结 构。
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Ø金属滤光片 • 金属滤光膜的一般
特性曲线 • 示例图片:
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u 我们常用的薄膜材料:
• 电介质薄膜材料:Ta2O5,SiO2,TiO2,Al2O3,MgF2,Nb2O5…… • 金属薄膜材料:
Au,Ag,Cu,Cr/Ni
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1.3 光学薄膜应用
从精密及光学设备、显示器设备到日 常生活中的光学薄膜应用;
PDF 文件使用 "pdfFactory Pro" 试用版本创建
光学薄膜的应用可以分为以下几大类: • 提高光学效率、减少杂光。如高效减反射膜、
高反射膜。 • 实现光束的调整或再分配。如分束膜、分色膜
、偏振分光膜就是根据不同需要进行能量再分 配的光学元件。 • 通过波长的选择性透过提高系统信噪比。如窄 带及带通滤光片,长波通、短波通滤光片等。 • 实现某些特定功能。如ITO透明导电膜、保护膜 等。
光学薄膜技术的分类:
•
物理气相沉淀(PVD):俗称真空镀膜,设计物理特性间的能量
倘若没有光学薄膜技术作为发展基础 ,近代光电、通讯或是雷射技术发展速 度,将无法有所进展。可以毫不夸张地 说,几乎所有的光学系统、光电系统或 光电仪器都离不开光学薄膜的应用。这 些都显示出光学薄膜技术研究发展重要 性。
的法布里-玻珞干涉仪,是一 种最有意义的进展,它是干 涉带通滤光片的一种基本结 构。
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Ø金属滤光片 • 金属滤光膜的一般
特性曲线 • 示例图片:
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u 我们常用的薄膜材料:
• 电介质薄膜材料:Ta2O5,SiO2,TiO2,Al2O3,MgF2,Nb2O5…… • 金属薄膜材料:
Au,Ag,Cu,Cr/Ni
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1.3 光学薄膜应用
从精密及光学设备、显示器设备到日 常生活中的光学薄膜应用;
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光学薄膜的应用可以分为以下几大类: • 提高光学效率、减少杂光。如高效减反射膜、
高反射膜。 • 实现光束的调整或再分配。如分束膜、分色膜
、偏振分光膜就是根据不同需要进行能量再分 配的光学元件。 • 通过波长的选择性透过提高系统信噪比。如窄 带及带通滤光片,长波通、短波通滤光片等。 • 实现某些特定功能。如ITO透明导电膜、保护膜 等。
光学薄膜技术的分类:
•
物理气相沉淀(PVD):俗称真空镀膜,设计物理特性间的能量
光学镀膜简介PPT课件

線穿透或反射時的干擾 。
• 二:防霧基本原理:
• (一)加熱,使水滴不凝集;
• (二)提高疏水性使表面水不凝集;
• (三)提高親水性使表面形成水膜;
加熱防霧法
• 一:原理:加熱,使水滴不凝集。 • 二:作法: • (一)電熱法:浴室。 • (二)夾層法:窗戶、門。 • (三)夾層電熱法:雪鏡 • 三:缺點:安全、不耐久。
壹:抗反射(AR)
• 一:基本原理:干射
• (入射光與反射光相互干射而抵消)
• 二:說明:
• 三:作法:
• (一)貼膜或著色。
• (二)蒸鍍或濺鍍。
• (三)溶膠塗佈。
• 四:溶膠種類:
•
(一)反應型。
•
(二)結晶型。
空氣 反射
一次干射
SiO2 TiO2
玻璃
二次干射
作法比較
比較項目
高分子薄膜 金屬氧化物薄膜
參:AR v.s. AG
類別
AG
處 理 程 序(步 驟) 1
操 作 成 本 (%) 100
產 劃素(百萬) ≦200
品 特
清晰度要求
一般
性 背光強度 低
透光品質要求 低
反射鏡
●
應
手機
●
手機(高劃素)
用 LCD螢幕
●
CCD鏡頭
光學儀器
AGR 3
150
≦600
一般 低 低 ● ●
AR(V) 2
200
≦1,000
(micro-pore)的薄膜,使得水氣無法在 其表面形成次微米(sub-micro)級的水滴 凝集 。
親水處理的比較
類 別 界面活性劑 EVA吸水層 奈米防霧處理
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光学镀膜
分类
增透膜 单层增透 多层增透 反射膜 金属反射膜 介质反射膜 分光膜 普通分光 偏振分光 消偏振分光 二相色分光膜
增透膜
单层增透膜: 理论解析 : 若是由介质 n1垂直入射至 n2 反射率=[ (n2 -n1) / (n1+n2) ]2 穿透率=4n1n2 / (n1+n2)2 若是空气的折射率是 1.0 ,镀膜的折射率 nc (例如:1.5) ,玻璃
增透膜
增透膜
多层增透膜 1)多层窄带增透:多个膜层叠加对单个波长光进 行反复干涉相消以使得反射率达到最小 2)多层宽带增透:多个膜层叠加对不同波长的反 射光都进行干涉相消从而达到对一个宽波段的光增 透
大家有疑问的,可以询问和交流
可以互相讨论下,但要小声点
增透膜
用途: 所有透过型光学系统如照相机、测距仪、潜望镜、 显微镜等各种视觉观察和测量系统
的折射率 n (例如:1.8) (1)由空气直接进入玻璃 穿透率= 4×1.0×1.8 / ( 1+1.8 )2=91.84% (2)由空气进入镀膜后再进入玻璃 穿透率=[ 4×1.0×1.5 / ( 1+1.5 )2] × [ 4×1.5×1.8 /
( 1.5+1.8 )2]=95.2%
增透膜
光线(黑色)射到增透膜上,有 一部分反射出来(蓝色);有一 部分折射入增透膜(青色),又 经增透膜第二面反射(黄色), 再折射出来(红色)。 由于青色,黄色光行程为两个1/4 波长,即0.5倍波长。因此红色和 蓝色两列光相位差为半波长,叠 加而抵消。即光能都进入增透膜 后进入镜头。故叫增透。单层增 透膜厚度都是需要增透波长的1/4
常用指标:
反射率/透过率:︱Ts- Tp︱<5% ︱Rs-Rp︱<5%
出射光束偏转:0°±3′(T), 90°±5′(R)
入射光入射角:0°±2°
分光膜-二向色分光膜
4)二向色分光膜 按波长区域把光束分成两部分的薄膜。这种膜可 以是一种截止滤光片或带通滤光片,所不同的是, 波长分光膜不仅要考虑透过光而且要考虑反射光, 二者都要求有一定形状的光谱曲线
反射膜-介质反射膜:
一般指标:R>99.5%@可见光或指定波段
分光膜
主要作用是把入射光分为反射光和透射光两部分的 一种薄膜元件。分光膜可以用作各类激光器谐振腔 (平平腔、共焦腔、共心腔、凹凸腔、半共心腔等) 的腔镜,也可以用作激光器外围光路衰减光强的元 件等。分光膜可用于高功率激光或大能量激光,也 可用于普通的各种工业化激光器。总之在光通讯、 激光工业、激光显示、医学设备、勘测设备、精密 仪器及半导体等领域都有用到
1)保护铝:在紫外区常用的金属薄材料是铝,在可 见光区常用铝(和银)
反射膜-金属反射膜
R>88%@可见光区
反射膜-金属反射膜
2)保护银,红外区常用金、银
>95%可见光区 >98%微米红外区
反射膜-金属反射膜
3)保护金 :在0.65微米后的红外光区具有非常高的 反射率
>95%0.65-2微米 >98%2-12微米红外光区
分光膜-能量分光膜:
分光膜-能量分光膜:
常用指标:
透射率/反射率: 50/50±5%T=(Ts+Tp)/2, R=
(Rs+Rp)/2 出射光束偏转:0°±3′
(T),90°±5′(R) 入射光入射角:0°±3°
分光膜-偏振分光膜:
2)偏振分光膜: 偏振分光膜是利用光斜入射时薄膜的偏振效应制成 的。偏振分光膜可以分成棱镜型和平板型两种。棱 镜型偏振膜利用布儒斯特角入射时界面的偏振效应; 平板型偏振膜主要是利用在斜入射时由电介质反射 膜两个偏振分量的反射带带宽的不同而制成的。
应用于多波段光源、荧光显微镜、生物芯片阅读 仪等光学光谱仪器
分光膜-二向色分光膜和滤光膜
长波通
分光膜-二向色分光膜和滤光膜
短波通
通用指标 开关波长 截止区截止深度:<1% 开关波段带宽: <10nm
分光膜-偏振分光膜:
分光膜-偏振分光膜:
常用指标:
消光比:Tp/Ts>500:1 Rs:Rp>95:5 出射光束偏转:0°±3′(T),90°±5′(R) 入射光入射角:0°±2°
分光膜-消偏振分光膜:
3)消偏振分光膜:对光能有一定的吸收,但对偏振 态很不敏感,适用于可调谐激光
分光膜-消偏振分光膜:
增透膜
疑问:
反射回来干涉相消了,怎么就增透了呢?
回答:
光具有能量 对同频率的光,光强越大,能量越大, 在照射光的能量不变的前提下,增透膜减少反射光 的光强(能量),根据能量守恒,入射光的能量必 然增加 光强增大 也就是所谓“增透”,这里增透 是指增加入射光能量,绿光反射回来后相互抵消了, 从能量上来说光的能量没有消耗,这就相当于进入 的光能要大了,达到增透效果电介质反射膜是建立在多光束干涉基础 上的。与增透膜相反,在光学表面上镀一层折射率 高于基体材料的薄膜,就可以增加光学表面的反射 率。最简单的多层反射是由高、低折射率的二种材 料交替蒸镀而成的,每层膜的光学厚度为某一波长 的四分一。在这种条件下,参加叠加的各界面上的 反射光矢量,振动方向相同。合成振幅随着薄膜层 数的增加而增加
指标说明 : 单层增透:对于一般玻璃反射R<1.5%@532nm, 在可见光区可做到R<2% 多层窄带增透:可做到R<0.1%@所需波长 多层宽带增透:可做到Rave<0.5%@可见光区
反射膜
金属反射膜
基本原理 :一般金属都具有较大的消光系数,当 光束由空气入射到金属表面时,进入金属内的光振 幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少, 而反射光能增加。消光系数越大,光振幅衰减越迅 速,进入金属内部的光能越少,反射率越高。
分光膜-能量分光膜:
1)能量分光膜:(普通分光膜)
按照一定的光强比把光束分成两部分的薄膜,这 种薄膜有时仅考虑某一波长,叫做单色分光膜;有 时需要考虑一个光谱区域叫做宽带分光膜;用于可 见光的宽带分光膜,又叫做中性分光膜。这种膜也 常在斜入射下应用,由于偏振的影响,二束光的偏 振状态可以相差很多,在有些工作中,可以不考虑 这种差别,但在另一些工作中(例如某些干涉仪), 则要求两束光都是消偏振的,这就需要设计和制备 消偏振膜。
分类
增透膜 单层增透 多层增透 反射膜 金属反射膜 介质反射膜 分光膜 普通分光 偏振分光 消偏振分光 二相色分光膜
增透膜
单层增透膜: 理论解析 : 若是由介质 n1垂直入射至 n2 反射率=[ (n2 -n1) / (n1+n2) ]2 穿透率=4n1n2 / (n1+n2)2 若是空气的折射率是 1.0 ,镀膜的折射率 nc (例如:1.5) ,玻璃
增透膜
增透膜
多层增透膜 1)多层窄带增透:多个膜层叠加对单个波长光进 行反复干涉相消以使得反射率达到最小 2)多层宽带增透:多个膜层叠加对不同波长的反 射光都进行干涉相消从而达到对一个宽波段的光增 透
大家有疑问的,可以询问和交流
可以互相讨论下,但要小声点
增透膜
用途: 所有透过型光学系统如照相机、测距仪、潜望镜、 显微镜等各种视觉观察和测量系统
的折射率 n (例如:1.8) (1)由空气直接进入玻璃 穿透率= 4×1.0×1.8 / ( 1+1.8 )2=91.84% (2)由空气进入镀膜后再进入玻璃 穿透率=[ 4×1.0×1.5 / ( 1+1.5 )2] × [ 4×1.5×1.8 /
( 1.5+1.8 )2]=95.2%
增透膜
光线(黑色)射到增透膜上,有 一部分反射出来(蓝色);有一 部分折射入增透膜(青色),又 经增透膜第二面反射(黄色), 再折射出来(红色)。 由于青色,黄色光行程为两个1/4 波长,即0.5倍波长。因此红色和 蓝色两列光相位差为半波长,叠 加而抵消。即光能都进入增透膜 后进入镜头。故叫增透。单层增 透膜厚度都是需要增透波长的1/4
常用指标:
反射率/透过率:︱Ts- Tp︱<5% ︱Rs-Rp︱<5%
出射光束偏转:0°±3′(T), 90°±5′(R)
入射光入射角:0°±2°
分光膜-二向色分光膜
4)二向色分光膜 按波长区域把光束分成两部分的薄膜。这种膜可 以是一种截止滤光片或带通滤光片,所不同的是, 波长分光膜不仅要考虑透过光而且要考虑反射光, 二者都要求有一定形状的光谱曲线
反射膜-介质反射膜:
一般指标:R>99.5%@可见光或指定波段
分光膜
主要作用是把入射光分为反射光和透射光两部分的 一种薄膜元件。分光膜可以用作各类激光器谐振腔 (平平腔、共焦腔、共心腔、凹凸腔、半共心腔等) 的腔镜,也可以用作激光器外围光路衰减光强的元 件等。分光膜可用于高功率激光或大能量激光,也 可用于普通的各种工业化激光器。总之在光通讯、 激光工业、激光显示、医学设备、勘测设备、精密 仪器及半导体等领域都有用到
1)保护铝:在紫外区常用的金属薄材料是铝,在可 见光区常用铝(和银)
反射膜-金属反射膜
R>88%@可见光区
反射膜-金属反射膜
2)保护银,红外区常用金、银
>95%可见光区 >98%微米红外区
反射膜-金属反射膜
3)保护金 :在0.65微米后的红外光区具有非常高的 反射率
>95%0.65-2微米 >98%2-12微米红外光区
分光膜-能量分光膜:
分光膜-能量分光膜:
常用指标:
透射率/反射率: 50/50±5%T=(Ts+Tp)/2, R=
(Rs+Rp)/2 出射光束偏转:0°±3′
(T),90°±5′(R) 入射光入射角:0°±3°
分光膜-偏振分光膜:
2)偏振分光膜: 偏振分光膜是利用光斜入射时薄膜的偏振效应制成 的。偏振分光膜可以分成棱镜型和平板型两种。棱 镜型偏振膜利用布儒斯特角入射时界面的偏振效应; 平板型偏振膜主要是利用在斜入射时由电介质反射 膜两个偏振分量的反射带带宽的不同而制成的。
应用于多波段光源、荧光显微镜、生物芯片阅读 仪等光学光谱仪器
分光膜-二向色分光膜和滤光膜
长波通
分光膜-二向色分光膜和滤光膜
短波通
通用指标 开关波长 截止区截止深度:<1% 开关波段带宽: <10nm
分光膜-偏振分光膜:
分光膜-偏振分光膜:
常用指标:
消光比:Tp/Ts>500:1 Rs:Rp>95:5 出射光束偏转:0°±3′(T),90°±5′(R) 入射光入射角:0°±2°
分光膜-消偏振分光膜:
3)消偏振分光膜:对光能有一定的吸收,但对偏振 态很不敏感,适用于可调谐激光
分光膜-消偏振分光膜:
增透膜
疑问:
反射回来干涉相消了,怎么就增透了呢?
回答:
光具有能量 对同频率的光,光强越大,能量越大, 在照射光的能量不变的前提下,增透膜减少反射光 的光强(能量),根据能量守恒,入射光的能量必 然增加 光强增大 也就是所谓“增透”,这里增透 是指增加入射光能量,绿光反射回来后相互抵消了, 从能量上来说光的能量没有消耗,这就相当于进入 的光能要大了,达到增透效果电介质反射膜是建立在多光束干涉基础 上的。与增透膜相反,在光学表面上镀一层折射率 高于基体材料的薄膜,就可以增加光学表面的反射 率。最简单的多层反射是由高、低折射率的二种材 料交替蒸镀而成的,每层膜的光学厚度为某一波长 的四分一。在这种条件下,参加叠加的各界面上的 反射光矢量,振动方向相同。合成振幅随着薄膜层 数的增加而增加
指标说明 : 单层增透:对于一般玻璃反射R<1.5%@532nm, 在可见光区可做到R<2% 多层窄带增透:可做到R<0.1%@所需波长 多层宽带增透:可做到Rave<0.5%@可见光区
反射膜
金属反射膜
基本原理 :一般金属都具有较大的消光系数,当 光束由空气入射到金属表面时,进入金属内的光振 幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少, 而反射光能增加。消光系数越大,光振幅衰减越迅 速,进入金属内部的光能越少,反射率越高。
分光膜-能量分光膜:
1)能量分光膜:(普通分光膜)
按照一定的光强比把光束分成两部分的薄膜,这 种薄膜有时仅考虑某一波长,叫做单色分光膜;有 时需要考虑一个光谱区域叫做宽带分光膜;用于可 见光的宽带分光膜,又叫做中性分光膜。这种膜也 常在斜入射下应用,由于偏振的影响,二束光的偏 振状态可以相差很多,在有些工作中,可以不考虑 这种差别,但在另一些工作中(例如某些干涉仪), 则要求两束光都是消偏振的,这就需要设计和制备 消偏振膜。