光学镀膜真空技术概要

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光学镀膜工艺指导

光学镀膜工艺指导

光学镀膜工艺指导一、背景介绍光学镀膜工艺是一种重要的光学加工技术,可以在光学元件表面形成一层薄膜,用于改变光学器件的透射、反射、吸收等性能。

本文旨在提供光学镀膜工艺的指导,确保制备高质量的光学薄膜。

二、工艺流程光学镀膜工艺主要包括以下几个步骤:基片清洗、基片预处理、镀膜材料选择、膜层设计和计算、真空镀膜、后处理等。

1. 基片清洗基片清洗是镀膜工艺的首要步骤,它的目的是去除基片表面的污染物和气体,使得基片表面干净。

通常使用有机溶剂或无机酸碱溶液进行清洗,清洗后需要进行漂洗和烘干。

2. 基片预处理基片预处理是为了提高基片表面的附着性,常见的预处理方法有机械划伤、化学刻蚀等。

通过预处理,可以增加镀膜层与基片表面的结合力,提高镀膜层的附着性和耐磨性。

3. 镀膜材料选择镀膜材料的选择直接影响到膜层的光学性能。

根据不同的需求,可以选择金属、半导体、氧化物等材料进行镀膜。

在选择材料时,需要考虑其光学特性、机械性能、耐化学性能等因素。

4. 膜层设计和计算膜层设计是光学镀膜的关键步骤,通过对薄膜层厚度和折射率的设计和计算,可以实现所需的光学性能。

常用的方法有光学膜设计软件、等离子体监测仪等。

5. 真空镀膜真空镀膜是将镀膜材料蒸发或溅射到基片表面,形成一层薄膜的过程。

真空环境可以排除气体和灰尘对膜层质量的影响,确保膜层的均匀性和致密性。

镀膜方法包括电子束蒸发、磁控溅射等。

6. 后处理后处理是为了提高膜层的光学性能和机械性能,常见的后处理方法有退火处理、氧化处理等。

通过后处理可以降低膜层的内应力,提高膜层的抗氧化性和耐磨性。

三、工艺注意事项在进行光学镀膜工艺时,需要注意以下几个方面:1. 温度控制镀膜过程中应控制好温度,过高的温度会导致基片热变形、膜层结构破坏等问题,过低的温度则会影响薄膜的致密性。

因此,需要根据具体材料和工艺要求,控制适宜的温度范围。

2. 气压控制在真空镀膜中,气压是一个重要的参数。

过高的气压会导致气体对膜层的污染,过低的气压则会影响镀膜速率和膜层致密性。

真空溅射镀膜技术

真空溅射镀膜技术
溅射源:通常采用高压电场、激光、离子束等高能粒子源
溅射材料:通常采用金属、陶瓷、半导体等材料
溅射过程:高能粒子轰击固体表面,使固体表面的原子或分子获得足够的能量脱离表面,形成溅射现象
溅射镀膜的原理
原理:利用高能粒子轰击靶材,使其表面的原子或分子脱离靶材并沉积在基材上
溅射源:通常是金属或非金属材料,如铝、钛、铬等
脉冲溅射镀膜
原理:利用高压脉冲电源,使靶材表面产生脉冲电场,使靶材表面的原子或分子脱离靶材表面,沉积到基材上形成薄膜。
特点:沉积速率快,膜层致密,膜层厚度均匀,适用于大面积镀膜。
应用:广泛应用于太阳能电池、显示器、半导体等领域。
优点:可以提高膜层的附着力和耐腐蚀性,降低生产成本。
真空溅射镀膜技术的特点
半导体领域
半导体芯片制造:溅射镀膜技术用于制造半导体芯片,如集成电路、存储器等。
半导体封装:溅射镀膜技术用于半导体封装,如引线框架、导线架等。
半导体器件制造:溅射镀膜技术用于制造半导体器件,如晶体管、二极管等。
半导体材料研究:溅射镀膜技术用于研究半导体材料,如硅、锗、砷化镓等。
金属化领域
半导体制造:用于制造集成电路、传感器等电子设备
设备故障处理:遇到设备故障时,及时联系专业人员进行维修
设备维护周期:定期进行设备维护,确保设备正常运行
设备运行中的监控:注意观察设备运行状态,及时调整参数
设备停机后的清理:清理设备内部残留的镀膜材料和杂质
设备启动前的检查:确保电源、气源、水源等正常
设备启动顺序:按照说明书上的要求进行
真空溅射镀膜设备的常见问题及解决方案
原理:利用射频能量使靶材表面原子或分子获得足够的能量,从而被溅射出来
特点:沉积速率快,膜层致密,纯度高

光学真空镀膜原理 应用 光谱 培训

光学真空镀膜原理 应用 光谱 培训

光学真空镀膜原理应用光谱培训1.光学真空镀膜是利用真空环境下的物理气相反应进行材料表面处理的技术。

The principle of optical vacuum coating is the technology of material surface treatment using physical gas phase reaction in vacuum environment.2.光学真空镀膜能够提高材料的光学性能和表面质量。

Optical vacuum coating can improve the optical performance and surface quality of materials.3.该技术常用于制备镜片、滤光片、太阳能电池等光学和电子器件。

This technology is commonly used in the preparation of lenses, filters, solar cells and other optical and electronic devices.4.光学真空镀膜依靠控制材料的沉积速率和厚度,实现不同的光学效果。

Optical vacuum coating relies on controlling thedeposition rate and thickness of materials to achievedifferent optical effects.5.利用光学真空镀膜技术可以提高材料的耐磨性和耐腐蚀性能。

The use of optical vacuum coating technology can improve the wear resistance and corrosion resistance of materials.6.镀膜设备操作和维护需要专业的培训和技能。

The operation and maintenance of coating equipmentrequire professional training and skills.7.光学真空镀膜的应用范围涵盖光学、电子、航空航天等领域。

光学镀膜技术_文库

光学镀膜技术_文库
透射率 T=1-R=4n0n1/(n0+n1)2 增透膜
19
例:空气折射率是1,玻璃折射率是1.8,镀膜折射率是1.5。
光线从空气直接进入玻璃 透射率=4*1*1.8/(1+1.8) 2=91.84%;
光线从空气进入镀膜再进入玻璃透射率=【4*1*1.5/(1+1.5) 2】*【4*1.5*1.8/(1.5+1.8)2】=95.2%;
利用这种干涉现象,通过对光学零件表面薄膜的材料和厚度的 控制,人为的控制光的干涉,根据需要来实现光能的重新分配。
光学镀膜工作原理
6
光照到光学零件表面时,一部分 光发生反射,另外一部分光投射 进入光学零件。反射光的存在无 疑降低了透射光的强度,反之透 射光的存在降低了反射光的强度;
为了减少反射光或者透射光的强
作用: ➢ 增加光学系统的通透率; ➢ 减少杂散光; ➢ 提高像质;
增透➢膜增加作用距离;
18
当光线从折射率为n0的介质射入折射率为n1的另一介质时,在 两介质的分界面上就会产生光的反射, 如果介质没有吸收,分界 面是一光学表面,光线又是垂直入射,则:
反射率 R=(n0-n1)2/(n0+n1)2
增透膜
20
单层增透膜反射率
增透膜
21
多层窄带增透:多个膜层叠加对单个波长进行反复干涉相消以使 得反射率达到最小。
增透膜
22
多层宽带增透:多个膜层叠加对不同波长的反射光都进行干涉相 消从而达到对一个宽波段的光增透。
增透膜
23
应用:所有透过型光学系统如照相机、测距仪、潜望镜、显微 镜等各种视觉观察和测量系统;
d
膜上表面和下表面的反射光线在上表面的相
位差为1个波长,干涉相长,从而使反射光

真空镀膜技术简介

真空镀膜技术简介

5.现状 5.现状
由于真空镀膜起步较晚,又受真空技术的限制,前期发展较慢, 属于新的技术。目前,国外一些发达的国家应用较为广泛。国内起步 更晚,受技术的限制,应用范围较少,潜力较大,待进一部开发。
(二)
1.常用的镀膜设备(外形) 1.常用的镀膜设备(外形) 常用的镀膜设备 1.1. 电镀法、化学镀法一般是以槽体流水线的形式进行的,设 备较为大型,昂贵。 1.2. 箱式真空镀膜机(立式):单门、双门。 1.3. 卷绕式真空镀膜机(卧式)。 1.4. 间歇式镀膜机(立式):两箱、三箱。 1.5. 大型镀膜流水线:根据客户要求进行设计。 这里没有涉及CVD镀膜设备 这里没有涉及CVD镀膜设备
4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构1 4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构 真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构1
4.1. 真空蒸镀镀膜机的相关参数 4.1.1. 真空室尺寸 4.1.2. 最高加热温度 4.1.3. 高、低真空泵抽速 4.1.4. 膜厚控制精度 4.1.5. 蒸发器的参数 4.1.6. 离子源的参数 4.1.7. 连续镀层和时间 4.1.8. 充气系统的参数 4.1.9. 深冷的参数 4.1.10. 操作系统、软件 另外:冷却水、压缩空气、电 量
内容概要
(二).镀膜的设备
1.常见的镀膜设备 1.常见的镀膜设备 2.常见的真空镀膜机 2.常见的真空镀膜机 3.各国的真空镀膜机的现状 3.各国的真空镀膜机的现状 4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构 4.真空蒸镀镀膜机的相关参数和结构
(三).真空镀膜的工艺
1.工艺参数 1.工艺参数 2.塑料件真空镀膜工艺流程 2.塑料件真空镀膜工艺流程 3.镀膜制品的品质参数 3.镀膜制品的品质参数
3.定义2 定义2
电子束加热蒸镀是将膜料放入水冷铜坩埚中,利用高能量密度的 电子束加热,使膜料熔融气化并凝结在基体表面成膜。 为了改善附着力,增加膜的致密性,镀膜前,镀膜过程中辅助离 子束进行轰击的镀膜方法称为离子束辅助蒸镀。

真空镀膜技术工艺流程

真空镀膜技术工艺流程

真空镀膜技术工艺流程真空镀膜技术是一种在真空条件下将金属薄膜或其他材料沉积到基材表面的工艺。

它广泛应用于光学、电子、汽车、建筑等领域,用于提高材料的光学性能、耐腐蚀性能和装饰性能。

下面将介绍真空镀膜技术的工艺流程。

1. 基材准备首先,需要准备待镀膜的基材。

基材可以是玻璃、塑料、金属等材料,不同的基材需要采用不同的预处理工艺。

通常情况下,基材需要进行清洗、去油、去尘等处理,以确保镀膜的附着力和质量。

2. 蒸发材料准备在真空镀膜工艺中,需要使用一种或多种蒸发材料作为镀膜材料。

这些蒸发材料可以是金属、氧化物、氮化物等。

在镀膜前,需要将这些材料加工成均匀的块状或颗粒状,以便于在真空条件下进行蒸发。

3. 真空系统抽真空在进行镀膜之前,需要将反应室内的气体抽空,建立起一定的真空度。

通常情况下,真空系统会采用机械泵、分子泵等设备进行抽真空,直到达到所需的真空度为止。

4. 加热基材在真空镀膜过程中,基材通常需要加热到一定温度。

加热可以提高蒸发材料的蒸发速率,同时也有助于提高镀膜的致密性和附着力。

加热温度的选择需要根据具体的镀膜材料和基材来确定。

5. 蒸发镀膜当真空度和基材温度达到要求后,开始蒸发镀膜。

蒸发材料被加热后,会蒸发成气体或蒸汽,并沉积到基材表面上。

在镀膜过程中,可以通过控制蒸发材料的温度、蒸发速率和镀膜时间来控制镀膜的厚度和性能。

6. 辅助工艺在镀膜过程中,可能需要进行一些辅助工艺来改善镀膜的性能。

例如,可以通过离子轰击、辅助加热、喷洒惰性气体等手段来提高镀膜的致密性和光学性能。

7. 检测和包装镀膜完成后,需要对镀膜膜层进行检测,以确保其质量和性能符合要求。

常用的检测手段包括光学测量、显微镜观察、机械性能测试等。

最后,对镀膜产品进行包装,以防止镀膜层受到污染或损坏。

总结真空镀膜技术是一种高精度、高效率的表面处理技术,可以为材料赋予特定的光学、电子、机械等性能。

通过控制镀膜工艺流程中的各个环节,可以实现对镀膜膜层厚度、组分、结构和性能的精确控制。

真空镀膜技术基础

真空镀膜技术基础

真空镀膜技术基础1.采用什么镀膜机?光学镀膜机多是基于PVD,即物理气相沉积的镀膜机。

国产机以南光和北仪为代表,进口机以德国的莱宝机,美国的Vecco机和日本的光驰机、昭和机为代表。

2.采用什么样的膜料气汽化方式?对于物理气相沉积型真空镀膜机,有三种汽化方式:热蒸发,溅射,离子镀。

目前国内在光学真空镀膜方面多采用热蒸发的方式。

溅射技术以磁控溅射为代表,溅射和离子镀的方式在大批量生产的表面处理、太阳能电池板生产中应用较多。

热蒸发又分为四种方式:电阻加热,电子束加热,电磁感应加热和激光束加热。

四种方式各有特点和优势,电磁感应加热适合大规模连续型设备,并且只能镀金属膜料;激光束加热方式目前尚不成熟;电阻加热方式使用最早,但不适合高熔点膜料,自动化程度低,适合镀制金属膜和膜层较少的膜系;电子束加热方式使用电子枪产生电子束通过聚焦集中于膜料上进行加热,该方法应用最广,自动化程度高,技术成熟。

3.如何精确控制膜层厚度?膜层厚度的控制方法有:目视法、光电极值法,石英晶振法和全光谱在线控制法等。

目视法最早应用,适合于膜层较少的可见光波段的膜系,人为误差较大;全光谱在线控制法适合宽波段膜系的镀制,可以实时反馈及时修正误差,但目前上不普及;光电极值法适合镀制单点要求的膜系,自动化程度不高;石英晶振法自动化程度最高,应用最为普及,他采用石英晶体的振动频率和质量的相关性来测定膜层的质量,从而根据密度换算成物理厚度。

采用石英晶振法控制膜层厚度,和电子束加热的方式相配合,可以实现镀制过程的高度自动化,确保工艺的重复性。

采用美国生产的360石英晶体控制仪,石英晶体探头表面镀金,其振动信号转换成电信号后,经后续电路处理,输入360石英晶体控制仪,实时输出结果,并反馈调节电子束能量,形成闭环控制,确保膜厚控制的精度。

4.如何加强曲面镀膜均匀性?理论上,当蒸发源为点源时,被镀件和蒸发源距离一样时满足均匀性,即蒸发源位于球心,被镀件位于同一球面;当蒸发源为面源时,符合余弦分布,既蒸发源和被镀件位于同一球面。

薄膜光学第四章光学镀膜工艺教学讲义

薄膜光学第四章光学镀膜工艺教学讲义

➢薄膜厚度监控技术
1)直接观测薄膜颜色变化的目视法; 一定结构的膜层对不同波长的光具有不同的透过率。白
光入射,反射光就会表现出颜色。 互补色原理:紫色黄绿,紫蓝黄,蓝橙,红蓝
绿,绿紫红。 特点:结构简单,操作方便,但精度低,受外界、人为因素 影响较大。
2)测量薄膜透过率和反射率极值法; 测量正在镀制膜层的反射率或透过率随膜层厚度增加过
教学目的和要求
了解和掌握影响光学薄膜质量的主要因素以及控制方法。
4.1 光学薄膜器件的质量要素
➢ 光学镀膜器件的光学性能 光学薄膜的光学常数:折射率和厚度。
膜层折射率误差来源、膜层厚度误差来源 膜层折射率误差来源 1)膜层的填充密度,也叫聚集密度。它是膜层的实材体积和 膜层的几何轮廓之比。 2)膜层的微观组织物理结构。即使用同样的膜层材料,采用 不同的物理气态沉积技术(PVD),得到的膜层具有不同的 晶体结构状态,具有不同的介电常数和折射率。
基片清洁的影响:残留在基片表面的污物和清洁剂将导致 1)膜层对基片的附着力差; 2)散射或吸收增大,抗激光损伤阈值低; 3)透光性能变差。
基片的表面污染来源: 1)基片表面抛光后存储时间较长,表面水渍、油斑和霉斑; 2)工作环境中的灰尘及纤维物质被零件表面吸附; 3)离子轰击时负高压电极溅射,在基片表面形成斑点; 4)真空系统油蒸汽倒流造成基片表面污染等。 提高清洁度的方法: 1)常打扫工作环境(最好建无尘车间)、经常打扫真空室; 2)对于新抛光基片表面,可用脱脂纱布蘸乙醇与乙醚混合物 进行擦洗;对于存储时间较长的基片表面,可用脱脂纱布或 棉花蘸最细的氧化铈或红粉进行更新,擦拭时要尽量均匀, 不要破坏表面面形。 3)基片表面油脂、水或其它溶剂的表面薄层,可利用离子轰 击来清洁。
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操作须知

1.查看油位,以停泵时注油至油标中心为宜。过低对排气阀不能起油封作用,影 响真空度。过高,可能会引起通大气起动时喷油。运转时,油位有所升高,属正常 现象。油采用规定牌号的清洁真空泵油,从加油孔加入。加油毕后,应旋一上螺 塞。油宜经过滤,以免杂物进入,堵塞油孔。 2.可在通大气或任何真空度下一次起动。泵口如装接电磁阀,应与泵同时动作。 3.环境温度过高时,油的温度升高,粘度下降,饱和蒸汽压会增大,会引起极限 真空有所下降,特别是用热偶计测得的全压强。如加强通风散热,或改善泵油性 能,极限真空可得到改善。 4.检查旋片式真空泵的极限真空以压缩式水银真空计为准,如计经充分预抽校 验,泵温达到稳定,泵口与计直接接通,运转30分钟内,将达到极限真空。总压强 计测得之值与泵油和真空计、规管误差有关,有时误差甚至可很大,只能作参考。 5.如相对湿度较高,或被抽气体含较多可凝性蒸汽,接通被抽容器后,宜打开气 镇阀,运转20~40分钟后关闭气镇阀。停泵前,可开气镇阀空载运动30分钟,以 延长泵油寿命。
低真空泵 或初抽泵
旋片式机械真空泵 罗茨真空泵 分子筛吸附泵
高真空泵
油扩散泵 涡轮分子泵 溅射离子泵
超高真空泵
钛升华泵 低温泵
真空的获得
极限真空(极限压强Pu)和抽气速率
——是表示真空泵性能的两个重要参数。极限压强是该系统所能达到的最 低压强;抽气速率是在规定压强下单位时间抽出气体的体积,它决定抽真空所 需要的时间。
旋片S2与进气门G之间空腔的区 (a): 域I的体积逐渐增大,使被抽容 器中的气体由进气门进入此区域 同时旋片S1与排气门D之间空腔的 (b): 体积逐步减小,其中的气体不断 地从排气门被挤出 旋片S1将区域I与进气门隔开, (c): 此时区域I的吸气空腔的体积最 大
(d):
旋片S1开始将区域I内的气体压缩 并从排气门排出


4.真空泵不可混入柴油、汽油等其它饱和蒸汽 压较大的油类,以免降低极限真空。拆洗泵内零 件时,一般用纱布擦拭即可以。若发现有金属碎 屑、砂泥或其它有害物质必须清洗时,可用汽油 等擦洗,干燥后方可装配,切忌用汽油浸泡。 5.倘若因泵需拆开清洗或检修,必须注意拆装 步骤,以免损坏机件。
高真空泵:一般高真空获得设备包括扩散泵、分子 泵或低温泵。
维护和保养
一、注意事项: 1.保证真空泵的清洁,防止杂物进入泵内。
2.保持真空泵油位。
3.存放下当水份或其它挥发性物质进入泵内而影响极限真空时, 可开气镇阀净化之,观察极限真空回升情况,数小时无效,应更 换泵油,必要时可再次更换。 换油方法:泵运转约半小时,使油变稀,停泵从放油孔放油,再敞开 进气口运转10~20秒钟,此间可从吸气口缓缓加入少量清洁泵 油,以更换泵腔内存油。如出来的油很脏,后者可重复进行。



可凝气体的产生
1. 泵与容器相连,在70 mbar时空气已基本排 净,接下来将主要抽排蒸汽粒子。
2.
泵室与容器隔离,压缩开始。
3.
压缩到一定程度时,蒸汽将凝聚成液滴, 过压状态无法实现
4.
残余压强仅能顶开排空阀门, 已凝聚的液 滴将流回泵室内
那么怎样 才能除去这 些有害的可 凝气体呢, 这样就引出 了气镇。
真空的衡量
真空是一种环境,其衡量单位就是气体压力. 压力值越低,真空度就越高 常用单位有:(1)Pa,(2)mbar,(3)Torr(mTorr) 压强单位换算关系表
单位名称 1帕 1托 1毫巴 1大气压 帕/Pa 1 1.333×102 102 1.013×105 托/Torr 7.501×10-3 1 7.501×10-1 760.00 毫巴/mbar 10-2 1.333×10-1 1 1.013×103 大气压/atm 9.869×10-6 1.315×10-3 9.869×10-4 1
低温真空泵工作机理



1)低温冷凝。由于低温泵冷板表面温度很低,极容易将撞击其表面之 气体分子粘住,使其温度急速下降而被冻结,从而减低空间中的分子 数。 2)低温吸附。这是基于低温泵的吸附材料与碰撞的气体分子之间的束 缚力而产生的对一些像H2和He等不易冷凝的气体分子的相对固定,尽 管它们的蒸汽压力还相对较高。 3)低温捕集。两种气体同时被抽,但其中一种充当吸附剂。如:如果 Ar气被冷凝成冰晶,它对其它气体来说,又相当于吸附剂及冷阱。
理论上,一个系统所能达到的真空度:
Q V dPi P Pu S S dt
Pu-真空泵的极限真空(Pa), Q-泵内各种气源(Pa·L/s), S-泵的抽气速 率(L/s), V-真空室体积(L), Pi-被抽空间气体的分压强(Pa),t-时
间(s)
最常见泵的工作原理
旋片式机械真空泵工作原理
真空技术
——林庆彬
前言


1643年,意大利物理学家托里折利演示了著名的大气压实 验,揭示了“真空”这一物理状态。 为了使被研究的样品不被周围气氛所污染,获取“原子清 洁”的表面,薄膜制备和衬底表面形成过程往往是在真空 或超高真空中进行的。目前,人们所广泛使用的薄膜制备 系统都具有真空系统,光学镀膜也是如此。不管是采用蒸 镀还是溅射方式,都必须在真空环境下进行。“真空”是 光学镀膜技术的基础。了解与镀膜相关的真空知识对于掌 握镀膜工艺和操作至关重要。
1大气压下气体分子密度约为2.687×1025/m3; 气压1×10-4Pa的高真空中,气体分子密度约为2.65×1016/m3;
……
宇宙中,气体分子密度﹤109/km3,甚至每km3只有几个气体分子。
气体分子密度可以接近于零,却不是零。
按照工业标准的规定,真空绝不是“完全空”,而是一种“低于一个标准大 气压的气体充满空间的状态”。由此可知,工业领域所说的真空,与我们平时想 象中的“完全空”的真空相差十万八千里。空无一物的理想真空,实际上是不存 在的。
低温真空泵 低温真空泵 (又称低温泵、冷泵、冷凝 泵)是一种利用低温冷凝和低温吸附原 理抽气的容积式真空泵,是无油高真空 环境获得设备。低温泵应用于半导体、 集成电路、光电器件的制造工艺过程, 是集成电路专用设备中的关键设备之一; 低温泵也用于各种其它镀膜设备和真空 应用设备中,如离子束溅射VEECO镀膜 机。


旋片真空泵的使用

1、使用前,应仔细阅读产品使用说明书,按要求安装,接线,试转 向。 2、为防止因返油与反转而喷油,应先开启泵口,按规定转向把泵 内存油盘到油箱中。同时查看油位,应在油标中心以上,但不要满 油标,多了要放出。 3、判断转向的辅助方法。把护套倒放在泵口上,如开泵后被吸住, 是正向,被吹落,是反向。声音正常是正向,声音异常是反向。 4、如在泵口配装带充气电磁阀,一般应横装,并与泵同时动作。
扩散泵
涡轮分子泵
低温泵
最常见泵的工作原理
油扩散泵工作原理
扩散泵油被泵外电炉加热产生油蒸气
油蒸气沿蒸气导管上升到管顶
油蒸气经伞形喷嘴向下喷出产生射流
接机械泵
气体分子与射流中油分子碰撞发生动量交换
气体分子与射流一起向下运排气口附近被抽走
最常见泵的工作原理


在实际应用中怎样合理利用气镇排除可凝气体: 众所周知,可凝气体的凝结取决于它的分压和温度。 抽排可凝气体的“黄金法则”: § 在做工艺以前暖泵(开气镇工作半小时) § 工艺过程保证气镇开启 § 工艺结束后在开气镇的条件下再运行一段时间 § 在泵的耐压范围内抽排可凝气体 然而,针对我们的机器来讲,由于工作环境相当好,真空系统中的可 凝气体很少,而且要求真空度较高(开气镇会降低泵的抽真空能力), 所以在实际中没有必要每次都进行这样的操作,只需要在真空泵性能 降低的时候开气镇放气就可以了。




5、相对湿度较高或被抽气体中含水汽等可凝性蒸汽时,应使用气镇 阀。 6、按说明书推荐选用真空泵油。注意酯类真空泵油不可与矿物油型 真空泵油和其他油类混用,必须严格清洗后才能换入酯类真空泵油。 7、检查泵的极限压力以压缩式水银真空计为准。全压力计应注意做 好计与规管的配对校准和备用比对规管。建议在规管与被测泵之间 装一球阀。不测时关阀,可延长规管使用时间。
真空现象
1、从地球表面向外空延伸,离地面距离越远,空气越稀薄; 2、宇航员在外空间时都必须穿上太空服,一方面就是为了防止宇 航员被负压伤害。 3、气相薄膜沉积过程中的真空容器;
4、霓虹灯管或日光灯管;
5、AES,XPS,SEM,TEM等设备 …… 其中,1和2属于自然真空,3-5属于人为真空。人为真空需要通过 真空泵系统来实现。
属于气体捕获泵,即通过各种吸气材料特有的吸 气作用将被抽气体吸除,以达到所需真空。不需 要油作为介质,又称为无油泵
真空的获得
常用真空泵的工作压强范围及起动压强:
真空泵种类 工作压强范围(Pa) 1×105~6.7×10-1 1.3×103~1.3 1×105~1.3×10-1 1.3×10-2~1.3×10-7 1.3~1.3×10-5 1.3×10-3~1.3×10-9 1.3×10-2~1.3×10-9 1.3~1.3×10-11 起动压强(Pa) 1×105 1.3×103 1×105 1.3×10 1.3 6.7×10-1 1.3×10-2 1.3~1.3×10-1

气镇法是防止蒸汽凝结从而避免油污染的有效方法。这 种方法是将室温干燥的空气经气镇孔进入泵的压缩腔 中与被抽气体相混合。当把这种混合气体压缩到排气压 力时,由于掺气作用使得其中的蒸汽分压能保持在泵温 状态的饱和蒸气压以下,因而蒸汽不会凝结而与其它气 体一起被排至泵外。被抽气体中蒸汽的含量越多,掺入 的干燥气体量就需越多。
一、真空基础
内容提要:
★什么是真空?(工业标准的真空)
★真空的衡量(单位及换算关系)
★真空的划分(低、中、高和超高真空)
★真空的获得(泵的类型,泵的原理及真空系统)
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