真空镀膜(PVD)工艺介绍
PVD真空镀膜简介
PVD真空镀膜简介1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。
近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。
6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ～1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。
PVD镀膜工艺简介ppt课件
3.辉光放电的定义 辉光放电是指在稀薄气体中，两个电极之间加上电压 时产生的一种气体放电现象。
18
直流溅射：适用于金属材料
射频溅射：是适用于各种 金属和非金属材料的一种 溅射沉积方法
19
4.真空溅射镀膜的优缺 点
20
三、真空离子镀膜
21
1.真空离子镀膜的定 义
在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在 气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反 应物蒸镀在基片上。
1
PVD镀膜工艺简介
2
一、PVD的定义及分 类
二、真空蒸发镀膜
三、真空溅射镀膜
四、真空离子镀膜
3
一、PVD的定义及分 类
1.PVD的定义
物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空 或低气压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物 质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材 性能完全不同的新的固体物质涂层。
7
1.真空的定义
泛指低于一个大气压的气体状态。与普通大气压状态相比，分子密度较为稀 从而气体分子和气体分子、气体分子和器壁之间的碰撞几率要低一些。
2.真空蒸发镀膜的定 义
真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子
直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。
括热蒸发和EB蒸发（电子束蒸发）
离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结 合在一起
22
23
2.真空离子镀膜的原 理
24
3.真空离子镀膜的特 点
25
真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀的比 较
26
Thank you!
27
8
pvd真空渐变镀膜
PVD真空渐变镀膜1. 简介PVD（Physical Vapor Deposition）真空渐变镀膜是一种常用的表面处理技术，通过在真空环境中将固体材料蒸发或溅射到基材表面，形成一层薄膜。
这种技术广泛应用于各个领域，如光学、电子、医疗器械等。
本文将详细介绍PVD真空渐变镀膜的工艺、应用以及未来发展趋势。
2. 工艺流程PVD真空渐变镀膜的工艺流程包括以下几个主要步骤：2.1 清洗与预处理在进行镀膜之前，需要对基材进行清洗和预处理。
清洗可以去除表面的污染物和氧化层，提高镀膜的附着力。
预处理包括去除气体和水分，保证后续步骤在真空环境中进行。
2.2 蒸发或溅射源选择根据需要制备的薄膜材料，选择相应的蒸发或溅射源。
常见的源材料有金属、合金、氧化物等。
蒸发源通过加热使材料蒸发，溅射源则通过离子轰击使材料溅射到基材表面。
2.3 真空系统建立将基材和蒸发源或溅射源放置在真空室中，建立所需的真空环境。
通常使用机械泵和分子泵组成的真空系统，将压力降至10-6至10-8 mbar的范围。
2.4 蒸发或溅射过程开始加热或离子轰击蒸发源，使材料蒸发或溅射到基材表面。
通过控制温度、功率、气压等参数，可以调节镀层的厚度和性质。
2.5 混合气体控制在一些特殊的镀膜工艺中，需要添加混合气体来改变镀层的成分和性质。
混合气体可以通过质量流量控制器精确地加入到真空室中。
2.6 膜层监测与控制在镀膜过程中，需要对膜层进行实时监测和控制。
常用的方法包括光学薄膜监测仪、椭偏仪等。
通过反馈控制系统，可以实现对膜层厚度和光学性能的精确控制。
2.7 冷却与退火镀膜完成后，需要进行冷却和退火处理，以提高薄膜的致密性和结晶度。
冷却过程中要避免快速温度变化，以防止薄膜出现应力和裂纹。
3. 应用领域PVD真空渐变镀膜技术在各个领域都有广泛的应用，下面列举几个常见的应用领域：3.1 光学镀膜PVD真空渐变镀膜在光学领域中应用广泛。
通过控制材料的组分和厚度，可以实现对光的透射、反射和吸收特性的调控。
pvd电镀工艺
pvd电镀工艺PVD电镀工艺是指物理化学气相沉积工艺（英文全称PhysicalVaporDeposition），它是在真空状态下，以物体表面为反应器，以低能量的离子、电子、原子流实现对金属、非金属物质表面的沉积，从而形成膜层。
该工艺是能够在低温、短时间内实现沉积，可以获得具有极高质量的涂层，关键技术在于真空环境和物质离子源选择。
PVD电镀用途PVD电镀技术主要用于涂层金属和非金属，如涂层钛合金、钴合金，也可以用于涂层非金属如碳等等，目的是增加涂层的耐磨性和耐腐蚀性，而且它可以获得低厚度的涂层。
PVD电镀优势PVD电镀是一种技术，具有节能、环保、持久耐用的特点。
它的沉积速度高，有较强的抗腐蚀性，对大多数金属和非金属具有极好的生物相容性，耐磨性能好，沉积后不会变形，耐高温解法材料，可用于高精度表面涂层及薄膜制备。
PVD电镀原理PVD电镀原理是在真空环境中，以电位较低能量的离子、原子等电子流，向待涂层物料表面沉积，实现涂层。
PVD电镀中，待涂层物料表面涂层前，使用无机物质或以合成无机物质为基础的合成气体，利用热沉积作用，在待涂层物料表面沉积涂层。
PVD电镀技术发展随着工业发展，PVD技术不断改进，PVD电镀技术已经发展到结构微观尺度，具有分离控制、降低破坏和改善耐久性的技术特点。
传统的PVD电镀技术虽然可实现涂层，但是仍然存在一定的缺陷，如涂层的质量不稳定，涂层的形貌不稳定，涂层的厚度不均匀，涂层的分子结构不稳定等等。
总结PVD电镀工艺是一种物理化学气相沉积工艺，可以实现涂层金属和非金属，它具有节能、环保、持久耐用的特点，传统的PVD电镀技术也由于不断的发展，具有分离控制、降低破坏和改善耐久性的技术特点。
但是仍然存在一定的缺陷，如涂层的质量不稳定，涂层的形貌不稳定，涂层的厚度不均匀，涂层的分子结构不稳定等等。
PVD镀膜工艺设计
PVD镀膜工艺设计PVD(Physical Vapor Deposition)镀膜工艺设计是一种利用物理方法将金属、合金等材料通常在真空条件下沉积在基材表面的技术。
这种技术主要应用于制备薄膜材料，以改善基材的性能和外观。
首先，选择目标材料是PVD镀膜工艺设计的首要任务。
目标材料的选择应根据使用要求和性能需求。
例如，如果需要制备具有较高硬度的镀膜材料，则可以选择金属氮化物或金属碳化物作为目标材料。
选择合适的目标材料有助于提高镀膜的质量和性能。
接下来，需要设定真空环境。
PVD镀膜是在真空条件下进行的，因此需要选择适当的真空设备，并设定合适的真空度。
真空度的选择应根据目标材料和镀膜方法来确定。
较高的真空度可以提高材料的纯度，从而改善镀膜的质量。
选择镀膜方法是PVD镀膜工艺设计的关键一步。
常见的PVD镀膜方法包括物理汽相沉积、溅射、电弧镀等。
不同的镀膜方法具有不同的优势和适用范围。
例如，物理汽相沉积适用于制备具有较高耐磨性的镀膜材料，而溅射适用于制备薄膜材料。
选择工艺参数是确保镀膜质量和性能的重要一步。
工艺参数包括沉积温度、沉积速率、气压、电流等。
这些参数的选择应根据目标材料和镀膜方法的要求来确定。
例如，沉积温度过高可能导致材料晶粒长大，从而降低镀膜的硬度。
进行材料沉积时，需要注意控制沉积速率和沉积时间，以确保镀膜的质量和均匀性。
沉积速率过高可能导致材料的沉积不均匀，从而影响镀膜的性能和外观。
最后，需要对镀膜进行膜层分析，以评估镀膜质量和性能。
膜层分析可以包括表面形貌、结构分析和物理性能测量等。
这些分析结果可用于优化工艺参数和改进镀膜质量。
综上所述，PVD镀膜工艺设计是一项复杂的任务，需要综合考虑材料选择、真空环境、镀膜方法、工艺参数和膜层分析等多个因素。
通过合理设计和优化，可以获得质量优良的镀膜材料，满足不同应用的需求。
PVD镀膜工艺简介
PVD镀膜工艺简介PVD镀膜（Physical Vapor Deposition）是一种利用物理气相沉积的技术，在高真空环境下，通过蒸发、溅射等方式将金属、合金、化合物等材料以薄膜的形式沉积到基材表面的一种工艺。
PVD镀膜工艺被广泛应用于各个领域，如光学、电子、机械、汽车、建筑等。
蒸发是PVD镀膜中最早应用的一种工艺。
通过加热源将材料加热至蒸发温度，使其转变为气态，然后在真空室内的基板上形成薄膜。
蒸发工艺可以通过电阻加热、电子束加热等方式来进行。
这种工艺的特点是操作简单，成本较低，但适用于蒸发温度较低的材料。
溅射是PVD镀膜中应用较广泛的一种工艺。
通过高能粒子的轰击使靶材表面的原子或离子脱落，然后被沉积在基板表面上形成薄膜。
溅射工艺一般可分为直流溅射、射频溅射、磁控溅射等不同方式。
这种工艺具有较高的沉积速率和较好的膜层均匀性，适用于多种材料的沉积。
离子镀是一种利用离子轰击作用在基材表面上形成薄膜的工艺。
通过向沉积膜层的材料供应高能离子，使其在基板表面发生化学反应并沉积形成薄膜。
离子镀工艺能够提高薄膜的致密性和附着力，适用于复杂形状的基板和高精密要求的镀膜。
在PVD镀膜过程中，需要注意以下几个关键环节。
首先，要确保真空室内的气压稳定，并保持高真空状态，以避免杂质对薄膜质量的影响。
其次，镀膜前需对基材进行表面处理，如清洗、抛光等，以提高薄膜的附着力。
再次，镀膜材料的纯度和均匀性对薄膜性能起着重要影响，因此需要对材料进行精细的处理和选择。
最后，要通过适当的加热、冷却以及离子轰击等方式，使沉积的薄膜具有良好的致密性和均匀性。
PVD镀膜工艺具有许多优点。
首先，它可以在室温下进行，避免了高温对基材产生的热应力和变形。
其次，沉积的薄膜具有较高的质量和均匀性，具有良好的机械性能和化学稳定性。
再次，PVD镀膜可用于多种材料的沉积，如金属、合金、化合物等，具有较大的灵活性和可扩展性。
此外，PVD镀膜还具有低污染性、无溶剂使用、高效节能等环保优势。
pvd电镀工艺
pvd电镀工艺PVD电镀工艺摘要：PVD（Physical Vapor Deposition）电镀工艺是一种新型的电镀技术，它通过将材料以固态的形式加热，使其转化为气相，然后在材料表面形成薄膜。
PVD电镀工艺具有很多优势，如高度均匀的薄膜质量、较高的附着力、较低的工件变形以及对环境的友好等。
本文将重点介绍PVD电镀工艺的原理、应用以及未来的发展方向。
第一部分：PVD电镀工艺的原理PVD电镀工艺的原理是利用高能粒子（离子、原子或分子）对材料表面进行沉积而形成薄膜。
PVD电镀工艺通常包括以下几个步骤：1. 蒸发：将金属材料以固态形式加热，使其转化为气相。
这个过程通常发生在真空环境中，以防止杂质的存在。
2. 沉积：将蒸发的金属材料沉积到待镀件表面。
沉积过程中，高能粒子会与金属材料表面发生反应，形成均匀的薄膜。
3. 附着：通过控制沉积条件，使薄膜附着在待镀件表面。
PVD电镀工艺通常具有很好的附着力，可以在各种形状和材料的表面形成均匀的薄膜。
4. 后处理：经过沉积和附着后，薄膜需要进行一些后处理步骤，如退火、抛光等，以提高膜层的性能。
第二部分：PVD电镀工艺的应用PVD电镀工艺由于其优秀的性能，在许多领域得到广泛应用。
以下是一些常见的PVD电镀工艺应用：1. 防腐蚀镀膜：PVD电镀工艺可以镀制出高硬度、高耐磨、高附着力的膜层，能够有效延长物件的使用寿命，提高物件的耐腐蚀能力。
2. 装饰镀膜：PVD电镀工艺可以通过调整沉积条件，制备出具有不同颜色、光泽度和纹理的膜层，用于制作高档家居产品、手表、珠宝等。
3. 刀具涂层：PVD电镀工艺可以制备出高硬度、高刚度的涂层，用于制作刀具，提高刀具的切削性能和耐磨性。
4. 光学薄膜：PVD电镀工艺可以制备出具有特殊光学性能的薄膜，如折射率控制膜、反射膜、透明导电膜等，广泛应用于光学器件和显示器件中。
第三部分：PVD电镀工艺的发展方向随着科技的不断发展和社会对环境友好和可持续发展的需求，PVD 电镀工艺也在不断进步和改进。
pvd真空渐变镀膜
pvd真空渐变镀膜摘要：1.PVD真空渐变镀膜简介2.PVD真空渐变镀膜的工艺原理3.PVD真空渐变镀膜的应用领域4.PVD真空渐变镀膜的优势与特点5.我国在PVD真空渐变镀膜技术的发展现状6.未来PVD真空渐变镀膜的发展趋势与展望正文：一、PVD真空渐变镀膜简介PVD（物理气相沉积）真空渐变镀膜是一种先进的表面处理技术，通过在真空环境下，将靶材表面物质转化为气相并沉积在基材表面，形成具有一定厚度和成分梯度的薄膜。
这种薄膜具有优异的性能，广泛应用于各个领域。
二、PVD真空渐变镀膜的工艺原理PVD真空渐变镀膜工艺的基本原理是在真空腔体内，通过高速氩离子轰击靶材，使靶材表面物质蒸发并进入真空腔体。
这些气相粒子在基材表面凝结，形成薄膜。
由于氩离子的能量传递，使得薄膜的成分和厚度沿径向呈梯度分布。
三、PVD真空渐变镀膜的应用领域PVD真空渐变镀膜技术在许多领域具有广泛的应用，如电子、光学、建筑、汽车、航空航天等。
在电子产品中，PVD薄膜可作为防腐、抗氧化、抗磨损、电磁屏蔽等功能层；在建筑领域，PVD薄膜可用于玻璃、金属材料的表面修饰，提高其美观性和实用性；在汽车工业中，PVD薄膜可作为抗磨损、抗腐蚀、抗紫外线等涂层，提高零部件的使用寿命。
四、PVD真空渐变镀膜的优势与特点PVD真空渐变镀膜具有以下优势和特点：1.薄膜性能优异，具有良好的耐腐蚀、抗氧化、抗磨损等性能。
2.薄膜厚度可精确控制，成分呈梯度分布，具有优异的涂层均匀性。
3.工艺过程环保，无污染排放。
4.适用于各种基材，应用范围广泛。
五、我国在PVD真空渐变镀膜技术的发展现状近年来，我国PVD真空渐变镀膜技术取得了显著的发展，不仅在科研领域取得了突破，而且在产业化方面也取得了丰硕的成果。
我国已成功研发出具有自主知识产权的PVD设备，并广泛应用于工业生产领域。
此外，我国在PVD 薄膜材料、工艺研发和产业化方面与国际先进水平保持同步。
六、未来PVD真空渐变镀膜的发展趋势与展望随着科技的不断进步和市场需求的增长，PVD真空渐变镀膜技术将迎来更广泛的应用和发展。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
编撰：张学章真空镀膜(PVD)工艺介绍真空镀膜(PVD)工艺知识介绍2010年01月20日拟订:张玉立讲解:刘红彪目录1. 真空镀膜技术及设备发展;2. 真空镀膜的工艺基本流程;3.真空镀膜的工艺特性;4.真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求;5.真空镀膜工艺关键技术与先进性;6.真空镀膜新工艺展示;7.东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍；前言真空镀膜行业兴起背景；随着欧盟RoHS指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。
传统高污染之电镀行业已不符合环保要求，必将被新兴环保工艺取代。
而真空镀膜没有废水、废气等污染，在环保上拥有绝对优势，必将兴起并普及。
1：真空镀膜技术及设备发展1. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。
气相生成法又可分为物理气相沉积法（简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。
我们今天主要介绍的是物理气相沉积法。
由于这种方法基本都是处于真空环境下进行的，因此称它们为真空镀膜技术。
惰性气体等离子状态Ar+2：真空镀膜的工艺基本流程素材检检组装治具擦拭产品底涂上下料喷底涂、IR镀膜上下料镀膜（PVD)喷面漆、IR（颜色）下治具检验包装IR 烘烤不导电真空上料PVD 技术操作简易流程图片技术操作简易流程图片：塑胶件采用专用的UV 涂料，用自动涂装线喷涂，对素材进行封闭、增加基材平整性。
高纯度锡金属作为蒸发材料进行物理气相沉积镀膜，镀层金属膜层厚度为纳米级（30-50NM ）金属原子微观上不连接，从而保证不导电性能，同时具备较强的金属质感。
塑胶件采用专用的UV 涂料，用自动涂装线喷涂，对素材进行封闭、增加基材平整性。
UV 涂层膜厚，表面硬度（IR 烤箱温度、UV 紫外光固化能量、波峰值）精确控制，严格测试。
通过制程各项工程参数（如真空度、电流、电压、时间、膜材用量）的精确控制及严格的品质监测流程、设备（镀层阻抗测量、网络分析仪RF 射频测试）确保制程品质稳定。
采用自动涂装线对镀层喷涂面UV 进行有效保护，并与底层UV 有效咬合，通过涂料专业品质及制程工艺参数精确控制确保成品各项品质要求。
同时通过特殊的颜色获得技术（已申报专利）获得具金属质感的丰富多彩的各种颜色效果的制成品。
通过完善先进的测试设备，方法严格管控，实现产品过程及制程品品质，确保产品外观，电子性能（RF 、ESD 性能）耐侯性（RCA 耐磨、铅笔硬度、盐雾、冷垫冲击、耐化妆品）等行业品质标准。
让产品具备极强的市场生命力。
2.2：真空镀膜的工艺基本流程PVD 技术流程技术流程：3：真空镀膜的工艺特性1.纳米级厚度、膜厚均匀。
真空镀膜膜层厚度仅数十至数百纳米(一般≤0.2um)，膜层各部位厚度极为均匀。
例：镀铝层厚度达0.9nm时就可导电，达到30nm时性能就和固态铝材相同，银镀层小于5nm时不能导电。
各塑胶产品本身具有约0.5um的粗糙度，结合第1条因素故塑胶表面均在镀膜前喷涂UV进行封闭流平，以达到理想的镜面效果。
因镀膜层太薄，故对底涂UV材料外观要求近乎苛刻，这就要求涂装室洁净度极高。
同时产品外观面积越大，不良率就可能就越高（目前奥科生产车间洁净度为10000级，喷涂室、烤箱、镀膜车间洁净度3000级）。
镀膜厚度目前主要通过光透过率及反射率来控制，镀层越厚，透光率越差，反射率越高。
3.1：真空镀膜的工艺特性2. 镀膜产品放置具有方向性：在立式、卧式镀炉中，产品均须于镀炉工装平行平面放置。
因为金属材料随蒸气流作直线或弧线运动，而镀膜材料一般均与工装平行放置。
镀膜室空间一定, 产品平面面积越大, 曲面越深, 产能就越低, 相应生产成本就越高。
3.底涂UV后及镀膜后产品表面极其脆弱敏感,需特殊保护。
因镀膜层仅几十纳米, 对底涂UV层表面不良不具备遮蔽能力, 另镀层因太薄，镀膜层金属极其柔弱，极易刮伤、碰伤。
产品底涂UV后, 镀膜后不能进行人工全检,(用小批量试产的办法确定良品率)作业过程中, 通过治具专用手柄、戴指套、口罩及车用无尘罩等办法预防产品表面被污染、破坏。
3.2：真空镀膜的工艺特性4.镀膜材料或蒸气流入射速度极高，一般磁控溅射及蒸发镀金属原子入射速度均在2000米/秒左右。
每炉镀膜时间（金属原子累积入射沉淀时间）一般在15-20分钟左右，磁控溅射视工艺不同有所区别。
每炉产能以普通翻盖手机外壳为例约450-800PCS/炉不等，产品大小不同，每炉产能不同。
5.颜色制作途径多样化，目前有三种颜色制作途径：一、是在中涂UV或面涂UV中添加色精。
因色精会与UV紫外光起作用，故添加量一般5%左右；二、是在镀膜过程中充入气体，使气体与金属材料反应获得颜色（如Ar2+O2+铝金属可获得黑色,O2+Al获得黄色）；三、是前述两者相结合进行生产。
一般来说颜色越深、越浓、越艳；附着力会越差（加色精工艺）。
3.3：真空镀膜的工艺特性6.镀膜用金属材料范围极广，除铁金属外，各种金属及金属合金，理论上都可用作镀材。
常用的有铝、铜、锡、镍、铬等。
另因镀膜是物理过程，对产品材料本身性能几乎没有影响。
7.镀膜产品能达到的品质水准:附着力：无脱落-。
RCA耐磨：200-300次。
硬度：1H-3H ABS+PC素材一般在500g擦1H；PMMA素材则可达3H，甚至4H。
其它诸如高低温、冷热冲击、盐雾测试、紫外线测试、化妆品测试、抗人造汗测试等均可达到常规要求。
3.4：真空镀膜的工艺特性8、生产过程时间局限性：因金属镀层长时间露置在空气中会氧化发黑，不同材料氧化速度不同，其中锡镀层氧化速度最快，8H就会明显发黑，另底漆UV静置时间如过长，漆膜太厚也会影响镀膜层附着力。
故底漆UV、镀膜及面涂UV几个工序之间作业时间间隔依据实际作业经验一般限定在8-12H范围内。
9、UV涂料及涂料施工特性：镀膜用的底涂UV及面涂UV涂料相比普通塑胶喷涂UV涂料有两个明显不同之特性：1）涂料材料组成之固含量高，底漆UV最高；2）不含且不能添加普通喷涂用的惰性溶剂，须特殊调配专用溶剂。
故产品单位涂料用量及成本明显比普通塑胶喷涂高出很多，另底漆UV、面涂UV及色精对UV能量范围的要求也较普通UV苛刻，一般底漆UV要求800-1000mj/cm2面涂UV要求900-1100 mj/cm2不同颜色之色精根据实际情况调整UV灯能量。
UV生产时过滤要求也比普通塑胶UV严格，一般要求用600目左右过滤网进行过滤。
UV膜厚要求为底涂18-25um，面涂UV18-22um。
4：真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求作为真空镀膜的塑胶素材，其最基本的性能应包括附着性能、真空放气量和耐热性外观设计等几方面的指标。
1.附着力：被镀素材应与真空镀膜材料有良好的附着结合强度，一般认为聚脂类材料和镀铝膜层的结合力最强（如PET）.衡量附着性能良好的标准是塑胶件表面自由能（表面活性指数）一般表面自由能＜33-35×10-5 N/CM 的为弱极性塑胶（如PP）常用塑胶材质中附着力高低依次为ABS →ABS+PC→PC →PVC。
真空镀层与素材之间的附着力可以通过实施底涂来加以提高，还可以通过化学材料清洗、浸泡,等离子体预处理等来提高。
2.真空放气量：某些素材中可能含易挥发小分子（包括水分、增塑剂、残留溶剂、未反应单体、增加剂等）在真空状态下将以气体形式溢出，破坏镀膜层的附着力：平整性和外观.素材在常温下放气并不明显，但在真空状态下，随温度上升，放气量增大。
不同材质素材，其放气量差异较大，如一般ABS、ABS+PC含水量多在0.5％--0.2％之间，真空状态下ABS放气主要含水分,CO和氢气，尼龙、尼龙+纤，聚乙烯醇材料等较易吸潮，水分含量更高严重干扰镀膜，目前处理此类问题的办法有二种：一种是预热烘烤处理,将水分含量控制在0.1%以下;另一种方法用底涂UV封闭。
但含量太高则不行，如增塑剂含量10％以上的增塑剂就会溢出。
4.1：真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求3、耐热性：真空镀膜无论采用何种工艺，素材都必须面临升温考验，蒸发源的辐射热,镀膜材料的高能粒子、气化原子、分子等离子体等，在素材上的冷凝热和动能都将使素材（浅表层）迅速升温，如果素材的耐热性差，真空镀膜时将出现皱纹，甚至整体收缩，过度受热还可以导致塑料分解，镀膜起泡、剥落。
不同塑料的耐热性千差万别。
一般来说PVC材料的热稳定性较差，热变形温度较低，通常最高只能在60-70℃下使用，一般工程塑料可以在200℃以下使用，电子塑胶件不是特薄，特细件一般做真空镀膜均不会产生变形状况。
4、新项目设计开发时素材边缘处尽量设计带R角和有弧度的面,这样可以使喷涂的膜厚均匀测试性能稳定。
5.1：真空镀膜工艺关键技术与先进性产品检测中射频网络分析仪检测展示5.3：真空镀膜工艺关键技术与先进性1：真空镀膜制程无废水，废渣、废气排放，极其环保健康，完全杜绝了传统工业水电镀的六价铬、镍镉对环境的污染、对劳动者身体健康的威胁。
2：使塑料制品具备高质感，多颜色的金属效果，同时又杜绝了金属制品对通讯产品的电磁屏蔽影响，具备良好的产业发展前景。
3：通过强大的技术研发实力，使整个产品实现过程工艺简单、品质确保、效率高、成本低，具备良好的市场竞争力。
4：真空镀膜设备配置，检测设备配置处于行业领先水平。
6：真空镀膜PVD新工艺展示1:新工艺-PVD颜色渐变效果展示颜色渐变效果附简图颜色渐变效果清新自然,金属质感强。
信赖性测试稳定，盐雾测试、恒温恒湿、化妆品、紫外线、耐水煮等测试均OK.6.1：真空镀膜PVD新工艺展示2:新工艺-PVD珠光效果展示珠光效果附简图喷涂珠光效果产品耐化学性好，具有独特的光泽效果及金属效果，属于不导电特性；半透明体，反射光极强，颜色种类齐全可随意选择。
信赖性测试稳定，盐雾测试、恒温恒湿、化妆品、紫外线、耐水煮等测试均OK.6.2：真空镀膜PVD新工艺展示3:新工艺-PVD拉丝效果展示PVD拉丝效果附简图PVD拉丝效果清晰，金属质感强，可以做哑光、亮光不同颜色的效果。
信赖性测试稳定，盐雾测试、恒温恒湿、化妆品、紫外线、耐水煮等测试均OK。
6.3：真空镀膜PVD新工艺展示4:新工艺-PVD喷墨效果展示PVD喷墨效果附简图PVD喷墨效果清晰，图像质量高，色彩逼真；信赖性测试稳定，盐雾测试、恒温恒湿、化妆品、紫外线、耐水煮等测试均OK7：东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍7.1：东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍7.2：东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍东莞劲胜精密组件股份有限公司上沙车间外景东莞劲胜精密组件股份有限公司上沙车间内景及真空镀膜NCVM工艺示意图东莞劲胜精密组件股份有限公司真空镀膜（PVD)之应用领域JANUS真空镀膜之应用领域:1.手机外壳、按键、ESD按键、EMI屏蔽、塑胶外壳装饰镀膜等；2.不导电制程加工;3.电子通讯塑胶制品表面处理加工；4.数码相机、摄像机液晶窗镜片及按键；5.MP3/MD/CD机视窗镜片;6.液晶窗镜片,镜片处理及CNC加工.东莞劲胜精密组件股份有限公司真空镀膜（PVD)样品展示东莞劲胜精密组件股份有限公司真空镀膜（PVD) 比传统电镀具有的优点①产品表面附着力强;②产品导电系数稳定可控(可做不导电镀膜);③无电解,环保制程,对环境无污染;④被镀物与镀层不产生化学反应,产品可回收;⑤连续性生产产量大;⑥产品不含化学物, 符合RoHS标准要求;环保制程，不导电镀，薄膜技术，奈米科技；真空腔体，连续生产，无尘车间，质量保证；劲胜公司不导电真空离子镀膜环保不含禁止物质所有操作均符合RoHS标准要求The End ,Thanks!完编撰：张学章。