真空电镀及工艺流程(Vacuumplatingandprocess)
真空电镀及工艺流程

真空电镀及工艺流程真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。
常用的金属是铝等低熔点金属。
加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。
在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。
此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。
通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低(10-5Pa )。
镀层厚度0.04-0.1um,太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。
厚度0.04时反射率为90% ,真空离子镀,又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法,做出来的产品金属感强,亮度高.而相对其他的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染小,现在为各行业广泛采用.真空电镀适用范围较广,如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高,单价比水电镀昂贵.现对其工艺流程作简要介绍:产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装.一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆,再做电镀.由于素材是塑料件,在注塑时会残留空气泡,有机气体,而在放置时会吸入空气中的水分.另外,由于塑料表面不够平整,直接电镀的工件表面不光滑,光泽低,金属感差,并且会出现气泡,水泡等不良状况.喷上一层底漆以后,会形成一个光滑平整的表面,并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生,使得电镀的效果得以展现.真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.工艺有蒸镀、溅镀、枪色等.水电镀因工艺较简单,从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻,从而被广泛应用.但水电镀有个弱点,只能镀ABS料和ABS+PC料(此料镀的效果也不是很理想).而ABS料耐温只有80℃,这使得它的应用范围被限制了.而真空电镀可达200℃左右,这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了.像风嘴、风嘴环使用PC料,这些部件均要求耐130℃的高温.另,一般要求耐高温的部件,做真空电镀都要在最后喷一层UV油,这样使得产品表面即有光泽、有耐高温、同时又保证附着力.两种工艺的优缺点:A、简单来说,真空电镀不过UV油,其附着力很差,无法过百格TEST,而水电镀的明显好于真空电镀!因此,为保证真空电镀的附着力,均需后续进行特殊的喷涂处理,成本当然高些.B、水电镀颜色较单调,一般只有亮银和亚银等少数几种,对于闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等五花八门的七彩色就无能为力了.而真空电镀可以解决七彩色的问题.C、水电镀一般的镀层材质采用“六价铬”,这是非环保材料.对于“六价铬”有如下的要求:欧盟:76769EEC:禁止使用;9462EC:100ppm;ROHS:1000ppm 如此严格的要求,国内一些厂家已开始尝试使用“三价铬”来替代“六价铬”;而真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求.简单一点,就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术.它有真空蒸发镀,溅射镀,离子镀等,获得这些沉积方法的途径有多种:电加热、离子束、电子束、直流溅射、磁控溅射、中频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离子体、多弧等等很多种方法,可以根据的需求和经济技术条件考虑选用的涂层设备.相对于传统的湿发电镀,真空电镀具有以下优点:1.沉积材料广泛:可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属,通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层,而且可以根据需要设计涂层体系.2.节约金属材料:由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良,沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层,达到节约的目的.3.无环境污染:由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面,没有溶液污染,所以对环境的危害相当小.但是由于获得真空和等离子体的仪器设备精密昂贵,而且沉积工艺还掌握在少数技术人员手中,没有大量被推广,其投资和日常生产维护费用昂贵.但是随着社会的不断进步,真空电镀的优势会越来越明显,在某些行业取代传统的湿法电镀是大势所趋!真空离子镀,又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法,做出来的产品金属感强,亮度高.而相对其他的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染小,现在为各行业广泛采用.真空电镀,这个词不确切.不能归属于电镀.当然也有叫干法镀,通常叫真空镀离子镀等.学科上,我们认为主要考虑镀层与基体的结合性质机械附着还是冶金结合,把它扩大范围统称为气相沉积,有如下分类气相沉积分化学气相沉积物理气相沉积化学气相沉积高温中温低温物理气相沉积真空蒸镀离子镀....其中低温气相沉积实际是用低温等离子体增强的化学气相沉积.是一种实用性强的工模具强化技术.。
真空电镀及工艺流程

真空电镀及工艺流程真空电镀是一种常用的表面处理技术,它可以在金属、塑料、陶瓷等材料表面形成一层金属膜,以增加材料的耐腐蚀性、耐磨性和美观性。
在工业生产中,真空电镀广泛应用于汽车零部件、电子产品、珠宝首饰等领域。
本文将介绍真空电镀的工艺流程及其相关知识。
首先,让我们来了解一下真空电镀的原理。
真空电镀是利用真空蒸发技术将金属材料蒸发成金属蒸气,然后在工件表面沉积形成一层金属薄膜的过程。
这种薄膜可以提高工件的表面硬度、耐腐蚀性和耐磨性,同时还可以赋予工件不同的颜色和光泽。
接下来,我们将介绍真空电镀的工艺流程。
真空电镀的工艺流程主要包括材料准备、清洗处理、真空蒸发、沉积和后处理等环节。
首先是材料准备。
在进行真空电镀之前,需要准备好待处理的工件和电镀所需的金属材料。
通常情况下,金属材料以块状或粉末状放置在电镀设备的加热舱中,待蒸发使用。
接着是清洗处理。
在进行真空电镀之前,工件表面需要进行严格的清洗处理,以去除表面的油污、氧化物和其他杂质。
清洗处理可以采用化学清洗、机械清洗、超声波清洗等方法,确保工件表面干净无尘。
然后是真空蒸发。
清洗处理后的工件被放置在真空电镀设备的工作腔内,通过加热将金属材料蒸发成金属蒸气。
蒸气在真空环境中扩散并沉积在工件表面,形成金属薄膜。
接着是沉积。
经过真空蒸发后,金属薄膜开始在工件表面沉积。
沉积速度和均匀性是影响沉积质量的重要因素,需要通过控制加热温度、蒸发速率和工件旋转速度等参数来实现。
最后是后处理。
沉积完毕后的工件需要进行后处理,包括冷却、清洁、检测和包装等环节。
冷却可以使金属薄膜迅速固化,清洁可以去除表面残留的杂质,检测可以确保沉积质量符合要求,最后进行包装以防止表面受到污染。
总的来说,真空电镀是一种重要的表面处理技术,它可以为材料表面提供多种功能和装饰效果。
通过严格的工艺流程和控制参数,可以实现高质量的金属薄膜沉积。
希望本文能够帮助读者更好地了解真空电镀及其工艺流程。
真空电镀(PVD)UV底漆的工艺流程

概要:1、真空电镀(PVD)UV底漆-涂装方式机械喷涂和手工喷涂。
2、真空电镀(PVD)UV底漆-涂料性状序号项目标准1涂料外观无杂质的透明胶液2颜色(号,铁/钴比色)≤23粘度(涂4#杯,S/20℃)13±34固化速度...1、真空电镀(PVD)UV底漆-涂装方式机械喷涂和手工喷涂。
2、真空电镀(PVD)UV底漆-涂料性状序号项目标准 1涂料外观无杂质的透明胶液2颜色(号,铁/钴比色)≤23粘度(涂4#杯,S/20℃)13±34固化速度(m/min)6(3KW中压汞灯1支,灯距25cm)5固含量(%)≥956贮存稳定性80℃×72hr通过3、真空电镀(PVD)UV底漆-涂膜性能序号项目标准1漆膜外观平整、光滑、无针眼、缩孔 2光泽度(%60)≥983铅笔硬度(H)≥1H(底漆)≥2H (面漆)4c性(mm)≤55弯曲附着力(划格法,级) ≤16耐热性PC基材:120℃烘烤2hr无变化ABS基材:80℃烘烤2hr无变化4、真空电镀(PVD)UV底漆-施工注意事项4.1 UV漆应避光封存于阴凉、干燥、远离火源处;贮存期为六个月(30℃以下),超期后经检验合格可继续使用。
4.2 UV漆可直接使用,使用时不得混入水、油等任何溶剂,禁止往UV涂料中掺入稀释剂。
4.3 应避免皮肤直接接触UV漆,操作时应戴上防护眼镜和薄膜手套,若UV 漆溅上皮肤,应立即用肥皂水洗净。
4.4 生产过程中,要经常观察紫外灯的工作状态,必须保证每盏灯正常工作。
4.5 UV漆使用前用400目滤布过滤。
真空电镀(PVD)UV底漆1、工艺流程前处理→除油→除尘→喷涂UV底漆→流平→紫外线固化→镀膜工序→喷涂UV面漆→流平→紫外光固化→包装2、施工条件:2.1 除尘:用压缩空气将工件吹干净,场地使用前用湿拖布拖净除尘,保证整个工作场地无尘粒。
2.2 喷漆:选用雾化好的喷枪,厚薄均匀喷涂,注意不要少喷、漏喷,以免出现润湿不良的缩孔和涂膜太薄的桔皮现象。
vcp电镀流程和原理

vcp电镀流程和原理
VCP(Vacuum Coating Process)是一种利用真空环境下的电子束蒸发技术进行电镀的流程和原理。
VCP电镀流程包括以下几个步骤:
1. 准备底材:首先将需要进行电镀的物体作为底材,确保表面平整、清洁和无油污等杂质。
2. 预处理:对底材进行预处理,包括去除表面氧化层、清洗和干燥等步骤,以确保表面无杂质和污染。
3. 进入真空腔室:将底材放入真空腔室内,确保腔室内的真空状态。
4. 电子束蒸发:在真空腔室中加入所需的金属材料,通常使用电子束炉将金属材料蒸发,通过高能电子束轰击,使金属材料原子从固态到气相的转变。
5. 沉积:蒸发的金属原子在真空腔室内沉积在底材表面上,形成金属膜层。
沉积速率和膜层厚度可以通过控制蒸发时间和金属材料的蒸发速率来调节。
6. 进行后处理:电镀后可以进行一些后处理步骤,比如清洗、抛光和检测等,以提高电镀层的质量和外观。
除了上述步骤外,VCP电镀的原理是基于真空腔室中的金属材料蒸发和沉积的过程。
在真空状态下,由于金属材料的固态结构变得不稳定,加热金属材料可以使其原子从固态变为气相,然后在底材表面沉积形成金属膜层。
蒸发的金属原子会以分子束的形式沉积在底材表面,形成致密、均匀和具有优异性能的电镀层。
真空镀工艺流程

真空镀工艺流程真空镀工艺流程是一种利用物理或化学方法,在真空环境中将金属或非金属薄膜均匀沉积在基底上的一种工艺。
以下是一般真空镀工艺流程的详细步骤:1. 基底清洗:首先将要进行镀膜的基底,如玻璃、金属等,进行清洗处理。
常用的清洗方法包括机械清洗、超声波清洗和化学溶液清洗。
这一步的目的是去除基底表面的脏物、油渍等杂质,保证镀层与基底之间的粘结力。
2. 真空系统排气:将清洗过的基底放入真空镀膜系统中,通过真空泵进行排气。
排气的过程也是创造出一个稳定的真空环境的过程,通常需要排除空气中的水分、灰尘和其他杂质。
真空度的要求根据具体的镀膜类型和要求而定。
3. 高温处理:在达到一定的真空度后,通过加热手段提高基底的温度。
高温处理有助于提高表面扩散作用和晶粒生长速度,同时也可使基底表面的水分蒸发。
高温处理的温度、时间等参数需要根据不同的材料和要求进行调整。
4. 蒸镀:在基底温度达到要求后,开始进行蒸镀。
蒸镀基本原理是将待镀材料放入加热的容器中,通过加热将其转变为蒸汽或气体,并使之沉积在基底上。
蒸镀材料通常是金属或非金属,常见的有铝、铜、银、二氧化硅等。
蒸镀时间和温度需要根据所需的厚度和质量进行掌握。
5. 冷却:蒸镀完成后,将基底冷却到室温。
冷却的过程需要缓慢进行,以防止基底上的膜层出现应力和裂纹。
冷却过程可以通过降低加热源的温度或者使用冷却介质来实现。
6. 检测和分析:对镀膜进行质量检测和表征,主要包括厚度、粗糙度、附着力和光学性能等方面。
常用的检测方法有光学显微镜、扫描电子显微镜(SEM)和衬底厚度测试仪等。
7. 包装和储存:经过检测合格的镀膜可以进行包装和储存。
包装的目的是保护镀膜免受环境和物理损伤。
常见的包装方式有胶带包装、塑料薄膜封装和真空封装等。
总之,真空镀工艺流程是一项复杂而精细的工艺,需要对镀膜材料、基底材料和各个工艺参数进行严格掌控,才能获得高质量的镀膜产品。
随着技术的发展和应用的拓宽,真空镀工艺在各个领域都发挥着重要的作用,将继续推动科学技术的进步和人类社会的发展。
vcp电镀工艺流程

vcp电镀工艺流程VCP电镀工艺流程VCP(Vacuum Channel Plasma)电镀工艺是一种新型的真空离子电镀技术,它通过在真空环境下产生的等离子体中激活金属离子,使其以高速度沉积在工件表面,形成一层均匀致密的金属镀层。
VCP电镀工艺具有操作简单、镀层精细、成本低廉等优点,被广泛应用于电子、航空航天等领域。
VCP电镀工艺的流程主要包括材料准备、设备设置、真空抽气、加热预处理、金属镀层、冷却退火等步骤。
首先,进行材料准备。
将待镀件进行清洗、抛光等处理,确保表面干净无杂质。
接下来,进行设备设置。
安装好离子镀膜设备,并设置好镀液的成分和浓度,以及相关的工艺参数。
然后,进行真空抽气。
将待镀件放入真空室内,通过抽气装置将真空室内的气体抽除,达到所需的真空度。
接着,进行加热预处理。
将真空室内的待镀件加热至一定温度,以提高金属离子的活性,增加金属镀层的附着力和致密度。
接下来,进行金属镀层。
在真空室内产生离子等离子体,并将金属离子激活。
激活的金属离子会通过辅助电极引导,以高速度沉积在待镀件的表面,形成金属镀层。
最后,进行冷却退火。
将镀好的工件进行冷却处理,使金属镀层的结构更加均匀致密,提高其抗腐蚀性和硬度。
整个VCP电镀工艺流程简单高效,且镀层质量稳定可靠。
相比传统的电镀工艺,VCP电镀工艺具有以下优点:1. 操作简单:VCP电镀工艺无需繁琐的操作步骤,只需基本的设备设置和参数调节,降低了操作难度。
2. 镀层精细:VCP电镀工艺通过在真空环境下进行镀层,可控制金属离子的沉积速度和位置,使得镀层更加均匀细致。
3. 成本低廉:VCP电镀工艺无需使用昂贵的镀液和电镀设备,可通过较低成本的设备和材料,实现金属镀层的制备。
总的来说,VCP电镀工艺在电镀行业中具有广泛的应用前景。
随着科技的不断发展,VCP电镀工艺将不断改进和创新,使得电镀工艺更加高效、环保和可持续。
真空电镀及工艺流程

真空电镀及⼯艺流程真空电镀及⼯艺流程真空电镀及⼯艺流程真空蒸镀法是在⾼度真空条件下加热⾦属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表⾯形成⾦属薄膜的⽅法。
常⽤的⾦属是铝等低熔点⾦属。
加热⾦属的⽅法:有利⽤电阻产⽣的热能,也有利⽤电⼦束的。
在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保⾦属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进⾏调整。
此外,熔点、沸点太⾼的⾦属或合⾦不适合于蒸镀。
置待镀⾦属和被镀塑料制品于真空室内,采⽤⼀定⽅法加热待镀材料,使⾦属蒸发或升华,⾦属蒸汽遇到冷的塑料制品表⾯凝聚成⾦属薄膜。
在真空条件下可减少蒸发材料的原⼦、分⼦在飞向塑料制品过程⼬和其他分⼦的碰撞,减少⽓体⼬的活性分⼦和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从⽽提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着⼒。
通常真空蒸镀要求成膜室内压⼒等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很⾼的场合,则要求压⼒更低(10- 5Pa ) o 镀层厚度太薄,反射率低;太厚,附着⼒差,易脱落。
厚度时反射率为90% ,真空离⼦镀,⼜称真空镀膜.真空电镀的做法现在是⼀种⽐较流⾏的做法,做出来的产品⾦属感强,亮度⾼.⽽相对其他的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染⼩,现在为各⾏业⼴泛采⽤.真空电镀适⽤范围较⼴,如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.同时因其⼯艺流程复杂、环境、设备要求⾼,单价⽐⽔电镀昂贵.现对其⼯艺流程作简要介绍:产品表⾯清洁⼀〉去静电⼀〉喷底漆--〉烘烤底漆- -〉真空镀膜--〉喷⾯漆--〉烘烤⾯漆--〉包装.⼀般真空电镀的做法是在素材上先喷⼀层底漆,再做电镀.由于素材是塑料件,在注塑时会残留空⽓泡,有机⽓体,⽽在放置时会吸⼊空⽓中的⽔分.另外,由于塑料表⾯不够平整,直接电镀的⼯件表⾯不光滑,光泽低,⾦属感差,并且会出现⽓泡,⽔泡等不良状况.喷上⼀层底漆以后,会形成⼀个光滑平整的表⾯,并且杜绝了塑料本⾝存在的⽓泡⽔泡的产⽣,使得电镀的效果得以展现.真空电镀可分为⼀般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.⼯艺有蒸镀、溅镀、枪⾊等.⽔电镀因⼯艺较简单,从设备到环境得要求均没有真空离⼦镀苛刻,从⽽被⼴泛应⽤.但⽔电镀有个弱点,只能镀ABS料和ABS+PC料(此料镀的效果也不是很理想).⽽ABS料耐温只有80°C,这使得它的应⽤范围被限制了.⽽真空电镀可达200°C左右,这对使⽤在⾼温的部件就可以进⾏电镀处理了.像风嘴、风嘴环使⽤PC料,这些部件均要求耐130°C的⾼温.另,⼀般要求耐⾼温的部件,做真空电镀都要在最后喷⼀层UV油,这样使得产品表⾯即有光泽、有耐⾼温、同时⼜保证附着⼒.两种⼯艺的优缺点:A、简单来说,真空电镀不过UV油,其附着⼒很差,⽆法过百格 TEST,⽽⽔电镀的明显好于真空电镀!因此,为保证真空电镀的附着⼒,均需后续进⾏特殊的喷涂处理,成本当然⾼些.B、⽔电镀颜⾊较单调,⼀般只有亮银和亚银等少数⼏种,对于闪银、魔幻蓝、裂纹、⽔滴银等五花⼋门的七彩⾊就⽆能为⼒了.⽽真空电镀可以解决七彩⾊的问题.C、⽔电镀⼀般的镀层材质采⽤“六价鎔”,这是⾮环保材料.对于“六价銘”有如下的要求:欧盟:76769EEC:禁⽌使⽤;9462EC: lOOppm;ROHS: lOOOppm如此严格的要求,国内⼀些⼚家已开始尝试使⽤“三价鋁”来替代“六价銘”;⽽真空电镀使⽤的镀层材质⼴泛、容易符合环保要求.简单⼀点,就是在真空状态下将需要涂覆在产品表⾯的膜层材料通过等离⼦体离化后沉积在⼯件表⾯的表⾯处理技术.它有真空蒸发镀,溅射镀,离⼦镀等,获得这些沉积⽅法的途径有多种:电加热、离⼦束、电⼦束、直流溅射、磁控溅射、⼬频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离⼦体、多弧等等很多种⽅法,可以根据的需求和经济技术条件考虑选⽤的涂层设备.相对于传统的湿发电镀,真空电镀具有以下优点:1.沉积材料⼴泛:可沉积铝、钛、错等湿法电镀⽆法沉积的低电位⾦属,通以反应⽓体和合⾦靶材更是可以沉积从合⾦到陶瓷甚⾄是⾦刚⽯的涂层,⽽且可以根据需要设计涂层体系.2.节约⾦属材料:由于真空涂层的附着⼒、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良,沉积的镀层可以远远⼩于常规湿法电镀镀层,达到节约的⽬的.3.⽆环境污染:由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离⼦体沉积在⼯件表⾯,没有溶液污染,所以对环境的危害相当⼩.但是由于获得真空和等离⼦体的仪器设备精密昂贵,⽽且沉积⼯艺还掌握在少数技术⼈员⼿⼬,没有⼤量被推⼴,其投资和⽇常⽣产维护费⽤昂贵.但是随着社会的不断进步,真空电镀的优势会越来越明显,在某些⾏业取代传统的湿法电镀是⼤势所趋!真空离⼦镀,⼜称真空镀膜.真空电镀的做法现在是⼀种⽐较流⾏的做法,做出来的产品⾦属感强,亮度⾼.⽽相对其他的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染⼩,现在为各⾏业⼴泛采⽤.真空电镀,这个词不确切.不能归属于电镀?当然也有叫⼲法镀,通常叫真空镀离⼦镀等.学科上,我们认为主要考虑镀层与基体的结合性质机械附着还是冶⾦结合,把它扩⼤范围统称为⽓相沉积,有如下分类⽓相沉积分化学⽓相沉积物理⽓相沉积化学⽓相沉积⾼温⼬温低温物理⽓相沉积真空蒸镀离⼦镀....其⼬低温⽓相沉积实际是⽤低温等离⼦体增强的化学⽓相沉积.是⼀种实⽤性强的⼯模具强化技术.。
真空电镀工艺流程和原理

真空电镀工艺流程和原理一、真空电镀工艺流程真空电镀的工艺流程主要包括前处理、真空镀膜、后处理等环节。
下面将详细介绍这几个环节的具体步骤。
1. 前处理前处理是真空电镀的第一步,主要是为了清洁工件表面,去除表面油污、氧化物等杂质,保证镀膜的附着力和质量。
前处理的步骤包括:1)超声清洗:将工件放入超声清洗机中,通过超声波震荡,将表面附着的杂质和污垢清洗干净。
2)碱性清洗:用碱性清洗剂浸泡工件,去除表面油脂和氧化物。
3)酸性清洗:用酸性清洗剂处理工件表面,去除残留的氧化物和杂质。
4)漂洗:用清水将化学清洗剂清洗干净。
5)干燥:将清洗干净的工件放入烘干室中,去除水分,准备进行下一步处理。
2. 真空镀膜真空镀膜是真空电镀的核心环节,主要是将金属材料蒸发成蒸汽,通过真空技术沉积在工件表面上,形成金属镀层。
真空镀膜的步骤包括:1)真空抽气:将工件放入真空镀膜机的反应室中,启动真空泵抽除室内的气体,使反应室内形成高真空环境。
2)加热:通过电加热或电子束加热等方式,将金属材料加热至一定温度,使其蒸发成蒸汽。
3)蒸发:金属材料蒸发成蒸汽后,通过控制蒸汽流向,使其均匀沉积在工件表面上,形成金属镀层。
4)控制厚度:通过调节蒸发时间和镀膜速度等参数,控制金属镀层的厚度,保证镀层的质量。
3. 后处理后处理是真空电镀的最后一步,主要是为了提高镀层的光泽度和硬度,延长镀层的使用寿命。
后处理的步骤包括:1)热处理:将镀膜加热至一定温度,使其晶体结构重新排列,提高镀层的硬度和抗腐蚀性能。
2)抛光:通过机械或化学抛光的方法,将镀层表面的凹凸不平和杂质去除,提高镀层的光泽度。
3)喷涂保护层:在镀层表面喷涂一层保护漆或透明涂层,提高镀层的耐磨性和耐腐蚀性能。
二、真空电镀的原理真空电镀是基于真空技术和原子层蒸发原理的一种表面处理技术。
下面将详细介绍真空电镀的原理。
1. 真空技术真空技术是真空电镀的基础,主要是通过真空泵将空气或其他气体抽除,形成低压或高真空环境,为镀膜提供良好的工作环境。
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真空电镀及工艺流程(Vacuum plating and process)真空电镀及工艺流程(Vacuum plating and process)Vacuum plating and processSource: the full update training date: 2011 09 month 22 hits: 216 Vacuum evaporation is heated in a high vacuum condition of the metal, melting, evaporation, cooling after forming a metal film on plastic surface. The commonly used metal is aluminum and other low melting point metal.A method for heating metal: the heat generated by the resistance,but also the use of electron beam.In the implementation of evaporation of plastic products, in orderto ensure that the metal cooling heat emitted by the resin to deformation, must adjust the evaporation time. In addition, the metal or alloy melting point, boiling point is too high is not suitable for evaporation.The plating metal and plated plastic products in the vacuum chamber, using certain methods of heating the plating material, the metal evaporation or sublimation, metal vapor encountered plastic surface cold condensed into a metal film.Under vacuum conditions can reduce the evaporation of materials in atomic and molecular collision to plastic products and other molecules, reduce the chemical reactivity of the molecules in a gas and steamsource between materials (such as oxidation), thus providing the filmdensity, purity, deposition rate and adhesion. Usually the vacuum evaporation film for indoorpressure equal to or less than 10-2Pa, the evaporation source andthe plated film products and high quality requirements of the occasion, requires a lower pressure (10-5Pa).The coating thickness is 0.04-0.1um, too thin, too thick, low reflectivity; poor adhesion, easy to fall off. The thickness of 0.04 reflectivity is 90%, vacuum ion plating, and vacuum coating. Vacuum plating practice now is a more popular approach, strong sense of products made out of metal and relatively high brightness. Other coating method, low cost, little pollution to the environment, is now widely used in various industries.Vacuum plating has a wide range of application, such as ABS, ABS+PC material, PC material products. At the same time because of its complex process, environment and equipment requirement is high, the price of water than electroplating expensive. This article provides a brief introduction to the process of product surface cleaning -- "to" - "-- electrostatic primer spray baking primer. Vacuum coating, spray paint, baking finish packing." -- "The general practice is in the vacuum plating material to spray a layer of primer, and then electroplating. Because the material is plastic, residual air bubbles, the injection of organic gases, and when placed in the inhalation of moisture in the air. In addition, because the plastic surface is not smooth, direct plating of the workpiecesurface is not smooth. Low gloss, poor sense of metal, and the bubble will appear, blisters and other adverse conditions. After spraying a layer of primer, will form a smooth surface, and prevent plastic itself bubble blisters, the plating effect can be demonstrated.Vacuum plating can be divided into general vacuum plating, vacuum plating, vacuum plating UV special. Process of evaporation, sputtering, gun color.For the hydropower plating process is relatively simple, from the equipment to the environmental requirements are not stringent vacuum ion plating, which is widely used. But the water electroplating have a weakness, only ABS material and ABS+PC material plating (the material plating effect is not very ideal). While the ABS material temperature is only 80 degrees, which makes the scope of application it is limited. And vacuum plating can reach 200 degrees Celsius, it can be used in high temperature treatment of electroplating parts.The wind, wind mouth mouth ring using PC material, these components are required to resist high temperature 130 degrees. On the other, the general requirements of high-temperature components, vacuum plating to do at the end of spraying a layer of UV oil, which makes the product surface luster, high temperature resistance, adhesion and guarantee.The advantages and disadvantages of two kinds of process:A, simple, vacuum plating but UV oil, its adhesion is poor, unableto 100 TEST, and the water was better than vacuum plating plating!Therefore, in order to ensure the vacuum plating adhesion required subsequent spraying treatment, the high cost of course.B water, electroplating color is monotonous, generally onlybright silver and silver and so few, for silver flash, magic blue, crack, silver drop seven on all kinds of color. But incapable of action vacuum plating can solve the problem of the color colorful.The coating material of C, the general water electroplating by "six chromium", this is not environmental protection materials. There are requirements for the "six chromium":EU: 76769EEC: prohibit the use of 9462EC:100ppm;ROHS:1000ppm so strict, some domestic manufacturers have begun totry to use "trivalent" instead of "six chromium"; and vacuum plating coating materials widely use, easy to meet the requirements of environmental protection.A simple point, is in a vacuum state will need to be coated on the surface of the product of the film materials by plasma ionization deposited on the surface of the workpiece surface processing technology.It has a vacuum evaporation deposition, sputtering, ion plating, etc., there are many ways to obtain these deposition methods: electric heating, ion beam, electron beam, DC magnetron sputtering, magnetron sputtering, sputtering and RF frequency construction, pulse sputtering, microwave plasma enhanced, arc and so on many kinds of methods, coating equipment selection can be considered according to the the demand of economic and technological conditions.Compared with the traditional wet plating, vacuum plating hasthe following advantages:1. sedimentary materials widely: low potential metal deposition of aluminum and titanium, zirconium and other wet plating cannot be deposited, the reaction gas and alloy target even more diamond coating can be deposited from the alloy to ceramics, and can be designed according to the need of coating system.2. save metal material: because the vacuum coating adhesion, density, hardness and corrosion resistance of deposited coatings can be quite good, far less than the conventional wet plating, to achieve the purpose of saving.3. no environmental pollution: because all coating materials are in vacuum environment by plasma deposition on the surface of the workpiece, no solution pollution damage to the environment, so it is quite small.But because of the availability of vacuum and plasma precision instruments and equipment is expensive, and the deposition process also lies in a few hands without a lot of technical personnel, promotion, investment and daily production cost of maintenance is expensive. But with the development of society, vacuum plating advantages will be more and more obvious, in some industries to replace the traditional wet plating is represent the general trend!Vacuum ion plating, and vacuum coating. Vacuum plating practice nowis a more popular approach, strong sense of products made out of metal and relatively high brightness. Other coatingmethod, low cost, small environmental pollution, now widely used for various industries.Vacuum plating has a wide range of application, such as ABS, ABS+PC material, PC material products.At the same time, because of its complex process, environment and equipment requirement is high, the price of water than electroplating expensive. This article provides a brief introduction to the process of product surface cleaning -- "to" - "-- electrostatic primer spray baking primer" -- vacuum coating -- "spray paint" baking finish -- "- packaging. The general practice of vacuum plating in the material to spray a layer of primer, and then electroplating. Because the material is plastic, residual air bubbles, the injection of organic gases, and when placed in the inhalation of moisture in the air. In addition, because the plastic surface is not smooth, direct plating workpiece surface is not smooth, low gloss, poor sense the metal, and the bubble will appear, blistersand other adverse conditions. After spraying a layer of primer, willform a smooth surface, and prevent plastic itself bubble blisters, the effect of electroplating To show.Vacuum plating can be divided into general vacuum plating, vacuum plating, vacuum plating UV special. Process of evaporation, sputtering, gun color.For the hydropower plating process is relatively simple, from the equipment to the environmental requirements are not stringent vacuum ionplating, which is widely used. But the water electroplating have a weakness, only ABS material andABS+PC material plating (the material plating effect is not very ideal). While the ABS material temperature is only 80 degrees, which makes the scope of application it is limited. And vacuum plating can reach 200 degrees Celsius, it can be used in high temperature treatment of electroplating parts. The wind wind mouth, mouth ring using PC material, these components are required to resist high temperature 130 degrees. On the other, the general requirements of high-temperature components, vacuum plating to do in the end spray a layer of UV oil, which makes the product surface luster, high temperature resistance, adhesion and guarantee.The advantages and disadvantages of two kinds of process:A, simple, vacuum plating but UV oil, its adhesion is poor, unable to 100 TEST, and the water was better than vacuum plating plating! Therefore, in order to ensure the vacuum plating adhesion required subsequent spraying treatment, the high cost of course.B water, electroplating color is monotonous, generally only bright silver and silver and so few, for silver flash, magic blue, crack, silver drop seven on all kinds of color. But incapable of action vacuum plating can solve the problem of the color colorful.The coating material of C, the general water electroplating by "six chromium", this is not environmental protection materials. There arerequirements for the "six chromium": EU: 76769EEC: the prohibition ofthe use of 9462EC:100ppm;ROHS:1000ppmSuch stringent requirements, some domestic manufacturers have begunto try to use "trivalent" instead of "six chromium"; and vacuum plating coating materials widely use, easy to meet the requirements of environmental protection.A simple point, is in a vacuum state will need to be coated on the surface of the product of the film materials by plasma ionization deposited on the surface of the workpiece surface processing technology.It has a vacuum evaporation deposition, sputtering, ion plating, etc., there are many ways to obtain these deposition methods: electric heating, ion beam, electron beam, DC magnetron sputtering, magnetron sputtering, sputtering and RF frequency construction, pulse sputtering, microwave plasma enhanced, arc and so on many kinds of methods, coating equipment selection can be considered according to the the demand of economic and technological conditions.Compared with the traditional wet plating, vacuum plating has the following advantages:OneThe deposited materials widely: low potential metal deposition of aluminum and titanium, zirconium and other wet plating cannot be deposited, the reaction gas and alloy target even more diamond coatingcan be deposited from the alloy to ceramics, and can be designed according to the need of coating system.2. save metal material: because the vacuum coating adhesion, density, hardness and corrosion resistance of deposited coatings can be quite good, far less than the conventional wet plating, to achieve the purpose of saving.3. no environmental pollution: because all coating materials are in vacuum environment by plasma deposition on the surface of the workpiece, no solution pollution damage to the environment, so it is quite small.But because of the availability of vacuum and plasma precision instruments and equipment is expensive, and the deposition process also lies in a few hands without a lot of technical personnel, promotion, investment and daily production cost of maintenance is expensive. But with the development of society, vacuum plating advantages will be more and more obvious, in some industries to replace the traditional wet plating is represent the general trend!Vacuum sputtering process:Give good cleaning shell injection molding, and then coated with a layer of UV primer, and then vacuum sputter plating a layer of metal film, using atomic and physical vapor deposition, after covering a layer of paint UV. The key equipment is that Taiwan vacuum sputtering machine. It is said that the value of 800W. Should be more than a little high confidential evaporation evaporation machine, with a similar boiler.Vacuum plating, the word is not exact. Not attributable toelectroplating. Of course, also called dry plating, vacuum plating is often called ion plating.We believe that the main subject, considering the mechanical properties of adhesion or metallurgical bonding coating and substrate, to expand the scope of it are referred to as vapor deposition, are classified as followsVapor depositing chemical vapor depositionPhysical vapor depositionHigh temperature and low temperature chemical vapor deposition Physical vapor deposition, ion plating...The low temperature vapor deposition is enhanced by low temperature plasma chemical vapor phase deposition. As a practical tool to strengthen the technology.。