g第1章 半导体分立器件

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1基本半导体分立器件

1基本半导体分立器件
(3)最大的稳定电流IZM和最大的 耗散功率PZM
IZ < IZmax ,PZM=UZ IZMAX
UZ
IZ UZ
iZ /mA
O IZminuZ/V IZ IZmax
40
1.3.1 稳压二极管
2、稳压管的主要参数
(4)动态电阻 rz
rZ

U Z I Z
动态电阻是反映稳压二极管
1、伏安特性曲线
正向电流 40
1A、、正U向F较特小性时—,加I正F较向小偏压U3F0 速B增、加U击F,大穿并于电按死压指U区B数R电规压律时上,升IF2。迅0 U反R/向如二VC电图极、压中管当A两二段端极所电管示压电几流乎I变S 不化变很,大1硅时0 ,0
I2F、A/m、反A反向锗向特管电性流—I—硅R是加管少反子向漂偏移压运UR动引
5
半导体材料制作电子器件的原因?
不是因为它的导电能力介于导体和绝缘体之间,
而是在于半导体材料具有热敏性、光敏性和掺 杂性。
6
半导体材料制作电子器件的原因?
1、热敏性:是半导体的导电能力随着温度的升高而迅速增加,
例如纯净锗从20℃升高到30℃时,电阻率下降为原来的 1/2;
2、光敏性:半导体的导电能力随光照的变化有显著改变的特
移过来填补个空位 。硼原子接受一个电子,成为带负电的离 子,称受主杂质;在相邻硅共价键中产生一个带正电的空穴
C、P型半导体中:空穴是多子;电子是少子 I=IP+IN≈IP
D、整块的半导体仍为中性
硅原子
多数载流子 +4
+4
硼原子
P型+半4 导体简+化3模型
+4 少数电载子流是子少子

半导体分立器件

半导体分立器件

半导体分立器件半导体器件是近50年来发展起来的新型电子器件,具有体积小、重量轻、耗电省、寿命长、工作可靠等一系列优点,应用十分广泛。

1)国产半导体器件型号命名法国产半导体器件型号由五部分组成,如表1-13所示。

半导体特殊器件、场效应器件、复合管、PIN型管、激光管等的型号由第三、四、五部分组成。

表1-13 中国半导体器件型号命名法示例1:“2 A P 10”型为P型锗材料的小信号普通二极管,序号为10。

示例2:“3 A X 31 A”型为PNP型锗材料的低频小功率三极管,序号31,规格号为A。

示例3:“CS 2 B”型为场效应管,序号为2,规格号为B。

2)半导体二极管二极管按材料可分为硅二极管和锗二极管两种;按结构可分为点接触型和面接触型;按用途可分为整流管、稳压管、检波管、开关管和光电管等。

常见二极管外形和电路符号可参见《基础篇》。

(1)常用二极管的类型有:①整流二极管主要用于整流电路,即把交流电变换成脉动的直流电。

整流二极管为面接触型,其结电容较大,因此工作频率范围较窄(3kHz以内)。

常用的型号有2CZ型、2DZ型等,还有用于高压和高频整流电路的高压整流堆,如2CGL型、DH26型2CL51型等。

②检波二极管其主要作用是把高频信号中的低频信号检出,为点接触型,其结电容小,一般为锗管。

检波二极管常采用玻璃外壳封装,主要型号有2AP型和1N4148(国外型号)等。

③稳压二极管稳压二极管也叫稳压管,它是用特殊工艺制造的面结型硅半导体二极管,其特点是工作于反向击穿区,实现稳压;其被反向击穿后,当外加电压减小或消失,PN结能自动恢复而不至于损坏。

稳压管主要用于电路的稳压环节和直流电源电路中,常用的有2CW型和2DW型。

④光电二极管光电管又称光敏管。

和稳压管一样,其PN结也工作在反偏状态。

其特点是:无光照射时其反向电流很小,反向电阻很大;当有光照射时,其反向电阻减小,反向电流增大。

光电管常用在光电转换控制器或光的测量传感器中,其PN结面积较大,是专门为接收入射光而设计的。

半导体分立器件项目规划设计方案 (1)

半导体分立器件项目规划设计方案 (1)

半导体分立器件项目规划设计方案规划设计/投资分析/实施方案承诺书申请人郑重承诺如下:“半导体分立器件项目”已按国家法律和政策的要求办理相关手续,报告内容及附件资料准确、真实、有效,不存在虚假申请、分拆、重复申请获得其他财政资金支持的情况。

如有弄虚作假、隐瞒真实情况的行为,将愿意承担相关法律法规的处罚以及由此导致的所有后果。

公司法人代表签字:xxx公司(盖章)xxx年xx月xx日项目概要半导体可以分为四类产品,分别是集成电路、光电子器件、分立器件和传感器,尽管集成电路的发明和迅速发展使一些器件已集成进集成电路,但在许多不能集成的功能中,半导体分立器件仍起起着关键作用。

分立器件是指具有单一功能的电路基本元件,主要实现电能的处理与变换,包括功率二极管、功率三极管、晶闸管、MOSFET、IGBT等半导体功率器件产品。

该半导体分立器件项目计划总投资9926.07万元,其中:固定资产投资8036.69万元,占项目总投资的80.97%;流动资金1889.38万元,占项目总投资的19.03%。

达产年营业收入18473.00万元,总成本费用14135.96万元,税金及附加202.78万元,利润总额4337.04万元,利税总额5138.03万元,税后净利润3252.78万元,达产年纳税总额1885.25万元;达产年投资利润率43.69%,投资利税率51.76%,投资回报率32.77%,全部投资回收期4.55年,提供就业职位316个。

项目建设要符合国家“综合利用”的原则。

项目承办单位要充分利用国家对项目产品生产提供的各种有利条件,综合利用企业技术资源,充分发挥当地社会经济发展优势、人力资源优势,区位发展优势以及配套辅助设施等有利条件,尽量降低项目建设成本,达到节省投资、缩短工期的目的。

报告主要内容:项目承担单位基本情况、项目技术工艺特点及优势、项目建设主要内容和规模、项目建设地点、工程方案、产品工艺路线与技术特点、设备选型、总平面布置与运输、环境保护、职业安全卫生、消防与节能、项目实施进度、项目投资与资金来源、财务评价等。

半导体分立器件试验方法

半导体分立器件试验方法

半导体分立器件试验方法
1. 嘿,你知道吗,半导体分立器件试验方法里的电性能测试就像是给器件做一次全面体检!比如测试二极管的导通压降,那可是能直接反映它健康状况的关键指标呢!就好比我们人去检查身体,血压高低能说明很多问题呀。

2. 哇塞,半导体分立器件试验方法中的高温试验简直太神奇啦!想想看,把器件放到高温环境下,就像让它经历一场火热的考验,这不就类似运动员在高温下训练,能不能扛得住可太重要啦!像一些晶体管在高温下的表现,就能看出它到底是不是真的厉害。

3. 哎呀呀,可靠性试验可是半导体分立器件试验方法中不能忽视的一部分呀!它就像给器件买了一份长期的保障一样。

好比我们买保险,就是为了以防万一嘛!观察器件在各种恶劣条件下的耐受性,真的超级关键呢。

4. 嘿哟,半导体分立器件试验方法里的封装测试可不能小瞧啊!这就像是给器件穿上了一件合适的衣服。

就像我们出门要挑好看又合适的衣服一样,器件的封装不合适那可不行呀!看看封装是不是牢固,有没有保护好器件。

5. 哇哦,半导体分立器件试验方法中的静电放电测试可太重要啦!这简直就是给器件设下的一道特殊防线。

就好像我们要防止坏人入侵家里一样,要让器件有抵御静电的能力啊!不然很容易出问题呢。

6. 哈哈,半导体分立器件试验方法还有好多好多呢,每个都有着独特的意义和作用呀!就像我们生活中的各种技能和方法一样,都有其存在的价值。

所以说,一定要重视这些试验方法,它们才能让半导体分立器件变得更优秀呀!
我的观点结论:半导体分立器件试验方法丰富多彩且至关重要,每个环节都不容忽视,它们能保证半导体分立器件的性能和质量。

半导体分立器件作用

半导体分立器件作用

半导体分立器件作用嘿,朋友们!今天咱来聊聊半导体分立器件,这玩意儿可神奇啦!你想想看,半导体分立器件就像是电子世界里的小精灵,它们在各种电路中忙忙碌碌,发挥着至关重要的作用。

比如说二极管吧,它就像一个忠诚的卫士,只允许电流单向通过。

这就好比是一条单方向的通道,电流只能乖乖地沿着规定的方向走,要是想逆行,那可没门儿!它能把交流电变成直流电,你说神奇不神奇?没有它,我们的很多电子设备可就没法正常工作啦。

还有三极管呢,它就像是一个灵活的指挥官,可以放大信号或者控制电流的开关。

就好像是乐队的指挥一样,指挥着电流的节奏和强弱。

它能让微弱的信号变得强大,让电路更好地工作。

要是没有三极管,那些需要强大信号才能运行的设备不就抓瞎啦?再说说场效应管,它呀,特别敏感,就像一个敏感的小精灵。

对电压的变化反应特别迅速,能快速地控制电流的流动。

这就好像是一个反应超快的运动员,随时准备着冲刺。

在一些对速度要求很高的电路里,它可真是大显身手呢!半导体分立器件还像是建筑中的砖块,虽然单个看起来不那么起眼,但组合在一起就能构建出各种各样的电子大厦。

它们在手机里、电脑里、电视里,甚至在我们日常使用的各种小电器里默默工作着。

你说,要是没有这些半导体分立器件,我们的生活得变成啥样儿啊?那肯定会缺少很多乐趣和便利呀!我们的手机可能就没办法那么智能,电脑可能运行得慢吞吞的,电视画面可能也没那么清晰了。

所以啊,可别小看了这些小小的半导体分立器件,它们可是电子世界里的大功臣呢!它们让我们的生活变得丰富多彩,充满了科技的魅力。

我们真应该感谢这些小家伙们的默默付出,不是吗?它们虽然不说话,但却用行动为我们的生活带来了巨大的改变。

让我们一起为半导体分立器件点赞吧!它们真的太棒啦!。

半导体分立器件制造

半导体分立器件制造

半导体分立器件制造一、概述半导体分立器件是指由单个晶体管、二极管、三极管等组成的电子元件。

相比于集成电路,它们的结构更简单,功耗更低,可靠性更高,因此在许多领域得到广泛应用。

本文将介绍半导体分立器件制造的过程和技术。

二、晶体管制造1. 单晶硅生长首先要获得高质量的晶体管材料。

通常采用单晶硅生长技术。

这种方法是在高温下将硅熔融,并在恰当的条件下使其逐渐冷却结晶。

这样就可以得到具有均匀结构和良好电学特性的硅单晶。

2. 晶圆制备接下来需要将单晶硅切割成厚度约为1毫米的圆片,即晶圆。

为了保证质量和效率,通常使用钻石刀片进行切割。

3. 硅片清洗为了去除表面污染物和氧化层,在进行后续加工前需要对硅片进行清洗处理。

4. 晶圆蚀刻接下来需要对硅片进行蚀刻处理,以形成晶体管的结构。

通常使用光刻技术和化学蚀刻技术。

在光刻过程中,通过将光线投射到硅片上,形成图案。

然后通过化学蚀刻将不需要的部分去除。

5. 接触制作接下来需要在晶圆上形成金属接触点,以便连接电路。

这一步通常使用金属蒸镀技术和光刻技术。

三、二极管制造1. 晶圆制备与晶体管类似,二极管的制造也需要从单晶硅开始。

首先要将单晶硅生长为大块晶体,并将其切割成厚度约为1毫米的圆片。

2. 硅片清洗清洗处理同样是必要的。

3. 硅片掺杂在进行后续加工前需要对硅片进行掺杂处理。

这个过程是通过向硅片中注入少量的其他元素来实现的。

这些元素会改变硅片的电学特性。

4. 蚀刻和金属沉积接下来需要对硅片进行蚀刻处理和金属沉积,以形成二极管结构。

四、三极管制造1. 晶圆制备与晶体管和二极管一样,三极管的制造也需要从单晶硅开始。

首先要将单晶硅生长为大块晶体,并将其切割成厚度约为1毫米的圆片。

2. 硅片清洗清洗处理同样是必要的。

3. 硅片掺杂在进行后续加工前需要对硅片进行掺杂处理。

这个过程是通过向硅片中注入少量的其他元素来实现的。

这些元素会改变硅片的电学特性。

4. 蚀刻和金属沉积接下来需要对硅片进行蚀刻处理和金属沉积,以形成三极管结构。

半导体分立器件和集成电路键合工

半导体分立器件和集成电路键合工

半导体分立器件和集成电路键合工下载提示:该文档是本店铺精心编制而成的,希望大家下载后,能够帮助大家解决实际问题。

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半导体分立器件

半导体分立器件

半导体分立器件半导体分立器件是现代电子工业中非常重要的一类元器件。

它们广泛应用于各种电子设备和系统中,包括通信设备、计算机、家用电器、汽车等。

本文将详细介绍半导体分立器件的概念、分类、特性以及应用领域。

半导体分立器件是指以半导体材料为基础,通过物理或化学的方法制造出来的电子器件。

与集成电路不同,分立器件是单个器件,具有独立的电气性能和功能。

半导体分立器件广泛应用于各种电子电路中,可以实现信号放大、开关控制、信号调整等功能。

半导体分立器件可以根据其功能和结构进行分类。

主要的分类包括二极管、三极管、场效应管、光电器件等。

二极管是最简单的一种分立器件,它具有只允许电流在一个方向上通过的特性。

三极管是一种三端器件,可以实现电流放大和开关控制功能。

场效应管是一种控制输出电流的器件,其输入电阻很高,可以应用在信号放大和开关控制电路中。

光电器件可以将光信号转换为电信号,广泛应用于光通信和光电传感器等领域。

半导体分立器件具有多种特性,这些特性决定了它们在电子电路中的应用。

首先,半导体分立器件具有高速开关特性,可以快速响应输入信号并控制输出信号。

其次,它们具有高电压和高电流承载能力,可以满足不同应用场景下的需求。

第三,半导体分立器件具有低功耗和高效传输特性,可以提高电子设备的性能和效率。

此外,它们还具有稳定性好、体积小、可靠性高等优点。

半导体分立器件在各个领域都有广泛的应用。

在通信设备领域,分立器件可以实现信号放大、开关控制、滤波器等功能,用于信号的传输和处理。

在计算机领域,分立器件用于逻辑电路和存储电路中,实现数据的处理和存储。

在家用电器领域,分立器件可以应用于电源控制、电机驱动、温度控制等方面。

在汽车电子领域,分立器件可以应用于发动机控制、车载电源、车载通信等系统。

总之,半导体分立器件是现代电子工业不可或缺的一部分。

它们在各个领域中扮演着重要的角色,实现了电子设备和系统的功能和性能。

随着科技的不断进步和创新,半导体分立器件将会继续发展和应用,为人类创造更多的福利和便利。

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小结: • 1.二极管的应用分析。
• 2.稳压管的应用特点。特殊二极管
(1-50)
小结:
• 三极管的基本结构:结构,分类, • 三极管放大的条件。 内部:发射区掺杂高,基区 薄掺杂低,集电区面积大。
外部:发射结正偏、集电结反偏
• 三极管的特性曲线、主要参数
(1-51)
1.4.3 特性曲线
测量晶体管特性的实验线路 IB
半导体的导电机理
空穴吸引附近的电子 来填补,这样的结果 相当于空穴的迁移, 而空穴的迁移相当于 正电荷的移动,因此 可以认为空穴是载流 子。
+4
+4
+4
+4
自由电子和空穴称为半导体载流子。
(1-10)
(1-11)
本征半导体的导电机理 1.本征半导体中电流(载流子移动)由两部分组 成:
(1)自由电子移动产生的电流。
等效电路
反向截止
(1-30)
1.2.2 二极管应用电路
D + 3k 6V 12V A
UAB – B
电路如图,求:UAB
(1-31)
二极管电路分析举例 定量分析:判断二极管的工作状态
导通 截止
分析方法:将二极管断开,分析二极管两端电位 的高低或所加电压UD的正负。 若 V阳 >V阴或 UD为正( 正向偏置 ),二极管导通 若 V阳 <V阴或 UD为负( 反向偏置 ),二极管截止
rZ
U Z I Z
PZM U Z I Z max
(1-37)
稳压二极管的稳压原理:
iR
o
iL
R DZ
输入变化时:U U
i

ui
iZ
RL
uo
Ui Uo UDZ I DZ
I R U R UO
I
UZ U IZ
负载变化时: R
RL U o UDZ
NPN型三极管
PNP型三极管
(1-47)
1.4. 2 电流分配和放大原理
1. 三极管放大的外部条件 发射结正偏、集电结反偏 从电位的角度看: NPN 发射结正偏 VB>VE 集电结反偏 VC>VB
C
IC
IB
B RB E EB N P RC
发射结正偏 集电结反偏
PNP VB<VE VC<VB
N
IE
EC
现代电子学中,用的最多的半导体是硅和锗,它们 的最外层电子(价电子)都是四个。
Ge
Si
(1-7)
硅和锗的共价键结构
+4 +4表示除 去价电子 后的原子
+4
共价键,共 用电子对
+4
+4
共价键中的两个电子被紧紧束缚在共 价键中,称为束缚电子,
(1-8)
空穴
+4
+4
自由电子
+4
+4 束缚电子
(1-9)
N 型半导体 (电子型半导体)
硅或锗晶体中掺入少量的五价元素磷(或锑ti),自由 电子浓度远大于空穴浓度。自由电子称为多数载流子(多 子),空穴称为少数载流子(少子)。
P 型半导体 (空穴型半导体)
在硅或锗晶体中掺入少量的三价元素,如硼(或铟yin), 空穴是多子,电子是少子。
(1-13)
在本征半导体中掺入微量的杂质(某种元素), 形成杂质半导体。 在常温下即可 变为自由电子 掺入五价元素 掺杂后自由电子数目 Si Si 多 余 大量增加,自由电子导电 电 成为这种半导体的主要导 p+ Si Si 子 电方式,称为电子半导体 或N型半导体。
(1-5)
半导体的导电具有不同于其它物质的特点。 结构:半导体晶体。
导电性:导电可控性
外激发控制
• 当受外界热和光的作用时,它的导电能 力明显变化。
掺杂质控制
• 往纯净的半导体中掺入某些杂质,会使 它的导电能力明显改变。
(1-6)
1.本征半导体
本征半导体:完全纯净的、结构完整的半导体晶体。
本征半导体的结构特点:
2. 反向击穿电压UBR
二极管反向击穿时的电压值。击穿时反向电 流剧增,二极管的单向导电性被破坏,甚至 过热而烧坏。
(1-26)
3.最高反向工作电压UDRM 指管子不被反向击穿所允许 外加的电压。一般手册上给出 的UDRM约为击穿电压的一半。
(1-27)
4.最大反向电流IRM: 管子在常温下承受最高反向工 作电压UDRM时的反向饱和电流, 其值愈小,则管子的单向导电性 愈好。由于温度增加,IRM会急剧 增加,所以在使用二极管时要注 意温度的影响。
电工学2 电子技术
(1-1)

系统及其应用的技术。

电子技术:研究电子器件、电子电路和
电子技术
模拟电子技术 数字电子技术
(1-2)
模拟信号: 在时间上和数值上具有连续变化的特点;
t
数字信号:在时间上和数值上是离散的,突变。等 矩形波 尖顶波
t t
(1-3)
第一章 半导体分立器 件及其基本电路
2. 各电极电流关系及电流放大作用 IB(mA) 0 0.02 0.04 0.06
IC(mA) <0.001 0.70
IE(mA) 结论:
<0.001 0.72
1.50 1.54
2.30
2.36
0.08 3.10 3.18
0.10 3.95 4.05
1)三电极电流关系 I E = IB + IC 2) IC IB , IC IE 3) IC IB 把基极电流的微小变化能够引起集电极电流较大变 化的特性称为晶体管的电流放大作用。 实质:用一个微小电流的变化去控制一个较大电流的 变化。
阴极
(1-41)
3. 光电二极管
反向电流随光照强度的增加而上升。
I
U
阳极
照度增加
阴极
(1-42)
小结:
•1.半导体的基本知识与PN结 • 2.二极管的应用分析。
• 3.稳压管的应用特点。特殊二极管
(1-43)
§1.4 三极管及其放大电路
1.4.1 三极管
NPN型
N P N
集电极
1. 基本结构
集电极
失去一个 电子变为 正离子 磷原子 在N 型半导体中自由电子 是多数载流子,空穴是少数 载流子。
Si
Si
Si B–
Si
硼原子 接受一个 电子变为 负离子
掺入三价元素 空穴 掺杂后空穴数目大量 增加,空穴导电成为这 种半导体的主要导电方 式,称为空穴半导体或 P型半导体。 在 P 型半导体中空穴是多 数载流子,自由电子是少数 载流子。
§ 1.1 半导体的基本知识与PN结
§ 1.2 半导体二极管及其应用电路
§ 1.3 放大电路的基本概念及其性 能指标 § 1.4 三极管及其放大电路
§1.6 多级放大电路
(1-4)
§1.1 半导体的本知识与PN结
1.1.1 导体、半导体和绝缘体
导体:自然界中很容易导电的物质称为导体,金属 一般都是导体。 绝缘体:有的物质几乎不导电,称为绝缘体,如橡 皮、陶瓷、塑料和石英。 半导体:另有一类物质的导电特性处于导体和绝缘 体之间,称为半导体,如锗、硅、砷化镓 和一些硫化物、氧化物等。
(1-28)
四. 二极管的模型 1.理想模型:具有这种理想特性的二
极管也叫做理想二极管。即:二极管 在正向导通时相当于开关闭和,死区 电压=0 ,正向压降=0,二极管反向 截止时相当于开关断开。
等效电路
(1-29)
2.恒压降模型.二极管在正向导通时,
其管压降为恒定值,硅管的管压降约为 0.6-0.7V,锗管的管压降约为0.2-0.3V。
(1-33)
例:
+ ui –
R D + uo –
8V
已知:ui 18sin t V 二极管是理想的,试画 出 uo 波形。
ui 18V 8V
参考点
t
二极管阴极电位为 8 V
ui > 8V,二极管导通,可看作短路 uo = 8V ui < 8V,二极管截止,可看作开路 uo = ui
(1-34)
二. PN结的单向导电性
PN 结外加上正向电压 (正向偏置): P 区加正电压、N 区加负电压。 PN 结外加反向电压(反向偏置): P区加负电压、N 区加正电压。
(1-17)
PN 结外加上正向电压 (正向偏置)
(1-18)
PN 结外加上反向电压 (反向偏置)
(1-19)
PN结具有单向导电性定义
C B
基极
C P N
PNP型
基极 B
P
E
发射极
E
发射极
(1-44)
集电区: 面积较大
C
N P N E
集电极
B
基极
基区:较薄, 掺杂浓度低
发射区:掺
杂浓度较高
发射极
(1-45)
C N P N
集电极
集电结
B
基极
发射结
E
发射极
(1-46)
三极管的符号
C B IB E IE IC B IB E IE C IC
求:电阻R和输入电压 ui 的正常值。 解:令输入电压达到上限时,流过稳压管的电 流为Izmax 。
UZ i I zmax 25mA RL 1.2ui iR U z 25R 10
——方程1
(1-39)
令输入电压降到下限 时,流过稳压管的电 流为Izmin 。
UZ i I zmin 10mA RL
(2) 面接触型二极管
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