硫系玻璃镀膜规范GJB
镀膜玻璃检验规则
镀膜玻璃检验规则RDBL/WJ-7.5.1-15一、做好生产前的准备工作1、根据派产单要求，落实基片。
重点注意五件事：⑴如合同为配片，必须保证本次和上次基片为同一生产厂家。
如采用不同厂家的基片应先做颜色对比测试，确定透光率、L*、a*、b*等光学指标的偏差均小于1.0，方可通知切裁。
⑵镀膜使用的基片应为下线不超4周的浮法玻璃,如有超期,需在生产前进行清洗验收。
对明显有纸纹和霉点的玻璃禁止使用，如有轻微发霉，则请示主管领导同意后，在磨料罐中加适量抛光粉。
⑶钢化或切裁过来的半成品玻璃，提前签收，在玻璃签收本上按架做好签收记录，并根据合同捡单打印尺寸标签、粘贴标签，标签必须贴在锡面。
⑷如有异形玻璃，根椐派产单要求，按图纸复核尺寸及该镀那个面，贴好尺寸标签。
⑸对于来料加工，要对清洗后的玻璃认真检验，检验内容包括纸纹、霉点、划伤、爆边、裂纹、缺角、弯曲、表面污染等，填写《顾客提供产品报告单》，如客户在现场，则请代表当场签字。
如客户不在我公司，则转由业务科发传真要求对方确认。
2、根据派产单加工要求，准备工艺资料。
⑴核实派产单指定的膜系，把相应的颜色标准提前输入色谱仪，并记录档位。
⑵如为配片合同，则调用该客户上一次的生产记录。
如不配片，写有“颜色同本厂”，则调用最近期生产的与本厂标准最接近的此种产品的生产记录。
统计上次生产的偏差方向和偏差范围，并做好记录以备生产时使用。
⑶如为来样生产，则进行采样测试，获取来样的R□、T、Rg 、Rf；L*g、a*、b*g；l*f、a*f、b*f，并做好记录，以便以此为标准进行调试和生产。
如按样验收，封样应封荣达试样。
二、准备工作做好后开机调试1、先把等待室南面的空气净化打开。
2、配合工艺员，调试小片。
（1）按照《检测仪器操作指导书》要求标定好色谱仪并调到事先录入标准的档位。
（2）逐锅测试小片中间位置颜色偏差值，并及时与工艺员沟通，当单项色差不超过1.0、综合色差△E*≤2.0且偏差方向和偏差范围与上次生产记录一致时认为小片初步达标,此时再检测边部颜色是否达标。
硫系玻璃基底PECVD法沉积光学薄膜工艺研究
硫系玻璃基底PECVD法沉积光学薄膜工艺研究费海明;杭凌侠【摘要】针对硫系玻璃(IRG204)的低软化点特点,为研究等离子体辅助化学气相沉积法(PECVD)在硫系玻璃基底低温沉积薄膜的可行性以及工艺条件,通过氩离子轰击工艺确定基底可承受的离子辅助轰击强度和时间,并在此基础上,以100℃的温度分别制备了SiNx,SiOxNv和SiOxFv薄膜.采用椭偏仪检测薄膜的折射率和厚度,傅里叶红外光谱仪检测薄膜的红外透过率,按GJB 2485-95标准对膜层进行耐摩擦测试.结果表明:氩离子清洗工艺中,射频功率为300W,Ar气流量为50 sccm,压强为30 Pa及轰击时间在30 min以内,对基底材料无损伤.轰击时间为5 min时,镀制的SiNx,SiOxNv和SiOxFy薄膜折射率分别为1.74,1.54和1.39,略低于常规工艺,消光系数小于10-5,与常规工艺无明显差异;镀制的薄膜满足膜层牢固度测试.利用该方法在硫系玻璃上沉积光学薄膜可行,并通过红外光谱分析确定,该方法制备的薄膜材料适用于近红外和中红外波段.%The feasibility and technological conditions of low temperature deposition of chalcogenide glass (IRG204) by PECVD method were studied according to the characteristics of low softening point of IRG204.The material properties of IRG204 were characterized by argon ion bombardment,and the appropriate ion assisted bombardment strength and time were obtained.On this basis,the SiNx,SiOxNy and SiOxFy film were prepared on the chalcogenide glass substrate at 100 ℃,and the refractive index and thickness of thin films were measured by ellipsometry,the infrared transmittance of the films was detected by fourier transform infrared spectroscopy (FTIR).Finally,the film was tested by GJB 2485-95 standard.The results show:While the RF power is 300 W,Ar gasflow rate is 50 sccm,pressure is 30 Pa and bombardment time is less than 30 min,there is no damage to the substrate material.The refractive index of deposition of SiNx,SiOxNy and SiOxFy thin film was 1.74,1.54 and 1.39 respectively when the bombardment time is 5 min.The refractive index is slightly lower than that of the conventional process,and the extinction coefficient is less than 10-5.The prepared films meet the frictiontest.Therefore,it is feasible to use this method to deposit optical thin films on chalcogenide glass.The infrared spectrum analysis results show the thin films prepared by this method are applied to the near infrared and mid infrared bands.【期刊名称】《西安工业大学学报》【年(卷),期】2017(037)005【总页数】7页(P368-374)【关键词】硫系玻璃;等离子体辅助化学气相沉积;光学薄膜;光学特性;摩擦特性【作者】费海明;杭凌侠【作者单位】西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安710021;西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安710021【正文语种】中文【中图分类】O484硫系玻璃作为一种新型的红外光学材料，红外透过波段宽，可覆盖三个大气窗口，可精密模压成型，方便大批量的生产，被广泛应用于红外热成像以及红外军用设备中[1-5].由于红外硫系玻璃折射率较高，表面反射大，必须镀减反射膜来降低表面反射损失.等离子体辅助化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)技术制备光学薄膜时的常规工艺沉积温度控制在300 ℃左右[6]，而硫系玻璃软化点都较低，如IRG204硫系玻璃的软化点为167 ℃.如何在硫系玻璃上沉积出质量可靠附着力好的薄膜，同时不破坏基底表面状态成了研究难点.文献[7]在Ga30As10Se60基底上采用物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的方法制备了两种红外增透膜，实现了8～11.5 μm波段范围内平均透射率为94%.文献[8]制备了用于红外热成像的硫系玻璃，并利用离子束辅助沉积(Ion Assisted Deposition，IAD)技术在Gasir1玻璃(Ge22As20Se58)上制备了减反射膜层.文献[9]在Ge22Ga11Se63CsI4硫系玻璃上，采用PVD的方法制备了7层的减反射膜，实现了8～11 μm的平均透过率为97%.而目前采用PECVD法在硫系玻璃上沉积光学薄膜的文章还未见报导.本文采用PECVD技术，在硫系玻璃上完成了SiNx，SiOxNy和SiOxFy薄膜试制，并对所制备的薄膜进行了牢固度测试.测试结果表明，该方法可以作为硫系玻璃基底上低温沉积光学薄膜的有效技术途径，为推广硫系玻璃的应用奠定了工艺基础. 选用口径为∅20 mm的IRG204号硫系玻璃作为实验样片(化学式为Se63As30Sb4Sn3，软化点为167 ℃，折射率为2.80 (在波长为2 000 mm处)，选用消光系数<10-2的沉积工艺，在低温下进行离子束轰击试验，寻求增强薄膜牢固度的有效技术途径.首先对样片进行离子束轰击试验，确定基片的耐受工艺条件，并选取合适的离子束轰击工艺，在此基础上，完成低温沉积试验，并对制备的薄膜的光学特性和红外透过率进行测量，最后进行耐摩擦测试，检验薄膜的牢固度.为明确工艺对硫系玻璃低温沉积薄膜的影响，从四个方面对结果进行分析.首先利用Taylor Surf CCI2000非接触式白光干涉仪测量轰击前后表面粗糙度，并利用Spectrum GX 型傅里叶变换红外光谱仪测量其透过率，以综合评价确定轰击工艺是否对基底产生了损伤(玻璃软化)；采用M-2000UI型变角度宽光谱椭偏仪测量薄膜的光学常数，分析不同工艺对其的影响；采用GJB 2485-95标准检验轰击后制备的薄膜的耐摩擦特性；最后利用傅里叶红外光谱仪测量膜层的光谱特性，评价其实用性.1.1 离子束轰击试验轰击工艺实验参数：采用气体为高纯氩气(99.999%)，轰击功率为300 W，氩气流量为50 sccm，轰击时压强30 Pa，温度为室温(25 ℃).轰击实验过程：选用标准工艺中的离子能量，控制基片表面的轰击时间进行试验.轰击时间试验分为4组，分别为不轰击，轰击5 min，轰击15 min和轰击30 min.1.2 低温沉积试验采用北京创世威纳公司生产的PECVD-1201型等离子体化学气相沉积设备沉积薄膜，根据选取的实验参数，在不改变其他工艺参数的情况下，仅将薄膜沉积温度由300 ℃降至100 ℃.为确定薄膜的耐摩擦特性与轰击时间的关系，分别在轰击5 min、15 min和30 min后的硫系玻璃上镀制SiN薄膜，具体工艺参数见表1.轰击完后，对薄膜进行摩擦试验，找出耐摩擦的最佳轰击工艺后，以此轰击工艺，分别制备SiNx，SiOxNy和SiOxFy薄膜，制备时的轰击功率为200 W，压强30 Pa，时间20 min，气体流量比见表2.镀制完成后，利用椭偏仪测试薄膜的光学常数，并利用红外傅里叶光谱仪测量样片的透过率.1.3 耐摩擦试对样片1，2和3及样片A，B和C分别进行耐摩擦试验，用CML手持式摩擦棒按GJB 2485-95标准进行摩擦测试，由于基底较软，显微硬度小于45 kg·mm-1，因此使用中度摩擦具，并在橡皮魔头上薄膜两层清洁纱布以4.9 N摩擦样片，来回摩擦50次.2.1 离子轰击工艺的影响表3中，轰击5 min时，样片表面的粗糙度Sq略微下降，这是由于氩离子的轰击将表面附着的一些不易清洗的颗粒溅射掉了，使得薄膜表面整体变得光滑.而随着轰击时间的继续增加，刻蚀的深度增加，使硫系玻璃基底表面变得粗糙.但30 min内的轰击并未使硫系玻璃表面出现软化现象，未造成强损伤.同时以未轰击和轰击5 min时表面形貌为例进行分析，如图1～2所示，因篇幅问题另外两个检测结果不再重复.由图1～2可看出，两者表面的疵点和粗糙度在一个数量级上，并无明显差异.利用傅里叶红外光谱仪对样片透过率进行测试，轰击后的透过率曲线变化如图3所示.从图3可以看出，随着轰击时间的加长，样片的透过率出现略微的上升，这是由于轰击会使得基底表面出现许多刻蚀坑，这些坑可看作一层部分填充了空气的渐变层，可近似看作一层薄膜，折射率在空气和基底之间，因此低于基底折射率，从而出现一定的增透效果.由图3可知，增透的峰值应当在可见光波段，对于远红外波段影响很小，轰击时间的加长，会使得刻蚀坑加深，这层近似的薄膜变厚，增透峰值向长波区移动，因此透射率出现上升.在3～12 μm红外波段，透过率未出现大波动，粗糙度变化也在预计内，因此综合评定基底耐受离子辅助轰击时间为30 min以内，此时的轰击功率为300 W.2.2 薄膜的耐摩擦结果分析薄膜的摩擦测试结果见表4.结果显示，轰击5 min时的薄膜未脱落，而轰击15 min和轰击30 min的薄膜出现划痕和脱落现象，一方面轰击5 min时的离子轰击能量和时间能够清洗基底表面的杂质，提高表面的附着力.另一方面，轰击时间超过15 min时，可能由于离子轰击能量过大，可参考物理溅射刻蚀，薄膜表面变得粗糙，缺陷增多，从而不利于薄膜与基底的结合，沉积的薄膜不能经受耐摩擦试验.因此，综合考虑轰击工艺选取轰击时间为5 min.在此轰击工艺下，完成的SiNx，SiOxNy和SiOxFy薄膜在经受标准耐摩擦特性实验后，薄膜不脱落，均能满足使用条件.确定最终轰击工艺为300 W，50 sccm，30 Pa，轰击时间5 min.2.3 低温对薄膜的特性影响利用椭偏仪分别测量样片A，B和C的光学常数n，d和k，详见表5.其中n为折射率(在波长为550 nm处)，d为厚度，k为消光系数.通过课题组前期的实验以及文献[10]可知，低温会导致制备SiNx，SiOxNy和SiOxFy薄膜的折射率下降，沉积速率也出现微小的变化.这是由于温度的下降导致反应物质获取的能量减小，表面迁移率下降，形成的薄膜不致密，从而导致了折射率的下降.样片C的椭偏测量结果如图4所示，实际拟合时的拟合效果很好，拟合曲线和实测曲线的均方误差(Mean Squared Error,MSE)仅为4.6.三种薄膜材料可作为膜系设计中的高低折射率材料，为硫系玻璃上制备光学薄膜提供了可行的技术和方法. 2.4 红外光谱分析利用spectrum GX型傅里叶红外光谱仪分别测试样片A，B和C在3～12 μm波段的透射光谱曲线，如图5所示.并根据椭偏测量得到的光学常数，不考虑吸收情况下利用TFCalc软件进行理论仿真对比，结果如图6所示.通过干涉效应的计算分析，并利用TFCalc软件进行仿真，无吸收时，1～8 μm波段内的透过率曲线基本与实际一致，2 μm左右处的峰值为薄膜干涉效应引起，3 μm左右存在一个吸收带.8～12 μm波段内，仿真结果显示透过率并无明显变化，而图5显示该波段内出现明显的透过率变化，并有峰谷值，因此，该波段被必然存在着材料本身的吸收.根据红外材料的文献[11-12]报道，图5中的吸收峰均为材料特征吸收峰，其中3 μm (3 300 cm-1)处有一个吸收带为O-H键伸缩振动吸收峰，11.5 μm (850 cm-1)左右处的吸收峰为Si-N键吸收峰，8.5 μm (1 150 cm-1)左右处为Si-O键特征吸收峰，10.6 μm (940 cm-1)左右处为Si-F键伸缩振动吸收峰，因此，文中使用的方法所制备的薄膜材料可用作近红外和中红外的减反膜材料.探讨了PECVD技术在硫系玻璃表面沉积光学薄膜的可行性以及工艺条件.通过测量离子束轰击前后表面的粗糙度以及透过率变化，优化了氩离子清洗工艺.在硫系玻璃上以100 ℃的温度，分别制备了SiNx，SiOxNy和SiOxFy薄膜，镀制的薄膜折射率略低于常规工艺，消光系数小于10-5，与常规工艺无明显差异；牢固性良好，满足国军标耐中度摩擦使用要求.得到结论为1) IRG204玻璃氩离子轰击工艺，压强为30 Pa，功率为300 W，气体流量为50 sccm，轰击时间30 min以内，基底材料表面状态无明显破坏.2) 优化后的氩离子轰击工艺轰击IRG204玻璃表面后，采用100 ℃分别沉积SiNx，SiOxNy和SiOxFy不同折射率光学薄膜，与常规工艺相比，薄膜折射率略有降低，SiNx从1.83降低到1.73，SiOxNy从1.59降低到1.53，SiOxFy从1.40降低到1.39(三种材料)，消光系数均小于1×10-5，无明显变化.3) 按照优化工艺制备的高低折射率材料的单层薄膜，均能满足GJB 2485-95标准的膜层牢固性测试.4) 该方法制备的薄膜材料可用于设计制备近红外和中红外光学薄膜.【相关参考文献链接】王党社,张建科,吴振森.光学薄膜BRDF五参数模型的粒子群优化[J].2009,29(3)：214.成虎,许军锋,常芳娥,等.Ge-Se-Sb硫系玻璃均匀性分析[J].2016,36(12)：989.坚增运,贾婷婷,许军锋,等.Ge-Se硫系玻璃的光学性能与特征温度研究[J].2016,36(2)：149.常芳娥,薛改勤,许军峰,等.RbI掺杂硫系红外玻璃的纳米晶化工艺研究[J].2016,36(2)：143.杭凌侠,张霄,周顺.PECVD工艺参数对SiO2薄膜光学性能的影响[J].2010,30(2)：117.徐均琪,陈银凤,苏俊宏,等.强激光辐照对无氢DLC膜光学特性的影响[J].2012,32(12)：959.弥谦,刘哲.直流磁过滤电弧源沉积氧化钛薄膜的光学特性[J].2012,32(4)：270.潘永强,黄国俊.离子束辅助沉积非晶硅薄膜红外光学特性研究[J].2011,31(1)：9.潘永强,施洋.TiO2薄膜表面粗糙度对光学特性的影响[J].2010,30(1)：1.潘永强,施洋.离子束辅助沉积TiO2薄膜近红外光学特性分析[J].2009,29(4)：307. 刘建康,刘江南,马丽,等.紫外线照射对纯钛表面氧化膜光学特性的影响[J].2008,28(2)：142.张建生,刘建康.气泡光学特性的研究[J].2005,25(2)：103.【相关文献】[1] 坚增运,曾召,董广志,等.硫系红外玻璃的研究进展[J].西安工业大学学报,2011,31(1):1.JIAN Zengyun,ZENG Zhao,DONG Guangzhi,et al.Progress in the Research of 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镀膜玻璃应用技术标准
镀膜玻璃应用技术标准一、前言镀膜玻璃是一种经过特殊处理的玻璃制品，其表面经过涂覆特定材料形成薄膜，以提升玻璃的功能性和美观性。
本技术标准旨在规范镀膜玻璃的生产、应用和质量检验，促进镀膜玻璃行业的健康发展。
二、材料和设备要求1. 镀膜材料应选用符合国家标准的优质无机或有机化合物，具有良好的耐候性、抗腐蚀性和光学性能。
2. 镀膜设备应具备自动化控制、温度恒定和真空度可控等功能，保证膜层均匀、附着力强。
三、工艺流程1. 清洗：在镀膜前，应对玻璃表面进行彻底清洗，去除油污和杂质，以保证膜层的附着。
2. 镀膜：利用真空镀膜技术，将镀膜材料均匀地沉积在玻璃表面，形成一定厚度的薄膜。
3. 固化：经过镀膜后的玻璃需要进行固化处理，提高薄膜的硬度和耐久性。
4. 检验：对镀膜玻璃进行检验，包括膜层厚度、透光率、耐磨性等性能检测，确保产品符合标准要求。
四、应用要求1. 室内应用：镀膜玻璃可以用于室内隔断、家具、墙面装饰等方面，提供美观、防紫外线、隔热等功能。
2. 室外应用：在室外，镀膜玻璃可用于建筑幕墙、阳光房等，具有隔热、防晒、保温等功能。
3. 安装要求：镀膜玻璃的加工和安装需符合国家建筑安装规范，确保安全可靠。
五、质量标准1. 表面平整度：玻璃表面不得有凹凸、麻点等质量缺陷。
2. 薄膜附着力：膜层与玻璃基材应具有良好的附着力，不得剥离或起泡。
3. 膜层性能：膜层需具有一定的透光率、热反射率和紫外线抵抗能力。
4. 应力状态：镀膜玻璃的应力状态应符合国家标准要求，不得出现开裂或受力失稳等情况。
六、质量检验1. 可采用目测、光谱分析仪、厚度仪等设备对产品进行质量检验。
2. 对不合格品应予以退换或重新加工，确保产品质量。
七、附则1. 本标准所涉及的术语、测试方法等，参照国家相关标准和行业规范执行。
2. 本标准由国家质量监督检验检验总局负责解释和修订。
3. 本标准自颁布之日起开始执行。
结语镀膜玻璃作为一种新型材料，具有广泛的应用前景，在建筑、家居装饰等领域具有重要意义。
镀膜玻璃国内外标准
要求 视觉检查
— 无缺陷，按EN 1096-1定义，长度大于3mm
分光测量
抗 浓 缩
抗 酸 抗 中 性 盐 喷 射 抗 磨 损
附 录C 附 录D
— 最多1个缺陷长度2mm至3mm — 最多5个缺陷长度1mm至2mm
无要求 — 无缺陷，按EN 1096-1定义，长度大于3mm
在550nm和900nm测量的透过率与 参考试验片的对应测量值的不同 应不超过±0.03。 声称具有一低辐射膜层的一种玻 璃，在8μm的反射率减少量应不超 过0.02
术语和定义适用于ＥＮ 1096 1
10
沉积物的添加方法
通过不同方法在玻璃表面添加单层或多层系统（由金属、氧化物、 氮化物、氟化物和其它化合物组成）。
化学的膜层形成过程
从液体、气体或粉末中化学反应而在玻璃上产生膜的过程。
一种溶解的金属盐和一种还原剂的混合物喷射在玻璃表面上，发 生一个还原反应而沉淀精细的颗粒金属。
术语和定义适用于ASTM C 1376-03
8
边至边
一片玻璃内呈梯级的色差。 在各片之间的色差。
片至片
雾斑
斑点状或斑纹状色差（不要与热处理玻璃固有的应力斑或玻璃 在使用中的玻璃污迹，或两者，或损坏，相混淆）。
图像分幅
周界色差。
针孔
膜层全部或部分缺失的小区域。
术语和定义适用于ＥＮ 1096 1
5
斑纹 从镀膜玻璃反射方向看，膜层表面色泽发生变化的云状、 放射准确度中条纹状的缺陷。
暗道
从镀膜玻璃反射方向看，膜层表面亮度或反射色异于整 体的条状区域，可见程度取决于它们的周围膜层的亮度 差。
镀膜玻璃应用技术标准
镀膜玻璃应用技术标准一、引言镀膜玻璃是一种通过在玻璃表面涂覆一层薄膜来提高其性能和功能的技术。
镀膜玻璃广泛应用于建筑、汽车、电子产品等领域，为各行业提供了更优质、更安全的玻璃产品。
鉴于镀膜玻璃的特殊性和广泛应用，制定相关的应用技术标准对于规范行业发展、提高产品质量和安全水平具有重要意义。
二、标准适用范围本标准适用于建筑玻璃、汽车玻璃、电子产品玻璃等领域的镀膜玻璃应用技术，涉及镀膜玻璃的制造、安装、使用和维护等方面。
三、镀膜玻璃制造技术标准1. 材料选用：镀膜玻璃应选用优质的基础玻璃和高品质的镀膜材料。
基础玻璃要具有良好的透光性和强度，镀膜材料要有良好的附着力和耐久性。
2. 镀膜工艺：制造镀膜玻璃的工艺应符合国家标准和行业规范，包括玻璃清洁、镀膜材料喷涂、固化等环节，确保镀膜均匀、牢固。
3. 质量检验：对于生产出的镀膜玻璃，应进行严格的质量检验，包括外观质量、光学性能、机械性能等项目的检测，保证产品达到国家标准要求。
四、镀膜玻璃安装技术标准1. 安全规范：在安装镀膜玻璃时，安装人员应遵守相关的安全规范，佩戴好安全防护用具，并遵守施工现场的安全管理制度。
2. 安装工艺：镀膜玻璃的安装应符合专业标准，包括固定方式、连接件选用、结构设计等方面的要求，确保安装牢固、稳定。
3. 保护措施：在安装过程中，要确保镀膜表面不受到划伤、碰撞等损坏，采取必要的保护措施。
五、镀膜玻璃使用和维护技术标准1. 使用规范：在使用镀膜玻璃时，应注意避免过分重压、撞击或者长时间暴露在极端温度环境下，以防损坏镀膜层。
2. 日常维护：定期对镀膜玻璃进行清洁、保养，选择适当的清洁工具和清洁剂，避免使用腐蚀性强的化学品。
3. 损坏修复：对于镀膜玻璃的轻微损坏，可以采取相应的修复措施，但对于严重破坏或老化的镀膜层需要更换。
六、结论镀膜玻璃作为一种重要的功能玻璃产品，在建筑、汽车、电子等多个领域发挥着重要作用，制定镀膜玻璃应用技术标准有利于提高产品质量、规范行业发展，保障使用者的安全和权益。
BS EN 1096-2镀膜ABS级(知识参考)
BS EN 1096-2:2001建筑用玻璃—镀膜玻璃—第二部分：级别A、B和S镀膜的要求和试验方法1 BS EN 1096-2:2001目录前言 21 范围 22 标准引用 23 术语和定义 24 要求 35 样品和试验片 36 试验片的初始评估 47 试验的持续时间 58 试验方法 59 试验片的最终评估710 试验报告7 附录A（标准性）钢化或热增强镀膜玻璃的特殊程序9 附录B（标准性）抗浓缩试验10 附录C（标准性）抗酸试验11 附录D（标准性）中性盐喷射试验12 附录E（标准性）抗磨损试验13 附录F（标准性）证明镀膜等价的指标15 附录G（信息性）试验报告概要162 BS EN 1096-2:2001前言本欧洲标准由IBN秘书处，CEN/TC 129技术委员会，建筑用玻璃，制定。
本欧洲标准应有国家标准状况，由同一正文的发布或同认可，最新版为2001年7的国家标准至迟应于2001年7月前撤消。
本标准包括以下部分：—第一部分：定义和级别—第二部分：A、B和S镀膜的耐久性试验方法—第三部分：C和D镀膜的耐久性试验方法—第四部分：工厂生产控制和均匀度评估按CEN/CENELEC 国内规章，以下国家的国家标准组织均执行本欧洲标准：奥地利、比利时、捷克、丹麦、芬兰、法国、德国、希腊、冰岛、爱尔兰、意大利、荷兰、挪威、葡萄牙、西班牙、瑞典、瑞士和英国。
1 范围本欧洲标准规定了建筑用的玻璃上膜层的有关人造天气侵蚀和磨损的要求和试验方法。
这些试验以通过模拟自然天气侵蚀条件及磨损而评估膜层的抵抗性能为目标。
本标准适用于用在通常占用的民用或化学房屋中玻璃应用的镀膜玻璃。
本欧洲标准适用于按EN 1096-1规定的级别A、B和S。
2 标准引用本欧洲标准通过标注日期的或未标注日期的引用结合来自其他出版物的规定。
这些标准引用在正文的合适地方引用并列示各出版物如下。
对于标注日期的引用，所有这些出版物的此后的修改或修订只有经修订或修改才应用于本欧洲标准。
镀膜玻璃国内外标准讲解
湿化学沉积
溶胶-凝胶镀膜
浸涂上金属有机络合物溶液并热分解转化为适当的氧化物。
术语和定义适用于ＥＮ 1096 1
11
化学气相沉积
在玻璃基片的热表面上化合物以气相起化学反应。
溅射的液体在玻璃基片的热表面上起热分解地反应。 粉末在玻璃基片的热表面上化学地反应。 在真空状态下，材料人一个源上以原子、化合物或离子态迁移的过程。随后它们 积聚在玻璃表面上形成膜层。该过程也会伴随化学反应。
术语和定义适用于ASTM C 1376-03
6
膜层擦伤
膜层部分或全部脱除而产生一雾状外观的可感知的宽度 的一种表面磨损。 沿着一条细直线或曲线的膜层部分或全部脱除。
因外部来源造成膜层退化而致的玻璃表面的全部或部分的 颜色或反射或透射光水平变化。
膜层划伤
腐蚀
细裂纹
膜层中细线或裂纹的随机密集。
耐磨性、耐酸性、耐碱性试验前后试样的可见光透射经差值的绝对值不应大于4% 弯曲度：低辐射玻璃的弯曲度不应超过0.2%，钢化、半钢化低辐射玻璃的弓形弯曲度不超过0.3%，波形弯曲度（300mm） 不超过0.2%
镀膜玻璃耐久实验要求 ＥＮ 1096-2
21 特 性 试 验 方 法 附 录B
— 最多1个缺陷长度2mm至3mm — 最多5个缺陷长度1mm至2mm 另外，无划伤，大于1mm的膜层污斑和针孔串应允许（见EN 1096-1） 当参考试验片对比时，在反射和透射中，均应无明显的变色。该观察应在20s内 进行a。
镀膜玻璃应符合prEN 1096-2和prEN 1096-3所规定的适合的耐久性要求。
注1：对于种类C镀膜，在单片板的运输、处理、一般加工和贮存中应特别注意。在某些情况中，可能 需要除去组件边部封胶区域中的膜层，去边，以确保边部封胶与玻璃基片合适的粘结水平。 注2：对于种类D镀膜，应在玻璃基片上对组件边部封胶。 注3：对于种类S镀膜，膜层的预期寿命比正常用于建筑的镀膜玻璃的预期寿命短。
硫系玻璃———助力防疫,见所未见
慢。 历经八年,中国建筑材料科学研究总院有限公司( 下文简称中国建材总院) 特种玻璃团队在硫系玻璃原
料的提纯技术、熔制技术、成型技术以及表面镀膜技术等方面进行持续深耕,取得了一系列显著的成绩。 通
过反应器脱羟、原料提纯、除杂剂引入等技术实现了硫系玻璃原料的高质量纯化,显著降低了环境杂质和水
分对红外透过性能的影响,提高了硫系玻璃整体红外透过率;自主研发的高精度、复杂面型硫系玻璃光学元
件的成型技术,极大地推动了红外成像光学系统向低成本、小尺寸和轻质化方向的发展;先后攻克的表面沉
积红外增透膜和防护膜工艺,使硫系玻璃在长波红外波段的平均透过率超过 97% ,膜层性能稳定可靠,满足
GJB 2485—1995《 光学膜层通用规范》 要求。
外大气窗口;(2) 折射率温度系数较低,色散较小;(3) 光学均匀性较高,便于实现光学系统的热失焦调整和
色差校正,即利用硫系玻璃制备透镜的红外测温系统在低温、高温环境的成像质量与常温的成像质量差距不
大,成像性能稳定。
作为一种性能优异的红外材料,硫系玻璃以其独特的优势,吸引着国内外材料专家、学者和相关从业人
第 40 卷 第 7OF
酸
THE
盐
CHINESE
通
CERAMIC
报
SOCIETY
Vol. 40 No. 7
July,2021
封面故事
硫系玻璃———助力防疫,见所未见
红外热成像技术集光、机、电等尖端技术于一体,通过光电转换、电信号处理等手段,将目标物体的温度
十年磨一剑,中国建材总院硫系玻璃应用产品走出一条 “ 光学设计—玻璃制备—精密成型—表面镀
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硫系玻璃镀膜规范GJB
1. 引言
硫系玻璃镀膜技术是一种重要的表面处理技术，具有防腐、耐磨、耐氧化等特点。
为了规范硫系玻璃镀膜工艺和产品质量，提高镀膜效果和使用寿命，本文档制定了硫系玻璃镀膜的规范要求。
2. 术语和缩写
•硫系玻璃：指含有硫元素的玻璃材料。
•镀膜：在硫系玻璃表面形成一层保护性薄膜的工艺。
•GJB：国防部军事标准的简称。
3. 规范要求
3.1. 基本要求
1.硫系玻璃镀膜应符合相关标准规范的要求，并进行相应检测验证。
2.镀膜工艺应稳定可靠，能够在规定的工艺条件下实现一致的镀膜效果。
3.镀膜应具有一定的厚度，以达到预期的防腐、耐磨和耐氧化等效果。
4.镀膜应具有良好的附着力，不易剥离或脱落。
3.2. 镀膜工艺
1.沉积工艺：采用物理气相沉积、化学气相沉积等镀膜工艺。
2.镀膜材料选择：选择适合硫系玻璃材料的镀膜材料，如硫化锌、硫化
铜等。
3.镀膜工艺参数：确定合适的镀膜工艺参数，包括温度、压力、浓度、
沉积速度等。
4.镀膜层厚度控制：根据应用需求确定合适的镀膜层厚度，确保符合规
范要求。
3.3. 镀膜质量检测
1.镀膜附着力检测：采用划格法、剥离法等方法进行镀膜附着力的检测。
2.镀膜厚度检测：使用合适的测量仪器，比如显微镜、电子显微镜等，
测量镀膜的厚度。
3.镀膜硬度检测：使用硬度计等仪器进行镀膜硬度的检测。
4.镀膜表面质量检测：使用表面粗糙度仪、扫描电子显微镜等仪器对镀
膜表面质量进行检测。
3.4. 镀膜应用和维护
1.镀膜的应用环境：根据实际应用需求和使用环境，确定镀膜的使用条
件和限制。
2.镀膜的保护和维护：定期对镀膜进行检查和保养，如清洁、防止划伤
等。
4. 结论
本规范对硫系玻璃镀膜的要求进行了详细说明，包括基本要求、镀膜工艺、镀膜质量检测、应用和维护等方面。
希望能够促进硫系玻璃镀膜工艺的规范化，提高镀膜质量，保证产品的可靠性和稳定性。