光学镀膜的作用

光学镀膜的作用
光学镀膜的作用

光学镜片镀膜

一、耐磨损膜(硬膜)

无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片,在日常的使用中,由于与灰尘或砂砾(氧化硅)的摩擦都会造成镜片磨损,在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比,

有机材料制成的硬性度比较低,更易产生划痕。通过显微镜,我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种,一是由于砂砾产生的划痕,浅而细小,戴镜者不容易察觉;另一种是由较大砂砾产生的划痕,深且周边粗糙,处于中心区域则会影响视力。

(1)技术特征

1)第一代抗磨损膜技术

抗磨损膜始于20世纪70年代初,当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高,而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面,形成一层非常硬的抗磨损膜,但由于其热胀系数与片基材料的不匹配,很容易脱膜和膜层脆裂,因此抗磨损效果不理想。

2)第二代抗磨损膜技术

20世纪80年代以后,研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关,膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性,即有些材料的硬度较高,但变形较小,而有些材料硬度较低,但变形较大。第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。

3)第三代抗磨损膜技术

第三代的抗磨损膜技术是20世纪90年代以后发展起来的,主要是为了解决有机镜片镀上减反射膜层后的耐磨性问题。由于有机镜片片基的硬度和减反射膜层的硬度有很大的差别,新的理论认为在两者之间需要有一层抗磨损膜层,使镜片在受到砂砾磨擦时能起缓冲作用,并而不容易产生划痕。第三代抗磨损膜层材料的硬度介于减反射膜和镜片片基的硬度之间,其磨擦系数低且不易脆裂。

4)第四代抗磨损膜技术

第四代的抗膜技术是采用了硅原子,例如法国依视路公司的帝镀斯(TITUS)加硬液中既含有有机基质,又含有包括硅元素的无机超微粒物,使抗磨损膜具备韧性的同时又提高了硬度。现代的镀抗磨损膜技术最主要的是采用浸泡法,即镜片经过多道清洗后,浸入加硬液中,一定时间后,以一定的速度提起。这一速度与加硬液的黏度有关,并对抗磨损膜层的厚度起决定作用。提起后在100 °C左右的烘箱中聚合4-5小时,镀层厚约3-5微米。

(2)测试方法

判断和测试抗磨损膜耐磨性的最根本的方法是临床使用,让戴镜者配戴一段时间,然后用显微镜观察并比镜片的磨损情况。当然,这通常是在这一新技术正式推广前所采用的方法,目前我们常用的较迅速、直观的测试方法是:

1)磨砂试验

将镜片置于盛有砂砾的宣传品内(规定了砂砾的粒度和硬度),在一定的控制下作来回磨擦。结束后用雾度计测试镜片磨擦前后的光线漫反射量,并且与标准镜片作比较。

2)钢丝绒试验

用一种规定的钢丝绒,在一定的压力和速度下,在镜片表面上磨擦一珲的次数,然后用雾度计测试镜片磨擦前后的光线漫反射量,并且与标准镜片作比较。当然,我们也可以手工操作,对二片镜片用同样的压力磨擦同样的次数,然后用肉眼观察和比较。

上述两种测试方法的结果与戴镜者长期配戴的临床结果比较接近。

3)减反射膜和抗磨损膜的关系

镜片表面的减反射膜层是一种非常薄的无机金属氧化物材料(厚度低于1微米),硬且脆。当镀于玻璃镜片上时,由于片基比较硬,砂砾在其上面划过,膜层相对不容易产生划痕;但是减反射膜镀于有机镜片上时,由于片基较软,砂砾在膜层上划过,膜层很容易产生划痕。因此有机镜片在镀减反射膜前必须要镀抗磨损膜,而且两种膜层的硬度必须相匹配。

二、减反射膜

(1)为什么需要镀减反射膜?

1)镜面反射

光线通过镜片的前后表面时,不但会产生折射,还会产生反射。这种在镜片前表面产生的反射光会使别人看戴镜者眼睛时,看到的却是镜片表面一片白光。拍照时,这种反光还会严重影响戴镜者的美观。

2)"鬼影"

眼镜光学理论认为眼镜片屈光力会使所视物体在戴镜者的远点形成一个清晰的像,也可以解释为所视物的光线通过镜片发生偏折并聚集于视网膜上,形成像点。但是由于屈光镜片的前后表面的曲率不同,并且存在一定量的反射光,它们之间会产生内反射光。内反射光会在远点球面附近产生虚像,也就是在视网膜的像点附近产生虚像点。这些虚像点会影响视物的清晰度和舒适性。

3)眩光

象所有光学系统一样,眼睛并不完美,在视网膜上所成的像不是一个点,而是一个模糊圈。因此,二个相邻点的感觉是由二个并列的或多或少重叠的模糊圈产生的。只要二点之间的距离足够大,在视网膜上的成像就会产生二点的感觉,但是如果二点太接近,那么二个模糊圈会趋向与重合,被误认为是一个点。

对比度可以用来反映这种现象,表达视力的清晰度。对比值必须大于某一确定值(察觉阈,相当于1-2)才能够确保眼睛辨别二个邻近点。

对比度的计算公式为:D=(a-b)/(a b)

其中C为对比度,二个相邻物点在视网膜上所成像的感觉最高值为a,相邻部份的最低值为b。如果对比度C值越高,说明视觉系统对该二点的分辨率越高,感觉越清晰;如果二个物点非常接近,它们的相邻部分的最低值比较接近于最高值,则C值低,说明视觉系统对该二点感到不清晰,或不能清晰分辨。

让我们来模拟这样一个场景产:夜晚,一位戴眼镜的驾车者清晰地看见对面远处有二辆自行车正冲着他的车骑过来。此时,尾随其后的汽车的前灯在驾车者镜片后表面上产生反射:该反射光在视网膜上形成的像增加了二个被观察点的强度(自行车车灯)。所以,a段和b段的长度增加,即然分母(a b)增加,而分子(a-b)保持不变,于是就引起了C值的减少。对比减小的结果会令驾驶员最初产生的存在二个骑车人的感觉重合成为单一的像,就好比区分它们的角度被突然减小!

4)透过量

反射光占入射光的百分比取决于镜片材料的折射率,可通过反射量的公式进行计算。

反射量公式:R=(n-1)平方/(n 1)平方

R:镜片的单面反射量n:镜片材料的折射率

例如普通树脂材料的折射率为1.50,反射光R=(1.50-1)平方/(1.50+1)平方=0.04=4%。

镜片有两个表面,如果R1为镜片前表面的量,R2为镜片后表面的反射量,则镜片的总反射量R=R1+R2。(计算R2的反射量时,入射光为100%-R1)。镜片的透光量T=100%-R1-R2。

由此可见,高折射率的镜片如果没有减反射膜,反射光会对戴镜者带来的不适感比较强烈。(2)原理

减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同,波长相同的光波叠加,那么光波的振幅增强;如果二个光波原由相同,波程相差,如果这二个光波叠加,那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理,在镜片的表面镀上减反射膜,使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰,从而抵消了反射光,达到减反射的效果。

1)振幅条件

膜层材料的折射率必须等于镜片片基材料折射率的平方根。

2)位相条件

膜层厚度应为基准光的1/4波长。d=λ/4 λ=555nm时,d=555/4=139nm

对于减反射膜层,许多眼镜片生产商采用人眼敏感度较高的光波(波长为555nm)。当镀膜的厚度过薄(〈139nm),反射光会显出浅棕黄色,如果呈蓝色则表示镀膜的厚度过厚(〉139nm)。

镀膜反射膜层的目的是要减少光线的反射,但并不可能做到没有反射光线。镜片的表面也总会有残留的颜色,但残留颜色哪种是最好的,其实并没有标准,目前主要是以个人对颜色的喜好为主,较多为绿色色系。

我们也会发现残留颜色在镜片凸面与凹面的曲率不同也使镀膜的速度不同,因此在镜片中央部分呈绿色,而在边缘部分则为淡紫红色或其它颜色。

3)镀减反射膜技术

有机镜片镀膜的难度要比玻璃镜片高。玻璃材料能够承受300 °C以上的高温,而有机镜片在超过100 °C时便会发黄,随后很快分解。

可以用于玻璃镜片的减反射膜材料通常采用氟化镁(MgF2),但由于氟化镁的镀膜工艺必须在高于200°C的环境下进行,否则不能附着于镜片的表面,所以有机镜片并不采用它。20世纪90年代以后,随着真空镀膜技术的发展,利用离子束轰击技术,使得膜层与镜片的结合,膜层间的结合得到了改良。而且提炼出的象氧化钛,氧化锆等高纯度金属氧化物材料可以通过蒸发工艺镀于树脂镜片的表面,达到良好的减反射效果。

以下对有机镜片的减反射膜镀膜技术作一介绍。

1)镀膜前的准备

镜片在接受镀膜前必须进行预清洗,这种清洗要求很高,达到分子级。在清洗槽中分别放置各种清洗液,并采用超声波加强清洗效果,当镜片清洗完后,放进真空舱内,在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。最后的清洗是在真空舱内,在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。最后的清洗是在真空舱内镀前进行的,放置在真空舱内的离子枪将轰击镜片的表面(例如用氩离子),完成此道清洗工序后即进行减反射膜的镀膜。

2)真空镀膜

真空蒸发工艺能够保证将纯质的镀膜材料镀于镜片的表面,同时在蒸发过程中,对镀膜材料的化学成分能严密控制。真空蒸发工艺能够对于膜层的厚度精确控制,精度达到。

3)膜层牢固性

对眼镜片而言,膜层的牢固性是至关重要的,是镜片重要的质量指标。镜片的质量指标包括镜片抗磨损、抗文化馆、抗温差等。因此现在有了许多针对性的物理化学测试方法,在模拟戴镜者的使用条件下,对镀膜镜片进行膜层牢度质量的测试。这些测试方法包括:盐水试验、蒸汽试验、去离子水试验、钢丝绒磨擦试验、溶解试验、黏着试验、温差试验和潮湿度试验等等。

三、抗污膜(顶膜)

(1)原理

镜片表面镀有多层减反射膜后,镜片特别容易产生污渍,而污渍会破坏减反射膜的减反射效果。在显微镜下,我们可以发现减反射膜层呈孔状结构,所以油污特别容易浸润至减反射膜层。解决的方法是在减反射膜层上再镀一层具有抗油污和抗水性能的顶膜,而且这层膜必须非常薄,以使其不会改变减反射膜的光学性能。

(2)工艺

抗污膜的材料以氟化物为主,有二种加工方法,一种是浸泡法,一种是真空镀膜,而最常见的方法是真空镀膜。而最常用的方法是真空镀膜。当减反射膜层完成后,可使用蒸发工艺将氟化物镀于反射膜上。抗污膜可将多孔的减反射膜层覆盖起来,并且能够将水和油与镜片的接触面积减少,使油和水滴不易粘附于镜片表面,因此也称为防水膜。

对于有机镜片而言,理想的表面系统处理应该是包括抗磨损膜、多层减反射膜和顶膜抗污膜的复合膜。通常抗磨损膜镀层最厚,约为3-5mm,多层减反射膜的厚度约为0.3um,顶层抗污腊镀最薄,约为0.005-0.01mm。以法国依视路公司的钻晶(crizal),复合膜为例,在镜片的片基上首先镀上具有有机硅的耐磨损膜;然后采用IPC的技术,用离子轰击进行镀减反射膜前的预清洗;清洗后采用高硬度的二氧化锆(ZrO2)等材料进行多层减反射膜层的真空镀制;最后再镀上具有110的接触角度的顶膜。钻晶复合膜技术的研制成功表明了有机镜片的表面处理技术达到了一个新的高度。

镜头多层镀膜技术的原理--光学

镜头多层镀膜技术的原理、发展和使用概况 一、防反射膜层(增透膜)的作用 在自然界极易见到称为膜层的现象,例如水面上扩展的油膜层,肥皂泡产生的有美丽色彩和光泽的泡沫。这些与透镜表面的带色泽膜层有类之处,但透镜表面是用人工方法镀制的膜层。装在照相机上的摄影用镜头,一般要进行防反射膜处理。除照相机镜头外,望远镜、双筒显微镜、眼镜,还有航空光学仪器和汽车的计数盘表面玻璃等也有同样要求。今日,薄膜加工技术已获得广泛使用。 这种防反射膜,也称增透膜,其作用是尽量抑制透镜的玻璃表反射,减小光量损失,使入射光线尽量多透过镜头。(图1) 镀膜也取决于处理方法,有特定的分光特性的半透镜和干涉滤光镜等,在取景器光学系统和光源的照明系统中得到使用。 当然,初期的照相机和现代的摄影镜头都镀有薄膜。单个透镜组成的镜头,两个反射面,共有10%光量损失,从照相机初期的水准,考虑镀制防反射膜似乎是不必要的。 二、重新评价多层镀膜 镜片镀膜工艺的目的,首先是透镜的防反射作用,现在仍作为主要目的。随着加工技术的进步和使用范围不断扩大,产生了高度技术化的多层膜技术,分光透过的控制相当准确,操作方便,使用得到普及。对多层镀膜的性能提出高要求,会使成本提高。厂商为了提高镜头像质的课题注入大量经费,其效果是明显的。可以这么说,没有多层镀膜技术飞跃发展,高倍、大孔径变焦镜头不可能有今天的兴旺局面。 防反射的膜层能产生增透效果。此外,还有更直接的作用,这就是在逆光摄影时,幅于膜层影响,使易产生的幻像和光晕降低到最小程度。(图2、图3) 最近多组透镜构成的变焦镜头已成世界镜头发展的主流,采用多层镀膜,到达胶片面的光线,其衍生的杂散光部分大大减小,使镜头鉴别率不至于降低,也不损坏色采还原。重新评价经改进的膜层,研制在各种镜头中引入最适宜的镀膜最新技术,是各厂家一直研究的重要课题。单层膜、多层膜,部分透镜面镀多层膜,超级多层膜......形形色色的组合和新型膜系使用,对镜头发展起了重要作用。重新认识多层镀膜,已引起广大摄影师的广泛兴趣和关注。(图 4、图5) 三、镀膜略史 镜头烧热发现膜层 1892年;英国泰勒(H.D.Toylor,著名的Cook,Triplet镜头设计师)发现,把烧过的望远镜物镜的玻璃表面经风化出现紫色,和新的透镜比较,发现能通过更多的光线。受弱酸侵蚀的玻璃表面存在折射率低的薄膜,能降低玻璃表面的反身率。 这个透镜燃烧的新发现,使人们知道了膜层作用,并产生镀膜技术。以后,利用人工的弱酸化学作用,从实验室产技术。 1935年:德国卡尔,蔡司发明了防反射膜层处理技术。蔡司的A.Smakula在真空中加热蒸发低折射率氟化物薄膜,诞生了防反射薄膜处理方法。 1936年:美国加利福尼亚工业大学的J.D.Strong把玻璃置于真空中,加热蒸发有增透效果的氟化钙(CaF2),成功制成人工防反射薄膜。 由于上述原困,2个透镜组合胶合透镜可以分离,增加透镜设计的自由度。 1938年:美国依斯曼.柯达公司在HECTA镜头上完成镀膜工艺。 1939-1943年:卡尔.蔡司公司成功实现了2层和3层增膜系。 1945年:德国徕兹公司。在徕卡的标准镜头中首先使用镀膜技术,从SUMMITAR50mmF2

光学显微镜的发展历史

光学显微镜的发展历史、现状与趋势 杨拓拓 (苏州大学现代光学技术研究所,江苏苏州215000) 1基本原理 显微镜成像原理及视角放大率 显微镜由物镜和目镜组成。物体AB 在物镜前焦面稍前处,经物镜成放大、倒立的实像A'B',它位于目镜前焦面或稍后处,经目镜成放大的虚像,该像位于无穷远或明视距离处。 图1-1显微镜系统光路图 牛顿放大率公式: f f x x ''= 'x 是像点到像方焦点的距离,x 是物点到物方焦点的距离。 根据牛顿放大率公式可得物镜的垂轴放大率为 '1'1'11--f f x ?== β 目镜的视觉放大率为: '22250 f =Γ 组合系统的放大率为 '1f

'2'121250f f ? -=Γ=Γβ 显微镜系统的像方焦距 ?-=/'2'1'f f f '250 f = Γ 显微镜系统成倒像轴向放大率 '2'1'2'1/f f x x =β 若物点A 沿光轴移动很小的距离,则通过显微镜系统的像点'2A 将移动很大的距离,且移动 方向相同。 显微系统的角放大率 '2'1'2'1/x x f f =γ 即入射于物镜为大孔径光束,而由目镜射出为小孔径光束。 显微镜的孔径光阑 单组低倍显微物镜,镜框是孔径光阑。 复杂物镜一般以最后一组透镜的镜框作为孔径光阑。 对于测量显微镜,孔阑在物镜的象方焦面上,构成物方远心光路。 显微镜的视场光阑和视场 在显微物镜的象平面上设置了视场光阑来限制视场。由于显微物镜的视场很小,而且要求象面上有均匀的照度,故不设渐晕光阑。 显微镜是小视场大孔径成像,为获得大孔径并保证轴上点成像质量,显微镜线视场不超过物镜的1/20,线视场要求: 1'120202β?=≤f y

光学镀膜自动设计实验

综合设计实验:光学镀膜自动设计实验 实验一镀膜材料准备及膜层设计 【实验目的】 本实验通过发光二极管的制作过程完成对真空镀膜的学习。 【实验仪器】 1、真空镀摸机; 2、镀膜监测仪; 3、旋涂机; 4、干涉显微镜; 5、直流电源。【实验材料】 1、导电玻璃; 2、高纯铝丝; 3、三芳胺聚西夫碱; 4、8-羟基喹啉铝; 5、氟化锂; 6、丙酮; 7、无水乙醇; 8、脱脂棉; 9、盐酸等。 【实验原理】 真空镀膜是制作薄膜器件地常用方法,所谓真空镀膜是把待镀膜的基片或工件置于高真空室内,通过加热使蒸发材料气化(或升华)而沉积到某一温度的基片或工作表面上,从而形成一层薄膜,这一工艺过程称为真空蒸发镀膜。在高真空环境中成膜,可防止膜的污染和氧化,便于得到洁净,致密,符合预定要求得薄膜,因此,这种制膜方法目前得到了广泛应用。 本实验利用真空镀膜技术制作一种有机薄膜发光二极管。 众所周知,无机发光二极管在视频,数字显示,仪器监控,广告等诸多领域已经得到了广泛的应用,并取得了令人注目的成就。但是它们也存在着很多缺点:如体积大,发光材料品种较少,器件制作工艺复杂,成本高,能耗大,很难提供全色显示等。相反,有机材料薄膜电致发光器件(TFELD)却克服了上述缺点,显示出很

多无机电致发光器件无法比拟的优点。有机薄膜电致发光器件具有可大面积彩色显示,驱动电压低,可直流驱动,发光效率和亮度高,发光颜色可覆盖整个光谱区,有柔软性,易加工,成本低廉等优点。它已成为当前发光器件研究的热点,有机发光还具有材料来源广泛,颜色可调等优势。因此,它在显示技术方面具有潜在的应用前景。 近年来,在寻找新的有机电致发光材料,延长有机电致发光显示寿命方面取得了突破性进展,正朝着实用化的方向迅猛发展。 1.发光二极管工作原理 1.1发光二极管的基本机构 典型发光二极管的结构为三明治结构如图一,阳极为透明的导电玻璃(ITO),具有较高的功函数(4~7ev),阴极为低功函数金属(3~4ev),阴极阳极之间加入一层发光薄膜,在工作电压(2~30v)便可发光。为了改善其性能通常在阳极与有机发光物间加一层空穴传输层,在阴极与发光物间加一层电子传输层。 电致发光激发机构

光学镀膜的作用

光学镜片镀膜 一、耐磨损膜(硬膜) 无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片,在日常的使用中,由于与灰尘或砂砾(氧化硅)的摩擦都会造成镜片磨损,在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比, 有机材料制成的硬性度比较低,更易产生划痕。通过显微镜,我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种,一是由于砂砾产生的划痕,浅而细小,戴镜者不容易察觉;另一种是由较大砂砾产生的划痕,深且周边粗糙,处于中心区域则会影响视力。 (1)技术特征 1)第一代抗磨损膜技术 抗磨损膜始于20世纪70年代初,当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高,而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面,形成一层非常硬的抗磨损膜,但由于其热胀系数与片基材料的不匹配,很容易脱膜和膜层脆裂,因此抗磨损效果不理想。 2)第二代抗磨损膜技术 20世纪80年代以后,研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关,膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性,即有些材料的硬度较高,但变形较小,而有些材料硬度较低,但变形较大。第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。 3)第三代抗磨损膜技术 第三代的抗磨损膜技术是20世纪90年代以后发展起来的,主要是为了解决有机镜片镀上减反射膜层后的耐磨性问题。由于有机镜片片基的硬度和减反射膜层的硬度有很大的差别,新的理论认为在两者之间需要有一层抗磨损膜层,使镜片在受到砂砾磨擦时能起缓冲作用,并而不容易产生划痕。第三代抗磨损膜层材料的硬度介于减反射膜和镜片片基的硬度之间,其磨擦系数低且不易脆裂。 4)第四代抗磨损膜技术 第四代的抗膜技术是采用了硅原子,例如法国依视路公司的帝镀斯(TITUS)加硬液中既含有有机基质,又含有包括硅元素的无机超微粒物,使抗磨损膜具备韧性的同时又提高了硬度。现代的镀抗磨损膜技术最主要的是采用浸泡法,即镜片经过多道清洗后,浸入加硬液中,一定时间后,以一定的速度提起。这一速度与加硬液的黏度有关,并对抗磨损膜层的厚度起决定作用。提起后在100 °C左右的烘箱中聚合4-5小时,镀层厚约3-5微米。 (2)测试方法 判断和测试抗磨损膜耐磨性的最根本的方法是临床使用,让戴镜者配戴一段时间,然后用显微镜观察并比镜片的磨损情况。当然,这通常是在这一新技术正式推广前所采用的方法,目前我们常用的较迅速、直观的测试方法是: 1)磨砂试验 将镜片置于盛有砂砾的宣传品内(规定了砂砾的粒度和硬度),在一定的控制下作来回磨擦。结束后用雾度计测试镜片磨擦前后的光线漫反射量,并且与标准镜片作比较。 2)钢丝绒试验 用一种规定的钢丝绒,在一定的压力和速度下,在镜片表面上磨擦一珲的次数,然后用雾度计测试镜片磨擦前后的光线漫反射量,并且与标准镜片作比较。当然,我们也可以手工操作,对二片镜片用同样的压力磨擦同样的次数,然后用肉眼观察和比较。

光学发展简史

课程名称:光学主讲教师:王丹专业班级: 14光电 学号 201430320311 姓名谢宇成绩: 光学发展简史 摘要:光学是一门古老的科学,从远古时期就已经开始有人研究光的学问;光学也是一门实用的科学,我们日常生活中的许多设备,技术都离不开光学的应用。回顾光学的发展史,更有利于学习和把握光学这门有趣的科学。 关键词:光学科学学习发展史 光学的发展,大体上可以分为五个时期——萌芽时期,几何光学时期,波动光学时期,量子光学时期和现代光学时期。 在萌芽时期,主要进行简单光学元件的制造和基础光学原理的研究。在此时期,先秦典籍已经记载了影的定义和生成,光的直线传播性和针孔成像等光学原理[1];这之后,西方的欧几里得研究了光的反射,叙述了光的反射角等于入射角。在11世纪,阿拉伯学者伊本·海赛木首次提出视觉是由物体发生的光辐射线引起的[2]。14世纪,波特研究了成像暗箱,即小孔成像原理。从15世纪末到16世纪初,凹面镜、凸面镜、眼镜、透镜以及暗箱和幻灯等光学元件相继出现,对光学的研究即将到达一个峰点——几何光学。 紧接着的几何光学时期,是光学真正成为一门科学的时期。从公元1590年到十七世纪初,詹森和李普希同时独立发明了显微镜。在1608年,荷兰的李普塞发明了第一架望远镜。光学仪器的相继问世,给光学的研究插上了助推器。17世纪初,开普勒创设大气折射理论,提出天体望远镜原理。从15世纪中叶到17世纪,斯涅耳和笛卡尔、费马等经过一系列研究总结出的光的反射定律和折射定律,基本奠定了几何光学的基础。此后,在十七世纪中后叶,牛顿发现太阳光折射光谱和“牛顿环”,创立了光的“微粒说”[3]。但从17世纪开始,光的直线传播原理已经不能解释一些实验现象:意大利人格里马首先观察到了光的衍射现象,接着,胡克和波意耳独立地研究了薄膜所产生的彩色条纹干涉。自此,光学

光学发展史

光学发展史 光科1001班曲东雪 10272017 摘要:光学的主要光学(optics)是研究光(电磁波)的行为和性质,以及光和物质相互作用的物理学科。光学的起源在西方很早就有光学知识的记载,但是光学真正形成一门科学,应该从建立反射定律和折射定律的时代算起。其发展主要经历了萌芽时期,几何光学时期,波动光学时期和量子光学时期四个阶段。人们通常把光学分成几何光学、物理光学和量子光学来研究。 关键词:光学的定义;光学的历史发展;光学研究内容 Optical Development History Abstract: optical main optical ( Optics ) is the study of light ( electromagnetic waves) behavior and properties, as well as the interaction of light with matter of physics. Optics origin in the West have long optical knowledge records, but the optical true to form a science, should from build reflection law and refraction law era. Its development mainly experienced budding period, geometrical optics, wave optics and quantum optics in four stages: the period of. People usually put on optical geometric optics, physical optics and quantum optics research. Key words: optical definition; optical historical development; optical research content 光学定义 光学(optics),是研究光(电磁波)的行为和性质,以及光和物质相互作用的物理学科。传统的光学只研究可见光,现代光学已扩展到对全波段电磁波的研究。光是一种电磁波,在物理学中,电磁波由电动力学中的麦克斯韦方程组描述;同时,光具有波粒二象性,需要用量子力学表达。光学既是物理学中最古老的一个基础学科,有事当前科学研究中最活跃的前沿阵地,具有强大的生命力和不可估量的前途。光学的发展过程是人类认识客观世界的进程中一个重要的组成部分,是不断揭露矛盾和克服矛盾、从不完全和不确切的认识总部走向较完善和较确切认识的过程。它的不少规律和理论是直接从欧美和生产实践中总结出来的,也有相当多的发现来自长期的系统的科学实验。光学的发展为生产技术提供了许多精密、快速、的衡东的实验手段和重要的理论依据;而圣餐技术的发展,又反过来不断向光学提出许多要求解决的新课题,并为进一步深入研究光学准备了物质条件。 光学的起源在西方很早就有光学知识的记载,欧几里得(Euclid,公元

DWDM光学镀膜介绍与解析

DWDM光學鍍膜介紹與解析 前言 隨著行動電話與網際網路等通信量急速增加,連接幹線及都會之區間的光纖傳輸容量亦隨之暴漲。增加通信容量有兩種方法,一種是提高變頻速度的多重時間光增幅器廣波域技術提升相對分割法(TDM, Time Division Multiplexing),另外一種是以單一光纖傳輸不同波長光信號之多波長方式(WDM, Wavelenght Division Multiplexing)。由於地也帶動著高速化與高密度波長多重化演進,換言之它所使用的Filter種類與波長亦隨之多樣化。Filter鍍膜基於耐環境、溫度、穩定性等系統考量,通常採用離子(Ion)/等離子鎗(Plasma Gun)與濺鍍(Suptter)或電子束(EB,Electric Beam)等方式。然而鍍膜時有關膜厚監控(Monitor)、重複再現性、良率改善、自動化等諸多問題仍有待鍍膜廠商突破。鍍膜方法 電子束(EB)蒸鍍方式容易形成柱狀膜結構,為獲高充填率(Packing Density)的膜層,通常會採用Ion照射基板方式,經Ion 照射後由於離子(Ion)的能量使基板上形成活性核,同時促進核成長及核凝縮(Coalescence),進而獲得高充填率的膜層。電子束(EB)蒸鍍源與離子/等離子鎗(Plasma Gun)的組合又可分為離子輔助(IAD, Ion Assisted Deposition)及離子鍍(IP, Ion Plating),這兩種方法常用於有耐環境需求的通信元件鍍膜工程。Leybold公司的APS(Advanced Plasma System)為典型代表。 IAD的電子束蒸鍍源與Ion產生器可個別獨立控制,因此IAD方式較易找出最合適的鍍膜條件。基於EB鎗需長時間操作,因此有些廠商修改Filament的尺寸與外形,用來降低電子束270°偏向時所產生的離子衝擊對Filament造成的耗損。如此一來由高周波放電所構成的離子鎗,在DC放電時無法避免的Filament Suptter不純物產生會完全消失,同時離子鎗可作長時間運轉。這種方式具有鍍膜時Filer吸收損失較小、膜應力比其它等離子製程更小等優點。 濺鍍(Suptter)方式可獲得較高的膜層充填率,鍍膜速度則比上述方式慢,因此光通信用多層膜Filter製程很少採用。OCLI及加拿大的NRCC是將金屬靶材(Target)先作濺鍍,再經過氧化等離子氧化過程,如此便可進行製作窄域

光学基础知识及光学镀膜技术

光学基础知识及光学镀膜技术 光學薄膜是指在光學元件上或獨立的基板上鍍上一層或多層之介電質膜或金屬膜來 改變光波傳遞的特性。即應用光波在這些薄膜中進行的現象與原理,如透射、吸收、散 射、反射、偏振、相位變化等,進而設計及製造各種單層及多層之光學薄膜來達到科學 與工程上的應用。在本廠的實際應用上,DM半透板與ITO鍍膜屬於這個領域。 光學薄膜雖早於1817年Fraunhofer已經開始利用酸蝕法製成了抗反射膜,但是真正 的發展是在1930年真空鍍膜設備之後。而軍事的需求(望遠鏡、飛彈導向鏡頭、監視衛 星、夜視系統等)加速了光學薄膜的開發與研究。計算機的出現使得設計更為方便,相對 的各種理論及設計方法因應而出,光學薄膜的研究於是更為進步並充分應用於各種光電 系統及光學儀器之中,如光干涉儀、照相機、望遠鏡、顯微鏡、投影電視機、顯示器、 光鑯通訊、汽車工業、眼鏡等。 光學薄膜基本上是藉由干涉作用達到其效果的。簡單的如肥皂泡沫膜、金屬表層的 氧化膜、水面油層的顏色變化,都可以視為單層干涉的效果。因此,當光在膜層中的干

涉現象可以被偵測到時,我們就說這層模是薄的,否則是厚的(k值消散掉)。由於干涉現象不僅跟膜層的厚度有關,而且光源的干涉性和偵測性的種類也有關。 接下來為各位介紹幾個主題1.波動光學基本理論2.薄膜光學的應用及產品介紹3.薄膜設計方法4.金屬鍍膜材料5.光學薄膜的鍍製方法及設備6.光學薄膜材料。 光學薄膜的製作是理論設計的實現,它不僅和蒸鍍方法及材料有關亦與薄膜支撐 者,即基板之表面狀況及材質有密切的關係,事實上光學薄膜的研製的主要困難已經比 較少是在設計上,而是在製鍍上,亦即要製造出預期中的光學常數及厚度之薄膜,因此 新的製膜方法及監控方式在工程上更顯的重要。 1. 繞射和干涉的現象常常會被拿在一起來討論,繞射可視為很多光源互相干涉,但其數學處理的方式仍然與干涉不太一樣。例如全像或光柵,可以用繞射也可以用干涉來解釋,也各有其數學模式。光的波動說:當一個水波經過一個障礙時,我們可以看到障礙的邊緣會 泛起陣陣漣漪,這種現象就是繞射,光波也有繞射現象,這種現象是和光的直線前進或光 的粒子說相抵觸的。早在1500年,L.da Viaci 已提及光的繞射,Huygens在1678年首先創立光的波動理論,他把波陣面上每一點都視為一個次級子波的波源,而所有子波前進時的包絡面又形成新的波前,應用這個原理可以解釋光的直線前進、光的反射與折射。 1801年,Young用干涉理論來解釋單狹縫的現象,但實驗結

光学薄膜技术第三章 薄膜制造技术

第三章薄膜制造技术 光学薄膜可以采用物理汽相沉积(PVD)和化学液相沉积(CLD)两种工艺来获得。CLD工艺简单,制造成本低,但膜层厚度不能精确控制,膜层强度差,较难获得多层膜,废水废气对环境造成污染,已很少使用。 PVD需要使用真空镀膜机,制造成本高,但膜层厚度能够精确控制,膜层强度好,目前已广泛使用。 PVD分为热蒸发、溅射、离子镀、及离子辅助镀等。 制作薄膜所必需的有关真空设备的基础知识 用物理方法制作薄膜,概括起来就是给制作薄膜的物质加上热能或动量,使它分解为原子、分子或少数几个原子、分子的集合体(从广义来说,就是使其蒸发),并使它们在其他位置重新结合或凝聚。 在这个过程中,如果大气与蒸发中的物质同时存在,那就会产生如下一些问题: ①蒸发物质的直线前进受妨碍而形成雾状微粒,难以制得均匀平整的薄膜; ②空气分子进入薄膜而形成杂质; ③空气中的活性分子与薄膜形成化合物; ④蒸发用的加热器及蒸发物质等与空气分子发生反应形成 化合物,从而不能进行正常的蒸发等等。 因此,必须把空气分子从制作薄膜的设备中排除出去,这个 过程称为抽气。空气压力低于一个大气压的状态称为真空, 而把产生真空的装置叫做真空泵,抽成真空的容器叫做真空 室,把包括真空泵和真空室在内的设备叫做真空设备。制作 薄膜最重要的装备是真空设备. 真空设备大致可分为两类:高真空设备和超高真空设备。二 者真空度不同,这两种真空设备的抽气系统基本上是相同 的,但所用的真空泵和真空阀不同,而且用于真空室和抽气 系统的材料也不同,下图是典型的高真空设备的原理图,制 作薄膜所用的高真空设备大多都属于这一类。 下图是超高真空设备的原理图,在原理上,它与高真空设备 没有什么不同,但是,为了稍稍改善抽气时空气的流动性, 超高真空设备不太使用管子,多数将超高真空用的真空泵直 接与真空室连接,一般还要装上辅助真空泵(如钛吸气泵) 来辅助超高真空泵。 3.1 高真空镀膜机 1.真空系统 现代的光学薄膜制备都是在真空下获得的。普通所说的 真空镀膜,基本都是在高真空中进行的。 先进行(1)然后进行(2)。因为所有的(超)高真空泵只有在真空室的压力降低到一定程度时才能进行工作,而且在高真空泵(如油扩散泵)中,要把空气之类的分子排出,就必须使排气口的气体压力降低到一定程度。 小型镀膜机的真空系统 低真空机械泵+高真空油扩散泵+低温冷阱

现代光学的发展历程

现代光学的发展 众所周知,因为有了光,人们才能看见这个色彩斑斓的世界,才能在这世界上生存。因此在我们的生活中有许许多多的光现象及其应用的产生。无论是建造艺术,还是雕塑、绘画及舞蹈艺术等众多领域都离不开光的存在,也因为有了光的存在,使其更加的炫目夺人。 那么,光在于现代是如何发挥它对人类的作用的呢?而光又是如何发展成 为现代光学呢? 20世纪中叶随着新技术的出现,新的理论也不断发展,由于光学的应用十 分广泛,已逐步形成了许多新的分支学科或边缘学科。几何光学本来就是为设 计各种光学仪器而发展起来的专门学科,随着科学技术的进步,物理光学也越 来越显示出它的威力,例如光的干涉目前仍是精密测量中无可替代的手段,衍 射光栅则是重要的分光仪器,光谱在人类认识物质的微观结构(如原子结构、分 子结构等)方面曾起了关键性的作用,人们把数学、信息论与光的衍射结合起来, 发展起一门新的学科——傅里叶光学把它应用到信息处理、像质评价、光学计 算等技术中去。特别是激光的发明,可以说是光学发展史上的一个革命性的里 程碑,由于激光具有强度大、单色性好、方向性强等一系列独特的性能,自从 它问世以来,很快被运用到材料加工、精密测量、通讯、测距、全息检测、医 疗、农业等极为广泛的技术领域,取得了优异的成绩。此外,激光还为同位素 分离、储化,信息处理、受控核聚变、以及军事上的应用,展现了光辉的前景。 光学是物理学的一个分支, 是一门古老的自然学科, 已经有数千年发展历 史。在十七世纪前后, 光学已初步形成了一门独立的学科。以牛顿为代表的微 粒说和与之相应的几何光学;以及以惠更斯为代表的波动说和与之相应的波动 光学构成了光学理论的两大支柱。到十九世纪末, 麦克斯韦天才地总结和扩充 了当时已知的电磁学知识, 提出了麦克斯韦方程组, 把波动光学推到了一个更 高的阶段。然而, 人们对光的更进一步的认识是与量子力学和相对论的建立分 不开的。一方面, 十九世纪及其以前的光学为这两个划时代的物理理论的建立 提供了依据。另一方面, 这两个理论的建立, 更加深了人类对光学有关现象的 深入了解。从十七世纪到现在,光学的发展经历了萌芽时期、几何光学时期、 波动光学时期、量子光学时期、现代光学时期等五大历史时期。

光学发展简史

光学发展简史-萌芽时期 中国古代光学萌芽及发展 中国古代对光的认识是和生产、生活实践紧密相连的。它起源于火的获得和光源的利用,以光学器具的发明、制造及应用为前提条件。根据籍记载,中国古代对光的认识大多集中在光的直线传播、光的反射、大气光学、成像理论等多个方面。 光的直线传播 1、对光的直线传播的认识早在春秋战国时 《墨经》已记载了小孔成像的实验:“景,光之人, 煦若射,下者之人也高;高者之人也下,足蔽下光, 故成景于上,首蔽上光,故成景于下……”。指出小 孔成倒像的根本原因是光的“煦若射”,以“射”来 比喻光线径直向、疾速似箭远及他处的特征动而准 确。 宋代,沈括在《梦溪笔谈》中描写了他做过的一个实验,在纸窗上开一个小孔,使窗外的飞鸢和塔的影子成像于室内的纸屏上,他发现:“若鸢飞空中,其影随鸢而移,或中间为窗所束,则影与鸢遂相违,鸢东则影西,鸢西则影东,又如窗隙中楼塔之影,中间为窗所束,亦皆倒垂”。进一步用物动影移说明因光线的直进“为窗所束”而形成倒像。 2、对视觉和颜色的认识对视觉在《墨经》中已有记载:“目以火见”。已明确表示人眼依赖光照才能看见东西。稍后的《吕氏春秋·任数篇》明确地指出:“目之见也借于昭”。《礼记·仲尼燕居》中也记载:“譬如终夜有求于幽室之中,非烛何见?”东汉《潜夫论》中更进一步明确指出:“夫目之视,非能有光也,必因乎日月火炎而后光存焉”。以上记载均明确指出人眼能看到东西的条件必须是光照,尤其值得注意的是认为:光不是从眼睛里发出来的,而是从日、月、火焰等光源产生的。这种对视觉的认识是朴素、明确、比较深刻的。 颜色问题,在中国古代很少从科学角度加以探索,而着重于文化礼节和应用。早在石器时代的彩陶就已有多种颜色工艺。《诗经》里就出现了数十种不同颜色的记载。周代把颜色分为“正色”和“间色”两类,其中“正色”是指“青、赤、黄、白、黑五色”。“间色”则由不同的“正色”以不同的比例混合而成。战国时期《孙子兵法·势篇》更指出:“色不过五,五色之变不可胜观也”。可见这“正色”和“间色”的说法,与现代光学中的“三原色”理论很类似,但缺乏实验基础。清初博明对颜色提出”五色相宣之理,以相反而相成。如白之与黑,朱之与绿,黄之与蓝,乃天地间自然之对,待深则俱深,浅则俱浅。相杂而间,色生矣”(《西斋偶得三种》)。这里孕育了互补色的初步概念,虽未形成一定的颜色理论,但从半经验半思辨的角度看也实在是难能可贵的。 3、光的反射和镜的利用中国古代由于金属冶炼技术的发展,铜镜在公元前2000年夏初的齐家文化时期已经出现。后来随着技术的发展,古镜制作技术逐渐提高,应

树脂镜片材料及光学镀膜

树脂镜片材料及光学镀膜 一.镜片的材料特性眼镜片的光学目的旨在通过配戴矫正镜片使屈光不正的眼睛恢复清晰视力,所以在选用镜片材料时需要考虑以下这些与镜片屈光作用密切相关的因素:1、材料的几何特性:曲率半径、表面形状等;2、材料的物理化学特性:折射率、阿贝数等。镜片材料的研究发展主要是为了获取并控制这些相关因素,了解并掌握其特性,以使不断完善、发展镜片的光学矫正效果。镜片材料的基本特性有:1、光学性质,计算屈光作用和控制光学性能;2、机械和热性质;3、电性质材料;4、化学性质通过外界所可能接触的化学物质了解材料的相应变化。一、光学性质:光学性质是材料的基本性质,与镜片在日常生活中所见到的各种光学现象相符合,主要为光线在镜片表面的折射和反射、材料本身的吸收,以及散射和衍射现象。(1)光线折射:通过镜片的光线会在镜片的前后表面发生折射或偏离现象,光线的偏离幅度由材料的折射率和入射光线在镜片表面的入射角度决定。1)折射率:透明媒质的折射率是光线在真空中的速度c与在媒质中的速度v的比值,n=c/v。该比值没有单位并且总是大于1。折射率反映媒质的折射能力,折射率越高,从空气进入该媒介的光束偏离得越多。从空气到折射率为n的透明媒质所发生的偏离或折射可以根据斯涅耳-笛卡尔定律(Snell-Descartes Law)进行计算,规定如下:折射光线与入射光线和法线位于同一平面入射角i和折射角r分别由法线与入射光线、折射光线构成。计算公式:sin i=n sin r 由于透明媒质的光速随着波长而变化,所以折射率的值总是参考某一特定波长表示:在欧洲和日本,参考波长为e线546.07nm(汞--绿光谱线),但是在美国等其它国家则是d线587.56nm(氦--黄光谱线)。但这个区别并没有造成实际影响,因为它的区别仅仅反映在折射率值的第三位小数上。目前市场所采用的镜片材料的折射率范围是从 1.5--1.9。2)色散系数:阿贝数。由光波引起的折射率变化会使白光根据不同的折射产生色散现象。事实上,波长越短,折射率越高,可见光的折射从光谱的红光区延伸到蓝光区。材料的色散能力可以由阿贝数描述,在欧洲、日本规定用e线,在美国等其他国家规定使用d线。阿贝数与材料的色散力成反比,镜片材料规定的范围通常从30-60,数值越大即表示色散越少。一般而言,折射率越高,色散力越大,而阿贝数就越低。尽管所有镜片都存在色散,但在镜片中心,这个因素可以被忽略,只有在用高色散材料制造的镜片周边部,色散现象才易被察觉。在这种情况下,色散现象所表现的是离轴物体边缘带有彩色条纹。(2)光线反射光线在镜片表面产生折射的同时,也会产生反射现象。光线反射会影响镜片的

光学显微镜的发展历史

杨拓拓 (苏州大学现代光学技术研究所,江苏苏州215000) 1基本原理 显微镜成像原理及视角放大率 显微镜由物镜和目镜组成。物体AB 在物镜前焦面稍前处,经物镜成放大、倒立的实像A'B',它位于目镜前焦面或稍后处,经目镜成放大的虚像,该像位于无穷远或明视距离处。 图1-1显微镜系统光路图 牛顿放大率公式: f f x x ''= 'x 是像点到像方焦点的距离,x 是物点到物方焦点的距离。 根据牛顿放大率公式可得物镜的垂轴放大率为 '1'1'11--f f x ?== β 目镜的视觉放大率为: '22250 f =Γ 组合系统的放大率为 '2'121250f f ? -=Γ=Γβ 显微镜系统的像方焦距 ?-=/'2'1'f f f '250 f = Γ 显微镜系统成倒像轴向放大率 ' 1 f

'2'1'2'1/f f x x =β 若物点A 沿光轴移动很小的距离,则通过显微镜系统的像点'2A 将移动很大的距离,且移动 方向相同。 显微系统的角放大率 '2'1'2'1/x x f f =γ 即入射于物镜为大孔径光束,而由目镜射出为小孔径光束。 显微镜的孔径光阑 单组低倍显微物镜,镜框是孔径光阑。 复杂物镜一般以最后一组透镜的镜框作为孔径光阑。 对于测量显微镜,孔阑在物镜的象方焦面上,构成物方远心光路。 显微镜的视场光阑和视场 在显微物镜的象平面上设置了视场光阑来限制视场。由于显微物镜的视场很小,而且要求象面上有均匀的照度,故不设渐晕光阑。 显微镜是小视场大孔径成像,为获得大孔径并保证轴上点成像质量,显微镜线视场不超过物镜的1/20,线视场要求: 1 '120202β?=≤f y 显微镜的分辨率和有效放大率 光学仪器分辨率 瑞利判据:两个相邻的“点”光源所成的像是两个衍射斑,若两个等光强的非相干点像之间的间隔等于艾里圆的半径,即一个像斑的中心恰好落在另一个像斑的第一暗环处,则这两个点就是可分辨的点。当物面在无穷远时,以两点对光学系统的张角可表示两分辨点的距离,其值为:

真空镀膜与光学镀膜对比

真空镀膜主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加, 提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。一般来说,利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点:(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体,可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制,容易得到高精度的膜厚。(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。(6)溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排。(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上,且由于溅射粒子带有高能量,在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜,同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。(8)薄膜形成初期成核密度高,可生产10nm以下的极薄连续膜。(9)靶材的寿命长,可长时间自动化连续生产。(10)靶材可制作成各种形状,配合机台的特殊设计做更好的控制及最有效率的生产。 光学镀膜 一、耐磨损膜(硬膜) 无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片,在日常的使用中,由于与灰尘或砂砾(氧化硅)的摩擦都会造成镜片磨损,在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比, 有机材料制成的硬性度比较低,更易产生划痕。通过显微镜,我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种,一是由于砂砾产生的划痕,浅而细小,戴镜者不容易察觉;另一种是由较大砂砾产生的划痕,深且周边粗糙,处于中心区域则会影响视力。 (1)技术特征 1)第一代抗磨损膜技术 抗磨损膜始于20世纪70年代初,当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高,而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面,形成一层非常硬的

光学镀膜材料论文

光学镀膜材料研究 摘要:随着科学技术的发展进步,人们对于光学领域的研究越来越广泛。而光学镀膜技术又是光学研究中的重要课题。因此通过对光学镀膜材料的研究来促进光学镀膜的发展是亟待解决的难题。通过对于光学镀膜材料性质特点的研究,来寻求未来光学材料的发展研究方向以及促进光学镀膜技术的飞速发展,使之能够更好地为人类社会的进步做贡献。 关键字:光学镀膜材料发展 一、引言 能源、信息和生物技术被称为现代社会的三大支柱,而材料科学又是能源、信息和生物技术的基础。随着近几年镀膜技术的发展,推动了镀膜材料的发展和完善。薄膜材料与薄膜技术形成了密不可分的相辅相成关系,并在我们的日常生活中发挥着重要作用。眼睛的保护膜、滤光膜、防紫外线膜;相机镜头保护膜、增透膜、增反膜;宝石上的膜层;汽车玻璃、幕墙玻璃的增反膜;光纤外壁反射膜等都在我们的生活中发挥着极其重要的作用。在我们的生活发生巨大变化的同时,我们也迫切需求光学镀膜技术的急速发展。因此对于光学镀膜材料的研究成为我们首要研究发展的课题。 二、光学镀膜材料的分类及特点 目前,光学镀膜材料常用品种已达60余种,而且其品种、应用功能还在不断被开发。 (一)、光学镀膜材料的分类: 1、从化学组成上,薄膜材料可分为: 氧化物类:Al2O3、SiO、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2等 氟化物类:MgF2、BaF2、YF3、Na3AlF6等 其它化合物类:ZnS、ZnSe、PbTe等 金属(合金)类:Al、Cr、Ti、Ag、Al-Ti、Ni-Cr等 2、从材料功能分,镀膜材料可分为: (1)光介质材料:起传输光线的作用。这些材料以折射、反射和透射的方式改变光线的方向、强度和相位,使光线按预定要求传输,也可吸收或透过一定波长范围的光线而调整光谱成份。 (2)光功能材料:这种材料在外场(力、声、热、电、磁和光)的作用下,光学性质会发生变化,因此可作为探测、保护和能量转换的材料(如AgCl2,WO3等)。 (二)光学镀膜材料的特点 从化学结构上看,固体材料(薄膜)中存在着以下键力:离子键、共价键、金属键、分子键(或范德华键)。由于化学键的特性,决定了不同薄膜材料或薄膜具有以下不同特点: (1)氧化物膜料大都是双电荷(或多电荷)的离子型晶体结构,因此,决定了

光谱学发展简史解读

光谱学发展简史 光谱学是光学的一个分支学科,它主要研究各种物质的光谱的产生及其同物质之间的相互作用。光谱是电磁辐射按照波长的有序排列,根据实验条件的不同,各个辐射波长都具有各自的特征强度。 通过光谱的研究,人们可以得到原子、分子等的能级结构、能级寿命、电子的组态、分子的几何形状、化学键的性质、反应动力学等多方面物质结构的知识。但是,光谱学技术并不仅是一种科学工具,在化学分析中它也提供了重要的定性与定量的分析方法。 光谱学的发展简史 光谱学的研究已有一百多年的历史了。1666年,牛顿把通过玻璃棱镜的太阳光分解成了从红光到紫光的各种颜色的光谱,他发现白光是由各种颜色的光组成的。这是可算是最早对光谱的研究。 其后一直到1802年,渥拉斯顿观察到了光谱线,其后在1814年夫琅和费也独立地发现它。牛顿之所以没有能观察到光谱线,是因为他使太阳光通过了圆孔而不是通过狭缝。在1814~1815年之间,夫琅和费公布了太阳光谱中的许多条暗线,并以字母来命名,其中有些命名沿用至今。此后便把这些线称为夫琅和费暗线。 实用光谱学是由基尔霍夫与本生在19世纪60年代发展起来的;他们证明光谱学可以用作定性化学分析的新方法,并利用这种方法发现了几种当时还未知的元素,并且证明了太阳里也存在着多种已知的元素。 从19世纪中叶起,氢原子光谱一直是光谱学研究的重要课题之一。在试图说明氢原子光谱的过程中,所得到的各项成就对量子力学法则的建立起了很大促进作用。这些法则不仅能够应用于氢原子,也能应用于其他原子、分子和凝聚态物质。 氢原子光谱中最强的一条谱线是1853年由瑞典物理学家埃斯特朗探测出来的。此后的20年,在星体的光谱中观测到了更多的氢原子谱线。1885年,从事天文测量的瑞士科学家巴耳末找到一个经验公式来说明已知的氢原子诺线的位置,此后便把这一组线称为巴耳末系。继巴耳末的成就之后,1889年,瑞典光谱学家里德伯发现了许多元素的线状光谱系,其中最为明显的为碱金属原子的光谱系,它们也都能满足一个简单的公式。 尽管氢原子光谱线的波长的表示式十分简单,不过当时对其起因却茫然不知。一直到1913年,玻尔才对它作出了明确的解释。但玻尔理论并不能解释所观测到的原子光谱的各种特征,即使对于氢原子光谱的进一步的解释也遇到了困难。 能够满意地解释光谱线的成因的是20世纪发展起来的量子力学。电子不仅具有轨道角动量,而且还具有自旋角动量。这两种角动量的结合便成功地解释了光谱线的分裂现象。 电子自旋的概念首先是在1925年由乌伦贝克和古兹密特作为假设而引入的,以便解释碱金属原子光谱的测量结果。在狄喇克的相对论性量子力学中,电子自旋(包括质子自旋与中子自旋)的概念有了牢固的理论基础,它成了基本方程的自然结果而不是作为一种特别的假设了。 1896年,塞曼把光源放在磁场中来观察磁场对光三重线,发现这些谱线都是偏振的。现在把这种现象称为塞曼效应。次年,洛伦兹对于这个效应作了满意的解释。 塞曼效应不仅在理论上具有重要意义,而且在应用中也是重要的。在复杂光谱的分类中,塞曼效应是一种很有用的方法,它有效地帮助了人们对于复杂光谱的理解。

光学镀膜基片的主要参数

光学镀膜基片的主要参数 随着光学技术的发展,对精密光学镀膜的要求越来越高,例如超快激光光学元件、特殊激光光学元件对镀膜都有非常高的要求。一般来讲,基片/基材的价格和质量取决于材料,形状,尺寸,公差和抛光质量。 材料 通常第一步就是决定基片的材料,基片材料最好对于所有波长的高透射率,几乎没有吸收。如果不是透射,则可以使用低成本材料,例如,Borofloat?(SCHOTT AG)用于金属镜面。其对于表面形状公差,低热膨胀都是有益的。、 形状 选择基片时必须考虑两侧的形状,平面,凸面,楔形和凹面的所有组合都是可能的。楔形(例如30')可以应用在每种表面(平面以及凸面或凹面)上。对于弯曲基板,半径符号有不同的约定。有时“+”表示凸,“- ”表示凹。其他用户将“+”和“- ”称为光传播。在这种情况下,“+”表示“与传播方向的曲率”,“- ”表示“相对于传播方向的曲率”。为避免混淆,需要明确地表明凹或凸。

用户需要明确边长和直径,除非另有说明,否则厚度描述是指基板的最大厚度,即平凸基板的中心厚度和平凹基板的边缘厚度。因此,一般在较厚的一侧测量楔形板。为了获得良好的形状公差,还应该注意直径和厚度的比例。 公差 除尺寸和材料外,公差对成本也是最重要的。当然,光学元件必须适合安装座,因此直径不应大于规定值。最常见的规格是-0.1mm。大多数情况下,厚度在两个方向上都是自由的。海纳光学通常指定它的公差为±0.1mm。关于楔形,并行性和居中的规范存在很多混淆。请注意,楔形和平行度描述了光学表面之间的角度,而居中则描述了光学表面和侧面之间的角度(见上图)。 海纳光学标准基板具有优于5arcmin的平行度。特制的平行线可以具有低至10的平行度。标准楔形基板具有0.5°或1°的楔形。根据基板尺寸,可以实现更大的楔角。通常,与侧表面成90°的角度具有20'的精度。定心是一种额外的光学处理,可将此精度提高到几弧分arcmin。 表面形状公差

光学发展史

光学发展史 光学发展简史 一、光学概述 光学(optics) 是物理学的一个重要组成部分,是研究光的本性、光的传播和光与物质相互作用的学科。在物理学中,通常将光学划分为几何光学(geometrical optics) 、波动光学(wave optics) 、量子光学(quantum optics) 和现代光学(modern optics) 几大部分。几何光学是根据光波在短波极限(即l0 ,波动性可忽略)下所表现出的直线传播性质为基础,用几何作图法来研究光的传播、成像等问题,其主要内容有:光的直线传播定律、光的独立传播定律、光的反射和折射定律;波动光学从光的电磁波本性出发,以光的波动性为基础,研究光在传播过程中的规律性问题。波动光学的主要内容包括光的干涉、光的衍射和光的偏振,同时还研究光与物质相互作用的色散、吸收和散射等现象。量子光学是以光和物质相互作用时所表现出的量子性为基础来研究有关的光学问题,并由此揭示出光的粒子性。现代光学是指近几十年来新兴和发展起来的光学各分支,它主要包括如激光、信息光学(傅里叶变换光学)、光通讯、非线性光学、集成光学等内容,这些新的光学领域所研究的内容已在现代科学技术中起着十分重要和广泛作用。 光学的应用非常广泛,它不仅在科技领域中起着重要作用,而且也与人类日常的生活活动息息相关。例如,从最早期光学望远镜的设计到现在各种光学仪器的研制都无不与几何光学紧密相联,可以说几何光学就是为设计各种光学仪器而发展起来的专门学科;而在波动光学中,利用光的干涉原理制成的各种干涉仪器仍是目前精密测量中无可替代的手段,许多重要的分光仪器则是依靠衍射光栅来工作的;光谱分析不仅是人类认识物质的微观结构,如原子结构、分子结构等的窗口,也是人类窥探宇宙天体信息的重要工具;最近几十年来,激光的发明和现代光学的迅速发展又把人类带入了一个神奇的信息化高科技时代。 这里对光学的发展历史作一简要介绍。 二、光学理论发展简介 1 经典光学的发展及人们对光的本性的认识 光是一种自然现象,也是人类赖以感知宇宙万物的天然工具。光对于人眼的特殊生理效应——视觉引起了人们对于光的极大兴趣和好奇心。据记载,早在公元前四、五百年,人们就开始了对于光的专门研究。例如,中国古代对几何光学的研究就可以追溯到公元前5世 纪。在当时的墨家学派所著的《墨经》中,对光的直线传播和反射,光通过平面镜、凹面镜、凸面镜的成象等问题都作出了颇为系统的描述。而在之后约一百年,古希腊的欧几里德也专门著书《光学》,对人眼为何能看到物体、光的反射性质、球面镜焦点等问题

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