材料现代分析方法-图像分析
材料现代分析方法(复习题及答案)

1、埃利斑由于光的波动性,光通过小孔发生衍射,明暗相间的条纹衍射的图样,条纹间距随小孔尺寸的变大,衍射的图样的中心有最大的亮斑,称为埃利斑。
2、差热分析是在程序的控制条件下,测量在升温、降温或恒温过程中样品和参比物之间的温差。
3、差示扫描量热法(DSC)是在程序控制条件下,直接测量样品在升温、降温或恒温过程中所吸收的或放出的热量。
4、倒易点阵是由晶体点阵按照一定的对应关系建立的空间点阵,此对应关系可称为倒易变换。
5、干涉指数在(hkl)晶面组(其晶面间距记为dhkl)同一空间方位,设若有晶面间距为dhkl/n(n 为任意整数)的晶面组(nh,nk,nl)即(H,K,L)记为干涉指数.6、干涉面简化布拉格方程所引入的反射面(不需加工且要参与计算的面)。
7、景深当像平面固定时(像距不变)能在像清晰地范围内,允许物体平面沿透镜轴移动的最大距离。
8、焦长固定样品的条件下,像平面沿透镜主轴移动时能保持物象清晰的距离范围.9、晶带晶体中,与某一晶向【uvw】平行的所有(HKL)晶面属于同一晶带,称为晶带射线若K层产生空位,其外层电子向K层跃迁产生的X射线统称为K系特征辐射,其中有L 10、α层电子跃迁产生的K系特征辐射称为Ka。
11、数值孔径子午光线能进入或离开纤芯(光学系统或挂光学器件)的最大圆锥的半顶角之余弦,乘以圆锥顶所在介质的折射率。
12、透镜分辨率用物理学方法(如光学仪器)能分清两个密切相邻物体的程度13 衍射衬度由样品各处衍射束强度的差异形成的衬度成为衍射衬度。
射线若K层产生空位,其外层电子向K层跃迁产生的X射线统称为K系特征辐射,其中有L 14α层电子跃迁产生的K系特征辐射称为Ka。
15质厚衬度由于样品不同区间存在原子序数或厚度的差异而形成的非晶体样品投射电子显微图像衬度,即质量衬度,简称质厚衬度。
16 质谱是离子数量(强度)对质荷比的分布,以质谱图或质谱表的形式的表达。
一、判断题1)、埃利斑半径与照明光源波长成反比,与透镜数值孔径成正比。
现代材料分析方法——四大分析方法的应用论文

四大分析方法及应用摘要:本文论述材料的X射线粉末衍射分析(XRD)、电子显微分析、能谱分析(XPS,UPS,AES)和热分析(TG,DTA, DSC)等测试原理、制样技术、影响因素、图谱解析以及它们在材料研究中的具体应用。
以一些常见的化合物为基质的各类复合或是掺杂的材料为例,来重点介绍XRD、电镜、热分析等在研究材料物相组成、结构特征、形貌等方面的应用。
关键词:TiO2,XRD,SEM,XPS,TG,DTA前言由于铝等一些金属和无机物的优良的性质,如铝的密度很小,仅为2.7 g/cm3,虽然它比较软,但可制成各种铝合金,如硬铝、超硬铝、防锈铝、铸铝等。
.铝的导电性仅次于银、铜,虽然它的导电率只有铜的2/3,但密度只有铜的1/3,所以输送同量的电,铝线的质量只有铜线的一半铝是热的良导体,它的导热能力比铁大3倍,工业上可用铝制造各种热交换器、散热材料和炊具等。
铝有较好的延展性(它的延展性仅次于金和银),在100 ℃~150 ℃时可制成薄于0.01 mm 的铝箔。
铝的表面因有致密的氧化物保护膜,不易受到腐蚀,常被用来制造化学反应器、医疗器械、冷冻装置、石油精炼装置、石油和天然气管道等。
铝热剂常用来熔炼难熔金属和焊接钢轨等。
铝还用做炼钢过程中的脱氧剂。
铝粉和石墨、二氧化钛(或其他高熔点金属的氧化物)按一定比率均匀混合后,涂在金属上,经高温煅烧而制成耐高温的金属陶瓷,它在火箭及导弹技术上有重要应用。
所以工业上应用非常广泛。
1 X射线衍射分析(XRD)1.1 X射线衍射仪仪器核心部件:光源---高压发生器与X 光管、精度测角仪、光学系统、探测器、控测,数据采集与数据处理软件、X射线衍射应用软件。
定性相分析(物相鉴定):目的:分析试样属何物质,那种晶体结构,并确定其化学式。
原理:任何结晶物质均具有特定结晶结构(结晶类型,晶胞大小及质点种类,数目分布)和组成元素。
一种物质有自已独特衍射谱与之对应,多相物质的衍射谱为各个物相行对谱的叠加。
材料现代研究方法 第二章 组织形貌分析概论

第 1 :1首
四、扫描隧道显微镜
• 19 8 1 年 , IBM 公司的 Gerd Binnig 和 Heinrich
Rohrer发明了扫描隧道显微镜 CSTM)
检视'1)针尖垂豆位置 的方法
控制 针尖位 置 的反馈系统
驱动 样品 (或针尖 )
做光栅式扫 描的压 电扫 描器
也闭路针尖
与4芋 ,霄‘ 1词
第 1 :1首
Gerd Binnig Heinrich Rohrer
第 1 章组织形貌芳析概论
第 1 :1首
Gerd Binnig Heinrich Rohrer
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第 1 :1首
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第 1 :1首
"18M" 是由单个原子构成的
第 1 章组织形貌芳析概论
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第 1 :1首
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三、扫描电子显微镜
1952年 , 英国奥特利发明扫描电 子显 微镜
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第 1 :1首
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第 1 :1首
· 最高分辨率为 0.2μm , 比人眼的分辨率 C O.lmm ) 提 高 了 500倍。
分辨率
材料现代分析技术整理

第一部份 X 射线衍射分析(XRD )1. K 系特点谱线特点:由L 、M 、N 等壳层的电子跃迁到K 壳层的空位时发出的X 射线,别离称为K α、K β、K γ谱线,一起组成K 线系特点谱线。
K α特点谱线最强,比相邻谱线强90倍,是最经常使用的谱线。
2. 特点X 射线的产生:在原子内固定壳层上的电子具有特定能量,当外加能量足够大时,可将内层电子激发出去,形成一个内层空位,外壳层的电子跃迁到内层,多余的能量以X 射线形式放出。
3. X 射线的本质为电磁波。
4. 滤光片的目的和材料:用来过滤或降低X 射线光谱中的持续X 射线和K β线的金属薄片,K β大部份被吸收,K α损失较小,滤波片材料的原子表达一样比X 射线管靶材的原子序数低1。
5. CuK α的含义:以Cu 作为靶材,高速电子轰击在铜靶上,使铜K 层产生了空位,L 层电子跃迁到K 层,产生K 系特点辐射。
6. X 射线的衍射方向是依照布拉格方程理论推导出的。
7. 布拉格方程的推导:含义:线照射晶体时,只有相邻面网之间散射的X 射线光程差为波长的整数倍时,才能产生干与增强,形成衍射线,反之不能形成衍射线。
λθn d hkl =sin 2讨论:(1) 当λ必然,d 相同的晶面,必然在θ相同的情形下才能取得反射。
(2) 当λ必然,d 减小,θ就要增大,这说明间距小的晶面,其掠过角必需是较大的,不然它们的反射线无法增强,在考察多晶体衍射时,这点由为重要。
(3) 在任何可观测的衍射角下,产生衍射的条件为:d 2≤λ,但波长太短致使衍射角过小,使衍射现象难以观测,经常使用X 射线的波长范围是0.25~0.05nm 。
(4) 波长一按时,只有2/λ≥d 的晶面才能发生衍射—衍射的极限条件。
8. X 射线的强度(严格概念)单位时刻内通过衍射方向垂直单位面积上X 射线光量子数量。
表示方式:衍射峰高度或衍射峰积分面积。
理论计算)(2θφPF I =(P-多重性因数,F-结构因子,)(θφ-因数)。
材料现代分析方法

材料现代分析方法材料现代分析方法是指利用现代科学技术手段对材料进行分析和研究的方法。
随着科学技术的不断发展,材料分析方法也在不断更新和完善。
现代材料分析方法的发展,为材料科学研究提供了更加精准、快速和全面的手段,对于材料的研究和应用具有重要的意义。
首先,光谱分析是材料现代分析方法中的重要手段之一。
光谱分析是利用物质对电磁波的吸收、发射、散射等现象进行分析的方法。
常见的光谱分析方法包括紫外可见吸收光谱、红外光谱、拉曼光谱等。
通过光谱分析,可以对材料的结构、成分、性质等进行研究和分析,为材料的研究和应用提供重要的信息。
其次,电子显微镜分析也是材料现代分析方法中的重要手段之一。
电子显微镜是利用电子束来照射样品,通过电子与样品相互作用产生的信号来获取样品的显微结构和成分信息的一种显微镜。
通过电子显微镜分析,可以对材料的微观形貌、晶体结构、成分分布等进行研究和分析,为材料的结构性能和应用提供重要的参考。
此外,质谱分析也是材料现代分析方法中的重要手段之一。
质谱分析是利用质谱仪对物质进行分析的方法,通过对物质中离子的质量和相对丰度进行检测和分析,来确定物质的分子结构和成分。
质谱分析可以对材料的组成、纯度、分子量等进行研究和分析,为材料的质量控制和应用提供重要的支持。
综上所述,材料现代分析方法是利用现代科学技术手段对材料进行分析和研究的方法。
光谱分析、电子显微镜分析、质谱分析等都是材料现代分析方法中的重要手段,通过这些方法可以对材料的结构、成分、性能等进行全面的研究和分析,为材料的研究和应用提供重要的支持。
随着科学技术的不断发展,相信材料现代分析方法将会更加完善和精准,为材料科学研究和应用带来更多的新突破。
现代材料分析方法(10-AFM)

原子力显微镜示意图
B
C
A
F G1
D E
基座
G2 F
A: 待测样品 D: 微杠杆 F: 氟橡胶
B: AFM的针尖 C: STM的针尖 E: 用于调节隧道结间隙的压电晶体 G: 扫描器,G2也是STM
AFM 根本原理
Position Sensitive Photodiode
Mirror
Laser
XYZ Piezoelectric Scanner
可控气氛SPM
特定气体气氛 气氛温度、湿度控制 样品加热、冷却 气体吹扫样品 光线照射样品等等
可控气氛SPM
在控制气氛下 •可以交換样品 •可以清洗、切割等前处理
碘化钾单晶(001)
Байду номын сангаас
潮解性非常強的碘化钾,在氩气中劈开,在露出的最外表,观察到原子
阶梯〔左〕。另外,在真空中加热400℃,观察到外表重排列的(100)阶
Curve
硬度測定
后扫描
・选择打圧痕的位置
・确认圧痕的状态
Load-Displacemenat Curve
应用〔2〕
微观刻痕实验
磨耗实验
力曲线測定
Force (Cantilever Deflection)
③ repulsive
force
attractive force
Approach Release
现代材料分析方法(10AFM)
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SEM和EDS的现代分析测试方法

SEM和EDS的现代分析测试方法SEM(扫描电子显微镜)和EDS(能量散射X射线分析)是一对常用于材料科学和地质学等领域的现代分析测试方法。
SEM利用电子束扫描样品表面,通过获取样品表面的电子信号来生成高分辨率的图像;EDS则通过分析样品表面散射的X射线能谱来确定样品元素的组成。
这两种技术的结合能够提供精确的显微结构和化学成分信息,为材料研究和质量控制提供了有力的分析手段。
SEM主要通过扫描电子束在样品表面的不同位置进行扫描,利用激发的次级电子、反射电子和主束电子回散射的电子等不同信号来获得样品表面的形貌信息。
相对于光学显微镜,SEM具有更高的分辨率和放大倍数,能够观察到更小尺寸的细节结构。
此外,SEM还可以通过选择不同的操作模式(如反射电子显微镜模式和透射电子显微镜模式)来观察不同类型的样品,如金属、陶瓷、生物样品等。
在材料科学领域,SEM常用于观察样品中的晶体结构、颗粒形貌、纤维组织等微观结构。
EDS是SEM的一个重要附属技术,它通过分析样品表面散射的X射线能谱来确定样品元素的组成。
当电子束轰击样品表面时,样品中的原子会激发出一系列特征X射线。
这些X射线的能量和强度与样品中元素的种类和含量有关。
EDS系统可以通过收集散射的X射线并对其进行能量谱分析,从而确定样品中存在的元素及其相对含量。
EDS不仅能够提供定性分析结果,还可以通过比对与标准参考谱库进行定量分析,得到精确的元素含量。
SEM-EDS组合技术具有广泛的应用范围。
在材料科学中,它可以用于研究材料的显微结构、相变、晶粒生长等问题。
例如,可以通过SEM观察金属材料中的晶粒尺寸和分布,进而对材料的力学性能和导电性能进行评估。
同时,通过使用EDS技术,还可以分析材料中微量元素的含量,进一步揭示材料的化学成分和微观特征。
总之,SEM和EDS是一对功能强大的现代分析测试方法。
它们可以提供高分辨率的显微结构和准确的化学组分信息,而且应用范围广泛,适用于材料科学、地质学、生物学和环境科学等领域的研究和应用。
现代材料分析方法

现代材料分析方法现代材料分析方法是科学家们为了研究材料的性质和结构而开发的一系列技术和手段。
随着科学技术的进步,越来越多的先进分析方法被开发出来,使得人们能够更加深入地了解材料的特性和行为。
以下将介绍一些常见的现代材料分析方法。
1.X射线衍射(XRD):X射线衍射是一种用于确定晶体结构的分析方法。
通过照射材料并观察衍射的X射线图案,可以推导出材料的晶格常数、晶胞结构以及晶体的取向和纯度等信息。
2.扫描电子显微镜(SEM):SEM使用电子束来扫描样品表面,并通过捕获和放大反射的电子来产生高分辨率的图像。
SEM可以提供有关材料表面形貌、尺寸分布和化学成分等信息。
3.透射电子显微镜(TEM):TEM使用电子束透射样品,并通过捕获透射的电子来产生高分辨率的图像。
TEM可以提供有关材料内部结构、晶体缺陷和晶界等信息。
4.能谱仪(EDS):能谱仪是一种与SEM和TEM配套使用的分析设备,用于确定材料的元素组成。
EDS通过测量样品散射的X射线能量来识别和定量分析元素。
5.红外光谱(IR):红外光谱是一种用于确定材料分子结构和化学键的分析方法。
通过测量材料对不同频率的红外辐射的吸收,可以确定样品的功能基团和化学结构。
6.核磁共振(NMR):核磁共振是一种用于研究材料中原子核的分析方法。
通过利用材料中原子核的磁性质,可以确定样品的化学环境、分子结构和动力学信息。
7.质谱(MS):质谱是一种用于确定材料中化合物和元素的分析方法。
通过测量材料中离子生成的质量-电荷比,可以确定样品的分子量、结构和组成。
8.热分析(TA):热分析是一种通过测量材料对温度的响应来研究其热性质和热行为的方法。
常见的热分析技术包括差示扫描量热法(DSC)、热重分析(TGA)和热膨胀分析(TMA)等。
9.表面分析(SA):表面分析是一种研究材料表面化学成分和结构的方法。
常用的表面分析技术包括X射线光电子能谱(XPS)、扫描隧道显微镜(STM)和原子力显微镜(AFM)等。
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z z
XY
单位测试范围
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举例:符号表示方法
• PL=P/LT :表示单位测试线上的线组织与测试线的交点 数,P-Point, L-Line, T-test; • AA=A/AT:表示单位测试面积上,测试对象所占的面积, 即面分数 • NV=N/VT:表示单位测试体积上,测试对象的个数。
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(4)测试对象的确定:
根据测试对象所处的灰度取值范围,确定门槛值f0,则: 当:f(x,y)>f0 ,则:f(x,y)=0(黑) 其它区域 其它区域 f(x,y)=255(白) f(x,y)=255(白) 或: f1 >f (x,y)>f0 ,f(x,y)=0(黑) 此时,测试对象变为全黑(或全白),而背景变为全白 (或全黑),测试对象与非测试对象分离开来;
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1mm2球粒数(NA)球粒直径 Djμ 4500(0.6) 16500(0.22) 26550(0.35) 15600(0.21) 5850(0.078) 4350(0.06) 1050(0.014) 600(0.008) 75000 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 3.5 4.0
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(5) 测量参数的确定及测量:根据需要选定测试比例文件及 测量参数,并对测试对象进行测量; • 采用的测量方式有三种 自动:根据所确定的图象门槛灰度值,由计算机自动确定 测试对象; 手动:人工确定测试对象; 自动+手动:在自动测试的基础上,可进行人工干预,确定 测试对象; (6)结果的整理与输出 注意:测量结果应是统计平均的结果,而非单次测量结果。
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Stats Min (Obj.#) Max (Obj.#) Range Mean Std.Dev Sum Samples
Diameter (ave) 3.061087 86 6.383877 69 3.322790 4.985354 .8076883 493.5501 99
O b j e c t s 10 20 30
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(一)、自动图象分析的过程:
待分析图象的获取或准备:通过光学显微镜或电子显微镜获 得待测样品的显微组织图象;-特别注意图象的实际放大倍 数 图像的数字化:将图象输入计算机,使其成为数字图象; 图像的分析:通过专用图象分析软件,对图象的二维组织参 数进行分析; 分析结果的统计、分析及输出; 注意:自动图象分析的精度取决于样品图象的质量、分析区域 的选取、分析范围的大小、操作人员的水平等方面。
π
(3) LV = 2 PA
,即
L P = 2× VT AT
(4) PL = N L (单相合金), (5) N V = N A
H
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PL = 2 N L (多相合金)
H为测试体对象的平均投影高度,对于凸形粒
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子则为平均直径。
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体视学的基本公式(续)
LT − L 1 − LL = (8) λ = N NL
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(二)、自动图象分析的基本步骤
采用Image Pro Plus软件完成定量测试工作,主要包 括以下几个步骤: (1) 图象的输入(Acquire OR Open):获取所分析的图 象,可通过数码相机或CCD摄像头导入,也可打开已有 的图形文件; (2)图象的增强(Processing):改善图象质量,使图象 具有最佳亮度、对比度,边缘清晰且无背景噪声影响;
注意:i表示截圆的组数,j表示球形粒子的组数
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例1、灰口铸铁中石墨片的体积分数测定
利用如图所示的、边长为50mm线框,进行测量计算:
∵ AT = 50 × 50 = 2500(mm 2 ) LT = 11 × 50 = 550(mm) PT = 11 × 11 = 121 A = 335(mm 2 ) L = 67(mm) P = 16 A 335 ∴ AA = = = 0.134 AT 2500 LL = PP =
t
λ
L
λ 为平均自由程,即两粒子的平均间隔)
(9) t = L + λ = 1
NL
,
1 t0 = 2N L
对于片层组织则为
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值得注意的问题
由于材料组织的微观不均匀性及测量的局限性,不同微观 区域、不同放大倍数下所测量出的组织参数值会有很大的 差异; 体视学的基本公式的推导都以概率论为理论基础,测试结 果为采用统计平均的方法得出数值,有一定的误差范围; 只有在充分的实验测量基础上,才能得出可靠的结果(保 证结果的精度)。
第十三章 图象的定量分析技术及体视学基础
z 自动图像分析技术 z 体视学的基本参数及符号 z 体视学的基本公式
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1
13.1 自动图象分析
• 利用计算机软件对所获取的图象进行分析,以对图形的某 一部分区域的相数量、大小、形状、分布等形貌参数进行 定量测量的过程,即为图象的定量分析。 • 利用自动图象分析仪可以完成图象的定量分析,所测量的 参数为二维组织参数,包括以下几类: (1)测试相的大小:平均直径、平均周长、平均截面积等; (2)测试相的数量:单位面积上测试相的个数、测试相的面 积百分数等; (3)测试相的形状:测试相截面的长/短轴之比等: (4)测试相尺寸分布
( NV )6 = ?
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.........
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• 综上所述,球形粒子分布的测量和计算可以采用以 下步骤: 金相样品的制备→光学显微镜下观察→图象分析软 件→测得dmax、Δ、(NA)i参数→计算出(NV)j及 分布率
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(四)、定量金相学的应用
晶粒大小对材料性能的影响:
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(二)、体视学的基本公式
(1)PP=LL=AA=VV,即
V A L P = = = VT AT LT PT
测试对象的体积分数、面积分数、线分数和点分数相等。
SV = (2) 4
π
L A = 2 PL 及
S 4 L P = × = 2× L A = PL ,即 VT π AT LT 2
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L 67 = = 0.122 LT 550 16 = 0.132 121
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例2、1.0%C的碳素工具钢球化退火后, 石 墨粒子的尺寸分布
组织中球形渗碳体粒子直径di和(NA)i的测量数据列于下表:
序 号 1 2 3 4 5 6 7 8 截圆直径 di(μ) 0.0-0.5 0.5-1.0 1.0-1.5 1.5-2.0 2.0-2.5 2.5-3.0 3.0-3.5 3.5-4.5 总计
d max = 4.0 μ = 0.004mm, k = 8 d max ∴Δ = = 0.5μ = 0.005mm k
,
根据上面的表格数据可以列出以下计算式:
( N A ) 8 0.2582 × 600 ( N V ) 8 = 0.2582 = = 310000(mm −3 ) Δ 0.0005
1 ( N V ) 7 = [α 8 , 7 ⋅ ( N A ) 8 + α 7 , 7 ⋅ ( N A ) 7 ] Δ = 0 . 005 ⋅ [ 0 . 2773 × 600 − 0 . 1081 × 1050 ]
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(三)、第二相粒子(近球形)的尺寸分布
问题的来源:三维空间的球体在二维平面上为截圆,所测量 的二维截圆的分布与三维球粒子尺寸间的分布的关系是什 么? 球形粒子的尺寸分布的含义:
a、单位体积内某一直径范围内粒子的个数(NV)j; b、该直径范围内的粒子数占粒子总数的百分数: Vj%=(NV)j/N。
σ = σ 0 + kd −1/ 2
比界面积对材料性能的影响:
HB = H 0 + kSV
σ = σ 0 + kSV
混合物定则:
σ c = V1V σ 1 + (1 − V1V )σ 2
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z
只要截取的次数足够多,所得到的截圆的最大直径等于球 球形粒子的直径越大,被截取的几率越大。
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形粒子的最大直径;
z
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测量过程及计算方法
根据二维平面上所获得的截圆最大直径,将截圆大小分为k组:
第一组:0-Δ,第二组: Δ-2 Δ,……., 第i组:(i-1) Δ-i Δ,……, 第k组:(k-1) Δ -k Δ; 其中:△= Dmax/k=Dk/k=dmax/k dmax为所测量的截圆的最大直径
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(3) 图象的数字化和编码:把图象的灰度值或颜色从连续形 式变换为离散的数字形式。 • 图象样本量化:将屏幕上的图象划分为M×N个格点,每一 个格点称为一个象素点(pixel),每一个象素点的位置赋予 坐标值(X-raw、Y- column),左上角为(0,0) • 灰 度 值 等 级 化 : 将 图 象 的 灰 度 变 化 分 为 256 个 等 级 ( 0255),其中0为黑,255为白。将实际图象的每个象素点的 灰度值进行赋值,则图象变为数字化图象,且建立了灰度值 f与坐标(x,y)之间的关系。
1mm3球粒数 (NV)j 1.48×106 9.34×106 18.78×106 9.93×106 2.8×106 2.35×106 0.46×106 0.31×106 45.45×106