衬底温度对脉冲激光沉积在Si衬底上Zn0.95Co0.05O薄膜的影响
衬底温度对脉冲激光沉积类金刚石薄膜的影响

第37卷 第8期中 国 激 光V ol.37,N o.82010年8月CHINESE JOURNAL O F LASERSAugust,2010文章编号:0258 7025(2010)08 2063 05衬底温度对脉冲激光沉积类金刚石薄膜的影响罗 乐1 赵树弥1 仇冀宏1 方尚旭1 方晓东2 陶汝华2(1合肥工业大学电子科学与应用物理学院,安徽合肥230009;2中国科学院安徽光学精密机械研究所,安徽合肥230031)摘要 在脉冲激光沉积法制备类金刚石薄膜的实验中,保持其他实验参数不变,衬底温度分别取30,200,400和600 来沉积类金刚石薄膜。
用拉曼光谱仪和X 射线光电子能谱仪对不同衬底温度下沉积的类金刚石薄膜的微观结构和组成进行检测分析;用原子力显微镜对不同衬底温度下沉积的类金刚石薄膜的表面形貌进行检测分析。
实验结果表明,衬底温度对脉冲激光沉积法制备的类金刚石薄膜的微观结构与组成,sp 3/sp 2比值以及薄膜的表面形貌都有显著的影响。
衬底温度升高导致各种碳离子和石墨大颗粒在衬底表面的迁移率提高,从而导致薄膜中sp 3/sp 2比值减小;石墨晶粒的数量增多、体积增大;薄膜表面的粗糙度降低;大颗粒的数量减少。
关键词 薄膜;类金刚石薄膜;脉冲激光沉积法;衬底温度;表面形貌;微观结构;sp 3/sp 2比值;迁移中图分类号 O484 文献标识码 A d oi :10.3788/CJL 20103708.2063Influence of the Substrate Te mpe rature upon the Diamond Like CarbonFilms De posited by Pulsed Lase rLuo Le 1 Zhao Shumi 1 Qiu Jihong 1 Fang Shangxu 1 Fang Xiaod ong 2 Tao Ruhua 21Electr on ics a nd Applied Phy sics College ,Hefei Univ er sity of T echnology ,Hef ei ,An hui 230009,Chin a2An hui In st itu te of Optics an d Fin e M echan ics ,Chin ese Aca dem y of Sciences ,Hefei ,Anhu i 230031,ChinaAbstract The influence of the substrate temperature on the topography and mic rostructure of the diamond like c arbon (DL C)film in the pulsed laser deposition (PLD)is st udied.When the diamond like carbon films were deposited,the substrate temperature kept at 30,200,400and 600 respectively.The microstruc t ure and c om position of the diamond like ca rbon films deposited at different substrate temperatures were detected by the visible Raman spec troscopy and the X ray photoelec tron spectrosc opy (XPS)respectively.The topography of the diamond like carbon films was detected by the atomic forc e microsc opy (AFM ).The experimental result demonstrates that the substrate temperature influences microstructure,composition,ratio of sp 3/sp 2and topography of the diam ond like c arbon films in the pulsed laser deposition remarkably.When the substrate temperat ure inc reases,the ratio of sp 3/sp 2in the film would decrease,the size and number of graphitic crystallites in the film would increase,the roughness of the film would reduc e and the number of granules on the film would decrease.The reason to cause the experimental phenomenon is that transfer ability of the carbon ions and granules on the substra te would increase when the substrate temperature increases.Key wo rds thin films;diamond like carbon film;pulsed laser deposition;substrate temperature;topography;m icrostructure;ratio of sp 3/sp 2;transfer收稿日期:2009 11 12;收到修改稿日期:2009 12 16基金项目:中国科学院 百人计划!和合肥工业大学博士基金(GD BJ2008043)资助课题。
衬底温度对ZnMgO薄膜结构和光致发光性能的影响

表 面声 波器件 、 气 敏压 敏传感 器 、单显发 射场器 件 以及 太 阳 能电池等领域[ 1 ] 。随 着研 究 的不 断深入 ,研究 者们 发 现适 当掺 杂及相关制作工艺 的改变可 以在 一定 程度上优化薄膜 的 光 、电 、 磁等特性 , 其中Z n Mg O 薄膜作 为一种新兴的光电材 料 日益受 到 人 们 的广 泛 关 注。理 论 计 算 和实 验 研 究 都 表 明_ 6 , Mg掺杂 可有效 调节 Z n O与 Mg O 形成 的 三元 化合 物Z n , 一 Mg r 0 的禁带 宽度 ,并且 其对 可见 光 的透过 率 可达 8 5 %以上。因 而,Z n Mg O 薄膜 将 在紫 外 探测 器 、平板 显 示 器 、紫外成像及 紫 外发 光 器件 等方 面 具有 更 广 阔 的应用 前
样品的表面形 貌采 用 J S M- 6 3 6 0 L V型 S E M 观察 ,样 品 的结晶性 能 用 R i g a k u D / MA X P S P C MI X;2 0 0 0型 X RD表 征, 样 品的光致发光性能 由激 发波长 为 3 2 5 n m 的 He—C A
第3 3 卷, 第8 期
2 0 1 3年 8月
光
谱
学
与
光
谱
分
析
S p e c t r o s c o p y a n d S p e c t r a l An a l y s i s
பைடு நூலகம்
Vo 1 . 3 3 , No . 8 , p p 2 0 5 1 — 2 0 5 4 Au g u s t ,2 0 1 3
4 Hz 0) 混合 8 6 . 0 n 去离子水溶液作 为前驱体溶 液 ( 总浓度
衬底温度对ZnO薄膜的结构和光学特性的影响

衬底温度对ZnO薄膜的结构和光学特性的影响宿世臣;吕有明;张吉英;申德振【摘要】利用等离子体辅助分子束外延(P-MBE)设备在蓝宝石衬底上通过改变生长温度,制备了不同的ZnO样品.研究了衬底温度对ZnO的结构、光学和电学性质的影响.样品的晶体结构利用X射线衍射谱进行表征.X射线衍射谱表明,所有的ZnO样品都是(002)取向的六角纤锌矿结构.随着生长温度的升高,X射线的(002)衍射峰的半峰全宽逐渐减小.样品的表面形貌随着衬底的温度改变而变化,在800℃得知了平整的ZnO表面.通过光致发光的实验得知,ZnO的紫外发光随着生长温度的升高,强度逐渐增强.光致发光的来源为ZnO的自由激子发光.在生长温度为800℃时,得到了高质量的ZnO单晶薄膜,X射线衍射峰的最大半峰全宽为0.05°,霍尔迁移率为51 cm2/(V·s),载流子浓度为1.8×1018 cm-3.【期刊名称】《发光学报》【年(卷),期】2011(032)007【总页数】4页(P736-739)【关键词】氧化锌;等离子体辅助分子束外延;光致发光【作者】宿世臣;吕有明;张吉英;申德振【作者单位】华南师范大学光电子材料与技术研究所,广东广州510631;中国科学院激发态物理重点实验室长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033;深圳大学材料科学与工程学院,广东深圳518060;中国科学院激发态物理重点实验室长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033;中国科学院激发态物理重点实验室长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033【正文语种】中文【中图分类】O482.31ZnO作为一种宽禁带半导体材料,最大的用途在于短波长半导体激光,可作为白光LED的基础材料。
ZnO有很高的激子结合能(60 meV)[1],远高于其他宽禁带半导体材料,如 GaN的为 25 meV,也高于室温的热能(26 meV),ZnO激子在室温下是稳定的,可以实现室温或更高温度下的激子受激紫外辐射发光。
衬底温度对ZnO-Al薄膜热电性能影响的研究

书山有路勤为径,学海无涯苦作舟衬底温度对ZnO:Al 薄膜热电性能影响的研究本文采用直流磁控溅射的方法在透明玻璃衬底上制备掺铝氧化锌(ZnO:Al,AZO)薄膜,系统研究不同衬底温度对AZO 薄膜热电性能特性的影响。
实验结果表明:所制备的薄膜均呈现出N 型热电半导体特性。
在所制备的样品中,当衬底温度为250℃时,薄膜样品的电导率具有最大值,为1.35 乘以105S/m,但该样品的塞贝克系数较小;当衬底温度达到400℃时,所制得的薄膜样品在测试温度为503K 时,塞贝克系数绝对值和功率因子达到最大,分别为96LV/K 和712 乘以10-4 W/mK2。
不同衬底温度条件下沉积的AZO 薄膜均呈现出六方纤锌矿结构,具有明显的c 轴择优取向,随着衬底温度的增加,薄膜表面颗粒致密度增加,结晶情况改善。
通过表面形貌和剖面分析可知:与其他薄膜样品相比,衬底温度为400℃时,薄膜样品出现更明显的柱状生长趋势,微结构的改变可能是使该薄膜样品热电性能改善的重要原因之一。
随着世界环境污染和能源危机的加剧,能源紧缺是当今世界所面临的重大挑战,如何将低品位热(如工业废热余热、地热、太阳能等)转变成电能,已成为人们越来越感兴趣的研究课题。
热电材料是一种利用材料内部的载流子运动以实现热能和电能之间相互转换的功能材料,把热能有效地转换为电能的温差发电技术中最为核心的材料。
因此,近年来,热电薄膜材料成为新材料领域的研究热点。
氧化锌是一种典型的N 型氧化物半导体,在室温下其禁带宽度约为3.3eV,具有较高的激子束缚能60meV。
长期以来,对ZnO 薄膜的研究主要集中在压电性,透明导电性、光电性、气敏性以及P 型掺杂方面。
近年来,人们发现通过在ZnO 薄膜中掺入合适的元素,诸如Al、Ga 或者。
衬底温度对磁控溅射法制备ZnO薄膜结构及光学特性的影响

将成 为未来光 电子学 、 光化 学 、 电子 学 等领 域半 导体 微 材料研 究 中最具 前景 的材 料 之一 [ 。Z O作 为透 明 2 叫] n 导 电氧化 物 薄 膜 时 , 可 见 光 透 过 率 比铟 锡 氧 化 物 其 (T 等材料 都要高 出很 多[ 。R. .Maot等[ 指 I O) 5 ] E rt i 1 ]
为 了进一 步 比 较 系统 地 研 究 制备 条 件 对 Z O 薄 n 膜 的结构及 光 学特性 的影 响 , 在本 文 中, 们采 用射 频 我
反应磁 控 溅射 法在 玻璃 衬 底上 成功 制备 了 c 轴高择 优 取 向的 Z O薄 膜 , 究 了生长 温度 对 Z O 薄膜 的微 观 n 研 n
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助
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材
料
2 7 第 5 3) 0 年 期( 卷 0 8
衬底 构 及 光 学 特 性 的影 响 n
徐 小丽 , 书 懿 , 彦 , 小菁 , 晋 军 , 国恒 马 陈 孙 魏 张
( 北师 范大 学 物 理与 电子工 程学 院 , 西 甘肃 兰州 7 0 7 ) 3 0 0
摘 要 : 采 用射频 反 应 磁 控溅 射 法 在玻 璃 村 底上 制
及衬底 类 型等L 。 9
备 了具有 f 高择 优取 向的 Z O 薄膜 , 用 X射 线衍 轴 n 利
射仪、 扫描探 针 显微 镜 及 紫 外分 光 光 度 计研 究 了 生长 温度 对 Z O 薄 膜 的结 构 及 光 学吸 收 和 透射 特 性 的影 n
征 。样 品 的 吸 收 谱 及 透 射 谱 用 S MAD U UV HI Z - 25P 50 C型 紫外 分 光 光 度 计 测 量 , 量 范 围 为 3 0 测 0 ~
衬底温度对ZnO薄膜的结构和发光性能的影响

衬底温度对ZnO薄膜的结构和发光性能的影响朱冠芳;姚合宝;郑新亮;罗惠霞;于海萍【期刊名称】《西北大学学报(自然科学版)》【年(卷),期】2008(038)001【摘要】目的研究衬底温度对znO薄膜结构和发光性能的影响及薄膜结构与发光性能两者之间的关系.方法在玻璃衬底上采用射频磁控溅射法,固定其他工艺参数、改变衬底温度制备znO薄膜.对薄膜进行XRD谱和室温光致发光(PL)谱研究.结果衬底温度在25℃到250℃之间,随着温度的升高,结晶质量变好,且紫外发光相对明显增强.在衬底温度为250℃时,结晶质量和发光性能均达到最优化.继续升高衬底温度,结晶质量和发光性能都下降.结论衬底温度对ZnO薄膜的制备有着重要的影响;薄膜发光性能与结晶质量密切相关,结晶质量越好,紫外发先相对强度越大.【总页数】4页(P31-34)【作者】朱冠芳;姚合宝;郑新亮;罗惠霞;于海萍【作者单位】西北大学物理学系,陕西,西安,710069;西北大学物理学系,陕西,西安,710069;西北大学物理学系,陕西,西安,710069;西北大学物理学系,陕西,西安,710069;西北大学物理学系,陕西,西安,710069【正文语种】中文【中图分类】O472【相关文献】1.衬底温度对Sn掺杂ZnO薄膜结构、电学和光学性能的影响 [J], 谌夏;方亮;吴芳;阮海波;魏文猴;黄秋柳2.衬底温度对N-Al共掺杂ZnO薄膜形貌及光致发光性能的影响 [J], 钟爱华;谭劲;陈圣昌;包鲁明;艾飞;李飞3.衬底温度对PLD法制备ZnO薄膜结构及发光特性的影响 [J], 赵杰;胡礼中;宫爱玲;刘维峰4.衬底温度对PLD方法生长的ZnO薄膜结构和发光特性的影响 [J], 孙柏;邹崇文;刘忠良;徐彭寿;张国斌5.衬底温度对Al掺杂ZnO薄膜结构及其光电性能的影响 [J], 吴克跃;吴兴举;常磊因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。
衬底温度对激光脉冲沉积氧化锌薄膜结构及发光性能的影响

吉林 师 范大学 学报 ( 自然科 学版 )
Ju l f inN ra U i r t N tr c neE io ) oma o l om l nv sy( a a S i c dtn Ji ei ul e i
No. 4
第 4期
No . 0 8 v2 o
0— a 重复频率在 1 2 之间 , 出为 1 × 的方 1 5P —0 输 5 7m 斑. 沉积系统是沈 阳中科仪公司生产的激光分子束 () 3生长过程 . 开启激光器 , 激光束经过聚焦后
.
收稿 日期 : 0 - - 基 金项 目: 2g91 0 02 山东省 自然科学基金项 目(  ̄oA 9 ' 02 o ) c 作者筒介 : 李少兰(96) 女, 15-, 山东烟台人 , 现为鲁东大学副教授 . 研究方向 : 物理实验教学及材料性质研究 .
‘
衬 底温 度 对 激光 脉 冲沉 积 氧化 锌 薄 膜 结构 及发 光 性 能 的影 响
李 少 兰
(t 4 东大 学 学报 编辑部 , 山东 烟 台 242 ) 605
摘 要 : 在单晶硅衬底上用激光脉冲沉积方法制备了氧化锌薄膜, 研究了衬底温度对薄膜结构、 形貌和发光性
能 的影 响 .
说是继 GN后 的一种更 有前途的紫外 光电子器件 过 N 4 a H F处理后才 能达 到微 观 上也 光 滑 的程度 )在 , 材料 。 本文利用高真空脉冲激光沉积薄膜制备系统 , 超 声 波 清 的单 晶硅衬 底 上生 长 出 ZO薄 膜 , 且 2 i, 出后用 去离 子水 冲洗干净 , n 并 0mn取 最后 用高 纯 N 2 对样 品的结 构 、 形貌 和发光 性能进 行 了研究 . 将表面 吹干 . 了避 免大 气 中 的水 分 和氧 气对 表 面 为
衬底温度对氧化锌薄膜的光谱学特性影响研究

脉 冲激 光 溅 射 沉 积 ( L 技 术 , 雾 热 分 解 技 P D) 喷 术 、 有 机 物 化 学 气 相 外 延 ( C D) 分 子 金属 MO V 、
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第l 9卷
第 4期
mቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
光
散
射
学
报
Vl . 9 No 4 0 1 1 .
De .2 0 c 07
20 0 7年 l 2月
O j URNA I l OF L GHT S A TE I C T R NG
文章 编 号 :0 45 2 (0 70 —3 20 10 .9 9 2 0 )40 4 —5
强、 谱线 的展 宽、 以及拉曼禁戒模式的 出现 ; 氧化锌 Uv峰 由 3 2 v红 移到 3 2 v, 可能 是 由于 沉积 .9e .7e 这
温度为 7 0 0 ℃时 , 氧化锌颗粒尺寸显著增大造成的 。
关键 词 : 氧化锌薄膜 ; 衬底 温度 ; 拉曼光谱
中图法分类号 : 4 3 4 0 3 . 文 献标识码 :A
fo iln rm s d—mo et a o ou nmo ewh c d c d t eices h ma c teig a d o n n c lm d ih i i u e h ra ei t eRa n satrn Sn n n s n l h ra e igi h a d dh a dt ea p aa c ffr id nmo e i a 。t eb o d n n t eb n wit n h p er n eo bd e d .Th V e k g n o eU pa s o n f msg o t 0 ℃ e hbtard— s i fo 3. 9 e t 2 V o a e t h t fZ O i rwna 0 l 7 x ii e ht rm 2 V o3. 7 e c mp dwi t a r h
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2012 年第 16 期( 43 ) 卷
*ห้องสมุดไป่ตู้
衬底温度对脉冲激光沉积在 Si 衬底上 Zn0. 95 Co0. 05 O 薄膜的影响
1 1 1 1 2 姜守振 , 王传超 , 满宝元 , 许士才 , 王善朋
( 1. 山东师范大学 物理与电子科学学院 , 山东 济南 250014 ; 2. 山东大学 晶体材料国家重点实验室 , 山东 济南 250100 ) 摘 要: 在不同的衬底温度下在 n 型 Si( 111 ) 衬底上 采用脉冲激光沉积的方法生长了 ( 002 ) 择优取向的具 有室温铁磁性的 Zn0. 95 Co0. 05 O 薄膜。 X 射线衍射显示 所生长的薄膜呈六方纤锌矿结构。 X 射线光电子能谱 测试表明薄膜中出现的室温铁磁性不是由于 Co 团簇 产生的。发现薄膜生长过程中产生的间隙锌、 氧空位 以及晶格缺陷对铁磁性有显著的影响 。 通过改变衬底 温度可以控制薄膜中间隙锌、 氧空位及晶格缺陷的数 薄膜的铁磁性同时也可以被明显地改变 , 这是缺陷 量, 与薄膜的室温铁磁性相关的直接证据 。 关键词: ZnCoO; 铁磁; 脉冲激光沉积; 温度 中图分类号: O782 ; TN304 文献标识码: A 9731 ( 2012 ) 16222204 文章编号: 1001-
1
引
言
由于自旋电子器件具有非易失性、 数据处理速度 低能耗和高的存储密度等优点, 自旋电子学吸引了 快、 [14 ] 。 大批研究者的目光 而自旋电子器件的进一步发 [5 , 6 ] 。 稀磁半导 展紧紧依赖于稀磁半导体材料的开发 体是通 过 在 半 导 体 材 料 中 掺 杂 少 量 磁 性 元 素 形 成 [7 ] 的 。生长ⅡⅥ族的稀磁半导体材料, 例如在蓝宝石 [8 , 9 ] [10 ] 衬底上沉积 Co 掺杂的 ZnO 和 V 掺杂的 ZnO 已 ZnO 是稀磁半导 经被报道。在ⅡⅥ族半导体材料中, 体材料基体的最好候选材料。 在大多数的研究中, 蓝 宝石由于与 ZnO 纤锌矿结构之间存在较小的晶格失 配而被广泛地当作衬底使用。但是使用蓝宝石会使器 件的制作过程变得复杂, 因为蓝宝石是绝缘材料并且 难以刻蚀。这一困难可以通过使用 Si 衬底得以解决。 另外, 从实现与现阶段的 Si 基器件整合来看, 在 Si 衬 底上生长高质量的 ZnCoO 薄膜也是非常必要的。 稀磁半导体材料中铁磁性的起源尚不明确 。 一些 研究者认为在 Co 掺杂的 ZnO 稀磁半导体中铁磁性是 [1113 ] 。 而另一些研究者 由于材料中出现了 Co 的团簇 [14 ] 提出铁磁性是由于 RKKY 间接交换作用 或双交换 [15 ] [16 ] 作用 或束缚磁极化子 产生的。 在本文中, 通过 改变沉积时衬底的温度, 说明了 Co 掺杂的 ZnO 薄膜 的室温铁磁性与缺陷有关, 并且对薄膜的结构和磁性 进行了表征。
2
实
验
实验 中 所 使 用 的 Co 掺 杂 的 ZnO 靶 材 ( Co 含 量 5% ) 是用传统的固相反应方法制备的。 高纯的 ZnO 和 Co3 O4 粉末( > 99. 9% ) 按一定比例称量后混合, 并 将混合物用乙醇湿润后在玛瑙研钵中充分研磨 。 最后 将研磨好的粉末冷压后煅烧即得到所需的靶材 。 采用脉冲激光沉积技术在 Si ( 111 ) 衬底上生长了 Zn0. 95 Co0. 05 O 薄膜。 沉积前先将生长室内的真空度用
-5 涡轮分子泵抽至 < 10 Pa, 然后冲入高纯 O2 。 沉积时 -3 生长室内的氧压维持在 10 Pa。波长为 248nm 的 KrF 脉冲激光作为激光源, 频率 10Hz, 能量 200mJ。沉积时 沉积时间为 10min。 衬底温度在 300 600ħ 之间变动, 将 Si 衬底依次在丙酮、 乙醇中超声清洗, 然后用去离 子水冲洗干净。 样品的结构表征采用以 Cu Kα 射线作为辐射源 RigakuD / maxrB ) ; 样品的表面 的 X 射线衍射仪( XRD, PARK Autopro形貌表 征 采 用 原 子 力 显 微 镜 ( AFM, becp) ; 样品中 Co 元素的价态表征采用 X 射线光电子 PHI5300 ) ; 样品的磁性采用交流梯度磁力 能谱 ( XPS, MicroMag ) , 计( AGM, 所加磁场垂直于样品表面。 以 上所有的测试都是在室温下进行 。
3
实验结果与分析
图 1 ( a) 所示为在不同的衬底温度下沉积在 Si 衬 底上的 Zn0. 95 Co0. 05 O 薄 膜 的 X 射 线 衍 射 图 样。 图 1 ( b) 是( 002 ) 峰的摇摆曲线。为了避免位于约 28ʎ 处的 来自于 Si( 111 ) 衬底的高强度衍射峰的出现, 对所得 样品在 30 50ʎ 范围内进行了 X 射线衍射分析。 XRD 结果只显示了一个相应于 ZnO( 002 ) 晶面的窄的强峰, 表明生长的所有样品都是单相的纤锌矿结构。 从图 1 ( b) 可以看到, ( 002 ) 峰的强 随着温度上升直到 500ħ , 度不断增加并且半高宽不断减小, 但是当衬底温度升 ( 002 ) 峰的强度减小半高宽变大。 这表 高到 600ħ 时, Zn0. 95 Co0. 05 O 薄膜的结晶质量 明随着衬底温度的增加, 会不断提高, 在衬底温度为 500ħ 时沉积的薄膜结晶 质量最好, 但衬底温度过高又会导致结晶质量的下降 。 在薄膜生长过程中如果衬底温度过高, 薄膜表面的原 子动能较大, 原子就会由于过度迁移而偏离平衡位置 ,
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基金项目: 山东省高等学校科技计划资助项目( J11LA14 ) ; 山东师范大学博士科研启动资助项目( 3040110807 ) 0305 0427 收到初稿日期: 2012收到修改稿日期: 2012通讯作者: 满宝元 作者简介: 姜守振 ( 1977 - ) , 男, 山东济宁人, 博士, 师承满宝元教授, 从事 PLD 制备半导体薄膜研究。