半导体a谱仪实验报告

半导体a谱仪实验报告
半导体a谱仪实验报告

实验6:半导体α谱仪

实验目的

1.了解α谱仪的工作原理及其特性。

2.掌握应用谱仪测量α粒子能谱的方法。

3.测定241Am核素的α衰变的相对强度。

内容

1.调整谱仪参量,测量不同偏压下的α粒子能量,并确定探测器的工作偏压。

2.测定谱仪的能量分辨率,并进行能量刻度。

3.测量未知α源的能谱,并确定α粒子能量。

原理

半导体α谱仪的组成如图1所示。

金硅面垒探测器是用一片N型硅,蒸上一薄层金(100-2000

A),接近金膜的那一

层硅具有P型硅的特性,这种方式形成的PN结靠近表面层,结区即为探测粒子的灵敏区。探测器工作加反向偏压。α粒子在灵敏区内损失能量转变为与其能量成正比的电脉冲信号,经放大并由多道分析器测出幅度的分布,从而给出带电粒子的能谱。偏置放大器的作用是当多道分析器的道数不够用时,利用它切割、展宽脉冲幅度,以利于脉冲幅度的精确分析。为了提高谱仪的能量分辨率,探测器要放在真空室中。另外金硅面垒探测器一般具有光敏的特性,在使用过程中,应有光屏蔽措施。

金硅面垒型半导体α谱仪具有能量分辨率高、能量线性范围宽、脉冲上升时间快、体积小和价格便宜等优点,在α粒子及其它重带电粒子能谱测量中有着广泛的应用。

带电粒子进入灵敏区,损失能量产生电子空穴对。形成一对电子空穴所需的能量w,与半导体材料有关,与入射粒子的类型和能量无关。对于硅,在300K时,w为3.62eV,77K时为3.76eV。对于锗,在77K时w为2.96eV。若灵敏区的厚度大于入射

粒子在硅中的射程,则带电粒子的能量E 全部损失在其中,产生的总电荷量Q 等于

e w E )/(。w E /为产生的电子空穴对数,e 为电子电量。由于外加偏压,灵敏区的电

场强度很大,产生的电子空穴对全部被收集,最后在两极形成电荷脉冲。通常在半导体探测器设备中使用电荷灵敏前置放大器。它的输出信号与输入到放大器的电荷量成正比。

探测器的结电容d C 是探测器偏压的函数,如果核辐射在探测器中产生电荷量为Q ,那么探测器输出脉冲幅度是d C Q /。因此,由于探测器偏压的微小变化所造成的d C 变化将影响输出脉冲的幅度。事实上,电源电压的变化就可以产生偏压近种微小变化。此外,根据被测粒子的射程调节探测器的灵敏区厚度时,也往往需要改变探测器的偏压。要减少这些变化对输出脉冲幅度的影响,前级放大器对半导体探测器系统的性能越着重要的作用。图2表示典型探测器的等效电路和前置放大器的第一级。其中一K 是放大器的开环增益,f C 是反馈电容,1C 是放大器的总输入电容,它等于

'',C C C d +是放大器插件电缆等寄生电容。前置放大器的输入信号是d C Q /,它的等

到效输入电容近似等于f KC ,只要1C KC f >>,那么前置放大器的输出电压为

f

f C Q

C K C KQ V -

=++-

=)1(10 ( 1 )

这样一来,由于选用了电荷灵敏放大器作为前级放大器,它的输出信号与输入电荷Q 成正比,而与探测器的结电容d C 无关。

1.

确定半导体探测器偏压

对N 型硅,探测器灵敏区的厚度n d 和结电容d C 与探测器偏压V 的关系如下:

)()(5.02

`

1m V d n n μρ≈

( 2 )

)/()(101.222

14cm F V C n d μμρ-

?= (

3 )

其中n ρ为材料电阻率()cm ?Ω。因灵敏区的厚度和结电容的大小决定于外加偏压,所以偏压的选择首先要使入射粒子的能量全部损耗在灵敏区中和由它所产生的电荷完全被收集,电子空穴复合和陷落的影响可以忽略。其次还需考虑到探测器的结电容对前置放大器来说还起着噪声的作用。电荷灵敏放大器的噪声水平随外接电容的增加而增加,探测器的结电容就相当它的外接电容。因此提高偏压降低结电容可以相当它的外接电容。因此提高偏压降低电容可以相当地减少噪声,增加值号幅度,提高信噪比,从而改善探测器的能量分辨率。从上述两点来看,要求偏压加得高一点,但是偏压过高,探测器的漏电流也增大而使分辨率变坏。因此为了得到最佳能量分辨率,探测器的偏压应选择最佳范围。实验上最佳能量分辨率可通过测量不同偏压下的α谱线求得。如图3所示。并由此实验数据,分别作出一组峰位和能量分辨率对应不同偏压的曲线如图4、图5。分析以上结果,确定出探测器最佳偏压值。

2. α谱仪的能量刻度和能量分辨率

谱仪的能量刻度就是确定α粒子能量与脉冲幅度大小以谱线峰位在多道分析器中的道址表示。α谱仪系统的能量刻度有两

种方法:

(1) 用一个239

Pu 、241

Am 、244

Cm 混合的α刻度源,已知各核素α粒子的能量,测出该能量在多道分析器上所对应的道址,作能量对应道址的刻度曲线,并表示为:

E Gd E +=

( 4 )

E 为α粒子能量(keV )。d 为对应E 谱峰所在道址(道)。G 是直线斜率(keV/每道),称为刻度常数。

0E 是直线截距(keV )

。它表示

由于α粒子穿过探测器金层表面所损失的能

量。

(2) 一个已知能量的单能α源,配合线性良好的精密脉冲发生器来作能量刻度。这是在α源种类较少的实验条件下常用的方法。

一般谱仪的能量刻度线性可达0.1%左右。

在与能量刻度相同的测量条件下(如偏压、放大倍数、几何条件等),测量求知能量α谱。根据能量刻度曲线就可以确定α粒子的能量。常用α谱仪的刻度源能量可查核素常用表。

α谱仪的能量分辨率也用谱线的半宽度FWHM 表示。FWHM 是谱线峰最大计数一半

处的宽度,以keV 表示。在实用

中,谱仪的能量分辨率还用能量展宽的相对百分比表示。例如本实验采用金硅面垒探测器,灵敏面积为502m m ,测得

241

Am 源

的5.48MeV 的α粒子谱线宽度为17keV(0.3%)。

半导体探测器的突出优点是它的能量分辨率高,影响能量分辨率的主要因素有①产生电子空穴对数和能量损失的统计涨落)(n E ?;②探测器噪声

)(D E ?;③电子学噪声,主要是前置放大器的噪声)(c E ?;④探测器的窗厚和放射源

的厚度引起能量不均匀性所造成的能量展宽)(s E ?。实验测出谱线的展宽E ?是由以上因素所造成影响的总和,表示为

()

2

/122

2S

e D n E E E E E ?+?+?+?=? ( 5 )

3. 用偏置放大器来扩宽能谱,测量241

Am 的α衰变相对强度

在实际应用中,常常需要降低系统的G 值。由于半导体探测器的能量分辨率比较高,一般可达千分之几。当多道分析器的道数不够时,道宽对α能谱测量的影响就很大。例如,若实验使用的多道分析器为256道,对于6MeV 的峰位于满道址刻度情况下,得到最小G 值为25keV/每道。如果我们要观察能量相差只有50keV 的两个α峰(例如241

Am ),而这两个峰位的间隔只有2道,因而在谱形上不能将两个峰分开,这就需要降低系统的刻度常数G 值。在图1的实验装置中增加一个偏置放大器,它的作用是将输入脉冲切割一定阈值后,将超过阈部分再放大,然后送入到低道数的多道分析器中去分析,使得我们感兴趣的那一部分能谱得到展宽,这样就把原来不能分开的几个谱峰分开了。

241

Am 的衰变图如图6,其衰变时放出的α粒子有五种能量。

由实验测出

241

Am 的α谱如图7。直接由多道脉冲分析器求出第i 个能量峰的总计

数i S 。由总的衰变率∑=

i

i

S

S γ,求出

241

Am 各个能量α粒子的相对强度

α。

S

5

=i

S

1

,

/-

=

i

装置

简易α谱仪全套,FH1903,1台;

精密脉冲放大器,FH1013,1个;

1024道脉冲幅度分析器,FH451,1台;

示波器、机械泵,各一台;

金硅面垒探测器,GM-8-Ⅲ-A,1块;

放射源:239Pu、241Am、244Cm混合刻度源,一个;

210Po、239Pu、241Am电沉积α源各一各。

步骤

1.连接仪器如图1,将α源(210Po)放入真空室、抽真空,调整谱仪工作参数,用示波器测量脉冲幅度随偏压变化的范围。并测量抽真空与不抽真空条件下

输出波形的变化。

2.选择多道分析器的参量,测量α谱,改变偏压为5、10、30、60、100、120伏分别测量不同偏压下的α谱线,确定最佳偏压值。

3.测量239Pu、241Am、244Cm混合α刻度源的能谱。作出能量刻度曲线,用最小二乘法直线拟合,求出G和E o。并利用241Am谱峰的半宽度,确定谱仪的能量分

辨率(keV)。在同样测量条件下测出未知α源的能谱。

4.用一个已知能量为5.48MeV的241Am α源和精密脉冲发生器来作谱仪能量刻度。

所有实验曲线半宽度以上各点的相对误差要求小于5%。

实验数据处理与分析

1)对于241Am ,确定最佳偏压:

由上表可以知道当施加偏压后峰位的峰位道址增加,当电压偏压加到60v 的时候计数率变化的不大,趋于饱和,分辨率也差不多不变。从表中数据可看出金硅面垒型探测器的能量分辨率很高。

本次试验所选取的偏压为60v 。

2)对于241Am ,偏压为60v 时的测量:测量时间Δt=921s

3)对239Pu 的能谱进行测量:测量时间Δt=925s

观察可以发现239Pu 的二号峰的道址为2832与241Am 的一号峰(主峰)道址一样,但其计数与241Am 相比却很低(计数时间很接近),可以说明所谓的其二号峰是241

Am 发射出的射线,并不是其发出的射线,这可能是由于239Pu 含有少量杂质的241Am 导致的,应当将其二号峰舍去。

4)能量刻度

偏压/v

Δt/s

峰位计数

峰位计数率

峰位道址

左半高宽道址 右半高宽道址

FWHM

η

0 702.00 710.00 1.0114 2328.00 2303.80 2362.00 58.20 2.500% 6 358.00 1082.00 3.0223 2806.00 2797.75 2813.00 15.25 0.543% 12 310.00 1094.00 3.5290 2816.00 2809.50 2822.50 13.00 0.462% 30 340.00 1304.00 3.8353 2823.00 2818.00 2831.00 13.00 0.461% 60 291.00 1038.00 3.5670 2829.00 2820.50 2833.50 13.00 0.460% 90 239.00 904.00 3.7824 2832.00 2824.00 2836.50 12.50 0.441% 120 318.00 1237.00 3.8899 2832.00 2823.00 2836.50 13.50 0.477%

峰位计数

道址 峰的范围 能谱总面积 各峰的面积 各峰面积所占比例

一号峰(主峰) 3174

2832 2845至2813 59431 43421 73.06%

二号峰 407 2802 2813至2786 10286 17.31%

三号峰 124 2778 2786至2744 3073 5.17%

峰位计数

道址 一号峰(主峰) 239

2660 二号峰 46

2832

道址 对应的能量/Mev

241

Am 一号峰 2832 5.486 239

Pu 一号峰 2660 5.155

对以上表格的数据进行线性拟合得到如下数据与图:

Linear model Poly1: f(x) = p1*x + p2 Coefficients:

p1 = 0.001924 p2 = 0.03605

Goodness of fit: SSE: 3.944e-030 R-square: 1

Adjusted R-square: NaN RMSE: NaN

令道址为X ,能量为Y ,可得其关系式为:0.036050.00192X Y += 可到241

Am 的子峰

对应的能量为:

道址 对应的能量/Mev 能量理论值/Mev

相对误差

二号峰 2802 5.41589 5.443 -0.498%

三号峰 2778 5.36981

5)实验误差分析

实验偏压必须足够大,使得a 射线能量沉积完全,同时使结电容的大小降低以提高信噪比,但与此同时使得探测器的漏电流的变大。能量分辨率有所影响。误差主要来自计数统计涨落,高斯波形成形不好,很难判断峰值位置。

实验思考题

1. 解释脉冲幅度和分辨率随偏压变化曲线的特征,并说明选择探测器偏压应考虑哪些因素。

2. 设脉冲输出幅度为6伏,探测器的能量分辨率为0.3%,试述应如何选择多道分析器的参数(分析范围、所用道数和道宽)?

3.用脉冲发生器模拟不同能量粒子时,为什么不能关闭偏压电源?

4.如何用脉冲发生器和一个已知能量的源对谱仪作能量刻度?(提示:了解脉冲发生器“标准校正”旋钮的作用)。

5.为了研究影响谱仪能量分辨率的主要因素,根据,如何从实验上分别测出探测器及电子学噪声对谱线所造成的展宽?

1)偏压变大,使得a射线能量沉积的越来越多,到达一定时,趋于饱和。所以脉冲幅度是先迅速增加后平缓。对于能量分辨率,偏压增大,结电容减小,提高信噪比,但是偏压达到足够大时,漏电流也增加。因此能量分辨率曲线是先减后平缓。

2)峰值对应电压幅度6v,η=0.3%,电压幅度的FWHM=18mv,道宽要小于18mv,道址至少要有333道,取1024道。

3)要保证本底一样,既漏电流一样,结电容一样。

4)首先使脉冲发生器发出的幅度大小与已知源的峰值对应的幅度一样记下道址,然后将脉冲发生器发出的的幅度减半,然后将其对应的道址记下为源的峰值对应能量的一半然后进行能量刻度。

5)没有源,测本底展宽。

光的偏振 实验报告.doc

光的偏振 实验仪器: 光具座、半导体激光器、偏振片、1/4波片、激光功率计。 实验原理: 自然光经过偏振器后会变成线偏振光。偏振片既可作为起偏器使用,亦可作为检偏器使用。 马吕斯定律:马吕斯指出:强度为I0的线偏振光,透过检偏片后,透射光的强度(不考虑吸收)为I=I0cos2。(是入射线偏振光的光振动方向和偏振片偏振化方向之间的夹角。) 当光法向入射透过1/4波片时,寻常光(o光)和非常光(e光)之间的位相差等于π/2或其奇数倍。当线偏振光垂直入射1/4波片,并且光的偏振和云母的光轴面成θ角,出射后成椭圆偏振光。特别当θ=45°时,出射光为圆偏振光。 实验1、2光路图: 实验5光路图: 实验步骤: 1.半导体激光器的偏振特性: 转动起偏器,观察其后的接受白屏,记录器功率最大值和最小值,以及对应的角度,求出半导体激光的偏振度。 2。光的偏振特性——验证马吕斯定律: 利用现有仪器,记录角度变化与对应功率值,做出角度与功率关系曲线,并与理论值进行比较。 5.波片的性质及利用: 将1/4波片至于已消光的起偏器与检偏器间,转动1/4波片观察已消光位置,确定1/4波片光轴方向,改变1/4波片的光轴方向与起偏器的偏振方向的夹角,对应每个夹角检偏器转动一周,观察输出光的光强变化并加以解释。

实验数据: 实验一: 实验二: 实验五: 数据处理: 实验一: 计算得半导体激光的偏振度约为 故半导体激光器产生的激光接近于全偏振光。实验二: 绘得实际与理论功率值如下:

进行重叠发现二者的图线几乎完全重合,马吕斯定律得到验证。实验五:见“实验数据”中的表格

总结与讨论: 本次实验所用仪器精度较高,所得数据误差也较小。 当光法向入射透过1/4波片时,寻常光(o光)和非常光(e光)之间的位相差等于π/2或其奇数倍。当线偏振光垂直入射1/4波片,并且光的偏振和云母的光轴面成θ角,出射后成椭圆偏振光。特别当θ=45°时,出射光为圆偏振光,这就是实验五中透过1/4波片的线 偏光成为不同偏振光的原因。XX大学生实习报告总结 3000字 社会实践只是一种磨练的过程。对于结果,我们应该有这样的胸襟:不以成败论英雄,不一定非要用成功来作为自己的目标和要求。人生需要设计,但是这种设计不是凭空出来的,是需要成本的,失败就是一种成本,有了成本的投入,就预示着的人生的收获即将开始。 小草用绿色证明自己,鸟儿用歌声证明自己,我们要用行动证明自己。打一份工,为以后的成功奠基吧! 在现今社会,招聘会上的大字板都总写着“有经验者优先”,可是还在校园里面的我们这班学子社会经验又会拥有多少呢?为了拓展自身的知识面,扩大与社会的接触面,增加个人在社会竞争中的经验,锻炼和提高自己的能力,以便在以后毕业后能真正的走向社会,并且能够在生活和工作中很好地处理各方面的问题记得老师曾说过学校是一个小社会,但我总觉得校园里总少不了那份纯真,那份真诚,尽管是大学高校,学生还终归保持着学生身份。而走进企业,接触各种各样的客户、同事、上司等等,关系复杂,但你得去面对你从没面对过的一切。记得在我校举行的招聘会上所反映出来的其中一个问题是,学生的实际操作能力与在校的理

迈克尔逊干涉仪实验报告87789

迈克耳逊干涉仪 一.实验目的 1.了解迈克尔逊干涉仪的结构和原理,掌握调节方法; 2.用迈克尔逊干涉仪测量钠光波长和精细结构。 二.实验仪器 迈克尔逊干涉仪、钠光灯、透镜等。 三.实验原理 迈克耳孙干涉仪原理如图所示。两平面反射镜M1、M2、光源 S和观察点E (或接收屏)四者北东西南各据一方。M1、M2相互垂直,M2是固定的,M1可沿导轨做精密移动。G1和G2是两块材料相同薄厚均匀相等的平行玻璃片。G1的一个表面上镀有半透明的薄银层或铝层,形成半反半透膜,可使入射光分成强度基本相等的两束光,称G1为分光板。G2与G1平行,以保证两束光在玻璃中所走的光程完全相等且与入射光的波长无关,保证仪器能够观察单、复色光的干涉。可见G2作为补偿光程用,故称之为补偿板。G1、G2与平面镜M1、M2倾斜成45°角。

如上图所示一束光入射到G1上,被G1分为反射光和透射光,这两束光分别经M1和M2反射后又沿原路返回,在分化板后表面分别被透射和反射,于E处相遇后成为相干光,可以产生干涉现象。图中M′2是平面镜M2由半反膜形成的虚像。观察者从E处去看,经M2反射的光好像是从M′2来的。因此干涉仪所产生的干涉和由平面M1与M′2之间的空气薄膜所产生的干涉是完全一样的,在讨论干涉条纹的形成时,只需考察M1和M2两个面所形成的空气薄膜即可。两面相互平行可到面光源在无穷远处产生的等倾干涉,两面有小的夹角可得到面光源在空气膜近处形成的等厚干涉。若光源是点光源,则上述两种情况均可在空间形成非定域干涉。设M1和M′2之间的距离为d,则它们所形成的空气薄膜造成的相干光的光程差近似用下式表示 若M1与M′2平行,则各处d相同,可得等倾干涉。系统具有轴对称不变性,故屏E上的干涉条纹应为一组同心圆环,圆心处对应的光程差最大且等于2d,d 越大圆环越密。反之中心圆斑变大圆环变疏。若d增加则中心“冒出”一个条纹,反之d减小则中心“缩进”一个条纹。故干涉条纹在中心处“冒出”或“缩进”的个数N与d的变化量△d之间有下列关系 根据该关系式就可测量光波波长λ或长度△d。 钠黄双线的精细结构测量原理简介: 干涉条纹可见度定义为:当,时V=1, 此时干涉条纹最清晰,可见度最大;时V=0,可见度最小。 从一视见度最低的位置开始算起,测量一次视见度最低处的位置,者其间的光程差 为,且由关系算出谱线的精细结构。 四.实验结果计与分析 次数初读数 d1(mm) 末读数 d2(mm) △ d=|d1-d2| (mm) (nm)(nm ) 137.7247937.754420.02963592.6592.6

电子工艺实习实验报告

1.1.1.1.1北京邮电大学实习报告

1.焊接工艺 1.1 焊接工艺的基本知识 焊接是使金属连接的一种方法。它利用加热手段,在两种金属的接触面,通过高温条件下焊接材料的原子或分子的相互扩散作用,使两种金属间形成永结牢固的结合面而结合成整体。焊接的过程有浸润、扩散、冷却凝固三个阶段的变化。利用焊接的方法进行连接而形成的接点叫焊点。 焊接工艺是指焊接过程中的一整套技术规定。包括焊接方法、焊前准备、焊接材料、焊接设备、焊接顺序、焊接操作、工艺参数以及焊后热处理等。 我们实验中主要是PCB板的焊接。 1.2 焊接工具、焊料、焊剂的类别与作用 焊接工具有烙铁、镊子、螺丝刀、钳子等。 电烙铁的作用是加热焊料和被焊接金属,最终形成焊点。按加热方式可分为热式、外热式等,按功能分为防静电式、吸锡式、恒温式等。本实验使用外热式电烙铁。 焊料是焊接时用于填加到焊缝、堆焊层和钎缝中的金属合金材料的总称。包括焊丝、焊条、钎料等。焊料分软焊料和硬焊料两种,软焊料熔点较低,质软,也叫焊镴,如焊锡;硬焊料熔点较高,质硬,如铜锌合金。本次实习使用的焊料为焊锡(铅锡合金)。 焊剂是指焊接时,能够熔化形成熔渣和(或)气体,对熔化金属起保护和冶金物理化学作用的一种物质,又称助焊剂或阻焊剂,一般由活化剂、树脂、扩散剂、溶剂四部分组成。一般可划分为酸性焊剂和碱性焊剂两种。作用:清除焊件表面的氧化膜,保证焊锡浸润。本实验的焊料是松香。 下面分列各工具及材料的作用。 电烙铁:熔化焊锡; 电烙铁架:放置电烙铁; 镊子:夹持焊锡或去除导线皮; 螺丝刀:拆组机器狗; 钳子:裁剪导线或焊锡; 焊锡(锡铅合金):固定焊脚,电路板和器件电气连接; 助焊剂(松香):加速焊锡融化,去除氧化膜,防止氧化等; 阻焊剂(光固树脂):板上和板层间的绝缘材料。 1.3焊接方法 手工焊接主要为五步焊接法: 1.准备施焊,检查焊件、焊锡丝、烙铁,保持焊件和烙铁头的干净; 2.加热焊件,用烙铁头加热焊件各部分,加热时不要施压; 3.熔化焊料,焊锡丝从烙铁对面接触焊件,将焊丝至于焊点,是焊料融化并润湿焊点; 4.移开焊锡,当融化的焊料在焊点上堆积一定量后,移开锡丝; 5.移开烙铁,当焊锡完全润湿后,迅速移开烙铁,在焊锡凝固前保持焊件为静止状态。

实验报告——半导体激光器输出光谱测量

实验报告——半导体激光器输出光谱测量 实验时间:2017.03.04 一、实验目的 1、了解半导体激光器的基本原理及基本参数; 2、测量半导体激光器的输出特性和光谱特性; 3、了解外腔选模的机理,熟悉光栅外腔选模技术; 4、熟悉压窄谱线宽度的方法。 二、实验原理 1.半导体激光器 激光(LASER)的全称 light amplification by stimulated emission of radiation 意为通过受激发射实现光放大。 激光器的基本组成如下图: 必要组成部分无外乎:谐振腔、增益介质、泵浦源。 在此基础上,激光产生的条件有二: 1)粒子数反转 通过外界向工作物质输入能量,使粒子大部分处于高能态,而非基态。 2)跃迁选择定则 粒子能够从基态跃迁到高能态,需要两个能级之间满足跃迁选择定则,电子相差 的奇数倍角动量差。 世界上第一台激光器是1960年7月8日,美国科学家梅曼发明的红宝石激光器。 1962年世界上第一台半导体激光器发明问世。 2.半导体激光器的基本原理 半导体激光器工作原理是激励方式,利用半导体物质(既利用电子)在能带间跃迁发光,用半导体晶体的解理面形成两个平行反射镜面作为反射镜,组成谐振腔,使光振荡、反馈、产生光的辐射放大,输出激光。 没有杂质的纯净半导体,称为本征半导体。 如果在本征半导体中掺入杂质原子,则在导带之下和价带之上形成了杂质能级,分别称为施主能级和受主能级。 有施主能级的半导体称为n型半导体;有受主能级的半导体称这p型半导体。在常温下,热能使n型半导体的大部分施主原子被离化,其中电子被激发到导带上,成为自由电子。而p型半导体的大部分受主原子则俘获了价带中的电子,在价带中形成空穴。因此,n 型半导体主要由导带中的电子导电;p型半导体主要由价带中的空穴导电。 若在形成了p-n结的半导体材料上加上正向偏压,p区接正极,n区接负极。正向电压的电场与p-n结的自建电场方向相反,它削弱了自建电场对晶体中电子扩散运动的阻碍

迈克尔逊干涉仪实验报告

迈克尔逊和法布里-珀罗干涉仪 摘要:迈克尔逊干涉仪是一种精密光学仪器,在近代物理和近代计量技术中都有着重要的应用。通过迈克尔逊干涉的实验,我们可以熟悉迈克尔逊干涉仪的结构并掌握其调整方法,了解电光源非定域干涉条纹的形成与特点和变化规律,并利用干涉条纹的变化测定光源的波长,测量空气折射率。本实验报告简述了迈克尔逊干涉仪实验原理,阐述了具体实验过程与结果以及实验过程中的心得体会,并尝试对实验过程中遇到的一些问题进行解释。 关键词: 迈克尔逊干涉仪;法布里-珀罗干涉仪;干涉;空气折射率; 一、引言 【实验背景】 迈克尔逊干涉仪是1883年美国物理学家迈克尔逊和莫雷合作,为研究“以太”漂移而设计制造出来的精密光学仪器。它是利用分振幅法产生双光束以实现干涉。通过调整该干涉仪,可以产生等厚干涉条纹,也可以产生等倾干涉条纹,主要用于长度和折射率的测量。法布里-珀罗干涉仪是珀罗于1897年所发明的一种能现多光束干涉的仪器,是长度计量和研究光谱超精细结构的有效工具; 它还是激光共振腔的基本构型,其理论也是研究干涉光片的基础,在光学中一直起着重要的作用。在光谱学中,应用精确的迈克尔逊干涉仪或法布里-珀罗干涉仪,可以准确而详细地测定谱线的波长及其精细结构。 【实验目的】 1.掌握迈克尔逊干涉仪和法布里-珀罗干涉仪的工作原理和调节方法; 2.了解各类型干涉条纹的形成条件、条纹特点和变化规律; 3.测量空气的折射率。 【实验原理】 (一) 迈克尔逊干涉仪 1M 、2M 是一对平面反射镜,1G 、2G 是厚度和折射率都完全相同的一对平行玻璃板,1G 称 为分光板,在其表面 A 镀有半反射半透射膜,2G 称为补偿片,与1G 平行。 当光照到1G 上时,在半透膜上分成两束光,透射光1射到1M ,经1M 反射后,透过2G ,在1G 的半透膜上反射到达E ;反射光2射到2M ,经2M 反射后,透过1G 射向E 。两束光在玻璃中的 光程相等。当观察者从E 处向1G 看去时,除直接看到2M 外还可以看到1M 的像1 M 。于是1、2

半导体物理与器件 实验指导书

实验指导书 院系:机电工程学院 专业:微电子 课程:半导体物理与器件编者:孙玮

目录 实验一四探针法测量半导体电阻率和方块电阻 (1) 实验二半导体非平衡少子寿命测试 (10)

实验一 四探针法测量半导体电阻率 一、实验目的: 硅单晶的电阻率与半导体器件的性能有着十分密切的关系,半导体电阻率的测量是半导体材料常规参数测量项目之一。测量电阻率的方法很多,如三探针法、电容—电压法、扩展电阻法等。四探针法则是一种广泛采用的标准方法,在半导体工艺中最为常用,其主要优点在于设备简单,操作方便,精确度高,对样品的几何尺寸无严格要求。四探针法除了用来测量半导体材料的电阻率以外,在半导体器件生产中还广泛用来测量扩散层薄层电阻,以判断扩散层质量是否符合设计要求。因此,薄层电阻是工艺中最常需要检测的工艺参数之一。 本实验的目的是掌握四探针法测量电阻率和薄层电阻的原理及测量方法,针对不同几何尺寸的样品,掌握其修正方法;了解影响电阻率测量的各种因素和改进措施。 二、实验内容: 1. 对所给的各种样品分别测量其电阻率; 2. 对同一样品,测量五个不同的点,由此求出单晶断面电阻率不均匀度; 三、实验原理与方法: 1.半导体材料电阻率的测量 将四根探针加在待测半导体材料样品表面,由外面两根探针接恒流源,电流为I ,由中间两根探针测电压,从而求出材料的电阻率,它在很大程度上消除了探针的接触势垒及注入效应对测量的影响。 设样品为半无穷大,若样品的电阻率ρ均匀,引入点电流源的探针其电流强度为I ,则所产生的电力线具有球面的对称性,即等位面为一系列以点电流为中心的半球面,如图1.1所示。在以r 为半径的半球面上,电流密度j 的分布是均匀的。 2 2r I j π= (1-1) 若E 为r 处的电场强度,则 图1.1

半导体激光器pi特性测试实验

太原理工大学现代科技学院 课程实验报告 专业班级 学号 姓名 指导教师

实验名称 半导体激光器P-I 特性测试实验 同组人 专业班级 学号 姓名 成绩 一、 实验目的 1. 学习半导体激光器发光原理和光纤通信中激光光源工作原理 2. 了解半导体激光器平均输出光功率与注入驱动电流的关系 3. 掌握半导体激光器P (平均发送光功率)-I (注入电流)曲线的测试方法 二、 实验仪器 1. ZY12OFCom13BG 型光纤通信原理实验箱 1台 2. 光功率计 1台 3. FC/PC-FC/PC 单模光跳线 1根 4. 万用表 1台 5. 连接导线 20根 三、 实验原理 半导体激光二极管(LD )或简称半导体激光器,它通过受激辐射发光,(处于高能级E 2的电子在光场的感应下发射一个和感应光子一模一样的光子,而跃迁到低能级E 1,这个过程称为光的受激辐射。所谓一模一样,是指发射光子和感应光子不仅频率相同,而且相位、偏振方向和传播方向都相同,它和感应光子是相干的。)是一种阈值器件。由于受激辐射与自发辐射的本质不同,导致了半导体激光器不仅能产生高功率(≥10mW )辐射,而且输出光发散角窄(垂直发散角为30~50°,水平发散角为0~30°),与单模光纤的耦合效率高(约30%~50%),辐射光谱线窄(Δλ=0.1~1.0nm ),适用于高比特工作,载流子复合寿命短,能进行高速信号(>20GHz )直接调制,非常适合于作高速长距离光纤通信系统的光源。 P-I 特性是选择半导体激光器的重要依据。在选择时,应选阈值电流I th 尽可能小,I th 对应P 值小,而且没有扭折点的半导体激光器,这样的激光器工作电流小,工作稳定性高,消光比(测试方法见实验四)大, ……………………………………装………………………………………订…………………………………………线………………………………………

迈克尔逊干涉仪(实验报告)

一、实验目的 1、掌握迈克尔逊干涉仪的调节方法并观察各种干涉图样。 2、区别等倾干涉、等厚干涉和非定域干涉,测定 He-Ne 激光波长 二、实验仪器 迈克尔逊干涉仪、 He-Ne 激光器及光源、小孔光阑、扩束镜(短焦距会聚镜)、毛玻璃屏等。 (图一) (图二) 三、实验原理 ①用 He-Ne 激光器做光源,使激光通过扩束镜会聚后发散,此时就得到了一个相关性很好的点光源,射到分光板 P1和 P2上后就将光分成了两束分别射到 M1 和 M2 上,反射后通过 P1 、 P2 就可以得到两束相关光,此时就会产生干涉条纹。 ②产生干涉条纹的条件,如图 2 所示, B 、 C 是两个相干点光源,则到 A 点的光程差δ =AB-AC=BCcosi , 若在 A 点出产生了亮条纹,则δ =2dcosi=k λ (k 为亮条纹的级数 ) ,因为 i 和 k 均为不可测的量,所以取其差值,即λ =2 Δ d/ Δ k。 四、实验步骤 1、打开激光电源,先不要放扩束镜,让激光照到分光镜 P1 上,并调节激光的反射光照射到激光筒上。 2、调节 M2 的位置使屏上两排光中最亮的两个光点重回,并调至其闪烁。 3、将扩束镜放于激光前,调节扩束镜的高度和偏角,使光能照在 P1分光镜上,看显示屏上有没有产生同心圆的干涉条纹图案。没有的话重复 2 、 3 步骤,直到产生同心圆的干涉条纹图案。 4、微调 M2是干涉图案处于显示屏的中间。 5、转动微量读数鼓轮,使 M1 移动,可以看到中心条纹冒出或缩进,若看不到此现象,先转动可度轮,再转动微量读数鼓轮。记下当前位置的读数 d0 ,转动微量读数鼓轮,看到中心条纹冒出或缩进 30 次则记一次数据,共记录 10 次数据即 d0、 d1 (9)

半导体工艺原理实验报告

半导体工艺原理实验附录 姓名:xxx 学号:xxx 指导教师:xxx 目录 实验一.工艺设备模拟--氧化仿真实验 (1) 详细实验步骤 (1) 实验结果 (4) 实验二.工艺设备模拟--离子注入仿真实验 (5) 操作步骤 (5) 实验结果 (5) 第一组 (5) 第二组 (6) 第三组 (7) 第四组 (8) 其他组实验 (10) 实验三.刻蚀仿真实验 (13) 实验步骤 (13) 实验结果 (15) 实验四.超净间参观 (17) 参观过程 (17) 超净间定义 (17) 实验一.工艺设备模拟--氧化仿真实验 详细实验步骤 (1)(2)

(3)(4) (5)(6) (7)(8)

(9)(10) (11)(12) (13)(14)

(15)(16) (17)(18) 实验结果 晶片晶向时间(min)温度方式 1 100 1 890 900 880 2,3 表 1 参考参数 晶片号类型晶向氧化时间(min)氧化温度(?C)氧化厚度(A) 1Dry1102900180 2Dry11021000924 4Dry1112900183 3Dry11010900173 5Wet10010900669 6Wet10020900449 7Wet10030900660 8Wet110210001136 10Wet11010900902 9Wet11029003536 11Wet11129001310 表 2 实验数据

图 1 各组参数柱状图对比效果实验二.工艺设备模拟--离子注入仿真实验实验时间:2015年12月4日星期五 操作步骤 操作步骤大体与实验一类似,按照提示操作即可。 实验结果 第一组 深度(130) 浓度 (13) 深度 (130) 浓度 (13) 深度 (130) 浓度 (13) 0.0015.450.7013.49 1.408.75 0.0517.080.7513.09 1.458.47 0.1017.680.8012.69 1.508.20 0.1517.790.8512.31 1.557.94 0.2017.630.9011.94 1.607.68 0.2517.330.9511.58 1.657.43 0.3016.95 1.0011.23 1.707.18 0.3516.53 1.0510.89 1.75 6.94 0.4016.10 1.1010.56 1.80 6.71 0.4515.65 1.1510.24 1.85 6.49 0.5015.20 1.209.92 1.90 6.27 0.5514.76 1.259.62 1.95 6.06 0.6014.33 1.309.32 2.00 5.87 0.6513.90 1.359.03 表 3 离子注入第一组数据

大学物理实验报告霍尔效应

大学物理实验报告霍尔效应 一、实验名称:霍尔效应原理及其应用二、实验目的:1、了解霍尔效应产生原理;2、测量霍尔元件的、曲线,了解霍尔电压与霍尔元件工作电流、直螺线管的励磁电流间的关系;3、学习用霍尔元件测量磁感应强度的原理和方法,测量长直螺旋管轴向磁感应强度及分布;4、学习用对称交换测量法(异号法)消除负效应产生的系统误差。 三、仪器用具:YX-04 型霍尔效应实验仪(仪器资产编号)四、实验原理:1、霍尔效应现象及物理解释霍尔效应从本质上讲是运动的带电粒子在磁场中受洛仑兹力作用而引起的偏转。当带电粒子(电子或空穴)被约束在固体材料中,这种偏转就导致在垂直于电流和磁场的方向上产生正负电荷的聚积,从而形成附加的横向电场。对于图1 所示。半导体样品,若在x 方向通以电流,在z 方向加磁场,则在y 方向即样品A、A′电极两侧就开始聚积异号电荷而产生相应的电场,电场的指向取决于样品的导电类型。显然,当载流子所受的横向电场力时电荷不断聚积,电场不断加强,直到样品两侧电荷的积累就达到平衡,即样品A、A′间形成了稳定的电势差(霍尔电压)。设为霍尔电场,是载流子在电流方向上的平均漂移速度;样品的宽度为,厚度为,载流子浓度为,则有:(1-1) 因为,,又根据,则(1-2)其中称为霍尔系数,是反映材料霍尔效应强弱的重要参数。只要测出、以及知道和,可按下式计算:(1-3)(1-4)为霍尔元件灵敏度。 根据RH 可进一步确定以下参数。(1)由的符号(霍尔电压的正负)判断样品的导电类型。判别的方法是按图1 所示的和的方向(即测量中的+,+),若测得的 <0(即A′的电位低于A 的电位),则样品属N 型,反之为P 型。(2)由求载流子浓度,即。应该指出,这个关系式是假定所有载流子都具有相同的漂移速度得到的。严格一点,考虑载流子的速度统计分布,需引入的修正因子(可参阅黄昆、谢希德著《半导体物理学》)。(3)结合电导率的测量,求载流子的迁移率。电导率与载流子浓度以及迁移率之间有如下关系:(1-5)2、霍尔效应中的副效应及其消除方法上述推导是从理想情况出发的,实际情况要复杂得多。产生上述霍尔效应的同时还伴随产生四种副效应,使的测量产生系统误差,如图 2 所示。 (1)厄廷好森效应引起的电势差。由于电子实际上并非以同一速度v 沿y 轴负向运动,速度大的电子回转半径大,能较快地到达接点3 的侧面,从而导致3 侧面较4 侧面集中较多能量高的电子,结果3、4 侧面出现温差,产生温差电动势。 可以证明。的正负与和的方向有关。(2)能斯特效应引起的电势差。焊点1、2 间接触电阻可能不同,通电发热程度不同,故1、2 两点间温度可能不同,于是引起热扩散电流。与霍尔效应类似,该热扩散电流也会在 3、4 点间形成电势差。 若只考虑接触电阻的差异,则的方向仅与磁场的方向有关。(3)里纪-勒杜克效应产生的电势差。上述热扩散电流的载流子由于速度不同,根据厄廷好森效应同样的理由,又会在3、4 点间形成温差电动势。的正负仅与的方向有关,而与的方向无关。(4)不等电势效应引起的电势差。由于制造上的困难及材料的不均匀性,3、4 两点实际上不可能在同一等势面上,只要有电流沿x 方向流过,即使没有磁场,3、4 两点间也会出现电势差。的正负只与电流的方向有关,而与的方向无关。综上所述,在确定的磁场和电流下,实际测出的电压是霍尔

“迈克尔逊干涉仪”实验报告

“迈克尔逊干涉仪”实验报告 【引言】 迈克尔逊干涉仪是美国物理学家迈克尔逊(A.A.Michelson)发明的。1887年迈克尔逊和莫雷(Morley)否定了“以太”的存在,为爱因斯坦的狭义相对论提供了实验依据。迈克尔逊用镉红光波长作为干涉仪光源来测量标准米尺的长度,建立了以光波长为基准的绝对长度标准,即1m=1 553 164.13个镉红线的波长。在光谱学方面,迈克尔逊发现了氢光谱的精细结构以及水银和铊光谱的超精细结构,这一发现在现代原子理论中起了重大作用。迈克尔逊还用该干涉仪测量出太阳系以外星球的大小。 因创造精密的光学仪器,和用以进行光谱学和度量学的研究,并精密测出光速,迈克尔逊于1907年获得了诺贝尔物理学奖。 【实验目的】 (1)了解迈克尔逊干涉仪的原理和调整方法。 (2)测量光波的波长和钠双线波长差。 【实验仪器】 迈克尔逊干涉仪、He-Ne激光器、钠光灯、扩束镜 【实验原理】 1.迈克尔逊干涉仪结构原理 图1是迈克尔逊干涉仪光路图,点光源 S发出的光射在分光镜G1,G1右表面镀有半 透半反射膜,使入射光分成强度相等的两束。 反射光和透射光分别垂直入射到全反射镜M1 和M2,它们经反射后再回到G1的半透半反射 膜处,再分别经过透射和反射后,来到观察区 域E。如到达E处的两束光满足相干条件,可 发生干涉现象。 G2为补偿扳,它与G1为相同材料,有 相同的厚度,且平行安装,目的是要使参加干 涉的两光束经过玻璃板的次数相等,波阵面不会发生横向平移。 M1为可动全反射镜,背部有三个粗调螺丝。 M2为固定全反射镜,背部有三个粗调螺丝,侧面和下面有两个微调螺丝。 2.可动全反镜移动及读数 可动全反镜在导轨上可由粗动手轮和微动手轮的转动而前后移动。可动全反镜位置的读数为: ××.□□△△△ (mm) (1)××在mm刻度尺上读出。

半导体物理与器件实验报告

课程实习报告 HUNAN UNIVERSITY 题目:半导体物理与器件 学生姓名:周强强 学生学号:20100820225 专业班级:通信二班 完成日期:2012.12.22

运行结果截图: 2.2 函数(),cos(2/)V x t x t πλω=-也是经典波动方程的解。令03x λ≤≤,请在同一坐标中 绘出x 的函数(),V x t 在不同情况下的图形。 (1)0;(2)0.25;(3)0.5;(4)0.75;(5)t t t t t ωωπωπωπωπ =====。 3.27根据式(3.79),绘制出0.2()0.2F E E eV -≤-≤范围内,不同温度条件下的费米-狄拉克概率函数:()200,()300,()400a T K b T K c T K ===。

4.3 画出a ()硅,b ()锗,c ()砷化镓在温度范围200600K T K ≤≤内的本征载流子浓度曲线 (采用对数坐标)。

4.46 已知锗的掺杂浓度为15 3a =310 cm N -?,d =0N 。画出费米能级相对于本征费米能级的位 置随温度变化 200600)K T K ≤≤(的曲线。

5.20硅中有效状态密度为 19 3/2c 2.8 10()300T N =? 193/2 1..0410() 300 T N ν=? 设迁移率为 3/2 n =1350300T μ-?? ? ?? 3/2 =480300T ρμ-?? ? ?? 设禁带宽带为g =1.12V E e ,且不随温度变化。画出200600K T K ≤≤范围内,本征电导率随绝对温度T 变化的关系曲线。

迈克尔逊干涉仪测量空气折射率实验报告

测量空气折射率实验报告 一、 实验目的: 1.进一步了解光的干涉现象及其形成条件,掌握迈克耳孙干涉光路的原理和调节方法。 2.利用迈克耳孙干涉光路测量常温下空气的折射率。 二、 实验仪器: 迈克耳孙干涉仪、气室组件、激光器、光阑。 三、 实验原理: 迈克尔逊干涉仪光路示意图如图1所示。其中,G 为平板玻璃,称为分束镜,它的一个表面镀有半反射金属膜,使光在金属膜处的反射光束与透射光束的光强基本相等。 M1、M2为互相垂直的平面反射镜,M1、M2镜面与分束镜G 均成450角; M1可以移动,M2固定。2 M '表示M2对G 金属膜的虚像。 从光源S 发出的一束光,在分束镜G 的半反射面上被分成反射光束1和透射光束2。光束1从G 反射出后投向M1镜,反射回来再穿过G ;光束2投向M2镜,经M2镜反射回来再通过G 膜面上反射。于是,反射光束1与透射光束2在空间相遇,发生干涉。 由图1可知,迈克尔逊干涉仪中,当光束垂直入射至M1、M2镜时,两束光的光程差δ为 )(22211L n L n -=δ (1) 式中,1n 和2n 分别是路程1L 、2L 上介质的折射率。 M 2M 图1 迈克尔逊干涉仪光路示意图

设单色光在真空中的波长为λ,当 ,3 ,2 ,1 ,0 ,==K K λδ (2) 时干涉相长,相应地在接收屏中心的总光强为极大。由式(1)知,两束相 干光的光程差不但与几何路程有关,还与路程上介质的折射率有关。 当1L 支路上介质折射率改变1n ?时,因光程的相应改变而引起的干涉条纹的 变化数为N 。由(1)式和(2)式可知 1 12L N n λ = ? (3) 例如:取nm 0.633=λ和mm L 1001=,若条纹变化10=N ,则可以测得 0003.0=?n 。可见,测出接收屏上某一处干涉条纹的变化数N ,就能测出光路 中折射率的微小变化。 正常状态(Pa P C t 501001325.1,15?==)下,空气对在真空中波长为 nm 0.633的光的折射率00027652.1=n ,它与真空折射率之差为 410765.2)1(-?=-n 。用一般方法不易测出这个折射率差,而用干涉法能很方便地测量,且准确度高。 四、 实验装置: 实验装置如图2所示。用He-Ne 激光作光源(He-Ne 激光的真空波长为 nm 0.633=λ),并附加小孔光栏H 及扩束镜T 。扩束镜T 可以使激光束扩束。小孔光栏H 是为调节光束使之垂直入射在M1、M2镜上时用的。另外,为了测量空气折射率,在一支光路中加入一个玻璃气室,其长度为L 。气压表用来测量气室内气压。在O 处用毛玻璃作接收屏,在它上面可看到干涉条纹。 图2 测量空气折射率实验装置示意图 气压表

电子工艺实验报告

实习报告 课程名称电子工艺实习 实习题目DT830B数字万用表的组装与调试 专业物流工程 班级二班 学号10090227 学生姓名张满 实习成绩 指导教师宗保平 2012年2月24日 1

一、电子工艺实习的目的 1、熟悉手工焊接的常用工具的使用及维护与修理; 2、基本掌握手工电烙铁的焊接技术,能够独立的完成简单的电子产品安装与焊接,熟悉电子产品的安装工艺的生产流程; 3、熟悉常用电子元器件的类别、符号、规格、性能及使用范围,能查阅有关的电子器件图书; 4、能正确识别和选用常用的电子器件,并且能够熟练的使用数字万用表; 5、了解电子产品的焊接、调试与维修的方法; 6、通过基本操作、技能训练,使学生熟悉一些电工电子基本知识,掌握一定的基本操作技能,装配和调试一个合格的电子产品(DT830B数字万用表)。 二、实践产品的基本工作原理 万用表又叫多用表、三用表、复用表,万用表分为指针式万用表和数字万用表引。是一种多功能、多量程的测量仪表,一般万用表可测量直流电流、直流电压、交流电流、交流电压、电阻和音频电平等,有的还可以测交流电流、电容量、电感量及半导体的一些参数。 DT830B数字万用表(如图一所示)是一种常用的万用表,它的技术成熟。主电路采用典型数字集

成电路ICL7106,性能稳定。它的应用广泛,所产生的规模大、效益高、价格低。DT830B 数字万用表具有精度高、输入电阻大、读数直观、功能齐全、体积小巧等优点。常用于电气测量。它采用单板结构结构合理,安装简单。 1、该仪表的心脏是一片大规模集成电路,该芯片内部包含双积分A/D转换器、显示锁 存器、七段译码器和显示驱动器。 2、DT830B数字万用表主要是由数字电压表DVM(Digital Vo1tmeter),它由阻容滤波器、前置放大器、模数转换器A/D、发光二极管显示器LED或液晶显示器LCD及保护电路等组成; 3、在数字电压表的基础上再增加交流一直流转换器AC/DC、电流一电压转换器I/V和电阻一电压转换器Ω/V,就构成了数字万用表的基本部分。当然,由于具体结构的不同,功能的强弱不同,每种表还有其各自复杂程度不同的特殊附加电路。 图一图二

半导体激光器P-I特性测试

实验一 半导体激光器P-I 特性测试实验 一、 实验目的 1. 学习半导体激光器发光原理和光纤通信中激光光源工作原理 2. 了解半导体激光器平均输出光功率与注入驱动电流的关系 3. 掌握半导体激光器P (平均发送光功率)-I (注入电流)曲线的测试方法 二、 实验仪器 1. ZY12OFCom13BG 型光纤通信原理实验箱 1台 2. 光功率计 1台 3. FC/PC-FC/PC 单模光跳线 1根 4. 万用表 1台 5. 连接导线 20根 三、 实验原理 半导体激光二极管(LD )或简称半导体激光器,它通过受激辐射发光,(处于高 能级E 2的电子在光场的感应下发射一个和感应光子一模一样的光子,而跃迁到低能级E 1,这个过程称为光的受激辐射,所谓一模一样,是指发射光子和感应光子不仅频率相同,而且相位、偏振方向和传播方向都相同,它和感应光子是相干的。)是一种阈值器件。由于受激辐射与自发辐射的本质不同,导致了半导体激光器不仅能产生高功率(≥10mW )辐射,而且输出光发散角窄(垂直发散角为30~50°,水平发散角为0~30°),与单模光纤的耦合效率高(约30%~50%),辐射光谱线窄(Δλ=0.1~1.0nm ),适用于高比特工作,载流子复合寿命短,能进行高速信号(>20GHz )直接调制,非常适合于作高速长距离光纤通信系统的光源。 对于线性度良好的半导体激光器,其输出功率可以表示为 P e =)(2th D I I q -ηω (1-1) 其中int int a a a mir mir D +=ηη,这里的量子效率η int ,表征注入电子通过受激辐射转化为光 子的比例。在高于阈值区域,大多数半导体激光器的ηint 接近于1。 1-1式表明,激光输出功率决定于内量子效率和光腔损耗,并随着电流而增大, 当注入电流I>I th 时,输出功率与I 成线性关系。其增大的速率即P-I 曲线的斜率,称为斜率效率 D e q dI dP ηω2 = (1-2) P-I 特性是选择半导体激光器的重要依据。在选择时,应选阈值电流I th 尽可能小, I th 对应P 值小,而且没有扭折点的半导体激光器,这样的激光器工作电流小,工作稳定性高,消光比(测试方法见实验四)大,而且不易产生光信号失真。并且要求P-I 曲线的斜率适当。斜率太小,则要求驱动信号太大,给驱动电路带来麻烦;斜率太大,则会出现光反射噪声及使自动光功率控制环路调整困难。半导体激光器具有高功率密度和极高量子效率的特点,微小的电流变化会导致光功率输出变化,是光纤通信中最重要的一种光源,半导体激光器可以看作为一种光学振荡器,要形成光的振荡,就必须要有光放大机制,也即激活介质处于粒子数反转分布,而且产生的增益足以抵消所

迈克尔逊干涉仪实验报告

迈克尔逊干涉仪(实验报告) 一、实验目的 1、掌握迈克尔逊干涉仪的调节方法并观察各种干涉图样。 2、区别等倾干涉、等厚干涉和非定域干涉,测定He-Ne 激光波长 二、实验仪器 迈克尔逊干涉仪、He-Ne 激光器及光源、小孔光阑、扩束镜(短焦距会聚镜)、毛玻璃屏等。 (图一) (图二) 三、实验原理 P He-Ne 激光器做光源,使激光通过扩束镜会聚后发散,此时就得到了一个相关性很好的点光源,射到分光板①用1上后就将光分成了两束分别射到M1 和M2 上,反射后通过P1 、P2 就可以得到两束相关光,此时就会产生P和2干涉条纹。 ②产生干涉条纹的条件,如图2 所示,B 、C 是两个相干点光源,则到A 点的光程差δ=AB-AC=BCcosi , 若在 A 点出产生了亮条纹,则δ=2dcosi=k λ(k 为亮条纹的级数) ,因为i 和k 均为不可测的量,所以取其差值,即λ=2 Δd/ Δk? 。 四、实验步骤 1、打开激光电源,先不要放扩束镜,让激光照到分光镜P1 上,并调节激光的反射光照射到激光筒上。 2、调节M2 的位置使屏上两排光中最亮的两个光点重回,并调至其闪烁。 3、将扩束镜放于激光前,调节扩束镜的高度和偏角,使光能照在P 分光镜上,看显示屏上有没有产生同心圆的干涉1条纹图案。没有的话重复2 、3 步骤,直到产生同心圆的干涉条纹图案。 4、微调M 是干涉图案处于显示屏的中间。2 5、转动微量读数鼓轮,使M1 移动,可以看到中心条纹冒出或缩进,若看不到此现象,先转动可度轮,再转动微量读数鼓轮。记下当前位置的读数d0 ,转动微量读数鼓轮,看到中心条纹冒出或缩进30 次则记一次数据,共记录10 次、d …d 。d数据即901 6、关闭激光电源,整理仪器,处理数据。 五、实验数据处理 数据记录: kd64.28079mm 0 0 64.29275mm kd1 1 64.30488mm kd 22 64.31539mm kd3 3 64.32544mm kd4 4

大学生电子工艺实习实验报告

大学生电子工艺实习实验报告 电子工艺实习是理工科电类专业学生在校期间必须进行的一项基础工程训练,目的是通过工艺训练使学生获得电子制造工艺的基础知识,初步接触电子产品的生产实际,了解并掌握电子工艺的一般知识,掌握最基本的焊接操作技能,培养一定的动手能力和创新意识,为后续课程,特别是课程设计、毕业设计等积累必要的知识和技能,为今后从事有关电子技术工作奠定实践基础。一、找准办学定位,明确课程教学目标钦州学院是北部湾沿海地区一所公立本科院校,担负着培养和输送地方经济建设需要的高素质人才的重任,即培养的是面向生产、建设、管理、服务第一线或实际岗位群并适应其需要,具有可持续发展潜力的应用型人才;担负着积极为地方工业化、城镇化建设输送各类应用性本地化人才的重任。因此,要求培养的专业人才具有扎实的基础理论和专业基础知识、较强的工程实践能力和创新意识,这样才能尽快地胜任工作。电子工艺实习是工艺性、实践性的技术基础课;课程目标是培养学生创新实践能力;它既是基本技能和工艺知识的入门向导,又是创新精神的启蒙,创新实践能力的基础;既是理工科各相关专业工程训练的重要内容,也是所有学生素质教育的基本环节之一。电子工艺实习课程通过课堂教学和实践,让学生了解一般电子工艺知识;并以典型电子产品为对象,通过印制电路板的设计和制作、元器件的检测和焊接以及整机的安装和调试等步骤,使学生初步掌握电子产品的设计和制造方法,得到基本工程训练;同时进行工程意识和科学作风培养;为学习后续课程和其他实践教学环节,以及从事实际工

作奠定基础。二、切实加强教学实践环节,确保课程教学目标的实现(一)优化教学实践内容。电子工艺实习教学的基本内容主要包括:学生在实习过程中了解安全用电知识,学会安全操作规程,了解常用元器件的类别、型号、规格参数、符号、测量方法、主要性能和一般选用原则,熟悉电子产品装接工艺的基本知识和要求,掌握手工焊接电子产品的焊接、装配、调试技术,同时在实习中培养学生严谨的科学态度和良好的工作态度。因此,钦州学院根据地方需求、学校实际,优化教学实践内容,整合为三个模块:第一模块是仪器仪表的使用,主要包括电流表、电压表、稳压电源、万用表、数字电桥、毫伏表、信号发生器、示波器等常用仪表的使用;第二模块是电子元器件的识别与检测,主要包括电阻器、电容器、电感器、变压器、半导体元件、开关与接插件、保险元件、继电器、集成电路、晶振和陶瓷元件、敏感元件、片状元件等元器件的识别与检测,以及这些元器件的`简单应用;第三模块是电子产品的设计与制作,主要包括人工焊接技能训练和pcb板的制作。(二)改革教学方法和手段。随着高等院校不断的扩招,大学生精英教育转为大众化教育,学生的素质有所下降,动手能力不强、创新意识不高是大学生普遍存在的问题。地方高校生源面较广,学生的素质不高,知识水平参差不平,这给教学实践提出了难题,更需要依照教学规律,探求新的教学模式,改革教学方法和手段,提高教学质量。1.合理安排时间。按照人才培养方案,电子工艺实习在第二学期开设,为集中2周的实践训练。但由于一个学期往往同时开设多门课程,有许多课程又无法集中安排,故安排2周集中训练是不实

半导体物理实验指导1

试验一 单晶硅少子寿命测试 一.试验目的 1.了解半导体非平衡少子寿命的概念和重要性。 2.掌握高频光电导衰减法测量寿命的基本原理。 3.学会“DSY-Ⅱ硅单晶寿命仪”的使用。 二.实验原理 1.非平衡载流子的注入 我们知道,处于热平衡状态的半导体,在一定的温度下,载流子浓度使一定的。这种处于平衡状态下的载流子浓度,称为平衡载流子浓度。 对非简并半导体来说,有2 0exp()g o o c v i E n p N N n k T =- = 如果对半导体施加外界作用(光注入或者电注入),破坏热平衡条件,则半导体处于非平衡状态,其载流子浓度不再是o n 、o p ,而是存在过剩载流子n ?、p ?,称为非平衡载流子。 当外界作用消失后,注入的非平衡载流子不能一直存在下去,最后,载流子浓度恢复导平衡时的值,半导体又回到平衡态,这个过程即是非平衡载流子的复合。但非平衡载流子不是立刻全部消失,而有一个过程,即它们在导带和价带中有一定的生存时间,有的长,有的短。非平衡载流子的平均生存时间称为非平衡载流子的寿命,用τ表示。由于相对于非平衡多数载流子,非平衡少数载流子的更重要,因而非平衡载流子的寿命常称为少数载流子寿命。 假定一束光在n 型半导体内部均匀地产生非平衡载流子n ?、p ?,且n p ?=?。在t =0时,突然光照停止,p ?将随时间变化。单位时间内非平衡载流子浓度的减少应为()d p t dt ?,它 是由复合引起的,因此应当等于非平衡载流子的复合率。 即 ()() d p t p t dt τ ??=- 。 小住入时,τ为恒量,与()p t ?无关, ()t p t Ce τ -∴?=。 设t =0时,0(0)()p p ?=?,则0()C p =?, 0()()t p t p e τ -∴?=?。 这就是非平衡载流子浓度随渐渐按指数衰减的规律。利用上式可求出非平衡载流子平均生存时间t 就是τ。 ()/()/t t t td p t d p t te dt de dt τ τ τ- - ∞∞ ∞∞= ??= =? ?? ? 所以寿命标志着非平衡载流子浓度减少导原值1/e 所经历的时间。寿命不同,非平衡载流子衰减的快慢不同,寿命越短,衰减越快。 2.高频光电导衰减法

半导体激光器实验报告

半导体激光器实验报告 课程:_____光电子实验_____ 学号: 姓名: 专业:信息工程 南京大学工程管理学院

半导体激光器 一.实验目的 (1)通过实验熟悉半导体激光器的光学特性 (2)掌握半导体激光器耦合、准直等光路的调节 (3)根据半导体激光器的光学特性考察其在光电技术方面的应用 二.实验原理 1.半导体激光器的基本结构 半导体激光器大多数用的是GaAs或Gal-xAlxAs材料。P-n结通常在n 型衬底上生长p型层而形成,在p区和n区都要制作欧姆接触,使激励 电流能够通过,电流使结区附近的有源区产生粒子数反转。 2.半导体激光器的阈值条件 当半导体激光器加正向偏置并导通时,器件不会立刻出现激光震荡,小电流时发射光大都来自自发辐射,随着激励电流的增大,结区大量粒 子数反转,发射更多的光子,当电流超过阈值时,会出现从非受激发射 到受激发射的突变。这是由于激光作用过程的本身具有较高量子效率的 缘故,激光的阈值对应于:由受激发射所增加的激光模光子数(每秒) 正好等于平面散射,吸收激光器的发射所损耗的光子数(每秒)。 3.横模和偏振态 半导体激光器的共振腔具有介质波导的结构,所以在共振腔中传播光以模的形式存在。每个模都由固有的传播常数和横向电场分布,这些 模就构成了激光器中的横模。横模经端面射出后形成辐射场,辐射场的 角分布沿平行于结面方向和垂直于结面方向分别成为侧横场和正横场。 共振腔横向尺寸越小,辐射场发射角越大,由于共振腔平行于结面方向 的宽度大于垂直于结面方向的厚度,所以侧横场小于正横场的发散角。 激光器的GaAs晶面对TE模的反射率大于对TM模的反射率,因而TE模需要的阈值增益低,TE模首先产生受激发射,反过来又抑制了TM 模,另一方面形成半导体激光器共振腔的波导层一般都很薄,这一层越

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