干膜产品选型
干膜的技术性能要求
干膜的技术性能要2008-9-23作者来干膜光致抗蚀剂的技术条印制电路制造者都希望选用性能良好的干膜，以保证印制板质量，稳定生产，提高效益。
生产干膜的厂家也有一个标准来衡量产品质量。
为此在电子部、化工部的支持下198年在大连召开了光致抗蚀干膜技术协调会定了国产水溶性光致抗蚀干膜的总技术要求。
近年来随着电子工业的迅速发展，印制板的精度密度不断提高，为印制板生产的需要，不断推出新的干膜产品系列，性能和质量有了很大的改进和提高，但至今国产干膜的技术要有修订。
现8年制定的技术要求的主要内容介绍如下，虽具体数字指标已与现今干膜产品及应用工艺技术距，但作为评价干膜产品的技术内容仍有参考价值外使用干膜时，首先应进行外观检查。
质量好的干膜必须无气泡、颗粒、杂质；抗蚀膜厚度均匀；颜色均匀致；无胶层流动。
如果干膜存在上述要求中的缺陷，就会增加图像转移后的修版量，严重者根本无法使用。
膜卷必卷绕紧密、整齐，层间对准误差应小于1mm，这是为了防止在贴膜时因卷绕误差而弄脏热压辊，也不会因卷绕不而出现连续贴膜的故障。
聚酯薄膜应尽可能薄，聚酯膜太厚会造成曝光时光线严重散射，而使图像失真，降低干膜辨率。
聚酯薄膜必须透明度高，否则会增加曝光时间。
聚乙烯保护膜厚度应均匀，如厚度不均匀将造成光致抗蚀层层流动，严重影响干膜的质量。
干膜外观具体技术指标如表7—1所述:表7—1 干膜外观的技术指标指标名称指标一级二级透明度透明度良好，无浑浊。
透明度良好，允许有不明显的浑浊。
色泽浅色，不允许有明显的色不均匀现象。
浅色，允许有色不均匀现象，但不得相差悬殊。
气泡、针孔不允许有大于0.1mm的气泡及针孔不允许有大于0.2mm的气泡及针孔，0.1～0.2mm的气泡及针孔许＜20个平方M。
指标名称指标一级二级凝胶粒子不允许有大于0.1mm的凝胶粒子。
不允许有大于0.2mm的凝胶粒子，0.1～0.2mm的凝胶粒子允许≤个／平方M允许有少量的机械杂质。
机械杂质不允许有明显的机械杂质。
干膜市场分析报告
干膜市场分析报告1.引言1.1 概述干膜市场是指使用干膜技术进行涂覆和保护的市场。
干膜技术是一种在表面形成坚固保护膜的方法，可以应用于各种材料，如金属、塑料和复合材料等。
随着全球工业化和建筑业的发展，干膜市场逐渐成为一个重要的领域。
本报告旨在分析干膜市场的现状、发展趋势和竞争情况，以期为相关企业和投资者提供全面的市场信息。
1.2 文章结构文章结构部分：本报告分为引言、正文和结论三个部分。
在引言部分，将对干膜市场进行概述，并介绍本文的结构和目的。
正文部分将详细分析干膜市场的现状、发展趋势以及竞争分析。
最后，在结论部分将总结干膜市场的现状，并展望未来的发展趋势，提出相关建议。
通过对干膜市场的全面分析，旨在为相关行业提供可靠的市场信息和发展建议。
1.3 目的目的：本报告的目的在于对干膜市场进行全面深入的分析，从市场现状、发展趋势和竞争分析三个方面，全面了解干膜市场的情况。
通过本报告的分析，可以为干膜行业从业者提供市场情报和竞争对手信息，同时也可以为投资者提供决策参考。
本报告旨在帮助相关企业了解干膜市场的发展方向，为他们制定品牌营销策略、扩大市场份额提供有力的支持。
1.4 总结在本文的引言部分，我们简要介绍了干膜市场分析报告的背景和结构，明确了本文的目的和意义。
接着在正文部分，我们详细分析了干膜市场的现状、发展趋势和竞争情况。
从市场现状来看，干膜市场正在经历快速增长，受到各种因素的影响。
在市场发展趋势方面，消费者需求和科技进步将是主要驱动力。
此外，我们还对竞争对手进行了分析，了解了当前市场的竞争格局和发展趋势。
在结论部分，我们对干膜市场现状进行了总结，并展望了未来的发展趋势。
同时，我们还提出了针对干膜市场发展的建议，希望能为相关企业和投资者提供有益的参考。
通过本文的干膜市场分析报告，我们希望能对读者有所启发，同时也为相关企业的发展和投资提供一定的指导和帮助。
希望本文能成为干膜市场研究和投资决策的重要参考。
干膜
感光胶层成分
1.成膜树脂
成膜树脂也叫黏结剂或粘结聚合物，作为光致抗蚀剂的成膜剂，使感光胶黏结成膜，起抗蚀剂伪骨架作用， 在光致聚合过程中不参加化学反应。需要具有较好的成膜性，也就是较好的挠曲性、韧性和抗强强度等物理机械 性能 ，与光致抗蚀剂的各组分有较好的互溶性，与加工金属表面有较好的附着力，很容易从金属表面用碱溶液 除去，有较好的抗蚀、耐镀、抗冷流、耐热等性能 。阻焊干膜还需具备良好的耐高温和电气性能。
制作时可在感光树脂的丙酮溶液中加入光敏引发剂、热阻聚剂、染料及多种助剂，配成胶液，在一定温度下 涂布于聚酯薄膜上，加热干燥得到抗蚀膜，再在上面覆涂一层聚乙烯膜，收卷成筒，即为产品 。
一般显影采用2%（重量百分比）的碳酸钠或磷酸三钠的水溶液，因为这种感光膜不耐碱，所以最后去膜用510%的NaOH的水溶液 。
使用性
聚乙烯保护膜的剥离性要好，易于剥离同时保护膜不得粘连抗蚀层。当在加热加压的条件下将干膜贴在金属 表面时，贴膜机热压辊的温度（105±10）℃，传送速度0.9~1.8 m/min，线压力0.54 kg/cm，干膜能良好地和 金属表面粘贴牢固 。
光谱特性
干膜必须有确定吸收区域波长及安全光区域。技术要求规定：干膜的吸收区域波长为310~440 nm，安全区 域波长为≥460 nm 。高压汞灯及卤化物灯在近紫外区附件辐射强度较大，均可作为干膜曝光的光源。
3.深度曝光特性
干膜的深度曝光特性很重要，曝光时，光能量因通过光致抗蚀层和散射效应而减少。
显影能力
1.显影性：干膜的显影性是指干膜按最佳工作状态贴膜、曝光及显影后所获得图文效果的好坏，即图文应是 清晰的，未曝光部分的感光胶层应去除干净无残胶。曝光后留在金属板面上的抗蚀层应光滑、坚实。
感光干膜简介演示
05
感光干膜的应用案例与效果展 示
印刷电路板制造中的应用案例
电路板制造工艺
01
感光干膜在印刷电路板制造中主要用于形成导电线路和绝缘层
。
应用流程
02
将感光干膜覆盖在电路板表面，通过曝光、显影和蚀刻等步骤
，形成所需的导电线路。
效果展示
03
使用感光干膜可以大大提高电路板制造的精度和效率，同时降
低生产成本。
耐溶剂性
感光干膜应具有较好的耐溶剂性 能，以适应印刷过程中使用的各 种溶剂。
耐热性
感光干膜应具有较好的耐热性能 ，以适应印刷过程中可能出现的 温度变化。
测试方法与标准
分辨率测试
通过测量感光干膜的线对数或lp/mm来评 估其分辨率。
化学性能测试
通过在不同环境条件下对感光干膜进行耐 化学性、耐溶剂性、耐热性等化学性能测 试来评估其适用性。
市场竞争格局
目前，全球感光干膜市场呈现寡头竞争格局，杜邦、东丽、福斯特惠勒等大型企 业占据主导地位。
趋势分析
随着电子工业的快速发展，感光干膜市场需求将持续增长。未来，随着技术的不 断进步和环保要求的提高，感光干膜将向高性能、低成本、环保方向发展。同时 ，随着市场竞争的加剧，企业间的合作与兼并重组将成为常态。
知名品牌
市场上知名的感光干膜品牌有杜邦的 Kapton、东丽的Tecfilm、福斯特惠 勒的Fomblin等。
市场分布与销售渠道
市场分布
感光干膜市场主要分布在亚洲、欧洲和北美等地区，其中亚洲市场占据最大份 额。
销售渠道
感光干膜的销售渠道主要包括直销、分销和电子商务等，其中直销是主要的销 售方式。
市场竞争格局与趋势分析
感光干膜简介演示
外墙涂料选型执行标准
外墙涂料选型标准
根据外墙外保温涂料体系要求，结合本地区的环境气候情况对外墙涂料的质量要求，在选择外墙涂料时须按以下产品技术标准进行选型：
1、腻子的技术要求：至少达到JG/T157-2004《建筑外墙用腻子》中R型标准
2、底漆的技术要求：至少达到JG/T210-2007《建筑内外墙用底漆》中外墙Ⅰ型标准
3、质感中间漆的技术要求：至少达到JG/T 24-2000《合成树脂乳液砂壁状涂料》中W型标准
4、质感涂料配套体系的技术要求：至少达到GB/T 9779-2005《复层建筑涂料》中优等品标准
5、弹性面漆的技术要求：至少达到JG/T172-2005《弹性建筑涂料》的全项标准：
6、外墙非弹性面漆技术要求：符合GB/T9755-2001《合成树脂乳液外墙涂料》中优等品标准：
7、罩面清漆的技术要求：至少达到JG/T 24-2000《合成树脂乳液砂壁状涂料》中以下标准：
说明：
1.以上标准为国家或行业的统一标准，供应商执行标准应至少达到以上各项指标。
2.红色字体为“非常关键但较易疏忽”的指标，从工程质量和品质的角度，建议材料
选型应尽量达到或高于该指标。
赫普（中国）有限公司
2013年3月。
正信电子干膜测试报告
苏州正信电子科技有限公司工艺试验结论报告项目名称(长春、日立、旭化成)干膜测试项目编号EN001项目类别材料测试填表人干膜测试报告一、目的：以公司现有之设备，测试长春、旭化成、日立三种供应商不同型号厚度干膜是否适合我公司生产品质需求。
二、测试时间：2010年01月19～2月27日。
三、测试人员：吴利峰四、测试干膜：长春FF-9030（30um）、长春FF-9020（20um）两种干膜各两卷，日立H-9030（30um）、日立H-9020（20um）、日立H-9025（25um）三种干膜各两卷旭化成AQ-3088 （30um）旭化成AQ-209A（20um）两种干膜各两卷，五、测试工作底片：15um-50um不同大小线宽线距解像测试底片1张、2/2线路菲林测试底片1张六、测试操作条件：1．贴膜前处理化学洗板操作条件:化学洗板速度1m/min, 除油浓度4％,酸洗浓度5％烘干温度85 ℃,微蚀速率0.4um/次。
2．30um厚度不同供应商测试操作条件:七、测试干膜结果：1.30um不同厚度干膜供应商解像能力测试结果如下：2.20um不同厚度干膜供应商解像能力测试结果如下：3.日立H-9025（25um）干膜解像能力测试结果如下：8格35 65806．30um 厚度不同供应商干膜曝光线路显影后SEM 图片比较：能量格数6格 7格8格 干膜供应商SEM 图片SEM 图片SEM 图片长春FF-9030旭化成AQ-3088日立H-90307．20um 厚度不同供应商干膜曝光线路显影后SEM 图片比较：能量格数6格 7格8格 干膜供应商SEM 图片 SEM 图片SEM 图片长春FF-9020旭化成AQ-209A日立H-9020日立H-90258．不同供应商干膜显影点测试结果比较:干膜显影有效槽长显影速度显影压力显影点长春FF-9030 1.0M 1.5m/min 上/下1.3/1.3kg/cm2 50% 日立H-9030 1.0M 1.6m/min 上/下1.3/1.3 kg/cm2 52%七、测试干膜效果分析：1、长春、旭化成、日立供应商30um 、20um 干膜按以上操作条件测试脱膜后检查无脱膜不干净现象。
PCB干膜详细资料
新型材料和工艺的应用将推动 PCB干膜技术的不断创新和进步。
数字化、智能化制造技术的普及 将提高PCB干膜的生产效率和产
品质量。
未来市场预测
随着5G、物联网、人工智能等新兴技术的快速发展，PCB干膜市场需求将 进一步扩大。
环保法规的加强将促使PCB干膜企业加大环保投入，推动产业绿色发展。
市场竞争格局将进一步加剧，企业需要加强技术创新和品牌建设以提升竞 争力。
特性
干膜具有高分辨率、高精度、高感光 度等特点，能够实现精细线条和复杂 电路的制造，同时具有良好的耐热性、 耐化学腐蚀性和绝缘性。
干膜的种类与用途
种类
根据不同的用途和性能要求， PCB干膜可分为单面干膜、双面 干膜、多层干膜等类型。
用途
PCB干膜广泛应用于电子设备、 通讯设备、汽车电子、医疗器械 等领域，作为制造高精度、高性 能电路板的关键材料。
05 PCB干膜的市场趋势与未 来发展
市场现状与规模
全球PCB干膜市场规 模持续增长，预计未 来几年将保持稳定增 长态势。
亚洲地区已成为全球 最大的PCB干膜市场， 其中中国市场占据主 导地位。
随着电子产品需求的 不断增长，PCB干膜 市场将迎来更大的发 展空间。
技术发展趋势
高精度、高可靠性、高性能的 PCB干膜产品将成为未来发展的
计算机硬件
主板
计算机主板是整个系统的核心，PCB干膜作 为电路板材料，能够提供高导电性、绝缘性 和结构强度，确保主板稳定运行。
显卡和内存
PCB干膜在显卡和内存中起到电路板的作用 ，确保信号传输的稳定性和高速性。
家用电器
要点一
电视
电视机的电路板需要具备高绝缘性、耐热性和稳定性， PCB干膜能够满足这些要求，提供稳定的电路板材料。
干膜介绍及干膜工艺详解
干膜介绍及干膜工艺详解干膜是一种常用的覆盖材料，用于保护电子元件表面免受污染、腐蚀和机械损伤。
它由聚酰胺树脂制成，具有优异的耐温性、耐化学性和机械强度。
干膜广泛应用于电子工业、半导体制造业、汽车制造业等领域。
本文将详细介绍干膜的工艺及应用。
干膜工艺主要分为涂布、曝光、显影和固化四个步骤。
首先，将干膜涂布在待保护的基板表面，然后通过热压或UV曝光使干膜与基板紧密结合。
曝光是将覆盖了光掩膜的基板和干膜放置在紫外线曝光机中，通过控制曝光时间和光强来实现显影效果。
显影是将经过曝光的基板和干膜放入化学液中，使未曝光部分的干膜溶解，从而揭露出基板的表面。
最后，通过热固化或UV固化使干膜与基板牢固结合，形成保护层。
干膜具有许多优越的特性。
首先，干膜具有出色的耐化学性，能够抵抗酸、碱和溶剂的侵蚀，保护电子元件不受腐蚀。
其次，干膜具有良好的耐温性，能够在高温环境下保持稳定性，适用于高温焊接和其他高温工艺。
此外，干膜具有优秀的机械强度，能够抵御机械冲击和摩擦，确保元件表面的完整性。
最重要的是，干膜具有良好的电绝缘性能，能够有效隔离电子元件，保证电路的正常运行。
干膜广泛应用于各种电子元件的保护和焊接过程中。
在印制电路板（PCB）制造过程中，干膜可以作为覆盖材料，保护线路图案在酸碱腐蚀、高温焊接和表面处理中不受损坏。
在集成电路制造中，干膜可用作衬底保护层，保护器件免受机械和化学损伤。
此外，干膜还可以用于电子元件的封装和封装，提高元件的可靠性和稳定性。
总之，干膜作为一种常用的保护材料，具有优越的性能和广泛的应用领域。
通过涂布、曝光、显影和固化等工艺步骤，可以将干膜均匀附着在基板表面，形成坚固耐用的保护层。
干膜能够有效保护电子元件免受污染、腐蚀和机械损伤，提高元件的可靠性和稳定性。
在电子工业、半导体制造业和汽车制造业等领域发挥着重要作用。
干膜作为一种常用的保护材料，具有许多优越的特性，因此在各个领域得到广泛应用。
下面将进一步介绍干膜的应用以及其在电子工业、半导体制造业和汽车制造业中的具体应用。
线路板厂对干膜的选用及操作注意事项
1,外观使用干膜时，首先应进行外观检查。
质量好的干膜必须无气泡、颗粒、杂质；抗蚀膜厚度均匀；颜色均匀一致；无胶层流动。
如果干膜存在上述要求中的缺陷，就会增加图像转移后的修版量，严重者根本无法使用。
膜卷必须卷绕紧密、整齐，层间对准误差应小于1mm，这是为了防止在贴膜时因卷绕误差而弄脏热压辊，也不会因卷绕不紧而出现连续贴膜的故障。
聚酯薄膜应尽可能薄，聚酯膜太厚会造成曝光时光线严重散射，而使图像失真，降低干膜分辨率。
聚酯薄膜必须透明度高，否则会增加曝光时间。
聚乙烯保护膜厚度应均匀，如厚度不均匀将造成光致抗蚀层胶层流动，严重影响干膜的质量。
2,光致抗蚀层的厚度一般在产品包装单或产品说明书上都标出光致抗蚀层的厚度，可根据不同的用途选用不同厚度的干膜。
如印制蚀刻工艺可选光致抗蚀层厚度为25μm的干膜，图形电镀工艺则需选光致抗蚀层厚度为40μm的干膜。
如用于掩孔，光致抗蚀层厚度应达到50μm。
如镀厚金板还得选用50μm的专用镀金干膜,一般情况下,40μm的干膜都可以满足正常的要求,在一些厂家,40μm的干膜都可以做线宽线隙为3MIL的平行线了,掩孔方面,也可掩住4.5MM以下的孔,当然,对那些线路简单而掩5.0MM以上的孔,最好选用50μm的干膜.有一些板,线路很密,要掩的NPTH孔又都超过5.0MM,这时候可以考虑用40μm的干膜,再进行二次钻孔了(既蚀刻后钻孔).3.分辩率所谓分辨率是指在1mm的距离内，干膜抗蚀剂所能形成的线条(或间距)的条数，分辨率也可以用线条(或间距)绝对尺寸的大小来表示。
干膜的分辨率与抗蚀剂膜厚及聚酯薄膜厚度有关。
抗蚀剂膜层越厚，分辨率越低。
光线透过照相底版和聚酯薄膜对干膜曝光时，由于聚酯薄膜对光线的散射作用，使光线侧射，因而降低了干膜的分辨率，聚酯薄膜越厚，光线侧射越严重，分辨率越低。
一般的聚酯薄膜都在25μm左右.4,耐蚀刻性和耐电镀性光聚合后的干膜抗蚀层，应能耐三氯化铁蚀刻液、过硫酸铵蚀刻液、酸性氯化铜蚀刻液、硫酸——过氧化氢蚀刻液的蚀刻。
干膜特性测试报告
1、解析度判定标准：线路完全解析OK，不可有锯齿，凸出、凹进部分；解析度至少需达到0.075mm
2、附着力判定标准：干膜不可有变形、弯曲、浮起、脱落现象；附着力至少需达到0.075mm
3
溶解量测试
1、配置1%Na2CO3溶液2L，裁取MU-315干膜0.52m2
2、撕去干膜的PE、PET膜后放入溶液中，搅拌溶解，温度控制30℃，时间15分
提供）
2、显影时间、去膜时间不可影响到生产产能
3、不可出现显影不净、去膜不净
3.测试结果：
序号
项目
结果
责任人
备注
1
供应商提供完整资料
/
2
解析度、附着力测试
/
3
溶解量测试
/
-
4
sladge测试
/
/
5
盖孔能力测试
/
/
6
耐图电测试
/
/
/
7
显影后放置时间测试
/
/
/
8
显影、去膜作业条件测试
搁置
-
/
1、走图电全流程两次，蚀刻后目检无渗镀
7
显影后放置时间测试
1、将干膜显影后的板子放置72小时，观察有无干膜起翘，然后正常走图电
2、图电后去膜，去膜时观察有无去膜不净
3、走完蚀刻、剥锡，剥锡后观察有无渗镀
4、干膜放置的地点：干膜QC房
1、干膜显影后放置72小时图电蚀刻后无渗镀
2、干膜显影后放置72小时内，进行二次图电
3、目视干膜完全溶解后，用滤纸过滤该溶液
1、目视干膜完全溶解
2、过滤滤纸上无残留干膜
4
sladge测试
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15，20，25，30，40，50 内层酸性蚀刻、FPC图形制作 15，25，30，40，50 内层，外层酸性蚀刻、FPC图形制作 外层图形电镀碱性蚀刻图形制作
SD200
25，30，40，50
内层，外层酸性蚀刻图形制作 外层图形电镀碱性蚀刻图形制作
PM100 PM200 PM300 W200 GPM200 ST900 MX7000 LDI9000
高解像度，附着力高，曝光速度快
价格
FX900系列升级版
具 体 价 格 请 参 考 报 价 单
PCB正负片通用干膜 主推湿压 主要用于 电镀（正 片）
PCM主要产品分类及其应用（PCB领域） 干膜型号 FX900 FX900M 厚度（UM） 推荐应用领域 特性 高解像度，凹坑填覆能力强 盖孔能力强，去膜速度快，膜屑小 高解像度，凹坑填覆能力强，抗渗镀，无锯齿线 盖孔能力强，去膜速度快，膜屑小 高解像度，凹ห้องสมุดไป่ตู้填覆能力强，抗渗镀，无锯齿线 抗渗镀能力强，无锯齿线 高解像度，抗渗镀能力强 高解像度，抗渗镀能力强，无锯齿线 抗渗镀能力强，析出量低 抗渗镀能力强，无锯齿线
40，50 40，50 38，50 50，55，65，75 40，50，75 15,25,30,38,50 10,15,25,30 30，40
外层图形电镀碱性蚀刻图形制作 外层图形电镀碱性蚀刻图形制作 外层图形电镀碱性蚀刻图形制作 选择性化学镍金表面处理 外层电镀NI/AU，薄金、厚金专用 内层酸性蚀刻、FPC图形制作、ITO film ITO film专用 激光直接成像（LDI）线路形成