镀膜问题总汇
ITO镀膜常见问题

ITO镀膜常见问题总汇现在的企业中,工业化的ITO镀膜生产,多是运用真空磁控溅射技术来完成的。
真空镀膜技术无论从时间上,还是从生产运用上说,都还是一种新型的镀膜工艺。
在我们ITO镀膜生产过程中,或多或少都会遇到各种各样的,人为的或者设备方面的问题。
而且很多问题往往不是单一的,而是几个问题相互作用相互影响形成的。
下面就根据以前ITO生产工作中的经历,总结出的一些ITO镀膜可能会遇到的问题。
一、镀膜过程中设备传输速度不平稳在这种情况下,会导致镀在基片上的ITO膜,厚度不均匀,用四探针进行测量时,会发现同时镀出来的基片,膜面各点方块电阻不一致,从而导致生产出来的镀膜产品,工艺达不到相应的要求。
这种情况,可以通过改进设备,或者通过调节传动中提供动力的伺服电机的转速,来逐渐的改变膜的均匀。
二、膜面放电镀膜在真空室里放电现象在实际的生产中会时常遇到的现象主要原因如下1、基片距离靶材过于接近。
靶材和基片距离大于15cm基本就没有问题。
2、靶面、真空室、基片不清洁,具有尖端放电现象。
这需要在每次的生产前和生产结束后,分别对箱体、靶材进行彻底的清理,并且在每次生产的时候,基片进镀膜室前必须保证清洗干净。
3、反应气体过多,溅射气体较少,使得箱体内化学反应过于强烈而溅射达不到要求。
由于现在用于ITO生产的靶材都是陶瓷靶,其中氧化铟锡中的比例已达到要求,在具体的生产中,可以根据工艺情况,少通或者不通反应气体氧气,只对溅射的箱体提供溅射气体氩气。
三、ITO靶材中毒1、靶材在空气中长期放置,导致表面生成氧化物。
2、冷却水失效,导致靶材温度过高。
这种情况下问题严重的可能导致熔靶,使靶材从基板脱落。
定期对冷却水道进行清理疏通。
3、箱体密封不严,有漏气现象,导致有杂质气体,另外箱体的气流也不平稳,所镀膜的工艺个达不到要求。
每次抽气后都要进行严格的检漏,保证箱体密封完好。
4、处置不当。
刚刚工作过的靶,在没有充分冷却就放气,也可能导致靶中毒。
漆面保护膜美容镀膜的问题及解答

卡古宇ikangaroo镀膜的问题及解答1、自然环境使车漆暗淡无光的因素有哪些?①紫外线②各种污垢的黏附③铁粉的氧化④酸雨⑤凹凸洗车伤⑥树脂鸟粪油性物质⑦水珠透镜(飞漆空调水等)2、“紫外线”是如何伤害车漆的?紫外线会破坏色漆的分子结构,使颜料析出游离树脂之外,造成色漆层的褪色。
3、为什么污垢能使车漆暗淡?车漆表面残留的水滴、洗车用的水、未擦拭干净的钙铁成分,粘土的黏附会让车漆表面凹凸不平,暗淡失色。
4、铁粉是如何氧化车漆的?正常天气下,车体表面的温度可达70-90℃,铁粉的温度可达120℃,当铁粉温度超过车漆表面温度时就会熔进车漆。
以后遇水铁粉生锈从而氧化车漆。
5、车漆上的铁粉从哪里来的?空气中的游离、刹车片、工业产生的铁粉、建筑产生的铁粉等。
6、酸雨是如何腐蚀车漆的?空气中含的硫化物,氧化物,遇到水蒸气从而形成微弱酸性的雨滴,当这些雨滴落在车漆上后,如果不及时洗车,在弱酸中的水份慢慢蒸发后,酸性浓度越来越强,从而腐蚀车漆。
7、凹凸洗车伤是如何形成的?①洗车过程中不干净的海绵毛巾的擦拭②长期使用酸碱过高的清洗液③飞起的鞭炮、飞石,将车漆砸出小凹8、油烟、树脂、鸟粪是如何伤害车漆的?油烟、树脂等物质和车漆的主要成分相似,在空气中会变质,含有酸性,易黏附,易与车漆相溶,在高温下易形成游离态吸附灰尘杂质,鸟粪中含有酸性物质,因此伤害车漆。
9:、水珠如何伤害车漆?水珠如凹凸镜一般,将阳光聚光从而灼伤车漆。
10、镀膜的发展历程?车蜡→封釉→普通镀膜(纳米镀膜)→结晶镀膜(镀晶)11、车蜡的主要组成部分?蜡、溶剂、研磨剂12、车蜡的分类?按形态分液蜡、固蜡、软蜡。
功能是去污、上光。
按成份分石油提炼、植物提炼。
13、釉的主要成分、普通镀膜的主要成分、结晶镀膜的主要成分?①氟素树脂、硅树脂(硅胶类)溶剂②液蜡树脂溶剂混合③硅化物14、结晶镀膜九大特色?1)增加车漆的硬度2)超长的持久性3)防紫外线4)不龟裂、不脱落5)高度柔韧6)质感光泽、增加亮度7)耐高温、抗腐蚀8)良好的疏水性9)无毒不含溶剂低碳环保。
真空玻璃镀膜常见问题

玻璃镀膜常见问题主要有掉膜、斑点或斑纹、划伤或擦伤、破裂等,具体分析如下:一、掉膜:镀膜玻璃膜层表面出现的局部掉膜或脱膜现象。
主要表现为局部的透光率增强或膜层完全脱落,脱膜形态一般是指点状、团状和片状的。
对掉膜现象,在生产过程中产生的,我们都有严格的标准控制,一般来说,掉膜部位的直径大于2.5mm是不允许的。
产生原因:引起掉膜的原因较多,往往也较难界定,其主要原因有:1、生产方面:因镀膜工艺的原因,在生产中可能会出现一些针状的掉膜,也叫针眼,是溅射镀膜工艺本身无法避免的。
另外,因镀膜原片本身或设备清洗的原因,也有可能造成掉膜。
2、运输掉膜:因玻璃开箱搬运后或切割完后,没有按要求在玻璃片与片之间垫任何衬垫物或垫得不满不平,致使玻璃之间直接接触,在搬运或运输过程中造成玻璃与玻璃膜面直接的相对摩擦而导致掉膜。
这种掉膜一般为点状或团状的掉膜,可用手或检验设备感觉或检查到摩擦的痕迹。
3、腐蚀性掉膜:因玻璃膜面在切割堆放、施工使用或清洗中,因交叉施工或使用了不正确的方法,使得玻璃膜面接触到了酸碱或氧化性物质等,致使玻璃膜面被污染腐蚀而掉膜。
这种掉膜一般能在掉膜面或现场找到腐蚀性物质残留的痕迹。
二、划伤或擦伤:镀膜玻璃表面和其它较硬的物质相对滑动或磨擦造成的线状或带状的伤痕为划伤或擦伤,主要表现为划伤或擦伤部位的玻璃透光率增高,或膜面脱落透亮。
其形态多为不规则的弧形细条状或带状。
产生原因:划伤或擦伤往往是在施工安装使用中产生的,主要有:1、生产方面:由于设备或后清洗的原因,在生产中是存在玻璃划伤可能性的,但这种划伤一般为规则的和直线型的,是能控制和检验出来的。
另外,生产过程中对镀膜玻璃的搬运、装箱也是有可能造成划伤的,原片本身也可能存在划伤。
但客观的说,大片镀膜玻璃因是直接在线用装片机装片,一般是不可能造成划伤的,而强化镀膜玻璃因也是直接贴膜后装箱,膜面一般不会接触其它硬物,所以通常也是不会出现划伤或擦伤的。
镀膜技术员面试题及答案

镀膜技术员面试题及答案一、选择题1. 镀膜技术中,以下哪项不是常见的镀膜方法?A. 真空蒸镀B. 化学气相沉积C. 电镀D. 磁控溅射答案:C2. 在真空镀膜过程中,以下哪个参数对膜层质量影响最大?A. 真空度B. 镀膜速率C. 基底温度D. 镀膜材料答案:A二、填空题1. 镀膜技术中,________是用来测量膜层厚度的仪器。
答案:椭偏仪2. 磁控溅射技术中,通常使用________来增强溅射效率。
答案:磁场三、简答题1. 简述真空蒸镀的基本原理。
答案:真空蒸镀是一种物理气相沉积技术,其基本原理是将镀膜材料在高真空环境下加热至蒸发,蒸发的原子或分子在基底上沉积形成薄膜。
2. 说明为什么在镀膜过程中需要控制真空度。
答案:控制真空度是为了降低气体分子与蒸发材料原子的碰撞概率,减少气体分子对沉积过程的干扰,从而提高膜层的质量和均匀性。
四、计算题1. 如果一个镀膜室的初始压力为1.0×10^-2 Pa,经过抽真空后压力降至1.0×10^-4 Pa,求抽真空后的压力降低了多少百分比?答案:初始压力为1.0×10^-2 Pa,抽真空后的压力为1.0×10^-4 Pa,压力降低量为1.0×10^-2 - 1.0×10^-4 Pa。
降低百分比为[(1.0×10^-2 - 1.0×10^-4) / 1.0×10^-2] × 100% = 90%。
五、论述题1. 论述化学气相沉积(CVD)技术在半导体制造中的应用及其重要性。
答案:化学气相沉积技术在半导体制造中被广泛用于沉积多种薄膜材料,如硅、二氧化硅、氮化硅等。
CVD技术通过化学气体在基底表面的化学反应生成固态薄膜,具有高纯度、高均匀性和可控的薄膜厚度等优点。
在集成电路的制造过程中,CVD技术用于形成绝缘层、保护层和导电层,对提高器件性能和可靠性起着至关重要的作用。
真空镀膜常见问题

真空镀膜常见问题真空镀膜是一种常见的表面处理技术,广泛应用于各个行业。
它可以提供一种均匀、耐磨、耐腐蚀的保护层,使物体表面具有更好的光学性能、机械性能和化学稳定性。
然而,在进行真空镀膜过程中,也会遇到一些常见问题。
本文将介绍一些常见的真空镀膜问题,并提供相应的解决方法。
1. 沉积速率不稳定:在真空镀膜过程中,沉积速率的稳定性是非常重要的。
如果沉积速率不稳定,可能会导致镀层厚度不均匀,甚至出现漏镀或过镀现象。
解决这个问题的方法是检查真空系统的泵速是否稳定,检查镀膜材料的纯度是否达到要求,以及检查镀膜设备是否存在漏气现象。
2. 镀层附着力不好:镀层附着力不好是真空镀膜过程中常见的问题之一。
这可能是由于基材表面存在污染物或氧化物,也可能是由于镀层材料与基材之间的相互作用不良所致。
解决这个问题的方法是在进行镀膜前对基材进行彻底的清洗和处理,确保基材表面干净无污染物,并选择合适的镀膜材料和工艺参数。
3. 镀层色差:在一些特殊应用中,需要得到均匀且具有一定颜色的镀层。
然而,在真空镀膜过程中,可能会出现镀层色差的问题,即部分区域的镀层颜色与其他区域不一致。
解决这个问题的方法是调整镀膜设备的工艺参数,确保沉积过程中温度、压力和沉积速率的均匀性,并选择合适的镀膜材料和镀膜工艺。
4. 镀层厚度不均匀:在一些应用中,需要得到均匀且具有一定厚度的镀层。
然而,在真空镀膜过程中,可能会出现镀层厚度不均匀的问题,即部分区域的镀层厚度较大或较小。
解决这个问题的方法是调整镀膜设备的工艺参数,确保沉积过程中温度、压力和沉积速率的均匀性,并对基材进行适当的旋转或倾斜,以提高镀层厚度的均匀性。
5. 镀层质量不理想:在真空镀膜过程中,可能会出现镀层质量不理想的问题,即镀层表面存在气孔、裂纹、颗粒等缺陷。
解决这个问题的方法是检查真空系统的泵速是否稳定,检查镀膜材料的纯度是否达到要求,以及检查镀膜设备是否存在漏气现象。
此外,还可以调整镀膜设备的工艺参数,改变沉积速率和温度等条件,以改善镀层质量。
镀膜产品常见不良分析

镀膜产品常见不良分析随着现代科技的发展,镀膜技术被广泛应用于各种领域,如光学、电子、航空、汽车等。
然而,在生产和使用过程中,镀膜产品可能会出现一些不良现象,影响其性能和品质。
下面将对镀膜产品常见的不良进行分析。
1.膜层缺陷:镀膜产品的关键是涂层的质量。
常见的膜层缺陷有气泡、裂纹、均匀性差等。
气泡形成主要是因为基材表面有污垢或油脂,镀膜过程中没有很好去除干净,导致气泡的产生。
裂纹则是由于镀膜时的应力超过了基材的承受力,使涂层出现裂纹。
而均匀性差是因为涂层沉积不均匀,可能是镀膜工艺参数不合理或设备故障所致。
2.色差:对于镀膜产品来说,色差是一个重要的质量指标。
常见的色差包括单一颜色不均匀、无色差不均匀、色差偏差等。
单一颜色不均匀是指镀膜产品的颜色在不同区域具有差异,可能是因为工艺参数不合理或设备故障导致沉积不均匀。
无色差不均匀则是指镀膜产品在从中心到边缘的区域没有明显的颜色差异,可能是因为沉积不均匀或基材不平整。
色差偏差是指镀膜产品的颜色与要求的颜色有一定差距,可能是因为工艺参数调整不当或材料不合格。
3.光学性能不佳:镀膜产品的主要功能是改善光学性能,如增透、增反射、滤波等。
但是,不良的光学性能可能导致光的损失、不那么透明或反射不均匀等问题。
其中,光学透过率不佳可能是因为膜层的折射率不符合要求、沉积过程中有杂质或气泡等。
光学反射率不均匀可能是因为镀膜过程中的控制不准确,导致薄膜厚度不一致或反射率不稳定。
4.耐久性差:镀膜产品通常需要具备一定的耐久性,能够在使用过程中保持其性能稳定。
然而,有时镀膜产品可能会出现脱层、氧化、变色等问题,导致其耐久性下降。
脱层通常是由于涂层与基材之间的附着力不强,可能是因为沉积工艺不合理或基材表面未处理好。
氧化和变色则是由于镀膜产品在长期暴露于氧气、水蒸气或其他化学物质中,使涂层发生化学反应而导致。
总结起来,镀膜产品常见的不良现象包括膜层缺陷、色差、光学性能不佳和耐久性差等。
镀膜问题总汇

镀膜问题总汇真空镀膜工艺问题汇总1.Al2O3打底已增加粘贴性,怎样镀Al2O3溅射镀怎么镀?请问旋转靶磁场加在哪里?2.一.多弧离子镀做TiAIN膜1.靶材,材质?尺寸?2.偏压,—脉冲,直流对膜有无影响?二.高建钢材质刀具,1.立铣刀的锋利与镀膜前的酸洗工艺存在矛盾。
三.多弧炉中结合了磁控柱靶在TiAIN膜制作过程中,可采用或利用其磁控靶的优点进行,四.用高偏压加氢气的辉光放电,是否用对硬膜的形成不利,会影响其硬度吗?是否用离子轰由(加热)来取代此工艺吗?五.靶材中Ti的纯度,对膜质(硬度,外观,粗糙毒等)有无关系?Ti是否对工具镀膜来说是否足够?六.《真空》杂志中有文章介绍,多弧离子镀中用部分铬靶使TiN 膜层中含有铬成分,有助于提高膜的硬度和外观的光亮度等那么能否采用钛铬合金靶,达到其效果?七.TiAl拔能否使其合金化,是否合金化后,在蒸发靶材时,清除或减少熔滴的产生?使其多弧离子镀,并产出的TiAIN膜质光亮,致密。
3.相对来说磁控溅射技术比较深奥些,听的不是太懂之前中设接触过磁控技术书面知识比较理论看不透彻,因为专业知识有限喜欢听笼统一点通俗易懂的。
4.1.如何防止靶的电弧放电问题2.Si靶Ti靶的氧气是否一定要用压电阀来控制吗?3.做高反射钳时Si靶Ti靶的氩气,氧气的比例是多少?4.靶的电弧放电与亮孔是否有联系?5.在同样的工艺条件下,为什么有些会出现膜脱落,有时会出现SiTi膜脱落。
5.镀铝制镜,基片两头打弧,为什么?怎么解决?镀过铝后如何保护?6.1.由于重复使用的玻璃进行了多次镀膜以后在玻璃表面残存物沉积且由于多次清洗造成玻璃表面划痕增加,最终造成散射光增加反射率降低,如何在不抛光的情况下,改善(提高)反射率?在镀膜工艺上有何可行性的解决方案等!为了增加铅膜和玻璃的粘合度,一般采用什么方法?如果镀一层介质膜,可采用什么材料,不影响反射率?7.目前国内的膜厚控制技术均多采用国外进口请问国内外的差距在什么地方,如何攻克?TiO2在40WA时的反射铝会下降如果我们镀Al需要照顾到红外和紫外线有什么方法使得反射率增高,S2O2好象只能作为保护膜用本身并不能提高反射率。
镀膜玻璃常见质量问题

⼀、划伤或擦伤定义和说明:镀膜玻璃表⾯和其它较硬的物质相对滑动或磨擦造成的线状或带状的伤痕为划伤或擦伤,主要表现为划伤或擦伤部位的玻璃透光率增⾼,或膜⾯脱落透亮。
其形态多为不规则的弧形细条状或带状。
产⽣原因:划伤或擦伤往往是在施⼯安装使⽤中产⽣的,主要有:1、⽣产⽅⾯:由于设备或后清洗的原因,在⽣产中是存在玻璃划伤可能性的,但这种划伤⼀般为规则的和直线型的,是能控制和检验出来的。
另外,⽣产过程中对镀膜玻璃的搬运、装箱也是有可能造成划伤的,原⽚本⾝也可能存在划伤。
但客观的说,⼤⽚镀膜玻璃因是直接在线⽤装⽚机装⽚,⼀般是不可能造成划伤的,⽽强化镀膜玻璃因也是直接贴膜后装箱,膜⾯⼀般不会接触其它硬物,所以通常也是不会出现划伤或擦伤的。
2、切割原因:⽐如切割尺或卷尺在玻璃膜⾯的拖动;因玻璃膜⾯上有砂粒或玻璃屑等,擦拭过程中造成的玻璃膜⾯的擦伤;镀膜⾯朝下切割或没注意到每箱的最后⼀⽚是反⽅向放置等原因,致使玻璃膜⾯与它物摩擦⽽造成划伤。
3、堆放和存放:开箱后或切割后的玻璃没有按要求堆放,⽚于⽚之间没有垫任何衬垫物,致使玻璃之间直接接触,由于砂粒或玻璃屑等的原因,在搬运或运输过程中造成划伤或擦伤。
4、安装和清洗:在打胶或安装中,⼈为原因造成的因硬物的划伤或擦伤;在清洗中使⽤了不⼲净或较硬的擦拭物,或是在玻璃膜⾯有⽔泥砂浆等污染物,⽽使⽤了不正确的清洁⽅法。
⼆、掉膜定义和说明:镀膜玻璃膜层表⾯出现的局部掉膜或脱膜现象。
主要表现为局部的透光率增强或膜层完全脱落,脱膜形态⼀般是指点状、团状和⽚状的。
对掉膜现象,在⽣产过程中产⽣的,我们都有严格的标准控制,⼀般来说,掉膜部位的直径⼤于2.5mm是不允许的。
产⽣原因:引起掉膜的原因较多,往往也较难界定,其主要原因有:1、⽣产⽅⾯:因镀膜⼯艺的原因,在⽣产中可能会出现⼀些针状的掉膜,也叫针眼,是溅射镀膜⼯艺本⾝⽆法避免的。
另外,因镀膜原⽚本⾝或设备清洗的原因,也有可能造成掉膜,对此国家标准有相应的要求和规定,我们出⼚的产品都是严格按此规定检验,合格后才出⼚的。
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真空镀膜工艺问题汇总
1.Al2O3打底已增加粘贴性,怎样镀Al2O3溅射镀怎么镀?请问旋转靶磁场加在哪里?
2.一.多弧离子镀做TiAIN膜1.靶材,材质?尺寸?2.偏压,—脉冲,直流对膜有无影响?二.高建钢材质刀具,1.立铣刀的锋利与镀膜前的酸洗工艺存在矛盾。
三.多弧炉中结合了磁控柱靶在TiAIN膜制作过程中,可采用或利用其磁控靶的优点进行,四.用高偏压加氢气的辉光放电,是否用对硬膜的形成不利,会影响其硬度吗?是否用离子轰由(加热)来取代此工艺吗?五.靶材中Ti的纯度,对膜质(硬度,外观,粗糙毒等)有无关系?Ti是否对工具镀膜来说是否足够?
六.《真空》杂志中有文章介绍,多弧离子镀中用部分铬靶使TiN膜层中含有铬成分,有助于提高膜的硬度和外观的光亮度等那么能否采用钛铬合金靶,达到其效果?七.TiAl拔能否使其合金化,是否合金化后,在蒸发靶材时,清除或减少熔滴的产生?使其多弧离子镀,并产出的TiAIN膜质光亮,致密。
3.相对来说磁控溅射技术比较深奥些,听的不是太懂之前中设接触过磁控技术书面知识比较理论看不透彻,因为专业知识有限喜欢听笼统一点通俗易懂的。
4.1.如何防止靶的电弧放电问题
2.Si靶Ti靶的氧气是否一定要用压电阀来控制吗?
3.做高反射钳时Si靶Ti
靶的氩气,氧气的比例是多少?4.靶的电弧放电与亮孔是否有联系?5.在同样的工艺条件下,为什么有些会出现膜脱落,有时会出现SiTi膜脱落。
5.镀铝制镜,基片两头打弧,为什么?怎么解决?镀过铝后如何保护?
6.1.由于重复使用的玻璃进行了多次镀膜以后在玻璃表面残存物沉积且由于多次清洗造成玻璃表面划痕增加,最终造成散射光增加反射率降低,如何在不抛光的情况下,改善(提高)反射率?在镀膜工艺上有何可行性的解决方案等!为了增加铅膜和玻璃的粘合度,一般采用什么方法?如果镀一层介质膜,可采用什么材料,不影响反射率?
7.目前国内的膜厚控制技术均多采用国外进口请问国内外的差距在什么地方,如何攻克?TiO2在40WA时的反射铝会下降如果我们镀Al需要照顾到红外和紫外线有什么方法使得反射率增高,S2O2好象只能作为保护膜用本身并不能提高反射率。
8.汽车的热弓钢化Low-E怎样解决膜裂的问题?
9.TiO2的沉积温度?350℃或可在更低温度下执行,最低温度多少?达到高反射率.TiO2的膜层厚度要多少?
10.请介绍一下应用于手机外壳(塑料基材)上的不导电真空镀的成膜原理。
如何控制生产过程中同一种产品之间的色差和不导电性差异。
请介绍一下金属膜层与塑胶基材之间提高结合力的介质及附差原理。
11为什么控制氧气流量可以防止靶中毒
大面积膜设备中靶样间距,靶的设置密度如何确定?孪生靶斜放更稳定,其放置方向角度如何?孪生靶设计两靶间距如何确定?ITO膜中靶材利用,提高靶材利用率移动靶面磁场,如何移动?
12.中频孪生靶对靶间距有没有要求,最佳距离是多少?如何确定?中频孪生靶之间有角度放置,放置的角度是否无限加大对靶放置?ITO透明电玻璃镀刷时对温度要求大于350℃温度高低对膜的均匀性影响有多大,基本的受热均匀性是否也对膜质有影响,该如何解决?镀大型基片时出现结射现象在不浪费材料时该如何解决为好?所说的阳极消失是否是指基片被不导电膜附着而消失?
13.在镀汽车风挡玻璃及LOW-E膜时并没有讲到镀膜的抗拉伸效果在弯曲的过程中,膜层不会产生变化么?有什么方式来检测?我从老没接触过ITO的行业,很想知道ITO靶材的具体成分的构成,以及他的合格指标。
14.真空不导电的检测,真空不导电镀膜最好的方法,不导电镀膜带用哪些金属?哪种最稳定最好?磁控溅射颜色不稳定如何解决?镀膜层发黄的原因有哪些?真空度对镀膜品质有哪些影响?到何种程度为最低?镀膜层厚度如何控制,测量厚度与外观物性有何关系?能否邀请高工教授来厂家彻底培训?需多少费用?
15.氢质谱检漏仪在真空镀膜中有哪些是何应用?如:什么地方需要检漏?大概漏率是多少?
16.我司在用电频交流电源后生产TiO2时发现其溅射率仅于DC反应溅射相当,其原因是什么?有没有可钢代双银LW后在市场上出现?有没有实现可能?
17.如何消除或减少有磁控溅射方法获得的铝合金膜层的脆性?在磁控溅射过程中伴随开一定的基片负偏压与所谓的磁控溅射离子镀有何区别?因为有此专箸上将前者视为偏压溅射而大连理工大学的一篇专利的名称为后者。
18.孪生靶中两个靶距离对镀膜影响?孪生靶的靶基距?汽车玻璃中PVB是热压上作粘合用?.
19.LOW-E玻功的典型膜系。
玻功——SnO2(ZnO)-Ag-NiCrOx-SnO2镀银后在镀保护层NiCrOx时是否用氧气参与生成反应膜层?如有是怎样避免银的不膜层15氧仕,真空镀膜车间环境对镀膜质量的影响?如湿度,温度洁净度等一般控制多少合适于镀膜纯金属膜产生的储存?
20..多弧离子镀与磁控溅射几蒸发镀之间的区别?
21.我公司生产高反射镜,,膜系为Al---Si—TiO2目前使用脉冲溅射做SiO2和TiO2电源使用AE电源,但脉冲溅射率最大为20KHz,请问这个频率是否太小了?
我们在镀AL过程中,为改善膜层粘贴性,对AL靶充入少量O2请问这样是否会引起电弧放电。
注:O2和A2流量比约为2%
22.靶材的用率?引进方法措施?圆柱靶伏缺点?
23.在反应溅射过程中溅射速率与氧气流量之间的迟回线关系,对于每一种具体的工艺(靶材与反映气体种类)是否相对固是不变的?如果是则可否编制数据库,合理控制反应气体流量底上限,以人采证尽量大的流量而又不至于“靶中毒”------建立“靶中毒”的预防系统。
24.塑胶产品CPC或ABS材料表面装饰性镀膜采用蒸发镀还是磁控溅射更好?
25.1000A的电流可使钨丝产生多少温度?
电阻钨丝投入多少是否取决于投入的产品多少是怎样的匹配
蒸发镀材后镀材的分布是怎样的?
26.蒸发镀膜时,镀材的粒子有没有运行规则
外界温度对镀膜前后2件性能或外观的影响?
27.有没有一些资料,用什么资料(六素)搭配镀出一些比较花样的颜色。
有透明的也有不透明的(我们土话叫矿金,矿银,矿灰古铜等是不是真空蒸发镀也能镀得出来(配电子枪)镀玻璃上。
28.镀膜材料进行去气如何进行?需注意哪些问题?
镀膜过程中产生的X射线如何预防?
29.用什么样的方法来清洗真空室内壁?
30.磁控溅射和蒸发镀,哪一种工艺使玻璃表面针孔更少,针孔的多少和C2靶材有什么关系?还和哪几种因素有关?
蒸发镀膜的玻璃效率还是磁控溅射效率高
我们98年用过贵公司镀膜机(平面磁控溅射卧式12米长,先发现效率低已满足不了我们需求,请问我们需要在添一台设备,需再添一台什么样的设备(我们主要做汽车反光镜
磁控溅射镀膜用循环水电阻率是多少,有什么具体要求?
铬和氢化铬在玻璃上面的反射率最高能达到多少?
31.如何控制加热器的加热均温区有什么好的方法,移动基片的测温方法?
对卷绕镀膜中的跑偏和褶皱现象该如何解决?卷绕中的平靶是否是附带旋转的?
32.真空不导电膜层电性能的检测方法,
真空不导电常用哪些金属?哪几种最稳定?
产品进行盐雾实验时(附着力差)为什么会这样?
33.对于升华的膜材如S2O2 ZnS,在蒸发前去气应以多长时间为宜,在蒸发深度去气时?
如果提高膜材蒸发温度,提高蒸发速度是可以提高生产速度的,但对成膜质量有何影响?
34.真空蒸镀膜层不太均匀可通过加何种修正装置改善?原理为何?
蒸发强如何进行对膜材的去气?
精确控制蒸发温度的方法为何?
加热电阻如螺旋钨丝上残留的镀材如锡,对产品上镀层的均匀性的影响如何?
加离子源的主要作用是什么?原来的设备上没有离子源可增加吗?是否还要同时配电子枪?
请介绍一下组分蒸发指什么?
35.DC磁控溅射能否与多弧相结合,深镀硬膜?或能否在DC磁控溅射的基础上改进后加以利用?
镀膜前的处理对水质有无严格的要求?.酸洗过程是否对所刀具都必要?
高压辉光清洗是否越高越好?
36.膜层的色差问题怎样解决?
玻璃反射率和透过率标准是多少?
在生产汽车后视镜时,充O2需要中频电源吗?
腔体内针孔问题更样解决,DC磁控溅射,生产汽车后视镜.
罗茨泵旁边阀一旦打不开怎么办,能不能失去作用?
在罗茨泵前真空泵是要比罗茨泵高,还是要低,还是平衡,三者之间关系有影响吗?
扩散泵与加热器的关系?
37.多弧离子镀的膜层不均匀,有色差,跟离子溅射无关吗?那么是否与偏压有关?
38.反应膜在做各种颜色方面有什么好的方法?
在镀基材时有什么要求?如镁合金,锌合金等可以吗?
在做高反射膜时为什么会有雾斑?在做ITO导电玻璃时也经常有这种现象?
39.靶与产品的距离怎样确定运近有什么距离?
溅镀汰时,为什么会出现裂纹将如何解决?
40.影响到镀摸附着力的因素
镀材设备与被镀物件之间的相互和影响。