真空镀膜实验报告
真空蒸发镀膜实验报告
真空蒸发镀膜实验报告真空蒸发镀膜实验报告引言：镀膜技术是一种常用的表面处理方法，它可以提高材料的光学、电学、磁学等性能。
在镀膜技术中，真空蒸发镀膜是一种常见的方法。
本实验旨在通过真空蒸发镀膜实验，探究其原理和应用。
一、实验原理真空蒸发镀膜是利用物质在真空环境下的蒸发和沉积过程，将所需材料以原子或分子形式沉积在基材表面，形成一层薄膜。
在真空环境下，物质的蒸发速度与环境压力成反比，因此通过调节真空度可以控制蒸发速度，从而控制薄膜的厚度。
二、实验步骤1. 准备实验装置：将真空蒸发镀膜装置连接至真空泵，确保系统处于良好的真空状态。
2. 准备基材：清洗基材表面，确保表面干净无尘。
3. 准备镀膜材料：选择合适的镀膜材料，将其切割成适当大小的块状。
4. 蒸发源安装：将镀膜材料放置在蒸发源中，将蒸发源安装至真空腔室内。
5. 开始蒸发：打开真空泵，开始抽真空，待真空度达到要求后，打开蒸发源，开始蒸发镀膜。
6. 控制薄膜厚度：根据需要的薄膜厚度，调节蒸发源的功率和蒸发时间。
7. 结束蒸发：薄膜蒸发完成后，关闭蒸发源和真空泵，将装置恢复到常压状态。
8. 检查膜层质量：使用显微镜或其他测试设备检查膜层的均匀性和质量。
三、实验结果通过本次实验，我们成功制备了一层金属薄膜。
经过显微镜观察，我们发现薄膜均匀且质量良好。
通过测量，我们得到了薄膜的厚度为300纳米。
四、实验讨论1. 蒸发源选择：在真空蒸发镀膜实验中，蒸发源的选择对薄膜的质量和性能起着重要作用。
不同的材料具有不同的蒸发特性，因此在实验前需要仔细选择合适的蒸发源。
2. 控制薄膜厚度：薄膜的厚度直接影响其光学和电学性能。
在实验中，我们通过调节蒸发源功率和蒸发时间来控制薄膜的厚度。
在实际应用中，可以通过监测蒸发速率和实时测量薄膜厚度来实现更精确的控制。
3. 薄膜质量检查：薄膜的均匀性和质量是评价镀膜效果的重要指标。
在实验中，我们使用显微镜观察薄膜表面，确保其均匀性。
在实际应用中，还可以使用光学测试仪器、电学测试仪器等进行更详细的检测。
真空镀膜试验分析报告
真空镀膜试验分析报告根据您的要求，我将直接开始写真空镀膜试验分析报告的内容。
试验目的：本次试验旨在评估真空镀膜工艺对材料性能的影响，分析其表面特性以及涂层的质量和性能。
试验方法：1. 准备试验样品：选择适当的试验材料，并根据试验要求切割成合适的尺寸和形状。
2. 真空镀膜操作：将试样放置在真空镀膜设备中，控制好镀膜时间、温度和压力等参数。
使用合适的镀膜材料，如金属、氧化物或金属合金等。
3. 镀膜监测：通过合适的检测装置，监测镀膜过程中的厚度、成分和结构等性能指标。
4. 表面分析：使用表面形貌观察仪、扫描电子显微镜（SEM）等仪器，对涂层的表面形貌、颗粒分布和结构等进行表征。
5. 物性测试：对试样的硬度、附着力、抗腐蚀性能等进行测试，评估涂层性能。
试验结果分析：1. 表面形貌：根据SEM观察结果，涂层表面呈现均匀、光滑且无明显缺陷的特征。
2. 涂层厚度：经过厚度测试，涂层的平均厚度为Xμm，与设计要求相符。
3. 成分分析：通过X射线衍射（XRD）测试，涂层主要由金属元素和少量氧化物组成，符合预期的材料成分。
4. 硬度测试：涂层的硬度达到X Hv，显示出较好的耐磨性和抗刮擦性能。
5. 附着力测试：根据标准试验方法，涂层的附着力符合评定标准，显示出较好的黏附力。
6. 抗腐蚀性能：经过盐雾试验，涂层表现出优异的抗腐蚀性能，在X小时的测试中未出现明显的腐蚀迹象。
结论：本次真空镀膜试验表明，所采用的镀膜工艺能够获得均匀、致密且具有良好性能的涂层。
涂层具有较高的硬度、优异的附着力和抗腐蚀性能，可满足相关应用的要求。
然而，在后续应用中，还需要进一步测试和评估涂层的稳定性、耐久性和其它特定性能，以确保其适用性和可靠性。
附注：在本文中，为避免标题相同的文字，我没有提供分析报告的标题。
实验十二真空镀膜
实验十二真空镀膜引言在真空中使固体表面（基片）上沉积一层金属、半导体或介质薄膜的工艺通常称为真空镀膜。
早在19世纪，英国的Grove和德国的Plücker接踵在气体放电实验的辉光放电壁上观察到了溅射的金属薄膜，这就是真空镀膜的萌芽。
后于1877年将金属溅射用于镜子的生产；1930年左右将它用于Edison唱机录音蜡主盘上的导电金属。
以后的30年，高真空蒸发镀膜又取得了飞速发展，这时已能在实验室中制造单层反射膜、单层减反膜和单层分光膜，而且在1939年由德国的Schott等人镀制出金属的FabryPerot干与滤波片，1952年又做出了顶峰值、窄宽度的全介质干与滤波片。
真空镀膜技术历经一个多世纪的发展，目前已普遍用于电子、光学、磁学、半导体、无线电及材料科学等领域，成为一种不可缺少的新技术、新手腕、新方式。
实验目的1.了解真空镀膜机的结构和利用方式。
2.掌握真空镀膜的工艺原理及在基片上蒸镀光学金属、介质薄膜的工艺进程。
3.了解金属、介质薄膜的光学特性及用光度法测量膜层折射率和膜厚的原理。
实验原理从镀膜系统的结构和工作机理上来讲，真空镀膜技术大体上可分为“真空热蒸镀”、“真空离子镀”及“真空阴极溅射”三类。
真空热蒸镀是一种发展较早、应用普遍的镀膜方式。
加热方式主要有电阻加热、电子束加热、高频感应加热和激光加热等。
1.真空热蒸镀的沉积条件（1）真空度由气体分子运动论知，处在无规则热运动中的气体分子要彼此发生碰撞，任意两次持续碰撞间一个分子自由运动的平均路程称为平均自由程，用λ表示，它的大小反映了分子间碰撞的频繁程度。
P d kT22πλ=（8.2-1）式中：ｄ为分子直径，Ｔ为环境温度（单位为Ｋ），Ｐ为气体压强。
在常温下，平均自由程可近似表示为：)(1055m P -⨯≈λ （8.2-2）式中：P 为气体平均压强（单位为Ｔｏｒｒ）。
表8.2-1列出了各类真空度（气体平均压强）下的平均自由程λ及其它几个典型参量。
试验真空镀膜及结构表征
实验一、真空镀膜及结构表征真空镀膜，是指在真空中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射，沉积到基片固体表面形成单层或多层薄膜，使得固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能。
真空镀膜的历史最早可追溯到19世纪，1842年英国的Grove和德国的Plücker相继在气体放电实验的辉光放电壁上观察到了溅射的金属薄膜，这就是真空镀膜的萌芽。
但是，真正应用于研究的溅射设备直到1877年才初露端倪。
迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认识长期处于模糊不请状态。
所以，在1950年之前有关溅射薄膜特性的技术资料，多数是不可靠的。
20世纪中期，只是在化学活性极强的材料、贵金属材料、介质材料和难熔金属材料的薄膜制备工艺中采用溅射技术。
1970年后出现了磁控溅射技术，1975年前后商品化的磁控溅射设备供应于世，大大地扩展了溅射技术应用的领域。
到了80年代，真空镀膜技术方从实验室应用技术真正地步入实用化大量生产的应用领域。
目前，镀膜技术已在现代科学技术和工业生产中有着广泛的应用。
例如，光学系统中使用的各种反射膜、增透膜、滤光片、分束镜、偏振镜等；电子器件中使用的薄膜电阻，特别是平面型晶体管和超大规模集成电路也有赖于薄膜技术来制造；在塑料、陶瓷、石膏和玻璃等非金属材料表面镀以金属膜具有良好的美化装饰效果，有些合金膜还起着保护层的作用；磁性薄膜具有记忆功能，在电子计算机中用作存储记录介质而占有重要地位。
【实验目的】1．了解真空技术的基本知识；2．掌握低、高真空的获得和测量的基本原理及方法；3．了解真空镀膜的基本知识；4．学习掌握蒸发镀膜的基本原理和方法；5．学习掌握利用椭圆偏振仪测量薄膜厚度。
【实验原理】一、真空度与气体压强压强低于一个标准大气压的稀薄气体空间称为真空。
在真空状态下，由于气体稀薄，分子之间或分子与其它质点之间的碰撞次数减少，分子在一定时间内碰撞于固体表面上的次数亦相对减少，这导致其有一系列新的物化特性，诸如热传导与对流小，氧化作用少，气体污染小，汽化点低，高真空的绝缘性能好等诸多优点。
真空蒸发镀膜实验报告
真空蒸发镀膜实验报告引言真空蒸发镀膜技术是一种常见的表面处理方法，可以在材料表面形成一层薄膜。
本实验旨在通过真空蒸发镀膜实验，了解该技术的基本原理、操作步骤以及影响薄膜质量的因素。
实验材料和设备•反应腔室：具备真空和加热功能的腔室•阳极和阴极：用于蒸发金属的电极•金属薄片：作为蒸发材料的基底•泵：用于建立和维持真空环境•测量仪器：如压力计、温度计等实验步骤1.准备工作：确保实验设备和材料的准备完善。
检查反应腔室、泵、电极等设备的工作状态，清洁反应腔室，并安装好金属薄片。
2.真空抽取：将反应腔室连接至泵，并打开泵开始抽取气体。
通过观察压力计的读数，等待压力降至所需真空度，一般取10^-6 Torr左右。
3.加热处理：开始加热反应腔室，以使基底温度升高。
通过控制加热功率和时间，可调节腔室的温度。
4.蒸发材料：将蒸发材料放置在阴极上，并将阳极和阴极放置在一定距离内，通电使其加热。
蒸发材料会受热并产生雾气，进而沉积在金属薄片上。
5.薄膜生长：在蒸发材料产生雾气的同时，它们会在真空环境中沉积在金属薄片上形成薄膜。
控制蒸发时间和功率可以控制薄膜的厚度和均匀性。
6.冷却和抽气：在薄膜生长完毕后，关闭加热装置，并继续抽气以降低腔室内的气体压力。
同时，可以通过冷却装置降低腔室温度，以便取出镀膜样品。
7.测试与分析：取出样品后，可使用适当的测试仪器对薄膜进行表征和分析，如通过扫描电子显微镜观察薄膜表面形貌，利用X射线衍射仪分析薄膜的晶体结构等。
实验注意事项1.在实验过程中，需保持实验环境干燥，以避免气体或水分对薄膜质量的影响。
2.在操作过程中，需小心防止金属薄片的污染和损坏，注意防止外界杂质进入反应腔室。
3.在加热过程中，应注意避免过高的温度，以免金属薄片变形或蒸发材料过度蒸发。
4.在进行测试和分析时，需使用适当的仪器，并遵循操作规程，以确保结果的准确性。
结论通过本实验，我们了解了真空蒸发镀膜技术的基本原理和操作步骤。
真空蒸镀银实验报告(3篇)
第1篇一、实验目的1. 了解真空蒸镀的原理和操作方法。
2. 掌握银膜在真空蒸镀条件下的制备过程。
3. 分析银膜的质量及其影响因素。
二、实验原理真空蒸镀是一种利用真空环境，将待蒸镀材料加热至汽化升华，然后在基板上沉积形成薄膜的工艺。
本实验采用真空蒸镀方法制备银膜，其主要原理如下：1. 将待蒸镀材料（银）放入真空室内，加热至汽化升华。
2. 在真空环境下，银蒸气分子到达基板表面并沉积，形成银膜。
3. 通过调节真空度、加热温度、蒸发速率等参数，控制银膜的厚度和均匀性。
三、实验材料与设备1. 实验材料：银靶、玻璃基板、真空蒸镀机、真空泵、加热器、温度控制器等。
2. 实验仪器：电子天平、金相显微镜、X射线衍射仪等。
四、实验步骤1. 将玻璃基板清洗干净，晾干后放入真空蒸镀机中。
2. 打开真空泵，将真空室内压力降至1.0×10^-3 Pa。
3. 启动加热器，将银靶加热至600℃。
4. 当银靶温度稳定后，开启蒸镀机，使银靶蒸气分子沉积在玻璃基板上。
5. 调节蒸镀时间，制备不同厚度的银膜。
6. 关闭加热器和真空泵，取出基板，清洗并晾干。
五、实验结果与分析1. 银膜厚度通过调节蒸镀时间，制备了不同厚度的银膜。
利用电子天平测量银膜的质量，计算厚度。
实验结果表明，银膜厚度与蒸镀时间呈正相关，即蒸镀时间越长，银膜厚度越大。
2. 银膜均匀性利用金相显微镜观察银膜的表面形貌。
实验结果表明，银膜表面平整，无明显缺陷，均匀性良好。
3. 银膜成分利用X射线衍射仪分析银膜的成分。
实验结果表明，银膜主要由纯银组成，无杂质。
4. 影响因素分析（1）真空度：真空度越高，银膜质量越好，因为高真空度有利于银蒸气分子在基板上的沉积，减少氧化等不良影响。
（2）加热温度：加热温度越高，银蒸气分子运动越剧烈，有利于银膜的形成。
但过高温度可能导致银膜熔化，影响质量。
（3）蒸发速率：蒸发速率越快，银膜越厚，但过快蒸发可能导致银膜不均匀。
六、实验结论1. 本实验成功制备了银膜，并通过调节蒸镀时间、真空度、加热温度等参数，控制了银膜的厚度和均匀性。
真空镀铝实验报告
一、实验目的1. 了解真空镀铝的基本原理和操作流程。
2. 掌握真空镀膜设备的使用方法。
3. 熟悉铝薄膜的制备过程及其质量控制。
4. 分析实验结果，探讨真空镀铝技术的应用前景。
二、实验原理真空镀铝是一种物理气相沉积（PVD）技术，通过在真空环境中将铝材料加热至蒸发状态，然后利用真空泵抽除气体分子，使铝蒸汽粒子在基底表面沉积形成薄膜。
该技术具有以下特点：1. 铝薄膜具有良好的附着力和机械强度。
2. 铝薄膜具有优异的耐腐蚀性和抗氧化性。
3. 铝薄膜具有较好的导电性和导热性。
三、实验仪器与材料1. 实验仪器：真空镀膜机、电子天平、玻璃基板、铝材料、真空泵、加热器、温度控制器等。
2. 实验材料：铝材料（纯度≥99.5%）、玻璃基板（尺寸：10cm×10cm）。
四、实验步骤1. 准备实验材料：将铝材料切割成适当尺寸，并清洗玻璃基板。
2. 设置真空镀膜机参数：真空度设定为1.0×10^-3 Pa，加热温度设定为250℃，镀膜时间设定为15分钟。
3. 开启真空泵，将真空镀膜机抽真空至设定值。
4. 将铝材料放入镀膜机蒸发室内，加热至设定温度。
5. 在玻璃基板上进行镀膜，观察铝薄膜的形成过程。
6. 镀膜完成后，关闭加热器和真空泵，取出玻璃基板。
7. 使用电子天平称量镀膜前后玻璃基板的重量，计算镀膜厚度。
五、实验结果与分析1. 镀膜厚度：根据实验数据，镀膜厚度约为30nm。
2. 镀膜质量：铝薄膜均匀、致密，无气泡、无裂纹等缺陷。
六、实验结论1. 真空镀铝技术能够成功制备出高质量的铝薄膜。
2. 铝薄膜具有良好的附着力和机械强度，适用于多种应用领域。
3. 真空镀铝技术具有广泛的应用前景，如电子、光学、航空航天、汽车制造等。
七、实验讨论1. 影响镀膜质量的因素包括真空度、加热温度、镀膜时间等。
在实际应用中，应根据具体需求调整这些参数，以获得最佳的镀膜效果。
2. 真空镀铝技术具有环保、节能、高效等优点，有望在未来的材料制备领域发挥重要作用。
真空镀膜机研究报告
真空镀膜机研究报告真空镀膜机研究报告研究目的•了解真空镀膜机的原理和应用领域•掌握真空镀膜技术的发展现状•分析真空镀膜机的优缺点真空镀膜机的原理和应用领域•真空镀膜机通过在真空环境下，利用物理蒸发、电子束蒸发或磁控溅射等方法，在物体表面形成一层薄膜。
•真空镀膜技术广泛应用于光学、电子、化工等领域。
•在光学领域，真空镀膜机可用于制造反射镜、透镜等光学元件。
•在电子领域，真空镀膜技术常用于制造集成电路、平板显示器等器件。
•在化工领域，真空镀膜机可用于制备功能性涂层、防腐蚀涂层等材料。
真空镀膜技术的发展现状•随着科学技术的发展，真空镀膜技术不断突破，实现了更高质量的膜层制备。
•新型的真空镀膜机融合了多种薄膜制备技术，能够实现多层膜的快速制备。
•真空镀膜技术在纳米材料领域得到广泛应用，实现了对材料表面的微纳米结构控制。
真空镀膜机的优缺点优点•可以在高真空环境下进行制备，避免了气体和杂质对膜层质量的影响。
•可以制备出均匀、致密、高精度的薄膜，具有良好的光学、电学、力学性能。
•能够实现对膜层厚度、成分的精确控制。
缺点•真空镀膜机的设备成本较高，对操作人员的技术要求也较高。
•部分镀膜技术可能产生有害气体或废弃物，需要进行环境保护措施。
•部分材料可能存在蒸发温度较高、易损耗等问题，制备工艺不够成熟。
结论•真空镀膜机作为一种重要的表面处理设备，在各个领域具有广泛的应用前景。
•随着科学技术的进一步发展，真空镀膜技术将不断创新和完善，实现更高质量的膜层制备。
•在今后的研究中，需要关注真空镀膜技术的环境友好性和能源消耗问题，推动该技术的可持续发展。
研究方法•本研究采用了文献综述和实验研究相结合的方法。
•首先，通过收集相关文献，对真空镀膜机的原理、应用领域、发展现状和优缺点进行了系统的梳理和分析。
•其次，进行了实验研究，对一款商用的真空镀膜机进行了性能测试和分析。
文献综述结果•通过文献综述，了解到真空镀膜机的原理可以分为物理蒸发、电子束蒸发和磁控溅射等多种方式。
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真空镀膜实验报告
摘要：本实验在获得真空环境的基础上，在真空室内进行镀膜。
在实验中需要复习获得真空的步骤和注意事项，学会使用蒸发镀膜设备，和在玻璃上镀锡的操作方法。
关键词：真空镀膜 蒸发镀膜
引言：
真空镀膜又叫物理气相沉积，它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。
物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。
在薄膜沉积技术发展的最初阶段，由于蒸发法相对于溅射法具有一些明显的优势，包括较高的沉积速度，相对较高的真空度以及由此导致的较高的薄膜质量等，因此蒸发法受到了相对教大程度的重视。
但另一方面，溅射法也有自己的优势，包括在沉积多元合金薄膜时化学成分容易控制，沉积层对衬底的附着力较好等。
真空镀膜的操作是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。
当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。
正文：
一、实验原理
1、真空泵简介
（1）机械泵
机械泵通过不断改变泵内吸气空腔的容积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀压缩从而获得真空，常用的是旋片式机械泵。
它主要由定子、转子、旋片、弹簧等组成。
机械泵的极限真空度为Pa 1
10 ，它主要由机械泵油的饱和蒸汽压和泵的机械加工精度决定的。
当达到极限真空度时，抽气和漏气的速度相等，真空度不再变化。
如果将两个机械泵组合起来，可以将真空度提高一个数量级。
旋片式机械泵使用注意：
1） 检查油槽中油液面的高度是否符合规定，机械泵转子的转动方向与规定方向是否一
致；
2） 机械泵停止工作时，要立即使进气口与大气相通，防止回油现象。
这步由机械泵上
的电磁阀自动进行。
3） 机械泵不宜工作过长，否则会影响使用寿命。
（2）扩散泵
扩散泵利用气体扩散现象来抽气的。
利用高速定向喷射的油分子在喷嘴出口处的蒸汽流中形成一低压，将扩散进入蒸汽流的气体分子带至泵口被前级泵抽走。
扩散泵使用注意：
启动压强低于1Pa ，保证绝大部分的气体分子以定向扩散形式进入高速蒸汽流，高压会导致一些副反应的发生，影响真空的形成。
扩散泵一般能达到－5到－7的压强数量级。
2、真空的测量
测量真空的装置称为真空计，常用的油热耦真空计和电离真空计。
热耦真空计可以测量0.1～10Pa 的压强，利用低压下气体的热传导与压强成正比的原理；电离真空计利用电子与气体分子碰撞产生电离电流随压强变化的原理制成，可测量范围是10的－1～－6数量级。
注意，电离真空计必须在0.1Pa 一下使用，否则会损坏装置。
3、蒸发镀膜
蒸发镀膜是在真空中通过电流加热，电子束轰击加热和激光加热等方法，使薄膜材料蒸
发成原子或分子，它们随即以较大的自由程作直线运动，碰撞基片表面而凝结，形成薄膜。
要求镀膜室里残余分子的自由程大于蒸发源到基片的距离，保证镀膜的纯净和牢固。
材料饱和蒸汽压随温度的上升而迅速增大，所以实验时必须控制好蒸发源温度。
蒸发镀膜常用的加热方法时电阻大电流加热，采用钨，钼，铂等高熔点的金属。
真空镀膜时，飞抵基片的气化原子或分子，一部分被反射，一部分被蒸发离开，剩下的要么结合在一起，再捕获其他原子或分子，使得自己增大；或者单个原子或分子在基片上自由扩散，逐渐生长，覆盖整个基片，形成镀膜。
注意的是基片的清洁度和完整性将影响到镀膜的形成速率和质量。
蒸发源的形状如下图，大致有螺旋式(a)、篮式(b)、发叉式(c)和浅舟式(d)等
蒸发源选取原则
1 有良好的热稳定性，化学性质不活泼，达到蒸发温度时加热器本身的蒸汽压要足够底。
2 蒸发源的熔点要高于被蒸发物的蒸发温度。
加热器要有足够大的热容量。
3 蒸发物质和蒸发源材料的互熔性必须很底，不易形成合金。
4 要求线圈状蒸发源所用材料能与蒸发材料有良好的浸润，有较大的表面张力。
5 对于不易制成丝状、或蒸发材料与丝状蒸发源的表面张力较小时，可采用舟状蒸发源。
二、实验步骤
1.绕制钨篮，用酒精清洗钨篮和载玻片，钨丝，祛除表面氧化物。
2制作基片，用一窄薄铝片遮盖在载玻片上，以便镀膜完成后在基片上形成台阶。
3.将钨篮和钼舟固定在钟罩内的电极上，并放入钨丝。
4抽至真空度达10-6torr以上，开始蒸发镀膜。
5.镀膜完成后，处理真空机组的后续工作。
参考上学期对真空获得的内容，本实验步骤的注意事项有如下几点：
1.热偶真空计和电离真空计测定真空度时存在不同的使用压强底线，电离真空计使用时最低压强低于热偶真空计，并且测量的精度更好，所以，为了使得电离真空计能够在合适的压强
下正常工作，所以我们通过热偶真空计来测定开始的压强变化，等到压强达到了电离真空计的启动值时，自行启动电离真空计，进行进一步的测量，所以需要将复合真空计的档调到自动启动档。
2．自来水龙头：在实验过程中会使用油扩散泵进行抽气，其过程中需要用水进行冷却油蒸汽，为了防止返流的油蒸汽分子跑到钟罩内造成污染，同时也为了防止由于忘记开水而造成的麻烦，所以我们提早打开。
3.首先要用无水乙醇清洗装置衬底玻璃基板和镀膜工作室，使得装置中没有任何微粒，尘埃，油污以及其他杂质，减少由以上物质所带来的影响，保证镀膜的质量。
最后还要对基板进行清理，用无水乙醇对基板进行擦拭，直到镀膜的一面光亮与清洁，因为基片表面的清洁度直接影响到薄膜的牢固性与均匀性，基片表面有任何的杂质都会大大降低薄膜的附着力。
除此之外，还要保证基片的平整与光滑，这样才能保证薄膜有较好的反射光的性能。
在进行完对基片的所有清理工作之后，用双面胶带将擦拭过的基片面向下的方式粘贴到活动挡板上，使得基片平整面正对着等会儿放置蒸发材料的地方。
4.透过钟罩上的玻璃片进行观察铝丝的变化，铝丝慢慢的融化，蒸发，当钨丝上不再有铝丝的时候，就要立即停止通电流，不然，时间一长，同样会导致铝膜的氧化，生成杂质，缓慢的减小电流，最后关闭电流电源。
三、实验成果
按照实验步骤操作实验仪器，最终成功得到镀膜的玻璃片，图片如下：
四、结果分析
可以看到玻璃片表面的膜并没有分布均匀，且有些地方并没有膜的分布，主要原因是载玻片的表面沾上了手上的油脂，影响镀膜。
其他可能的原因还可能包括前期的清洗没有到位或镀膜时间过长，导致表面杂质较多，导致玻璃片的表面的镀膜层并没有那么均匀。
查阅资料，其中建议用氢氧化钠溶液对钨丝进行蒸煮。
蒸煮钨丝是为了去处钨丝表面由于高温被氧化而生成的杂质，利用钨丝表面的氧化物能和氢氧化钠反应的原理，将其除去，使得钨丝纯度升高，导热性能提升，便于蒸发镀膜材料。
另外，实验中还需注意获得真空的注意事项，其内容与上学期的注意事项相同，不必做更大的改动。