原子力显微镜 XE-100 AFM

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afm原子力显微镜测试原理

afm原子力显微镜测试原理

afm原子力显微镜测试原理
AFM(原子力显微镜)测试原理是基于原子间相互作用力来检测样品表面形貌的一种技术。

其工作原理是将一个对微弱力极敏感的微悬臂一端固定,另一端有一微小的针尖,针尖与样品表面轻轻接触。

由于针尖尖端原子与样品表面原子间存在极微弱的排斥力,通过在扫描时控制这种力的恒定,带有针尖的微悬臂将对应于针尖与样品表面原子间作用力的等位面而在垂直于样品的表面方向起伏运动。

利用光学检测法检测法,可测得微悬臂对应于扫描各点的位置变化,从而可以获得样品表面形貌的信息。

AFM的主要组成部分包括力检测模块、位置检测模块和反馈系统。

当原子力显微镜探针的针尖与样品接近时,在针尖原子和样品表面原子之间相互作用力的影响下,悬臂梁会发生偏转引起反射光的位置发生改变。

当探针在样品表面扫过时,光电检测系统会记录激光的偏转量(悬臂梁的偏转量)并将其反馈给系统,最终通过信号放大器等将其转换成样品的表面形貌特征。

AFM的主要特点是能够观察到纳米尺度的物体,甚至可看到原子。

采用原子力显微镜法在得到其粒径数据的同时可观察到纳米粒子的形貌,并通过原子力显微镜还可观察到纳米粒子的三维形貌。

然而,该法也存在一定的局限性,由于观察的范围有限,得到的数据不具有统计性。

以上内容仅供参考,如需更多信息,可查看AFM的相关文献或咨询专业技术人员。

原子力显微镜(afm)的基本构成

原子力显微镜(afm)的基本构成

原子力显微镜(afm)的基本构成原子力显微镜(Atomic Force Microscope,简称AFM)是一种用来观察物质表面形貌的高精密显微镜。

它采用原子力探针技术,可以在几个纳米至几个微米的尺度范围内进行观测,并能提供非常高分辨率的表面形貌信息。

AFM的基本构成包括机械支撑系统、探针系统和控制系统。

下面将分别介绍其构成要素。

1.机械支撑系统:机械支撑系统是AFM的重要组成部分,用于稳定和保持探针与样品之间的相对位置。

它通常由几个关键部件组成:-扫描装置:扫描装置用于水平移动样品或探针,以实现对样品表面的扫描。

扫描装置由X、Y、Z三个方向上的驱动器组成,可实现物理、电机或压电驱动。

-压电陶瓷:压电陶瓷在AFM中用于控制探针的位置和微小位移。

当施加电压时,压电陶瓷会发生形变,从而移动探针的位置。

-悬臂杆:悬臂杆作为一种机械支撑装置,用于支撑和稳定探针的位置。

悬臂杆通常由弹性材料制成,如硅或硅质材料。

2.探针系统:探针系统是AFM的核心部件,用于接触和测量样品表面的形貌。

探针系统通常由两个主要组件组成:-探针:探针是AFM中与样品直接接触并进行测量的部分。

它通常由硅制成,并在其一侧附着探针尖端。

探针尖端具有非常小的尺寸,在几纳米至几十纳米之间。

-接收器:接收器用于接收探针与样品之间的相互作用力。

它通常由光学或电子传感器组成,可测量探针的位移,并将其转换为电信号。

3.控制系统:控制系统用于控制和测量AFM的各种参数,以提供准确的表面形貌信息。

它通常由几个关键组件组成:-仪器控制器:仪器控制器用于控制AFM的各种操作,如扫描速度、力量控制等。

它具有一个用户界面,可以通过操作界面进行参数设置和图像显示。

-数据采集卡:数据采集卡用于接收和记录探针接触样品时的力信号,并将其转换为数字信号。

这些数据可以被后续分析软件用于生成图像和数据处理。

-反馈系统:反馈系统用于监测和控制探针与样品之间的相互作用力。

它通过比较实际测量力和设定的参考力,并调整探针位置和扫描速度,以保持探针与样品之间的相对位置不变。

原子力显微镜原理介绍

原子力显微镜原理介绍

原子力显微镜原理介绍原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)是一种利用原子力相互作用的显微镜,可以在原子尺度上对样品表面进行高分辨率的成像。

AFM具有高分辨率、高灵敏度、无需对样品进行特殊处理等优点,被广泛应用于材料科学、生物科学等领域。

AFM的原理基于力电荷耦合作用。

当扫描探针和样品表面之间存在距离时,由于它们之间的静电力、范德华力及表面张力等作用,会使探针弯曲。

AFM通过在探针上施加压电力来对探针进行调节,使与样品表面的相互作用力保持恒定,从而测量得到探针的形变信息。

通过对形变信息的处理,可以得到样品表面的三维拓扑图像。

AFM的核心组成部分是扫描探头和力传感器。

扫描探头通常由一个尖端和一段弯曲的弹簧杆组成。

尖端的大小一般在纳米尺度,可以用于成像不同大小和形状的样品。

弹簧杆的弯曲情况则是通过力传感器来测量的。

在AFM操作过程中,首先将样品固定在一个大型可移动的扫描平台上。

然后,将扫描探头靠近样品表面,使其与样品之间的距离保持在1-10纳米的量级范围内。

通过扫描平台的控制,可以使探针在样品表面上进行扫描。

当探针在样品表面上移动时,它所受到的相互作用力会随着扫描位置的改变而改变。

根据探针的形变,可以准确测量样品表面的高程和形貌信息。

AFM可以通过不同的模式进行操作,常见的模式包括接触模式、非接触模式和振动模式等。

接触模式是最常用的模式,通过将探针与样品表面保持接触,测量形变信息。

非接触模式则是通过探针与样品表面之间的范德华力进行作用,避免了对样品的破坏。

振动模式则是通过控制探针的共振频率来得到形变信息。

AFM不仅可以提供样品表面形貌信息,还可以测量样品的力学性质。

通过改变探针与样品表面之间的相互作用力的大小和方向,可以测量样品的硬度、弹性模量等力学参数。

总之,原子力显微镜是一种利用原子力相互作用实现高分辨率成像的显微镜。

通过测量探针的形变信息,可以获得样品表面的三维拓扑图像和力学性质。

原子力显微镜(AFM)原理及应用讲解

原子力显微镜(AFM)原理及应用讲解


相位移模式
作为轻敲模式的一项重要扩展技术,相移模式(相位移模式)通过检测驱动 微悬臂探针振动的信号源的相位角与微悬臂探针实际振动的相位角之差(即两 者的相移)的变化来成像。 引起该相移的因素很多,如样品的组分、硬度、粘弹性质等。因此利用相 移模式(相位移模式),可以在纳米尺度上获得样品表面局域性质的丰富信息。 迄今相移模式(相位移模式)已成为原子力显微镜的一种重要检测技术。
1985年,IBM公司的Binning 和Stanford大学的Quate研发 出了原子力显微镜(AFM), 弥补了STM的不足,可以用 来测量任何样品(无论导电 性与否)的表面。
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AFM的结构简图
AFM针尖
AFM利用一个对微弱力极敏感的、在其一端带有一微小针尖的微悬臂,来代替STM 隧道针尖,通过探测针尖与样品之间的相互作用力来实现表面成像的(右上图)。
6 AFM的集中工作模式
• 接触模式:
微悬臂探针紧压样品表面,检测时与样品保持接触,作用力(斥力)通过 微悬臂的变形进行测量。

轻敲模式:针尖与样品表面相接触,分辨率高,但成像时针尖对样品的作用
力较大,适合表面结构稳定的样品。 用处于共振状态、上下振荡的微悬臂探针对样品表面进行扫描,样品表面 起伏使微悬臂探针的振幅产生相应变化,从而得到样品的表面形貌。 该模式下,扫描成像时针尖对样品进行“敲击”,两者间只有瞬间接触, 能有效克服接触模式下因针尖的作用力,尤其是横向力引起的样品损伤,适合 于柔软或吸附样品的检测。
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AFM工作原理
原理:
AFM是在STM的基础上发展起来的。 所不同的是,它不是利用电子隧道效应,而 是利用原子之间的范德华力(Van Der Waals Force)作用来呈现样品的表面特性。 假设两个原子一个是在悬臂的探针尖 端,另一个是在样本的表面,它们之间的作 用力会随距离的改变而变化,其作用力与距 离的关系如右图所示,当原子与原子很接近 时,彼此电子云斥力的作用大于原子核与电 子云之间的吸引力作用,所以整个合力表现 为斥力的作用,反之若两原子分开有一定距 离时,其电子云斥力的作用小于彼此原子核 与电子云之间的吸引力作用,故整个合力表 现为引力的作用。

化学物质的原子力显微镜

化学物质的原子力显微镜

化学物质的原子力显微镜原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)是一种能够获得材料表面拓扑结构信息的先进纳米分析仪器。

利用其高分辨率的成像能力,我们可以观察和研究化学物质的微观结构和性质。

本文将介绍原子力显微镜的工作原理、应用领域以及未来的发展趋势。

一、工作原理原子力显微镜是一种基于在原子尺度上感知力的技术。

其工作原理可以简单概括为通过探针与样品表面之间的相互作用来获取样品表面形貌信息。

其关键部件是一个高精度的微悬臂,类似一个弹簧,其尖端装配有一个纳米级的探针。

当探针靠近样品表面时,通过悬臂的微弯变化,可以感知到与样品表面的相互作用力。

通过记录探针与样品的相对位置变化,就可以重构出样品的表面形貌。

二、应用领域1. 材料科学研究:原子力显微镜可以帮助我们观察材料的晶格结构、表面形貌和纳米尺度下的力学性质。

这对于材料研究和新材料的开发具有重要意义。

2. 纳米电子学:原子力显微镜可以在纳米尺度上探测和调控器件的结构和性能。

这对于纳米电子器件的设计和制备具有重要的参考价值。

3. 生物医学领域:原子力显微镜可用于研究生物材料的表面形貌、细胞力学性质和蛋白质折叠状态。

这对于生物医学研究、药物开发和疾病诊断具有重要作用。

三、未来发展趋势1. 高速成像:目前,原子力显微镜的成像速度相对较慢,通常需要几分钟到几小时来获得一张高质量的成像图像。

未来的发展方向是提高成像速度,实现快速、实时的成像。

2. 多模式集成:当前的原子力显微镜通常只能提供一种成像模式,如接触模式或非接触模式。

未来的发展方向是实现多模式集成,使得同一台仪器能够提供多种不同的成像模式。

3. 原位测量:原子力显微镜通常是在大气环境下进行成像,而在许多应用领域,如材料科学和生物医学,所研究的样品往往需要在真空、高温或湿润等特殊环境下进行测量。

未来的发展方向是实现原位测量,使得原子力显微镜能够适应更多的实际应用需求。

结语原子力显微镜作为一种强大的纳米级成像工具,已经在许多领域展现出巨大的潜力。

原子力显微镜(afm)的基本构成

原子力显微镜(afm)的基本构成

原子力显微镜(afm)的基本构成原子力显微镜(Atomic Force Microscope,简称AFM)是一种测量样品表面形貌和力学性质的仪器。

它是在20世纪80年代末发展起来的一种非接触式表面探测技术。

AFM可以在几个纳米至亚纳米尺度范围内进行表面测量,可用于对样品的形貌、磁性、电导率等性质进行研究。

下面将介绍AFM的基本构成。

1.扫描压电陶瓷动力系统:该系统由扫描器和压电陶瓷驱动器组成。

扫描器通常由三个方向的压电陶瓷构成,通过改变瓷片的形变来实现样品表面的扫描。

压电陶瓷驱动器则负责产生电压信号,控制扫描器的移动。

这个系统的精度决定了扫描和测量的精度。

2.悬臂梁/探针:AFM的探测部分由一个非常尖锐的探针组成。

探针的尖端通常是金或硅制成,其尺寸可以从几纳米到亚纳米。

悬臂梁/探针连接到悬臂支撑系统,其作用是传递扫描过程中对样品表面的力信号。

3.光学探测系统:AFM使用光学技术来获取样品的形貌信息。

光学系统通常包括激光光源、光学透镜和位移检测器。

激光光源发出一束光束,照射到悬臂梁上,并反射到位移检测器上。

位移检测器测量悬臂的挠度,并将其转换为电信号。

4.反馈系统与力曲线:AFM通过一个反馈系统来实现对扫描过程中的力信号的控制。

反馈系统会监测探针受到的力,将其与设定的力进行比较并进行调整,以保持恒定的力作用在探针上。

此外,反馈系统还会记录力曲线,即探针所受到的力与其在样品表面扫描位置之间的关系。

5.控制和数据分析系统:AFM的控制系统通过电脑来实现。

该系统控制扫描器的移动和力信号的获取,并根据获取的数据进行分析和处理。

用户可以通过电脑软件来控制AFM仪器的各种参数,并进行样品表面的三维成像、力谱分析等。

除了以上基本构成外,AFM还可以根据研究需求配备不同的显微镜头,以扩展其应用范围。

常见的显微镜头包括原子力显微镜(Atomic Force Microscope,简称AFM)、磁力显微镜(Magnetic Force Microscope,简称MFM)、电导率显微镜(Conductive Atomic Force Microscope,简称C-AFM)等。

原子力显微镜

原子力显微镜

原子力显微镜原子力显微镜(Atomic Force Microscope,简称AFM)是一种高分辨率的显微镜技术,通过探针与样品表面的相互作用,可以获取纳米级的表面形貌和力学性质信息。

本文将介绍原子力显微镜的原理、应用以及未来的发展前景。

一、原理原子力显微镜的工作原理基于触针与样品表面的相互作用力,通过探测器对这种相互作用力进行检测和测量。

主要包括力探头、支撑结构、扫描部件、力传感器等多个部分。

当力探头接近样品表面时,表面原子与力探头上的原子之间会发生排斥或吸引的作用力,力探头被弯曲,力的大小和方向与样品表面的形貌和力学性质有关,通过探测器的测量,可以得到样品表面精细的拓扑信息。

二、应用领域原子力显微镜在材料科学、生物科学、纳米技术等领域有着广泛的应用。

1. 材料科学原子力显微镜可以用于材料的表面结构和形貌研究。

通过观察样品表面的凹凸不平、纳米级的颗粒分布等可以得到材料的表面形貌信息。

同时,还可以通过测量样品表面的硬度和弹性模量来评估材料的力学性质。

2. 生物科学生物领域中,原子力显微镜可以用于观察和研究生物分子的结构和相互作用。

通过将生物样品固定在一个稳定的平台上,可以观察到生物分子的三维结构,从而研究其功能和性质。

此外,原子力显微镜还可以用于细胞力学性质的研究,例如细胞的刚度、粘附性等。

3. 纳米技术在纳米技术领域,原子力显微镜扮演着重要的角色。

可以利用原子力显微镜来观察纳米颗粒的形貌、尺寸和分布,对纳米结构进行表征和分析。

此外,原子力显微镜还可以用于纳米加工、纳米操纵等方面的研究。

三、未来发展前景原子力显微镜作为一种重要的纳米级表征工具,其发展前景非常广阔。

1. 提高分辨率随着技术的不断发展,原子力显微镜的分辨率得到了大幅度的提高。

未来,我们可以预期原子力显微镜的分辨率将越来越高,可以观察到更加微小的结构和表面特征。

2. 多种模式的结合目前已经存在多种不同的原子力显微镜工作模式,例如接触模式、非接触模式、谐振模式等。

afm原子力显微镜简介

afm原子力显微镜简介
• 以原子尺寸观察物质表面结构 • 金属、半导体、绝缘体 • 大气、液体环境下直接观察 • 精确测量样品的尺寸参数精确测
量样品的尺寸参数
•2.工作原理

•在原子力显微镜的系统中, 是 利用微小探针与待测物之间交 互作用力, 来呈现待测物的表面 之物理特性。
2.工作原理
• 将一个对力极为敏感的微悬臂的一端固定, 另一端固定针尖 • 当针尖在样品表面扫描时, 因针尖尖端原子与样品表面原子
• 1.偏移图(错位信号图)

在接触模式下, 通过记录反
射激光束在PSPD上的即时信号与预
设信号之间的电压差而成像。
5.辅助图像
• 2.振幅图

在接触模式下, 给微悬臂加上一个小振幅、
低频率的简谐振动后(力调制技术), 通过记录微
悬臂振幅的变化而成像。
• 3. 相图

是与振幅图相类
似, 在轻敲模式下, 通
6.AFM应用
• 观测生物样品
• λ-DNA
• 霍乱菌
6.AFM应用
• 表面信息统计分析
7.AFM的缺陷
• 1.较小的扫描范围, 100μm到 10nm, 容易将局部的、特殊的 结果当作整体的结果而分析, 以及使实验结果缺乏重现性。
• 2.极其高的分辨率, 使得在样 品制备过程中产生的或者是从 背景噪音中产生的极小赝像都 能够被检测、观察到, 产生赝 像。
afm原子力显微镜简介
主要内容
• 1.概述 • 2.工作原理 • 3.仪器介绍 • 4.成像模式 • 5.辅助图像 • 6.AFM应用 • 7.AFM的缺陷
1.概述
• AFM (Atomic Force Microscope)原子力 显微镜 以原子间力为理论基础的显微镜, 从STM(扫描隧道显, 振
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XE-100 High Accuracy Small Sample SPMPSIAXE-100Anodized Aluminum Surface (0.5×0.5 µm )(Sample Courtesy of Prof. J.K. Lee, Seoul National University.)Steel Surface (10×10µm)STI Patterns on Photomask (5×5 µm )Self Assembled Monolayers (10×10 µm )MFM Image of Hard Disk (30×30 µm )>>>>>Semiconductors Data Storage & Magnetic MaterialsBiotechnology & Life SciencesPlastics & PolymersMaterials & Surface CharacterizationsWide Range of Applications NC-AFM Image of porous Polymer (6×6µm )XE system produces higher quality images faster . Z scannerof the XE system has a resonance frequency significantlyhigher than those of conventional piezoelectric tubescanners. The result is greater feedback performance andfaster and more accurate data acquisition. Also, since zscanner is physically separated from x-y scanner, there is nocoupling between the x-y plane and the z scanner.from the Nano Techn SPM with Improved Scan Accuracy, Scan Speed, and Optical VisionSuperior optical microscope provides directon-axis view with unprecedented clarity.All optical elements – objective lens, tube lens,and CCD camera – are rigidly fixed on a singlebody and move together for focusing andpanning to keep the highest quality intact.Z scanner moves only the cantilever and thedetector (PSPD), while the laser, steering mirrorand aligning mechanisms are fixed on the headframe. Laser beam bouncing off the second mirrorhits the same point on PSPD regardless of the zscanner motion, and only the deflection of thecantilever is monitored on the PSPD.New XE scan system provides distortion-free scan.By separating z scanner from x-y scanner , we caneliminate the cross talk between the x-y and z axes.We can achieve high scan accuracy and fastz-tracking speed. Since the sample is scanned only inx-y direction, large samples as well as small samplescan be scanned at sufficiently high speeds.High Quality Optical Microscope*Advanced Scan System*x-y scannerzscan ne ruser convenience, and serviceability.nology Leader*Patent pendingForming AFM image by dilation J.S. Villarrubia, J. Res. Natl. Inst. Stand. T echnol. 102, 425 (1997)Geometrical interpretation of erosion:Reconstructed image is equivalent to theminimum of tip's envelopeHermetically SealedAcoustic EnclosurePowerful ElectronicsXE system includes an acoustic enclosure thatshields the XE head from external acoustic andoptical noise. The enclosure is hermeticallysealed, ensuring high efficiency.High Performance Computer and the Latest Operating System Pentium IV 1.7 GHz, 256 MB RAM, 40 GB HDD, CD ROM,17 inch LCD monitor,Windows XP operating system®XEP - Data Acquisition Program XEI - Image Processing Programfor Excellence!Advanced XE Software!XE is controlled by the state-of-the-art DSP TMS320C6701running at 167 MHz, providing 1,000 MFLOPS!XE has fast 14 DACs and 5 ADCs14 channel DAC (416-bit, 1012 bit) at 500 kHz settling rate28 channel ADC (516-bit plus MUX) at 500 kHz sampling rate!Fast and versatile USB interface×××Mechanical Sample size: up to 100×100 mm, 20 mm thick Sample mass: up to 500 g Sample stage travel: 25×25 mm with manual micrometer X-Y scanner Single module parallel-kinematics flexure stage Scan size: 50×50 µm (5×5 µm in low voltage mode) 100×100 µm (10×10 µm in low voltage mode)Resolution: < 0.15 nm (< 0.02 nm in low voltage mode)Z-scanner Guided flexure stage Scan size: 12 µm (1.7 µm in low voltage mode)Resolution: 0.05 nm (0.01 nm in low voltage mode)Z-stage Travel: 30 mm Resolution: 0.08 µm Max speed: 30,000 step/sec Optical microscope Magnification: 600× on 10.4 inch LCD monitor Resolution: 1 µm (0.28N.A.)Focus range: 12 mm Electrical DSP: TMS320C6701 at 167 MHz (1,000 MFLOPS)14 channel DAC (4×16-bit, 10×12 bit) at 500 kHz settling 28 channel ADC (5×16-bit with MUX) at 500 kHz sampling Computer ®Windows operating system Pentium IV 1.7 GHz, 256 MB RAM, 40 GB HDD, CD ROM,3.5 inch 1.44 MB FDD, 17 inch LCD monitor XP Standard Techniques Atomic Force Microscopy (AFM)Dynamic Force Microscopy (DFM)Non-Contact AFM (NC-AFM)Lateral Force Microscopy (LFM)Scanning Tunneling Microscopy (STM)Advanced Techniques Electrostatic Force Microscopy (EFM)Dynamic-Contact EFM (DC-EFM)‡Scanning Capacitance Microscopy (SCM)Magnetic Force Microscopy (MFM)Force Modulation Microscopy (F M M)Scanning Thermal Microscopy (SThM)Scanning Probe Lithography (SPL)Specifications are subject to change without notice.Windows XP is a registered trademark of Microsoft corporation.‡DC-EFM : US Patent 6,185,991。

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