最新材料现代研究方法
材料现代分析测试方法-rietveld
材料A的Rietveld分析
通过Rietveld分析确定了材料 A的晶格参数和晶体结构。对定量 分析，确定了多相材料的不 同相的含量。
应力分析中的Rietveld 分析
利用Rietveld分析和细致的晶 格参数测定，研究了材料内 部应力分布的变化。
材料现代分析测试方法rietveld
欢迎来到本次演讲，我们将介绍材料现代分析测试方法中的一种重要技术— —Rietveld分析。让我们一起探索这个引人入胜的领域。
什么是Rietveld分析
Rietveld分析是一种用于材料结构精确测定和相对定量分析的X射线衍射技术。它通过模拟实验光 谱与理论衍射谱之间的匹配，获得材料中的晶格参数、晶体结构和物相信息。
高分子材料
用于聚合物晶体结构、配位化合物和疏水 材料的分析。
Rietveld分析的优势和局限性
优势
• 高精度的结构测定 • 广泛适用于不同材料和结构类型 • 非破坏性分析
局限性
• 对样品质量和衍射数据的要求较高 • 无法解析非晶态或非结晶态样品 • 需要对实验结果进行仔细解释
Rietveld分析的实例和案例研究
总结和展望
Rietveld分析作为一种先进的材料现代分析测试方法，在材料科学和许多其他领域具有广泛应用前 景。希望本次演讲能为大家提供了对Rietveld分析的全面了解和启发。
3 模型优化
4 结构分析
通过最小二乘法将实验和计算的衍射谱 拟合。
从拟合结果中提取材料的晶格参数和晶 体结构信息。
Rietveld分析的应用领域
材料科学
用于研究材料的晶体结构、相变以及材料 表征。
地球科学
用于研究岩石、矿石和地质样品的晶体结 构和相组成。
药物化学
材料与化工现代研究方法
材料与化工现代研究方法
材料与化工现代研究方法包括理论计算化学、实验物理学、实验及模拟技术、分子结构与行为计算技术、界面科学和工程、材料分析技术、测试和数据处理技术等。
其中，理论计算化学是利用计算机软件程序，结合外源物质特性、物质结构及其组合影响的原理，计算出物质的各种性质或过程变化的方法；实验物理学致力于发现、描述和推断物质性质及其在特定温度条件下的变化；实验及模拟技术则是不断改进的实验方法及计算机仿真技术；分子结构与行为计算技术包括分子动力学计算，分子结构分析等，可以帮助我们更好地理解材料分子结构与属性间的联系，并建立精确的建模；界面科学和工程则是研究固体表面和液体界面的性质以及固液界面的形成过程的技术；材料分析技术涉及初级分析、结构分析、表面分析和力学特性测试等技术，以及数据处理和测试技术，可以帮助我们更准确地了解材料的特性及其变化。
现代材料分析方法
现代材料分析方法现代材料分析方法包括物理、化学、电子、光学、表面和结构等多个方面的技术手段，具有快速、准确、非破坏性的特点。
下面将针对常用的材料分析技术进行详细介绍。
一、物理分析方法1. 微观结构分析：包括金相显微镜分析、扫描电镜、透射电镜等技术。
通过观察材料的显微结构、晶粒尺寸、相组成等参数，揭示材料的内在性质和形貌特征。
2. 热分析：如热重分析、差示扫描量热仪等。
利用材料在高温下的重量、热容变化，分析材料的热行为和热稳定性。
3. 电学性能测试：包括电导率、介电常数、介电损耗等测试，用于了解材料的电导性和电介质性能。
4. 磁性测试：如霍尔效应测试、磁滞回线测试等，用于研究材料的磁性行为和磁性特性。
二、化学分析方法1. 光谱分析：包括紫外可见光谱、红外光谱、核磁共振等。
通过检测材料对不同波长的光谱的吸收、散射等现象，分析材料的组分和结构。
2. 质谱分析：如质子质谱、电喷雾质谱等。
通过挥发、电离和分离等过程，分析材料中不同元素的存在及其相对含量。
3. 电化学分析：包括电化学阻抗谱、循环伏安法等。
通过测量材料在电场作用下的电流、电压响应，研究材料的电化学性能和反应过程。
4. 色谱分析：如气相色谱、高效液相色谱等。
利用材料在色谱柱上的分离和吸附效果，分析材料中组分的种类、含量和分布。
三、电子分析方法1. 扫描电子显微镜（SEM）：通过照射电子束，利用电子和物质的相互作用，获得样品表面的详细形貌和成分信息。
2. 透射电子显微镜（TEM）：通过透射电子束，观察材料的细观结构，揭示原子尺度的微观细节。
3. 能谱分析：如能量色散X射线谱（EDX）、电子能量损失谱（EELS）等。
通过分析材料与电子束相互作用时，产生的X射线和能量损失，来确定样品的元素组成和化学状态。
四、光学分析方法1. X射线衍射：通过物质对入射的X射线束的衍射现象，分析材料的晶体结构和晶格参数。
2. 红外光谱：通过对材料在红外辐射下的吸收和散射特性进行分析，确定材料的分子结构和化学键。
现代材料分析技术及应用
现代材料分析技术及应用现代材料分析技术是指利用现代科学技术手段对材料进行全面、准确、细致的研究和分析的方法。
它是材料科学领域研究的基础和支撑，广泛应用于材料的研发、生产和质量控制等方面。
现代材料分析技术包括物理性质测试、化学分析、显微成像、表面分析、光谱分析、电子显微镜等多个方面。
下面将介绍几种常见的现代材料分析技术及其应用。
一、物理性质测试技术物理性质测试技术是对材料的物理性能进行测试和分析的方法。
常见的测试技术有强度测试、硬度测试、韧性测试、热膨胀系数测量等。
这些测试技术可以用于评估材料的强度、硬度、韧性、热稳定性等性能。
例如，在金属材料的研发过程中，可以通过硬度测试来评估其抗拉强度和延展性，进而确定最佳的工艺参数。
二、化学分析技术化学分析技术是对材料中化学成分进行定性和定量分析的方法。
常见的化学分析技术包括光谱分析、质谱分析、原子吸收光谱分析等。
这些技术可以确定材料中元素的种类、含量以及化学结构。
化学分析技术在材料研发过程中起到了重要作用，可以选择最佳的原材料组合，提高材料的性能。
三、显微成像技术显微成像技术是观察和研究材料的微观形貌和结构的方法。
常见的显微成像技术有光学显微镜、电子显微镜和原子力显微镜等。
这些技术可以提供高分辨率的图像，揭示材料的表面形貌、内部结构和缺陷等信息。
显微成像技术广泛应用于材料的质量检测、缺陷分析和外观评估等方面。
四、表面分析技术表面分析技术是研究材料表面性质和表面结构的方法。
常见的表面分析技术有扫描电子显微镜、表面拉曼光谱、X射线光电子能谱等。
这些技术可以提供材料表面的化学组成、成分分布、晶体结构等信息。
表面分析技术对于材料的表面改性、涂层质量控制等有重要意义。
五、光谱分析技术光谱分析技术是研究物质的光学特性和结构的方法。
常见的光谱分析技术有红外光谱、紫外-可见吸收光谱、核磁共振光谱等。
这些技术可以通过分析物质与光的相互作用来判断其分子结构、化学键信息等。
光谱分析技术广泛应用于材料的组分分析、质量控制和性能评估等方面。
材料表征的新方法研究进展
材料表征的新方法研究进展随着科学技术的不断进步，材料表征的方法也在不断更新和改进。
现代材料科学中，材料表征是一个至关重要的领域，它为科学家们研究材料的性质和结构提供了必要的手段。
如今，越来越多的新颖方法被应用于材料表征，这些方法不仅提高了数据的准确性和可靠性，而且为材料科学的发展提供了新的思路和机遇。
本文将介绍一些最新的材料表征方法。
一、原位电镜原位电镜技术是一种通过在电镜中观察材料在特定环境下的行为，以研究其结构、形态、动力学和相关性质的方法。
这种技术通常在特定温度、气体环境、电场或磁场下进行。
原位电镜技术可以直接观察材料在操作条件下的反应、形变和断裂行为，提供材料微观结构和性能的直接证据。
这种技术已被广泛用于研究纳米材料、能源材料和催化剂等领域。
二、同步辐射光源同步辐射光源是一种能够提供高亮度宽频谱光辐射的第三代光源。
由于辐射光的特殊性质，同步辐射光源可以提供高分辨率的材料表征数据。
由于其独特的能量分辨率和极高的亮度，同步辐射光源可以用于材料结构、化学和磁性性质的研究。
它也是材料表征中非常重要的工具，尤其在纳米材料、磁性材料和能源材料等领域。
三、场发射扫描电镜场发射扫描电镜是一种强电子注入的电子显微镜，它可以提供更高的分辨率和更高的成像速度。
它比传统电子显微镜拥有更高的分辨率和更好的成像质量，并可用于表面和界面结构的成像。
此外，场发射扫描电镜还可以用于材料表面形态、物理和化学性质的研究四、电子输运谱学电子输运谱学是一种通过测量电子在材料表面和界面传输的性质来研究材料表面和界面的电子结构的方法。
电子输运谱学可以提供关于半导体、金属等材料表面和界面电子结构的有价值信息。
随着近年来电子器件的快速发展，电子输运谱学已成为材料电子结构研究领域中的重要手段之一。
以上这些技术只是现代材料表征技术的一部分，但它们都是材料表征中的新兴领域，这将在未来的科学研究中扮演更加重要的角色。
只有不断拓展和深化我们对材料性能和结构的认识，才能为材料科学的长足发展提供新的思路和机遇。
材料现代分析方法
材料现代分析方法材料现代分析方法是指利用现代科学技术手段对材料进行分析和研究的方法。
随着科学技术的不断发展，材料分析方法也在不断更新和完善。
现代材料分析方法的发展，为材料科学研究提供了更加精准、快速和全面的手段，对于材料的研究和应用具有重要的意义。
首先，光谱分析是材料现代分析方法中的重要手段之一。
光谱分析是利用物质对电磁波的吸收、发射、散射等现象进行分析的方法。
常见的光谱分析方法包括紫外可见吸收光谱、红外光谱、拉曼光谱等。
通过光谱分析，可以对材料的结构、成分、性质等进行研究和分析，为材料的研究和应用提供重要的信息。
其次，电子显微镜分析也是材料现代分析方法中的重要手段之一。
电子显微镜是利用电子束来照射样品，通过电子与样品相互作用产生的信号来获取样品的显微结构和成分信息的一种显微镜。
通过电子显微镜分析，可以对材料的微观形貌、晶体结构、成分分布等进行研究和分析，为材料的结构性能和应用提供重要的参考。
此外，质谱分析也是材料现代分析方法中的重要手段之一。
质谱分析是利用质谱仪对物质进行分析的方法，通过对物质中离子的质量和相对丰度进行检测和分析，来确定物质的分子结构和成分。
质谱分析可以对材料的组成、纯度、分子量等进行研究和分析，为材料的质量控制和应用提供重要的支持。
综上所述，材料现代分析方法是利用现代科学技术手段对材料进行分析和研究的方法。
光谱分析、电子显微镜分析、质谱分析等都是材料现代分析方法中的重要手段，通过这些方法可以对材料的结构、成分、性能等进行全面的研究和分析，为材料的研究和应用提供重要的支持。
随着科学技术的不断发展，相信材料现代分析方法将会更加完善和精准，为材料科学研究和应用带来更多的新突破。
材料现代研究方法
仪器性能及其表征 判 据 性能表征 (Criterion) (Figures of Merit) 精密度 标准偏差；相对标准偏差； 变异系数；方差 误差 绝对误差；相对误差 灵敏度 校正灵敏度；分析灵敏度 检测限 空白加 3 倍的空白标准偏差 线性范围 可以分析的浓度范围 选择性 选择性系数 其它原则： 分析速度； 分析难度或方便性； 对操作者的技能要求； 仪器维护及实用性； 分析测试费用。
仪器分析校正方法
所谓校正(Calibration)，就是将仪器分析产生的各 种信号与待测物浓度联系起来的过程。除重量法 和库仑法之外，所有仪器分析方法都要进行“校 正”。 校正方法有三： 标准曲线法；
标准加入法；
内标法。
1） 标准曲线法（Calibration curve，Working curve, Analytical curve） 具体做法： 准确配制已知标准物浓度的系列: 0(空白)，c1，c2， c3，c4……..； 通过仪器分别测量以上各标准物的响应值S0，S1， S2，S3，S4……及待测物的响应值Sx； 以浓度c对响应信号S作图得到标准曲线，然后通 过测得的Sx从下图中求得cx；或者通过最小二乘法 获得其线性方程再直接进行计算。
l 校正曲线的斜率； l 分析的重现性或精密度。
International Union of Pure & Applied Chemistry，即
IUPAC推荐使用“校正灵敏度”或者“校正曲线斜
率”作为衡量灵敏度高低的标准。
60
50
40
S
30 20 10
0
0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6
SDL=Sb +k1 sb
S
sb
材料现代测试分析方法
材料现代测试分析方法
材料现代测试分析方法是一种研究材料性能和组成的科学手段，包括多种实验技术和数学分析方法。
1. 结构分析方法：如X射线衍射（XRD）、中子衍射（ND）、电子衍射（ED）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）等，用于研究材料的晶体结构、晶格参数、晶体形貌、晶界、晶体缺陷等结构相关性能。
2. 成分分析方法：如质谱法、元素分析、分子光谱法等，用于研究材料的化学组成、元素含量、官能团、化学键等成分相关性能。
3. 物理性能测试方法：如热分析、热力学测试、电学测试、磁学测试等，用于研究材料的热性能、电性能、磁性能等物理性质。
4. 力学性能测试方法：如拉伸试验、硬度测试、冲击试验等，用于研究材料的力学性能，如强度、韧性、硬度等。
5. 表面性能测试方法：如接触角测量、光学测量、表面电位测试等，用于研究材料的表面特性，如润湿性、光学性能、电化学性能等。
以上只是部分材料现代测试分析方法，随着科技的进步，测试方法不断更新和发展，为材料研究提供更全面和准确的实验手段。
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习题集-材料现代研究方法第一章 X射线衍射分析1、什么是X射线？什么是特征X射线（标识X射线）谱？特征X射线可用于对材料进行哪两方面的分析？X射线与可见光一样，也是电磁波，其波长范围在0.001nm~100nm之间；在X射线谱中，有若干条特定波长的谱线，这些谱线只有当管电压超过一定的数值时才会产生，而这种谱线的波长与管电压、管电流等工作条件无关，只决定于阳极材料，不同元素制成的阳极材料发出不同波长的谱线，因此称之为特征X射线谱或标识X射线谱。
特征X射线谱—元素分析——电子探针X射线显微分析的依据。
2、根据波尔的原子结构壳层模型，阐述K系特征X射线的产生（画图说明）。
3、推导莫塞来定律。
4、什么是X射线强度？X射线作为一种电磁波，在其传播过程中是携带着一定的能量的，多带能量的多少，即表示其强弱的程度。
IcE02 85、X射线衍射分析在无机非金属材料研究中有哪些应用？（1）物相分析：定性、定量（2）结构分析：a、b、c、α、β、γ、d（3）单晶分析：对称性、晶面取向—晶体加工、籽晶加工（4）测定相图、固溶度（5）测定晶粒大小、应力、应变等情况6、X射线管中焦点的形状分为哪两种各适用于什么分析方法？点焦点，照相法；线焦点，衍射仪法。
7、目前常用的X射线管有哪两种？封闭式X射线管，旋转阳极X射线管。
8、元素对X射线的吸收限？简述元素X射线吸收限的形成机理。
9、单色X射线采用的阳极靶材料的哪种特征X射线、滤波片材料的原子序数与阳极靶材料的原子序数关系如何？滤波片吸收限λk与阳极靶材料的特征X 射线波长是什么关系？采用Kα射线；滤波片材料的原子序数一般比X射线管把材料的原子序数小1或210、Kα是由那两条X射线合成的？怎样合成的？11、X射线与物质相互作用时，产生哪两种散射？各有什么特点？哪种散射适用于X射线衍射分析？相干散射，非相干散射。
相干散射：不改变波长；非相干散射：改变波长。
相干衍射12、什么叫X射线的光电效应？什么叫荧光X射线？什么叫俄歇电子？（1）光电效应：当X射线波长足够短时，X射线光子的能量就足够大，能把原子中处于某一能级的电子打出来，而它本身则被吸收，它的能量就传给该电子，使之成为具有能量的光电子，并使原子处于高能的激发态。
这种过程就称为光电吸收或光电效应。
（2）荧光X射线：因为光电吸收后，原子处于高能激发态，内层出现了空位，外层电子往此跃迁，就会产生标识X射线，这种由X射线激发出的X射线称为荧光X射线。
（3）俄歇电子：当外层电子跃迁到内层空位时，其多余的能量传递给其他外层的电子，使之脱离原子，这样的电子称为俄歇电子。
13、X射线衍射分析的基本原理？X射线照射物体时，产生相干散射与非相干散，由于相干散射产生的次级X 射线具有相同的波长，如果散射物质内的原子或分子排列具有周期性（晶体物质）则会发生相互加强的干涉现象，这就是X射线衍射分析的基本原理。
14、写出布拉格方程，说明其含义。
什么是布拉格定律？X射线的几何条件是d、θ、必须满足布拉格公式。
其数学表达式为：2dsin其中d是晶面间距，θ是布拉格角，即入射线与晶面间的交角。
2θ是衍射角。
是入射X射线的波长。
布拉格方程表明，用波长的X射线照射晶面间距为d的晶体时，在2dsinn 方向产生衍射。
对于一定波长的X射线而言，晶体中能产生衍射的晶面数是有限的，即d2得晶面才能产生衍射。
布拉格定律：布拉格方程和光学反射定律加在一起就是布拉格定律。
15、什么叫布拉格角？什么叫衍射角？（1）布拉格角：入射线与晶面间的交角θ。
（2）衍射角：入射线和衍射线之间的夹角2θ。
16、多重性因子？等同晶面对衍射强度的影响。
在粉末衍射中，不同的晶体中属于同一晶形的晶面间距相等，因此衍射角也相等，衍射线都重叠在同一衍射圆环上，这样某一衍射线（HKL）的强度将正比于该晶形中的不同晶面数，即为多重性因数。
17、X射线衍射研究方法有哪几种？各自的实验条件是什么？各研究方法有什么用途？（1）劳厄法：1、主要测定晶体的取向2、观测晶体的对称性，鉴定是否单晶3、粗略观测警惕的完整性（2）转晶法：1、测定单晶体试样的晶胞常数2、观测晶体的系统消光规律，以确定警惕的空间群（3）衍射仪法、粉末照相法：1、物相分析，定性分析、定量分析2、测定晶体结构，晶格常数3、晶粒大小，应力状态18、透射劳厄法、背射劳厄法的劳厄图各有什么特征？透射劳厄图：斑点分布呈一系列通过底片中心的椭圆或双曲线。
背射劳厄图：斑点分布呈一系列双曲线和直线。
19、转晶法衍射花样特征？层线：衍射斑点分布在一系列平行直线上。
零层线：通过入射斑点的层线。
正负第一，第二层线：对零层线对称20、粉末照相法中应用最广的方法是什么方法？其衍射照片特征？根据照片如何确定2θ？徳拜法；德拜衍射图：长条形底片上的一系列圆弧。
设：R——照片半径某晶面族（hkl）产生的衍射线与底片交于pp 两点，从图中可知SR*4S4R 21、什么是衍射仪法？该法为什么能广泛应用？它有什么用途？（1）衍射仪法：用单色X射线照射多晶或转动的单晶试样，用探测器和探角仪探测衍射线的强度位置，并将它们转变为电信号，然后进行自动记录或用计算机进行自动分析处理。
（2）由于衍射仪法具有测量精度高、数据分析处理能力强等特点，所以才被广泛应用。
（3）衍射仪法应用：X射线衍射分析的所有应用，物相分析，结构分析，单晶分析，测定相图、固溶度，测定晶粒大小应力应变等情况。
22、粉末衍射仪核心部件是什么？该部件包括那些部分？测角仪是核心部件。
测角仪包括两个同轴转盘：小转盘——中心样品台H，大转盘——X射线源S、探测器DA．大小转盘均可绕它们的共同轴线O转动，轴线O——衍射仪轴。
B．X射线源S与探测器前端的接收狭缝RS都处在以O圆心的大转盘圆上——衍射仪圆（R=185mm）。
23、衍射仪的探测器有哪几种？并阐述各自的原理？（答案不确定，貌似不对）探测器以一定角速度在选定角度范围连续扫描 -→ 计数率仪 -→ 绘 I-2θ曲线；探测器以一定步长移动→每点停留一定时间定标器逐点测量衍射峰强度 -→ X-Y 数据24、扫描仪的工作方式有哪两种？各有什么优缺点？（1）连续扫描：探测器以一定的角速度进行连续扫描。
优点：快速，方便。
缺点：峰位滞后，分辨力减低，线型畸变。
（2）步进扫描：让探测器以一定的角度间隔逐步移动。
优点：无滞后效应，平滑效应，峰位准，分辨力好。
缺点：速度慢、时间长。
25、衍射线峰位的确定方法有哪几种？各适用于什么情况？（1）峰顶法：使用与线性尖锐的情况。
（2）切线法：适用于线性顶部平坦，两侧直线性较好的情况。
（3）半高宽中点法：适用于线性顶部平坦，两侧直线型不好的情况。
（4）7/8高度法：使用于有重叠峰的存在，但峰顶能明显分开的情况。
（5）中点连线法：适用于最大强度的1/2、3/4、7/8处比较好分辨的情况；（6）抛物线拟合法：适用于衍射峰线形漫散及双峰难分离的情况（7）重心法：干扰小，重复性好，但此法计算量大，宜配合计算机使用。
26、画图说明半高宽中点法确定峰位的方法。
27、X射线物相分析（定性、定量）的理论依据是什么？定性分析原理：1、通过衍射线的位置换算出d，确定晶胞的形状、大小；2、通过衍射线强度确定晶胞内原子的种类、数目、排列方式；3、通过晶体特有的衍射花样确定晶体的特有结构4、单相物质：将未知物像的衍射花样与已知物相得衍射花样相比较。
5、多物相得混合物：其衍射图形为这几种晶体衍射线的机械叠加。
定量分析的原理：根据多相混合物中某一相得衍射强度，随该相得相对含量的增加而增加，呈现出某种函数关系。
如果确定了该函数关系就可以用实验测得的强度计算出该相得含量。
30、为什么说d值的数据比相对强度的数据重要？由于吸收的测量误差等的影响，相对强度的数值往往可以发生很大的偏差，而d值的误差一般不会太大。
因此将实验数据与卡片上的数据核对时，d值必须相当符合，一般要到小数点后二位才允许有偏差。
31、结合布拉格公式说明，为什么说低角度区的衍射数据比高角度区的数据重要？由布拉格公式2dsinθ=λ可知，低角度的衍射线对应d值较大的晶面。
对不同的晶体来说，差别较大，相互重叠的机会较少，不易互相干扰。
但高角度的衍射线对应d值较小的晶面，对不同的晶体来说，晶面间距相近的机会多，容易混淆。
特别是当试样晶体的完整性较差，晶格扭曲，有内应力或晶格较小时，往往使高角度线条散漫宽化，甚至无法测量。
32、X射线定量分析的理论依据是什么？定量分析的原理：根据多相混合中某一相的衍射强度随该相得相对含量增加而增加，呈现出某种函数关系。
如果用实验测量或者理论分析等办法确定了该函数关系，就可以用实验测得的强苏计算出该相得含量。
33、K值法进行定量分析的步骤？K值法为什么又叫基体冲洗法？过程：1）物相鉴定；2）选择标样物相；3）进行定标曲线的测定；4）测定试样中标准物相S的强度或测定按要求制备试样中的待测物相及标样S物相制定衍射线强度；5）用所测定的数据，按各自的方法计算出待测物相的质量分数。
35、写出谢乐公式，说明各参数的含义，并说明利用谢乐公式计算微晶尺寸时，样品尺寸的适用范围和主要注意事项。
假若晶体中没有不均匀应变的个晶格缺陷的存在，衍射线宽化完全是由于经历尺寸（或镶嵌块尺寸）大小引起的，可以证明有以下关系：谢乐公式：DhklKcosDhkl—垂直于（hkl）面方向的晶粒尺寸（）β—由于晶粒细化引起的衍射峰宽化K—常数，β取衍射峰半高宽β1/2，K=0.89；β取衍射峰积分宽度βi,K=1.00。
样品尺寸：1nm—100nm。
注意事项：先用标准试样测定仪器本身的宽化，进行校正；对Kα进行双线分离求得Kα1带入谢乐公式；可选取同一方向两个衍射面进行计算以便比较。
第二章电子显微分析1、什么是显微镜的分辨本领（分辨能力、分辨率），它和那些因素有什么关系？分辨率（分辨能力、分辨本领）：一个光学系统能分开两个物点的能力，数值上是刚能（清楚地）分开两个物点间的最小距离。
阿贝公式：r0.61nm） nsinr-分辨率，与λ成正比；r越小，分辨率越高2、什么是电子显微分析？电子显微分析的特点是什么？电子显微分析是利用聚焦电子束与试样物质相互作用产生的各种物理信号，分析试样物质的微区形貌、显微结构、晶体结构和化学组成。
特点：（1）高分辨率：0.2~0.3nm（线分辨率：0.104~0.14）；（2）高放大倍数：15倍~100万倍（200万倍），且连续可调；（3）是一种微区、选区分析方法：能进行nm尺度的晶体结构、化学组成分析；（4）多功能、综合性分析：形貌、结构（显微结构、晶体结构）、成份。
3、电子的波性是什么？电子波长由什么决定？运动着的微观粒子（如中子、电子、离子等）也具有波粒二象性假说——运动着的微观粒子也伴随着一个波——物质波或德布罗意波。