真空镀膜机的详细结构
镀膜机的基本结构 ppt课件
设备型号讲解
设备型号举例：OTFC 1300 DBI
设备种类 大小 配置
•设备种类分为 OTFC和 Gener •真空室大小分为600、900、1300、1550、1800、2350 •配置说明：
C: 冷凝泵 D: 扩散泵 B: 电子枪 I: 离子源
设备机构总成
1. 真空腔体 2. 抽气以及排气系统 3. 真空测量仪器 4. 全自动蒸发控制系统 5. 真空室加热、基板系统 6. 基板高速旋转机构 7. 电子束蒸发系统 8. RF射频离子源 9. 高精度光学监控系统 10. 石英晶振以及速率监控系统 11. 真空压力自动控制系统 12. 冷却水压缩空气系统 13. 冷凝器
电脑(相当于人体大脑)根据光学膜厚计提 供的反射率实时变化曲线，在反射率变化到 事先设定的停止位置的一瞬间停止材料蒸镀， 从而得到所需要的膜厚。
监控片玻璃
10. 加 热 丝
温度对膜层原子或分子提供额外能量补充，在膜层折射率、 应力、附着力、硬度和不溶性都会因基片温度的不同而有较 大差异
侧壁加热
升温优点：
镀膜前MASK注意事项
MASK设定角度18°。 当角度不是18°时调节 此螺丝 确认MASK支杆是否卡 在MASK槽上
8. 石 英 晶 振 以 及 速 率 监控系统
水晶holder
水晶旋转机构
石英晶体的频率飘移 与附加上的质量的关 系： 附加上的质量 增加，振荡频率降低
质量 = 密度 X 面积 X 厚度
紧急停止按钮
其它部分与OTFC 电控柜相同
GL离子源控制器
光学监控系统1
[HOM2-N]分光器
[HOM2-L]投光器
[HOM2-F] Fiber
ZZ1100箱式真空镀膜机说明书
1、概述本设备采用箱式结构，抽气系统后置，便于拆卸和维修。
整机表面平整，便于清洁，适合净化间安装。
蒸发室全部采用不锈钢制造，外有可通冷、热水的护罩，可对壁进行加热(热水器选配)或冷却。
蒸发室底板有足够的面积布置蒸发源和各种接头。
阀门采用气动，操作方便，使用可靠。
液氮冷阱和水冷挡板设计为一整体。
蒸发室抽气口也设置一光学密封机械挡板，因此可使蒸发室的油污染降低到极低的程度。
本设备配备的抽气元件抽速较大，因此具有抽气时间短，工作真空度高，生产周期短等特点。
本设备适用于镀制各种多层光学薄膜和电学膜。
是有关工厂、研究院和大专院校进行生产和科研的理想设备。
2、主要技术数据2.1真空：2.1.1极限真空：2×10-4Pa。
2.1.2恢复真空：从大气→2×10-3Pa≤10min。
2.2 蒸发室：2.2.1直径：内部为φ1100mm。
2.2.2内腔尺寸：φ1100×1300mm。
2.2.3底板上有45个φ33.5通孔和2个斜光路孔。
3.3工件夹具：2.3.1外径φ1000mm。
2.3.2锥形球面夹具：2.3.3夹具转速N=3～31r.p.m。
2.4基片烘烤：可安装上下烘烤装置或其中一种，上烘烤为电阻丝（管状加热器）18KW(350℃全烘烤)；下烘烤为碘钨灯8KW(选配)，最高烘烤温度350℃，有上下烘烤接口。
2.5电阻蒸发电极：由技术协议确定，功率5KW/只。
2.6 2.7离子轰击：轰击电压0—300V2.8抽气系统2.8.1 主泵：K-630高真空油扩散泵，抽速12000L/s2.8.2 前级泵：ZJP-300罗茨泵，抽速300L/s2.8.3 2X-70机械泵：抽速70L/s2.9光路系统：2.9.1透、反射光路。
2.9.2六位(12位)比较片，另留一石英探头位置。
2.10其它2.10.1电源：3相220V/380V 50Hz2.10.2总功率：约40KW2.10.3耗水：约30L/min2.10.4压缩空气：5～6Mpa2.10.5水压:0.2～0.25MPa2.10.6总重量：（包括控电柜）约5吨2.10.7外型尺寸：主机：1390×3500×2300（宽×深×高）控电柜：1400×600×2100（宽×深×高）3、工作原理及结构说明该镀膜机由主机、控电柜二部份组成。
2、镀膜机的基本结构
接地线
7. 辅正板（MASK）的作用
调节MASK升 降速度的快慢
mask
通过辅正板遮挡部分蒸发材料，调整整片伞架 的均匀性，使所有基板物理厚度一致。
镀膜前MASK注意事项
MASK设定角度18°。 当角度不是18°时调节 此螺丝
确认MASK支杆是否卡 在MASK槽上
8. 石 英 晶 振 以 及 速 率 监控系统
XTC/3膜厚控制仪 水晶holder 水晶旋转机构
石英晶体的频率飘移 与附加上的质量的关 系： 附加上的质量 增加，振荡频率降低
水晶探头
质量 = 密度 X 面积 X 厚度
石英晶体振荡法监 控膜厚，主要是利用石 英晶体的两个效应，压 电效应和质量负荷效应， 通过测定固有谐振频率 或与固有谐振频率有关 的参数变化来监控沉积 薄膜的厚度。
Mass Flow Controller 3 line
AMVG-600RUN2 Matching Box
AX-1000Ⅲ RF Generator离子源
目前，我司使用的冷冻机有两种， Telemark和Polycold
在一个完全封 闭的环境下， 通过压缩机制 造循环，并使 用特殊配方的 介质，从而使 电能转化为热 能，达到制冷 和化霜的功能。
介绍Optorun光学镀膜设备
设备型号讲解
设备型号举例：OTFC
设备种类
1300 DBI
大小 配置
•设备种类分为 OTFC和 Gener •真空室大小分为600、900、1300、1550、1800、2350 •配置说明： C: 冷凝泵 D: 扩散泵 B: 电子枪 I: 离子源
设备机构总成
1. 2. 3. 4. 5. 6. 7. 8. 9. 10. 11. 12. 13.
镀膜机的工作原理及结构
镀膜机的工作原理及结构
镀膜机是一种用于在材料表面上涂覆薄膜的设备，常见的应用包括金属薄膜、陶瓷薄膜、塑料薄膜等。
镀膜机的工作原理和结构如下：
工作原理：
镀膜机的工作原理主要包括物理蒸发镀膜、化学气相沉积和物理气相沉积等方法。
其中，物理蒸发镀膜是通过将原料加热至其蒸发温度，然后使蒸汽在基材表面冷凝成薄膜；化学气相沉积是通过将气体或气体混合物引入反应室，通过化学反应在基材表面沉积出薄膜；物理气相沉积则是通过离子轰击或原子束轰击的方式将原料蒸发后的粒子沉积在基材表面形成薄膜。
结构：
镀膜机通常由真空腔体、加热系统、蒸发源、基材夹持系统和控制系统等部分组成。
真空腔体是镀膜过程中的主要工作室，用于保持一定的真空度；加热系统用于加热原料使其蒸发；蒸发源是原料的来源，可以是电子束、阴极喷射、弧放电等方式；基材夹持系
统用于固定基材并控制其位置，以便在表面沉积薄膜；控制系统则用于监控和调节镀膜过程中的各项参数，如温度、真空度、膜层厚度等。
总的来说，镀膜机通过控制原料的蒸发和沉积过程，使得原料在基材表面形成均匀、致密的薄膜，从而实现对材料表面性能的改善和功能的增强。
真空镀膜机原理(一)
真空镀膜机原理(一)真空镀膜机原理真空镀膜机是一种将金属或其他材料蒸发到基材表面的设备。
在这个过程中，物质以分子和原子的形式在真空环境中运动和沉积。
这个过程被称为真空镀膜，通常用于制造电子元器件、光学元件、半导体器件等领域。
真空镀膜机基本结构真空镀膜机由真空室、蒸发源、基板和真空泵等基本部件组成。
真空室是真空镀膜过程的核心部分，其中需要保持一个高度稳定的真空环境。
蒸发源是用来蒸发材料的部件，它在真空环境中升温以产生蒸汽，并在基板上沉积成薄膜。
真空泵则用于排放和维护真空室内的真空环境。
真空镀膜机工作原理真空镀膜机的工作原理可以分为三个步骤：真空、蒸发和沉积。
真空在真空镀膜机开始工作之前，需要将真空室内的气体排空，以创造一个良好的真空环境。
这个过程通常使用真空泵完成，将室内气体逐步抽走，降低压力至所需的真空度。
蒸发当真空环境达到要求时，蒸发源开始升温并蒸发材料。
材料的蒸汽随后沉积在基板上，形成薄膜。
这个过程需要注意蒸发速率、蒸发角度等参数，以确保沉积的薄膜均匀、致密。
沉积当沉积过程结束后，需要将蒸镀薄膜从真空室中取出。
这个过程需要注意保持真空度，并且在取出过程中防止污染。
真空镀膜机的应用真空镀膜机在电子元器件、光学元件、半导体器件等领域有着广泛的应用。
它可以应用于制造LED、太阳能电池、显示器件等各种光电产品，也可以为钢铁、塑料等材料表面进行镀膜，以增强它们的机械强度、化学稳定性等性能。
总结总之，真空镀膜机是一种非常重要的设备，应用广泛且功能强大。
通过深入了解其结构和工作原理，可以更好地理解它的应用范围和技术特点。
真空镀膜机的优点相较于传统镀膜技术，真空镀膜机具有以下几个优点：1.环保：真空镀膜机在膜形成过程中不需要添加额外的成分，只需要将材料升温进行蒸发。
因此，在操作过程中不会产生废气和废液，对环境友好。
2.均匀性好：真空镀膜机内的薄膜在沉积的过程中受到气体分子的影响小，因此沉积的薄膜均匀性好，种类、厚度等可控性高，容易实现高材质性能的镀膜。
《真空镀膜设备》课件
通过自动化和智能化的技术手段，降低人工成本和操作难度。
节能减排技术
研究节能减排技术在真空镀膜设备中的应用，以降低能耗和减少环 境污染。
高效清洗与维护技术
开发高效、环保的清洗和维护技术，以降低设备维护成本和延长设 备使用寿命。
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THANKS
真空泵的工作原理
利用机械或物理的方法，从真空系统中排除气体分子 。
真空度的测量与控制
使用真空计测量真空度，通过调节阀门或泵的工作状 态来控制真空度。
真空室的清洁与维护
定期清洁真空室，确保其内部无残留物，以保持高真 空度。
镀膜材料的蒸发与凝结
01
蒸发源的选择
根据镀膜材料的不同，选择相应 的蒸发源，如电阻加热、电子束 加热等。
设备。
高精度
能够实现纳米级薄膜厚度的控 制。
高质量
镀膜过程中无杂质混入，薄膜 纯度高。
长寿命
设备结构稳定，维护成本低。
真空镀膜设备的应用领域
01
02
03
光学领域
镀膜在眼镜、相机镜头、 太阳能集热管等方面有广 泛应用。
电子领域
镀膜在集成电路、电子元 件、平板显示器等方面有 重要应用。
装饰领域
镀膜在金属工艺品、高档 家具、钟表等方面有装饰 作用。
01
03
真空系统的维护和保养对于设备的正常运行至关重要 ，定期检查和清洁各部件，确保其正常运转，是保证
设备性能和延长使用寿命的关键。
04
为了保证设备的稳定运行和延长使用寿命，真空系统 的设计和制造需要充分考虑材料的选择、密封性能以 及各部件之间的连接与配合。
加热系统
加热系统是实现真空镀膜工艺的重要部分，其主 要功能是为工件和/或镀膜材料提供所需的热量。
pvd镀膜机的结构
pvd镀膜机的结构
PVD镀膜机的结构主要包括以下几个部分：
1. 真空腔体：镀膜过程需要在高真空条件下进行，真空腔体是保持腔体内高真空状态的关键部分。
通常由不锈钢或其他耐腐蚀材料制成，内部经过特殊处理以避免气体泄漏。
2. 靶材供应系统：靶材是用来产生蒸发物或离子束的来源。
靶材供应系统通常由加热器、靶材支架和传感器等组成，用于控制靶材温度和靶材表面的蒸发速率。
3. 辅助加热系统：在一些特殊情况下，需要额外的加热来提高镀膜效果。
辅助加热系统一般由加热器和加热控制装置组成，能够提供额外的加热能量。
4. 基板夹具：用于固定待镀膜的基板，通常由夹具架和夹具组成。
夹具要具有良好的热传导性能，以便将加热能量均匀传递至基板。
5. 抽气系统：用于将真空腔体中的气体抽除，维持高真空度。
一般包括机械泵、分子泵和扩散泵等多个泵的组合。
6. 控制系统：用于监测和控制整个镀膜过程。
包括温度控制、真空度监测、靶材蒸发速率控制等。
有些高级的PVD镀膜机还配备了自动化控制系统，能够实现自动化生产。
以上是一般PVD镀膜机的基本结构，不同型号和用途的镀膜机可能会有所不同。
试验真空镀膜及结构表征
实验一、真空镀膜及结构表征真空镀膜，是指在真空中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射，沉积到基片固体表面形成单层或多层薄膜，使得固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能。
真空镀膜的历史最早可追溯到19世纪，1842年英国的Grove和德国的Plücker相继在气体放电实验的辉光放电壁上观察到了溅射的金属薄膜，这就是真空镀膜的萌芽。
但是，真正应用于研究的溅射设备直到1877年才初露端倪。
迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认识长期处于模糊不请状态。
所以，在1950年之前有关溅射薄膜特性的技术资料，多数是不可靠的。
20世纪中期，只是在化学活性极强的材料、贵金属材料、介质材料和难熔金属材料的薄膜制备工艺中采用溅射技术。
1970年后出现了磁控溅射技术，1975年前后商品化的磁控溅射设备供应于世，大大地扩展了溅射技术应用的领域。
到了80年代，真空镀膜技术方从实验室应用技术真正地步入实用化大量生产的应用领域。
目前，镀膜技术已在现代科学技术和工业生产中有着广泛的应用。
例如，光学系统中使用的各种反射膜、增透膜、滤光片、分束镜、偏振镜等；电子器件中使用的薄膜电阻，特别是平面型晶体管和超大规模集成电路也有赖于薄膜技术来制造；在塑料、陶瓷、石膏和玻璃等非金属材料表面镀以金属膜具有良好的美化装饰效果，有些合金膜还起着保护层的作用；磁性薄膜具有记忆功能，在电子计算机中用作存储记录介质而占有重要地位。
【实验目的】1．了解真空技术的基本知识；2．掌握低、高真空的获得和测量的基本原理及方法；3．了解真空镀膜的基本知识；4．学习掌握蒸发镀膜的基本原理和方法；5．学习掌握利用椭圆偏振仪测量薄膜厚度。
【实验原理】一、真空度与气体压强压强低于一个标准大气压的稀薄气体空间称为真空。
在真空状态下，由于气体稀薄，分子之间或分子与其它质点之间的碰撞次数减少，分子在一定时间内碰撞于固体表面上的次数亦相对减少，这导致其有一系列新的物化特性，诸如热传导与对流小，氧化作用少，气体污染小，汽化点低，高真空的绝缘性能好等诸多优点。
真空磁控镀膜设备构造讲义培训
真空磁控镀膜设备构造讲义培训一、概述真空磁控镀膜设备是一种先进的表面处理技术，通过在真空环境下利用磁场和电场对材料表面进行镀膜，可以改善材料的表面性能。
本文档将介绍真空磁控镀膜设备的构造和操作原理，帮助读者了解该设备的基本原理和使用方法。
二、设备构造真空磁控镀膜设备由以下几个主要部分组成：1. 真空室真空室是整个设备的核心部分，用于创造和维持一个低压、高真空的环境。
它通常由不锈钢制成，具有良好的密封性能。
真空室内部设有不同功能的连接口，用于连接其他设备和通入所需的气体。
2. 真空泵系统真空泵系统用于抽取真空室内的气体，以创建和维持高真空环境。
常见的真空泵包括机械泵、扩散泵和分子泵等。
不同类型的真空泵可根据需要组合使用，以达到所需的真空度。
3. 反应腔体反应腔体是放置待处理材料的空间，通常由不锈钢制成。
在镀膜过程中，材料将被放置在反应腔体内，并通过外部的电极连接到高频电源。
4. 高频电源高频电源用于提供镀膜过程中所需的工作电场。
它产生高频电场，使待处理材料表面上的离子得到加速，从而实现镀膜效果。
高频电源通常由高频发生器、匹配箱和功率放大器等组成。
5. 磁控系统磁控系统通过施加外部磁场，对待处理材料表面上的离子进行控制。
它通常由可调磁铁和磁场感应探针等组成。
磁控系统的调节可以影响镀膜过程中的离子运动轨迹，从而调节镀膜膜层的均匀性和性能。
6. 控制系统控制系统用于监测和控制整个设备的运行状态，通常由计算机和相关软件组成。
操作人员可以通过控制系统对设备进行操作、参数设定和数据记录等操作。
三、操作原理真空磁控镀膜设备的操作原理如下：1.将待处理的材料放置在反应腔体内，关闭真空室。
2.打开真空泵系统，抽取真空室内的气体。
3.当达到所需的真空度后，打开高频电源，产生工作电场。
4.同时打开磁控系统，施加外部磁场。
5.离子在电场和磁场的作用下，被加速并聚集到材料表面上，形成薄膜。
6.控制系统监测镀膜过程中的各项参数，并实时显示和记录数据。
真空镀膜机组成结构
真空镀膜机组成结构真空镀膜机是一种先进的表面处理设备，主要用于在各种材料表面上形成薄膜覆盖层，以增强材料的性能和改善外观。
它由多个部分组成，包括主腔体、抽气系统、镀膜源、辅助设备等。
首先，主腔体是真空镀膜机的核心部分，它是一个密封的空间，用于创建和维持真空环境。
主腔体通常由不锈钢材料制成，具有良好的密封性能和抗腐蚀性能。
在主腔体内部，还会安装电加热器和冷却系统，以控制腔体的温度，并确保镀膜过程的稳定性。
其次，抽气系统是真空镀膜机的重要组成部分之一。
它由真空泵和配套的气体管道组成，用于将腔体内的气体抽出，建立所需的真空度。
真空泵可以根据需要选择不同类型，如旋片式真空泵、根式真空泵等。
抽气系统的性能直接影响到真空镀膜的效果和速度，因此选择合适的真空泵非常重要。
再者，镀膜源是真空镀膜机的另一个关键部分。
它是用于蒸发或溅射目标材料的装置，将材料的原子或分子释放到真空腔体中，在工件表面上形成薄膜层。
镀膜源通常由加热器、坩埚和材料供给系统组成。
不同的材料有不同的蒸发或溅射方式，常用的镀膜源包括电子束蒸发源、磁控溅射源等。
最后，辅助设备也是真空镀膜机不可或缺的一部分。
它包括真空度检测器、温度控制器、压力控制器等。
真空度检测器用于实时监测和控制真空腔体内的气体压力，确保所需的真空度得到维持。
温度控制器用于实时监测和控制腔体的温度，保证镀膜过程的稳定性。
压力控制器则用于调节进气量，平衡腔体内外压力差。
综上所述，真空镀膜机是一个复杂的系统，由多个部分精密组合而成。
每个部分都起着重要的作用，共同完成材料表面镀膜的任务。
在使用真空镀膜机时，需要对各个部分进行细致的调试和控制，以确保镀膜效果的质量和稳定性。
同时，对真空镀膜技术的深入了解和不断的研发也是至关重要的，以不断推动这一领域的发展和应用。
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真空镀膜机的详细结构
真空镀膜机是一种用于在物体表面镀膜的设备，其主要结构包括以下几个部分：
1.真空室：真空室是镀膜机的主体部分，通常采用不锈钢或铝合金材料制成。
它具有密封性能，能够创建高真空环境，以确保镀膜过程的稳定性。
2.真空系统：真空系统用于将真空室内的气体抽出，创建真空环境。
它通常包括真空泵、阀门、管道等设备。
真空泵可根据具体需要选择离心泵、分子泵等。
3.镀膜源：镀膜源用于产生镀膜材料蒸汽或离子束，以便将其沉积在物体表面。
常见的镀膜源包括电阻炉、电子束蒸发器、磁控溅射器等。
4.衬底架：衬底架是用来固定待镀膜物体的支撑结构，通常由不锈钢制成。
在镀膜过程中，衬底架可通过旋转或倾斜等方式使得物体的表面均匀接触镀膜材料。
5.电子控制系统：电子控制系统用于控制镀膜机的工作过程，包括控制真空系统、镀膜源等设备的开关和运行状态，以实现镀膜过程的自动化控制。
6.监测仪器：监测仪器用于实时监测镀膜过程中的关键参数，例如真空度、镀膜材料蒸汽的流量、表面温度等。
这些参数的监测有助于优化镀膜工艺，提高镀膜质量。
7.辅助设备：辅助设备包括气体供应系统、冷却系统、加热系
统等。
气体供应系统用于提供镀膜过程中所需的气体，例如惰性气体或反应气体。
冷却系统用于冷却真空室和镀膜源等部件，以防止过热。
加热系统用于加热衬底或镀膜源，以控制镀膜过程的温度。
以上是真空镀膜机的主要结构，不同型号和应用领域的镀膜机可能在结构和功能上有所差异。