赫尔槽实验报告
赫尔槽试验
霍尔槽（哈式槽）试验及结果解读广东科斯琳电镀实验设备关键词：霍尔槽,电镀一.霍尔槽是一种试验效果好，操作简单、所需溶液体积小的小型电镀试验槽。
它可以较好的确定获得外观合格镀层的电流密度范围及其它工艺条件。
生产现场常用来快速解决镀液所发生的问题。
二.小型霍尔槽结构下面是工厂电镀制程控制常用的霍尔槽基本结构(市面上可以购买到带加热、通入压缩空搅拌孔等设计精良的成品)霍尔槽结构示意图三.霍尔槽的试验装置及实验方法1.试验装置:2.试验方法a.溶液的选择为了获得正确的试验结果，选择的溶液必须具有代表性。
重复试验时，每次试验所取溶液的体积应相同。
当使用不溶阳极时，溶液经1~2次电镀后应更换新液。
如采用可溶性阳极则最多试验4~5次后更换新液。
在测微量杂质或添加剂的影响时，每槽试验次数应酌情减少。
b.阴阳极材料的选择阴阳极材料通常是平面型薄板，阳极厚度不超过5MM，阴极厚度为0.2~1MM，阳极材料应与生产中使用的阳极相同。
c.电流大小霍尔槽电流大小通常在0.5~2A范围内。
d.试验时间及温度一般在5~10分钟，试验温度应与生产相同。
四.霍尔试片判定(以镀锡为例)1.背面背面看片原则:先看背面的异常现象,再判定可能造成的原因.a.先从HULLCELL片背面中间剖开,再看高电流密度区(添加剂)与低电流密度区(开缸剂)有没有失去平衡:(例如往高电流密度区缩小是添加剂不足,往低电流密度区缩小是开缸剂不够).b.看三层云分布:正常HULLCELL片背后会出现三层云(即亮层/浓雾层/淡雾层)如下示意图.HULLCELL片背面区域c.如果为全浓雾或无亮,判定是添加剂或补充剂不够,酸不足,建浴剂不足.d.如果都是淡淡的薄雾浓雾少,且将要收缩,可能是添加剂或酸过量.e.有出现三层云,向中间凹进去的话,主要原因有主盐不够或沉积速率不够.沉积速率不够可能原因为(添加剂过量或不足b;酸不足)。
2.看正面正面看片原则:由正面现象来验证或排除第一项的可能原因HULLCELL片正面示意图a.看高中低电流密度区光泽分布状况:与高电流密度区是否有有机分解污染及界面与低电流密度区是否有无机析出。
金属的电镀实验
光亮
半光亮
灰暗
烧焦
无镀层
在梯形槽中换上光亮镀镍液，其它同上。
.
.
实
验教 学
3. 镀液分散能力的测定 取两片铜片，用金相砂纸打磨光亮。用水冲洗，做好近、 远阴极标记，吹干后在分析天平上分别称重。镍阳极打磨 干净待用。将阳极和两片阴极放在长方槽中，并使L2/L1= 2。将普通镀镍溶液注入长方槽中，接通电源，电流密度 控制在1A/dm2。电镀30min后，取出阴极用水冲洗、吹干， 用分析天平分别称出远、近阴极重量。 在长方槽中换入光亮镀镍溶液，重复以上步骤。
中
化学
心
Q W MCu 100% 100% Q总 M WCu
式中W为被测金属镀层的重量；M为被测金属的摩尔质量；WC u为库仑计阴极上铜镀层质量；MCu为铜的摩尔质量(注：被 测金属和铜的摩尔质量的值均随所取的基本单元而定。)
.
.
实
验教 学
中
化学
心
Ⅲ 实验步骤 （一）.具体操作方法
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实
中
化学
心
验教 学
1 数据处理
(3)将实验数据列表如下，并计算电流效率
被测镀液阴极增重/ 电流 库仑计阴极重量/g g 密度/ 电流 (A/dm 效率 镀前 镀后 增重 镀前 镀后 增重 2)
.
.
实
验教 学
中
化学
心
2 讨论
电镀前要对金属片进行打磨，其目的是为了处 理，清洁被镀金属的表面，才能得到结合力好的镀 层。
m1 K m2 100% Tp K 1
心
.
.
实
验教 学
中
化学
心
式中Tp为分散能力(%)；K为远阴极和近阴极
赫尔槽实验报告
篇一：实验电镀赫尔槽试验调整电镀液实验电镀赫尔槽试验调整电镀液广东科斯琳电镀添加剂提供电镀技术支持电镀液性能变化后必然从镀层上反映出来，要想从一张试验试片上反映出宽电流密度范围内的镀层状况，最简单的试验还是赫尔槽试验。
利用赫尔槽试验，是广东科斯琳电镀添加剂对电镀光亮剂开发及日常维护镀液的主要手段。
供同行参改。
电镀光亮镀镍：影响光亮镀镍效果的因素很多，而不仅仅取决于光亮剂。
利用赫尔槽试验可以调整出良好的效果。
硼酸含量的判定硼酸被广泛用作微酸性电镀液作ph值缓冲剂。
在光亮镀镍中，硼酸还有细化结晶，提高光亮整平性及扩展低区光亮范围的作用，应充分重视，其含量以控制在使用液温下不结晶析出为限。
赫尔槽试片上的反映：1，55度左右搅拌镀3 min(2a)，若试片高中da区有灰白现象（润湿剂又足够时），补加5 g/l左右硼酸则有明显好转，为硼酸不足。
2. 55度左右1a搅拌镀5min，若低区光亮性不足，而ph值又不低，光亮剂足够，可试加5g/l左右硼酸，若有时显好转，则硼酸不足。
镍盐判定：新酸亮镍液，55度左右3a静镀3min，试片高端无烧焦。
若生产槽液，赫尔槽2a静镀都有烧焦，而ph值正常，不差硼酸，则主盐不足，此时可视情况补加镍盐，当氯化镍正常时，镀液应带有黑绿色，若镀液是淡的绿色，可能氯离子不足，应补加10g/l左右氯化镍，若镀液带墨绿色，可补加20g//l左右硫酸镍。
主盐浓度不足，不仅烧焦区宽，光亮整平性也变差。
氯离子：氯离子在亮镍液中通常用于阳极活化剂，防止镍阳极钝化，实际上，由于氯化镍的扩散系数远比硫酸镍大，因此，足量的氯离子有助于提高镀液分散能力和扩展低区光亮范围，其作用有时还非常明显，因而新配液的氯化镍含量不宜低45g/l.从表面张力判定：要从赫尔槽试验判断润湿剂是否足量，只能在静镀时仔细观察电镀时试片表面气泡滞留情况及镀约10min，镀层较厚时看镀层有无麻点，若试片在搅拌时，高区有发花现象，加入润湿后则不发花了，说明润湿剂太少，采用十二烷基硫酸钠作润湿剂，搅拌镀时镀液表面应有较多气泡，若气泡太少甚至无气泡，则十二烷基硫酸钠太少。
实验10-电镀锌的工艺设计实验报告
实验10 ：电镀锌的工艺设计一、实验目的1. 了解赫尔槽的结构特点并掌握赫尔槽的使用；2. 掌握锌酸盐镀锌的工艺流程二、实验原理赫尔槽是RO Hull于1935年设计的形似梯形的一种电镀工艺试验仪，它具有结构简单，使用方便，速度快，效果好，消耗镀液少等特点，是电镀工艺者必须掌握的试验手段，随着电镀技术的发展，赫尔槽的用途和结构都有了新的发展，不仅用于研究镀液组分的影响，添加剂的选择，查明故障，确定电流密度范围等，而且用于测定分散能力，深镀能力。
镀层的其他性能（整平性、脆性、内应力、耐蚀性等），能测定镀液和镀层的许多主要性能。
在电镀中，阴极和阳极总是平行放置的，如图 14（a）所示，为的是阴极上各部位电流密度趋向分布。
但如果把阴极斜放，使阴极各部位与阳极的距离不同，如图 14（ b）所示，则阴极上的电流密度就随各部位而异，赫尔槽就是应用这个原理设计的。
在赫尔槽中，阴极两端与阳极距离不同，离阳极近的一端叫近端，电流密度大，随着远离阳极电流密度逐渐变小，距阳极最远的一端称为远端，电流密度最小，如267 毫升的赫尔槽试片上近端与远端电流密度相差50 倍，因此通过一次赫尔槽试验就可以直接从阴极试片上观察到不同电流密度下镀层的状况，改变电镀液的组分和工艺参数并分别做赫尔槽试验，对阴极试片进行比较和分析从而可确定合理的配方和工作规范。
图1.赫尔槽的结构图镀锌过程：阴极过程：Zn(OH)42- - 20H- f Zn(0H)2Zn( 0H)2 + 2e f Zn + 20H-另外；2H+ + 2e f H2 T阳极过程；Zn - 2e + 40H- f Zn( OH)42-Zn + 2NaOH + 2H2O f Na2[Z n(0H)4] + H2 T也存在；40H- - 4e f 2H20 + 02三、实验器材赫尔槽、直流稳压电源、锌阳极、铜试片、NaOH、ZnO、一些添加剂四、实验步骤1. 锌版用砂纸打磨后用去离子水清洗处理；铜片用去离子水清洗。
哈氏槽(赫尔槽)原理及相关试验说明(技术相关)
哈氏槽(赫尔槽)原理及相关试验说明现代电镀网讯：一、哈氏槽试验哈氏槽也叫霍尔槽或梯形槽，是由美国的R.O.Hull于1939年发明的，用来进行电镀液性能测试的实验小槽，其基本的形状如下图所示：由于哈氏槽试片两端距阳极的距离有很大差别，加上在角部的屏蔽效应，使同一试片上从近阳极湍和远阳极端的电流密度有很大的差异，并且电流密度的分布呈现由大(近阳极)到小(远阳极)的线性分布。
根据通过哈氏槽总电流大小的不同，其远近两端电流密度的大小差值达50倍。
这样，从一个试片上可以观测到很宽电流密度范围的镀层状况，从而为分析和处理镀液故障提供了很多有用的信息。
通过哈氏槽实验可以控制镀层质量，确定最佳镀液配比和合适的温度、电流密度和各种添加剂的用量和补充规律。
还可以分析镀液中杂质和各种成分变化对镀层的影响和排查镀液故障。
因此，哈氏槽实验是电镀生产和管理以及科研都不可少的重要实验工具。
二、加长型哈氏槽加长型哈氏槽是将哈氏槽的阴极区的长度加长为标准哈氏槽的2倍的改良型哈氏槽(如下图所示)。
这是为了测试高水平宽光亮区电镀添加剂的一种创新设备。
加长后的阴极试片的长度达到203mm，这样做是因为用标准试片发现不了新型光泽剂的低区和高区极限电流区域，通过加长试片的长度，可以在更宽的电流密度范围内考查镀液和添加剂的水平。
多用于光亮性电镀的验证试验，特别是在光亮镀镍新型光泽剂的开发方面，这种加长型哈氏槽可以发挥很好的作用。
随着电镀技术的不断进步，有些镀种在传统哈氏槽试片的电流密度区内都可以获得全光亮的镀层，用传统哈氏槽已经无法进行低电流区性能的比较。
而采用这种加长型哈氏槽由很容易看得出差距。
三、用哈氏槽做光泽剂的试验光泽剂是光亮电镀中必不可少的添加剂，是光亮镀种管理的关键成分，因此采用哈氏槽对光泽剂进行试验是常用的管理手段。
采用哈氏槽可以对光泽剂的光亮效果、光亮区的电流密度范围、光泽剂的消耗量和外加规律等做出明确的判断。
当采用哈氏槽进行光泽剂性能等相关试验时，首先要采用标准的镀液配方和严格的电镀工艺规范，以排除其他非添加剂因素对试验的干扰。
HULL TEST赫尔槽测试中文版
The Hull Cell (U.S. Patent # 2,149,344) is a miniature test cell designed to produce a plated deposit over a range of current densities. The deposit is dependent upon the condition of the plating bath (i.e. concentration of primary components, addition agents and impurities). The Hull Cell is a useful tool for varying chemical composition, determining covering power (the lowest current density at which a deposit is produced), measuringaverage cathode efficiency, average metal distribution or throwing power, and observing the effects of pH,temperature and decomposition products. A clear Lucite Hull Cell enables the operator to observe the plating onthe back of the test panel to determine relative covering power at very low current densities.赫尔槽（美国专利＃2149344）是一种被设计用来在一定电流密度范围内产生电镀层的小型测试槽。
电镀层的状况由电镀液的状况决定（主盐成分，添加剂和杂质）。
霍尔槽镍实验报告
霍尔槽镍实验报告引言霍尔槽是一种常用于测量材料电导率与霍尔电压的实验仪器，通过应用磁场使电流在导体中偏转，从而产生霍尔电压。
镍是一种常见的金属材料，具有良好的导电性能和磁性。
本实验旨在通过搭建霍尔槽实验装置，测量镍材料的电导率，并研究霍尔电压与外加磁场、电流等因素之间的关系。
实验目的1. 测量镍材料的电导率。
2. 研究霍尔电压与外加磁场、电流之间的关系。
实验仪器与原理实验仪器主要包括霍尔槽装置、恒流源、电压表、磁场调节器等。
霍尔槽装置由实验槽、磁铁、电流源、电压计等组成。
实验槽由导电材料制成，宽度较窄，槽中夹有一块样品材料（镍）。
在槽沿宽度方向，施加恒定的电流I0，通过电流源控制。
磁铁用于在槽的两侧产生垂直于电流方向的磁场B。
通过变压器调节电压UH，测量样品上的霍尔电压UH。
根据霍尔效应原理，导电材料中的电子在外加磁场的作用下会偏转，从而在材料两侧产生霍尔电势差（霍尔电压）。
霍尔电压与导电材料的电导率、电流、磁场之间存在一定的关系。
实验步骤1. 搭建实验装置，将镍样品夹在霍尔槽中。
2. 分别调整磁场强度和电流大小，通过变压器分别调节电压UH和恒流源调节电流I0。
3. 保持磁场强度不变，改变电流大小，记录相应的UH、I0值。
4. 将电流恢复到初始值，改变磁场强度，记录相应的UH、B值。
5. 分析实验数据，计算电导率并绘制UH与I0、B的关系图。
实验结果与分析通过实验测量得到的数据，我们计算了镍样品的电导率，并利用Excel绘制了UH与I0、B之间的关系图（见附图1）。
根据图形的趋势，我们可以得到以下结论：1. 随着电流的增大，霍尔电压也随之增大，呈线性关系。
2. 随着磁场强度的增大，霍尔电压也随之增大，呈线性关系。
3. 镍样品的电导率可以通过实验数据计算得出。
实验结论通过本实验的数据分析，我们得出以下结论：1. 霍尔电压与电流呈线性关系，随电流的增大而增大。
2. 霍尔电压与磁场强度呈线性关系，随磁场强度的增大而增大。
镍电沉积实验
镍电沉积实验（一）电沉积工艺条件—Hull 槽试验1．熟悉Hull槽试验的基本原理、实验操作和结果分析。
2．试验并了解添加剂糖精、苯亚磺酸钠、镍光亮剂XNF和十二烷基硫酸钠对电沉积光亮镍的影响。
电沉积是用电解的方法在导电基底的表面上沉积一层具有所需形态和性能的金属沉积层的过程。
传统上电沉积金属的目的，一般是改变基底表面的特性，改善基底材料的外观、耐腐蚀性和耐磨损性。
现在,电沉积这一古老而又年轻的技术正日益发挥着其重要作用,已广泛应用于制备半导体、磁膜材料、催化材料、纳米材料等功能性材料和微机电加工领域中。
电沉积过程中，由外部电源提供的电流通过镀液中两个电极（阴极和阳极）形成闭合的回路。
当电解液中有电流通过时，在阴极上发生金属离子的还原反应，同时在阳极上发生金属的氧化（可溶性阳极）或溶液中某些化学物种(如水)的氧化（不溶性阳极）。
其反应可一般地表示为：阴极反应：M n++n e=M（1）副反应：2H++2e=H2(酸性镀液)（2）2H2O+2e=H2+2OH-(碱性镀液)（3）当镀液中有添加剂时，添加剂也可能在阴极上反应。
阳极反应：M–n e=M n+（可溶性阳极）（4）或2 H2O –4 e = O2+ 4 H+ (不溶性阳极，酸性) （5）镀液组成（金属离子、导电盐、配合剂及添加剂的种类和浓度）和电沉积的电流密度、镀液pH值和温度甚至镀液的搅拌形式等因素对沉积层的结构和性能都有很大的影响。
确定镀液组成和沉积条件，使我们能够电镀出具有所要求的物理-化学性质的沉积层，是电沉积研究的主要目的之一。
镍电沉积层在防护装饰性和功能性方面都有广泛的应用。
大量的金属或合金镀层如Cr、Au及其合金、Sn及其合金、枪黑色Sn-Ni合金、CdSe合金等都是在光亮的镍镀层上电沉积进行的。
在低碳钢、锌铸件上沉积镍，可保护基体材料不受腐蚀，并可通过抛光或直接电沉积光亮镍达到装饰的目的。
在被磨损的、腐蚀的或加工过度的零件上进行局部电镀镍，可对零件进行修复。
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赫尔槽实验图图1 镀液3 ik-lgl 图2镀液4 ik-lgl篇二：赫尔槽试验霍尔槽（哈式槽）试验及结果解读广东科斯琳电镀实验设备关键词：霍尔槽,电镀一.霍尔槽是一种试验效果好，操作简单、所需溶液体积小的小型电镀试验槽。
它可以较好的确定获得外观合格镀层的电流密度范围及其它工艺条件。
生产现场常用来快速解决镀液所发生的问题。
二.小型霍尔槽结构下面是工厂电镀制程控制常用的霍尔槽基本结构(市面上可以购买到带加热、通入压缩空搅拌孔等设计精良的成品) 霍尔槽结构示意图三.霍尔槽的试验装置及实验方法1.试验装置:2.试验方法a.溶液的选择为了获得正确的试验结果，选择的溶液必须具有代表性。
重复试验时，每次试验所取溶液的体积应相同。
当使用不溶阳极时，溶液经1~2次电镀后应更换新液。
如采用可溶性阳极则最多试验4~5次后更换新液。
在测微量杂质或添加剂的影响时，每槽试验次数应酌情减少。
b.阴阳极材料的选择阴阳极材料通常是平面型薄板，阳极厚度不超过5mm，阴极厚度为0.2~1mm，阳极材料应与生产中使用的阳极相同。
c.电流大小霍尔槽电流大小通常在0.5~2a范围内。
d.试验时间及温度一般在5~10分钟，试验温度应与生产相同。
四.霍尔试片判定(以镀锡为例)1.背面背面看片原则:先看背面的异常现象,再判定可能造成的原因.a.先从hullcell片背面中间剖开,再看高电流密度区(添加剂)与低电流密度区(开缸剂)有没有失去平衡:(例如往高电流密度区缩小是添加剂不足,往低电流密度区缩小是开缸剂不够).b.看三层云分布:正常hullcell片背后会出现三层云(即亮层/浓雾层/淡雾层)如下示意图. hullcell片背面区域c.如果为全浓雾或无亮,判定是添加剂或补充剂不够,酸不足,建浴剂不足.d.如果都是淡淡的薄雾浓雾少,且将要收缩,可能是添加剂或酸过量.e.有出现三层云,向中间凹进去的话,主要原因有主盐不够或沉积速率不够.沉积速率不够可能原因为(添加剂过量或不足b;酸不足)。
2.看正面正面看片原则:由正面现象来验证或排除第一项的可能原因hullcell片正面示意图a.看高中低电流密度区光泽分布状况:与高电流密度区是否有有机分解污染及界面与低电流密度区是否有无机析出。
c.若高电流密度区发黄，加上高中电流密度区粗糙，界面和低电流密度区无无机析出，判定为添加剂;补充剂;建浴剂或酸不足。
d.若低电流密度区有双层雾则判定为添加剂或补充剂与酸不足.e.可以用焊锡来左证判定：如果拒焊是添加剂或酸过量造成有机分解;如果不拒焊是添加剂;开缸剂或酸不足。
f.在霍尔槽中,还可以用添加反向之药品的方法来判定是否有异常的问题。
3.看操作条件来验证或排除第一项之可能造成原因。
a.主盐/溶解质/酸锡比/电压高低/ph值/温度/阳极溶解状况[主盐/溶解质/酸锡比/电压高低看哈氏片;ph值/温度/阳极溶解状况看现场]。
b.ph值高容易造成无机析出及有机分解;温度高易造成有机分解。
c.从阳极溶解状况观察:光亮表示溶解质过量;灰色表示正常;黑色表示有点过量;黄色是严重过量。
d.电压高证明主盐高与溶解质不足。
4.利用第二项和第三项去除第一项现象，与可能原因加以分析并得出真正原因。
5.根据第四项，用最快最有效最节约成本的方法来改善与解决问题。
篇三：赫尔槽试验制订：吕春梅 2007年01月10日承认：赫尔槽试验1.适用铜、金、镍等电镀液的实验2.仪器和药品（1）仪器赫尔槽赫尔槽实验片赫尔槽电源赫尔槽气泵赫尔槽温度计加热器监视器烧杯（2）药品10%的硫酸bt-120 标准电镀液3. 赫尔槽试验方法（1）铜电镀液在指定的赫尔槽中加入267ml铜的电镀液，插上气泵使溶液搅拌均匀。
去除赫尔槽实验片上的薄膜，用水冲洗，然后放入10%的硫酸中浸泡30秒，取出，再用水冲洗，然后放入赫尔槽中。
连接赫尔槽电源，用1a的电流持续通电10分钟。
电镀结束后在把赫尔槽实验片取出，用水冲洗，然后放入0.1%的bt-120中浸泡30秒，取出用气枪吹干。
完成实验后，保存结果，报告上司。
（2）镍电镀液在指定的赫尔槽中加入267ml镍的电镀液，插上气泵使溶液搅拌均匀并同时用加热器把溶液加热到50℃。
去除赫尔槽实验片上的薄膜，用水冲洗，然后放入10%的硫酸中浸泡30秒，取出，再用水冲洗，然后放入赫尔槽中。
连接赫尔槽电源，用2a的电流持续通电20分钟。
电镀结束后在把赫尔槽实验片取出，用水冲洗，然后放入0.1%的bt-120中浸泡30秒，取出用气枪吹干。
完成实验后，保存结果，报告上司。
篇四：哈氏槽(赫尔槽)原理及相关试验说明哈氏槽(赫尔槽)原理及相关试验说明现代电镀网讯：一、哈氏槽试验哈氏槽也叫霍尔槽或梯形槽，是由美国的r.o.hull于1939年发明的，用来进行电镀液性能测试的实验小槽，其基本的形状如下图所示：由于哈氏槽试片两端距阳极的距离有很大差别，加上在角部的屏蔽效应，使同一试片上从近阳极湍和远阳极端的电流密度有很大的差异，并且电流密度的分布呈现由大(近阳极)到小(远阳极)的线性分布。
根据通过哈氏槽总电流大小的不同，其远近两端电流密度的大小差值达50倍。
这样，从一个试片上可以观测到很宽电流密度范围的镀层状况，从而为分析和处理镀液故障提供了很多有用的信息。
通过哈氏槽实验可以控制镀层质量，确定最佳镀液配比和合适的温度、电流密度和各种添加剂的用量和补充规律。
还可以分析镀液中杂质和各种成分变化对镀层的影响和排查镀液故障。
因此，哈氏槽实验是电镀生产和管理以及科研都不可少的重要实验工具。
二、加长型哈氏槽加长型哈氏槽是将哈氏槽的阴极区的长度加长为标准哈氏槽的2倍的改良型哈氏槽(如下图所示)。
这是为了测试高水平宽光亮区电镀添加剂的一种创新设备。
加长后的阴极试片的长度达到203mm，这样做是因为用标准试片发现不了新型光泽剂的低区和高区极限电流区域，通过加长试片的长度，可以在更宽的电流密度范围内考查镀液和添加剂的水平。
多用于光亮性电镀的验证试验，特别是在光亮镀镍新型光泽剂的开发方面，这种加长型哈氏槽可以发挥很好的作用。
随着电镀技术的不断进步，有些镀种在传统哈氏槽试片的电流密度区内都可以获得全光亮的镀层，用传统哈氏槽已经无法进行低电流区性能的比较。
而采用这种加长型哈氏槽由很容易看得出差距。
三、用哈氏槽做光泽剂的试验光泽剂是光亮电镀中必不可少的添加剂，是光亮镀种管理的关键成分，因此采用哈氏槽对光泽剂进行试验是常用的管理手段。
采用哈氏槽可以对光泽剂的光亮效果、光亮区的电流密度范围、光泽剂的消耗量和外加规律等做出明确的判断。
当采用哈氏槽进行光泽剂性能等相关试验时，首先要采用标准的镀液配方和严格的电镀工艺规范，以排除其他非添加剂因素对试验的干扰。
常用的方法是每个批次的试验采用一次配成的基础镀液，镀液的量要大于试验次数要用到的量的总和，基础镀液采用化学纯或与生产工艺相同级别的化工原料进行配制，并且记住不能往基础液中添加任何光泽剂，以保证试验结果的准确性和可靠性。
在准备好镀液和哈氏片之后，可以取试验基础液注入哈氏槽，然后再按试验项目的要求将镀液的工艺参数调整到规定的范围，先不加入光泽剂做出一个空白的试片，留做对比之用。
再加入规定量的待测光泽剂，通电试验。
对于光亮镀种，常用的总电流是2a，时间为5min，镀好取出后，要迅速清洗干净，最后一次的清洗要用纯净水，然后用热电吹风吹干后，观测表面状况并做好相关的记录，再将试片进行干燥器中保存。
为了方便以后对比，每做一个试片都要有标识贴在试片上，记录编号、试验条件、试验参数。
做完空白试验后的试验液一般只能再做2个试片，同一个工艺参数和含量的试片通常也要求做2次，以排除偶然性。
在每一次换新镀液时，都要做空白试验。
为了提高效率，可以一次配置够用多次试验的基础液，这样只做一次空白试片就可以代表这批试液的状况。
第一次添加光泽剂的量可按供应商所提供的说明书的标准量加入，以判断光泽剂的基本水平；然后再按过量加入，看超量的影响是怎么样的，再做1/3量和1/2量的试片，以了解不足量的影响，最后还要做光泽剂的量。
有些试验者取了一次基础试验后，就一直往里加入光泽剂来做试验。
从少到多用同一镀液做多片，这是不科学的方法。
因为哈氏槽的容量太小，每镀一片镀液变化较大，如果一直往下做，镀液的成分已经发生了量，后边做的与前面做的没有了可比性，试验结果就会出现偏差。
篇五：巧用赫尔槽试验调整电镀液巧用赫尔槽试验调整电镀液 1光亮酸性镀铜电镀溶液的性能总会随着使用而不断变化，其影响因素甚多。
要想使镀液性能指标保持在最佳或良好状态，就应及时进行调整。
调整依据可来自三个方面：其一，凭经验，依据镀层状况得出结论；其二，凭化验结果；其三，凭试验结果。
经验往往具有局限性，经验的积累要有相当的实践经历和总结能力；而对一项新工艺，刚开始使用，则谈不上经验。
分析化验结果的准确性受多方面因素影响，如分析人员的素质、水平与熟练程度、分析手段、分析方法等。
而现代电镀广泛采用的多种复配的有机添加剂、光亮剂等几乎无法分析。
分析化验有时是必不可少的，如合金电镀时镀液及镀层中合金组分的比例，难以用其它方法判定。
但若凭一个不准确化验结果来调整镀液，有时也会搞得一塌糊涂。
镀液性能变化后必然要从镀层上反映出来，要想从一张试验试片上反映出宽电流密度范围内的镀层状况，最简单的办法还是赫尔槽试验。
利用 250ml赫尔槽试验，是笔者几十年搞新工艺、添加剂开发及日常维护镀液的最主要手段。
本文就最常用镀种如何利用赫尔槽试验来调整镀液加以小结，供同行参考。
该镀种镀液成分简单，但却是很难维护好的镀种。
笔者考虑生产成本，一直采用国产心型光亮剂，并不断对其配比、光亮剂组分加以完善改进。
采用“中酸、中铜”工艺装饰性电镀，调整得当时，赫尔槽试片1a搅拌镀5min，试片能达到全光亮且具有较好整平性，生产中允许dk可达5a／din2。
电源应2．2．1 使用相同的小整流电源(应是低纹波的)和相同截面与长度的直流输出线(保证电压降基本一致)，若电压高于正常值0．3v以上，则可能硫酸偏少，补加3ml／l一5ml ／l浓硫酸再试。
2．2．2 若铜含量正常，生产中阳极面积足够(sa：sk ≥2：1)，却出现电压升高，电流减小现象，先检查阳极板导电是否良好(清洗接触处)，若仍有此现象，则阳极已钝化，可能硫酸过少，补加8ml／l一10ml／l 浓硫酸。
2．2．3 若加足光亮剂，高中dk区光亮性仍不足，低 dk区光亮范围窄，而试验时电压又低于正常值 0．5v以上，则可能硫酸过多(正常生产时因带出损耗，硫酸应呈减少趋势。
硫酸过多，或是镀前采用硫酸活化时清洗不良带人或不慎一次加入过多)，应试验稀释镀液，补加硫酸铜及光亮剂。
2．3 氯离子判定及处理2．3．1 若镀层亮度很差，补加混合光亮剂或分别补加光亮剂组分试验，均改善不大，高dk区镀层有发花现象，磷铜阳极上不易生成黑膜，则可能氯离子含量低于20mg／l(正常为40mg／l一80mg／l)，可按 0．08ml／l一0．1ml／l量加入盐酸(冲稀20倍便于计算)后再试。