第06章 点缺陷和线缺陷-3
点缺陷和缺陷方程写法课件

2、固溶体特征
1)在原子尺度上相互混合。 2)这种混合并不破坏原有晶体结构。 3)存在固溶度,部分体系可任意互溶。 4)在固溶度范围之内,杂质含量可以改变。
3、固溶体生成 1)晶体生长过程中 2)溶液或熔体析晶 3)烧结
4、固溶体、机械混合物与化合物
固溶体AxB1-x:A和B以原子尺度混合,形成单相均匀 晶态物质, A和B可按任意比例混合。 机械混合物AB:A和B以颗粒态混合,A和B分别保持 各自原有的结构和性能。 化合物AmBn:其结构不同于A或B,A和B有固定比例,
A m 即 B n 。
5、固溶体分类
1)按溶质原子在溶剂晶格中的位置
溶质原子进入晶格中正常结点位 置而取代基质中的原子。 举例:MgO-CoO、MgO-CaO、 PbTiO3-PbZrO3、Al2O3-Cr2O3 特点:主要发生在金属离子位置 上的转换 。
a. 置换型固溶体
b. 间隙型固溶体
6、置换固溶体
现象:
a. NiO或FeO置换MgO生成连续固溶体:Mg1-xNixO,其 中x = 0~1。 b.很多二元体系是有限置换型固溶体,其中有些体系的 固溶量非常低。 可分为连续置换固溶体和有限置换固溶体
影响因素: a. 质点尺寸(决定性因素)
从晶体结构的稳定观点来看,相互替代的质点尺寸 愈接近,则固溶体愈稳定,其固溶量将愈大。
点缺陷示意图
2. 产生原因(cause of produce)
弗仑克尔缺陷 热缺陷 肖特基缺陷 产生原因 杂质缺陷 非化学计量结构缺陷
2.1 热缺陷(thermal defect)
a. 定义:当晶体温度高于绝对0K时,由于晶格内原 子热振动,使一部分能量较大的原子偏离 平衡位置造成缺陷。 b. 特点:由原子热振动引起,缺陷浓度与温度有关。
3_《材料科学基础》第三章_晶体结构缺陷((上)

点缺陷(零维缺陷)--原子尺度的偏离.
按 缺
例:空位、间隙原子、杂质原子等
陷 线缺陷(一维缺陷)--原子行列的偏离.
的
例:位错等
几 何
面缺陷(二维缺陷)--表面、界面处原子排列混乱.
形
例:表面、晶界、堆积层错、镶嵌结构等
态 体缺陷(三维缺陷)--局部的三维空间偏离理想晶体的周期性
例:异相夹杂物、孔洞、亚结构等
1、 固溶体的分类
(1) 按杂质原子的位置分: 置换型固溶体—杂质原子进入晶格中正常结点位置而取代基
质中的原子。例MgO-CoO形成Mg1-xCoxO固溶体。 间隙型固溶体—杂质原子进入晶格中的间隙位置。
有时俩
(2)按杂质原子的固溶度x分: 无限(连续)固溶体—溶质和溶剂任意比例固溶(x=0~1)。
多相系统
均一单相系统
Compounds AmBn
原子间相互反应生成
均一单相系统
结构
各自有各自的结构
A structure
structure
+ B structure
结构与基质相同 A structure
结构既不同于A也不同于B New structure
化学计量 A/B
不定
固溶比例不定
m:n 整数比或接近整数比的一定范围内
四、固溶体Solid solution(杂质缺陷)
1、固溶体的分类 2、置换型固溶体 3、间隙型固溶体 4、形成固溶体后对晶体性质的影响 5、固溶体的研究方法
①固溶体:含有外来杂质原子的单一均匀的晶态固体。 例:MgO晶体中含有FeO杂质 → Mg1-xFexO
基质 溶剂 主晶相
杂质 溶质 掺杂剂
萤石CaF2(F-空位)
Chapter 3-1 晶体缺陷-点缺陷、位错

杂质(异类)原子
定义: 任何纯金属中都或多或少会存在杂质, 即其它
元素, 这些原子称杂质(异类)原子
热缺陷: 热起伏促使原子脱离点阵位置而形成的点缺陷。 热缺陷的两种基本形式
弗伦克尔缺陷
肖特基缺陷
热缺陷示意图
弗兰克尔缺陷
肖特基缺陷
化合物离子晶体中的两种点缺陷
金属晶体:弗兰克尔缺陷比肖特基缺陷少得多 离子晶体:结构配位数低-弗兰克尔缺陷较常见
ρ理论
=
n理论 NA
V
M
=
4 6.022 1023
26.98
4.049 10-8 3
g
cm 3 = 2. 6997g
cm 3
空位数 cm3
ρ ρ theoretical
observed
NA
M 4.620 10 20 cm 3 Al
例5 MgO晶体的肖特基缺陷生成能为84KJ/mol,计算该晶体 1000K和1500K的缺陷浓度
平移对称性的示意图
平移对称性的破坏
②分类
点缺陷(零维缺陷)--原子尺度的偏离.
按
例:空位、间隙原子、杂质原子等
缺
陷 线缺陷(一维缺陷)--原子行列的偏离.
的
例:位错等
几 何
面缺陷(二维缺陷)--表面、界面处原子排列混乱.
形
例:表面、晶界、堆积层错、镶嵌结构等
态 体缺陷(三维缺陷)--局部的三维空间偏离理想晶体的周期性
CV ,1000
n N
exp( ΔGS RT
)
exp(
84000 8.3145 1000
) 4.096 10-5
CV ,1500
n N
ρ
( 单位晶胞原子数n )( 55.847g / mol ) ( 2.866 108 cm )3 ( 6.02 1023 / mol )
晶体缺陷

一、概述1、晶体缺陷:晶体中原子(离子、分子)排列的不规则性及不完整性。
种类:点缺陷、线缺陷、面缺陷。
1) 由上图可得随着缺陷数目的增加,金属的强度下降。
原因是缺陷破坏了警惕的完整性,降低了原子间结合力,从宏观上看,即随缺陷数目增加,强度下降。
2) 随着缺陷数目的增加,金属的强度增加。
原因是晶体缺陷相互作用(点缺陷钉扎位错、位错交割缠结等),使位错运动的阻力增加,强度增加。
3) 由此可见,强化金属的方向有两个:一是制备无缺陷的理想晶体,其强度最高,但实际上很难;另一种是制备缺陷数目多的晶体,例如:纳米晶体,非晶态晶体等。
二、点缺陷3、点缺陷:缺陷尺寸在三维方向上都很小且与原子尺寸相当的缺陷(或者在结点上或邻近的微观区域内偏离晶体结构正常排列的一种缺陷),称为点缺陷或零维缺陷。
分类:空位、间隙原子、杂质原子、溶质原子。
4、肖特基空位:原子迁移到晶体表面或内表面正常结点位置使晶体内形成的空位。
5、弗仑克尔空位:原子离开平衡位置挤入点阵间隙形成数目相等的空位和间隙原子,该空位叫做弗仑克尔空位。
6、空位形成能EV:在晶体中取出一个原子放在晶体表面上(不改变晶体表面积和表面能)所需的能量。
间隙原子形成能远大于空位形成能,所以间隙原子浓度远小于空位浓度。
7、点缺陷为热平衡缺陷,淬火、冷变形加工、高能粒子辐照可得到过饱和点缺陷。
8、复合:间隙原子和空位相遇,间隙原子占据空位导致两者同时消失,此过程成为复合。
9、点缺陷对性能的影响:点缺陷使得金属的电阻增加,体积膨胀,密度减小;使离子晶体的导电性改善。
过饱和点缺陷,如淬火空位、辐照缺陷,还可以提高金属的屈服强度。
三、线缺陷10、线缺陷:线缺陷在两个方向上尺寸很小,另外一个方向上延伸较长,也称为一维缺陷。
主要为各类位错。
11、位错:位错是晶体原子排列的一种特殊组态;位错是晶体的一部分沿一定晶面与晶向发生某种有规律的错排现象;位错是已滑移区和未滑移区的分界线;位错是伯氏矢量不为零的晶体缺陷。
晶体结构缺陷

含量一般少于0.1%。
类型:置换式杂质原子和间隙式杂质原子
特征: 杂质缺陷的浓度与温度无关。
只决定于溶解度 杂质缺陷对材料性能的影响
3. 非化学计量结构缺陷
定义:指组成上偏离化学计量而形成的缺陷。 特点:其化学组成随周围气氛的性质及其分压大 小而变化,它是产生n型和p型半导体的基础, 为一种半导体材料。 如: TiO2 x
离子尺寸因素
晶体结构类型
离子的电价因素
电负性因素
(1)离子尺寸因素
பைடு நூலகம்离子尺寸越接近,固溶体越稳定
15%规则:
r1 r2 r1
< 15%, 连续型固溶体MgO-NiO 15~30%,不连续型固溶体MgO-CaO > 30%,不形成固溶体
(2)晶体的结构类型
晶体结构类型相同,易形成连续型固溶体 例如:
1、 按杂质原子在固溶体中的位置分类
(1)置换型固溶体 杂质原子进入晶体中正常格点位置所生成的 固溶体。如:MgO-CaO,MgO-CoO,
PbZrO3-PbTiO3,Al2O3-Cr2O3等
(2)间隙型固溶体 杂质原子进入溶剂晶格的间隙位置所生成 的固溶体。
2、按杂质原子在晶体中的溶解度分类
1. 写缺陷反应方程式应遵循的原则
(1)位置关系 (2)质量平衡
(3)电中性
(1)位置关系
在化合物MaXb中,无论是否存在缺陷,其
正负离子位置数(即格点数)的之比始终是一
个常数a/b,即:
M位置数 a = X位置数 b
注意:
V、M X — —算位置 M i — —不算位置
位置增值、表面位置
热缺陷
杂质缺陷 非化学计量结构缺陷 其它:电荷缺陷,辐照缺陷……
2.1 点缺陷

2.1 点缺陷一点缺陷的类型及形成1 定义点缺陷:在三维方向上尺寸都很小(远小于晶体或晶粒的线度)的缺陷。
2 点缺陷的类型金属中常见的基本点缺陷有:空位、间隙原子和置换原子。
图1所示。
在晶体中,位于点阵结点上的原子并非静止的,而是以其平衡位置为中心作热振动。
原子的振动能是按几率分布,有起伏涨落的。
当某一原子具有足够大的振动能而使振幅增大到一定限度时,就可能克服周围原子对它的制约作用,跳离其原来的位置,使点阵中形成空结点,称为空位。
空位就是未被占据的原子位置。
原子离开正常格点,跳到间隙位置,或者说,间隙原子就是进入点阵间隙中的原子。
间隙原子可以是晶体中正常原子离位产生,也可以是外来杂质原子。
置换原子:位于晶体点阵位置的异类原子。
图1 点缺陷的类型空位和间隙原子3 点缺陷形成的物理模型点缺陷形成最重要的环节是原子的振动。
在前面的学习中我们已经知道:晶体中的原子在其所处的原子相互作用环境中受到两种作用力:(1)原子间的吸引力;(2)原子间的斥力。
这两个力的来源与具体表述,请同学们回忆学过的知识。
在这对作用力的平衡条件下,原子有各自的平衡位置。
重要的是原子在这个平衡位置上不是静止不动,而是以一定的频率和振幅作振动,这就是原子的热振动。
温度场对这一振动行为起主要作用。
温度越高,振动得越快,振幅越大。
而且,每个原子在宏观统计上表现出不同的振动频率和振幅,宏观表现上是谱分布。
这种描述相信能在同学思维空间里建立明确的图象:原子被束缚在它的平衡位置上,但原子却在做着挣脱束缚的努力。
现在我们设想这样一种情况:当温度足够高使得原子的振幅变得很大,以致于能挣脱周围原子对其的束缚(请读者考虑为什么振幅大,原子可以脱离平衡位置)。
因此,这个原子就成为“自由的”,它将会在晶体中以多余的原子方式出现?如果没有正常的格点供该原子“栖身”,那么这个原子就处在非正常格点上即间隙位置。
显然,这就是我们前面所说的间隙式原子。
由于原子挣脱束缚而在原来的格点上留下了空位。
缺陷的分类:根据维度分类点缺陷:离子晶体中的点缺陷

缺陷的分类:根据维度分类
0维:点缺陷
1维:线缺陷
2维:面缺陷
3维:体缺陷
点缺陷:
-晶格规则排列的局部的中断
-在晶格格点上或之间。
1、取代杂质
-占据正常格位
-掺杂剂,如半导体Si中掺杂的P,金刚石中的杂质B
-合金元素,如铝(Al)中的镁(Mg),或者金(Au)中的镍(Ni)-杂质,NaCl中的Li+
2、填隙杂质
-占据格点之间的位置
-合金元素,如铁中的C元素,LaNi5中的H元素
-杂质,如铁中的H元素
3、空位
-未占据的晶格格点
-结晶过程形成
-在极端条件下应用过程中形成
离子晶体中的点缺陷
-特别强调,要求维持电荷中性
1、肖特基点缺陷
-由等量(非必须相等)的阳离子空位和阴离子空位构成
2、弗伦克尔点缺陷
-由一个离子空位和离子填隙构成
3、F心
-由一个离子空位和一个被束缚的电子形成。
固体物理.6缺陷

扩散参数D0和Q的测量
Q lnD(T ) lnD0 RT Q tg R
lnD
0
1/T
Q Rtg
扩散的微观机制
微观统计分析表明:扩散运动是 粒子的布朗运动,满足 的时间来决定 原子扩散的微观机制: 空位机制:扩散原子通过与周围的空位交换位置 进行扩散
间隙原子机制:扩散原子通过从一个间隙位置跳 到另一个间隙位置进行扩散
1 d2 D 6
:原子在相邻两次跳跃的时间间隔,要由所需等待
易位机制:扩散原子通过与周围几个原子同时交 换位置进行扩散
扩散系数与原胞尺寸关系
以空位机制为例
设d=a(原胞尺寸) 扩散系数的表达式
u1 E1 1 a 2 n1 1 2 D a 0 exp 6 1 N 6 k T B
28.0 710-11
26.2
21.0
15.2
14.0 4.6 10-6
1.6 10-10 3.6 10-10 9.1 10-8
间隙原子机制
E2 E2 1 2 D a 0 exp 2 0 exp 6 k T B kBT 填隙式杂质在晶体中的扩散:通常是间隙原子扩散机制
晶格缺陷的主要类型
点缺陷:偏离晶格周期性的现象仅局限在格点附近一个或 几个晶格常数范围内。其特征是在三维方向上的尺寸都很 小,例如空位、间隙原子、杂质原子等,也可称零维缺陷 线缺陷:是发生在晶格中一条线周围,其特征是在两个方 向上的尺寸很小,而另一个方向上的尺寸很大,晶体中的 线缺陷主要是各种类型的位错,位错还影响着晶体的力、 电、光学等性质,对相变和扩散等过程也有重大的影响。 面缺陷:是发生在晶格二维平面上的缺陷,其特征是在一 个方向上的尺寸很小,而另两个方向上的尺寸很大,也可 称二维缺陷。晶体的面缺陷包括两类:晶体的外表面和晶 体中的内界面,其中内界面又包括了晶界、亚晶界、孪晶 界,相界、堆垛层错等。面缺陷对材料的力学、物理、化 学性能都有影响。
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A →B x
GbAbB x( x 2 − y 2 ) = (τ xy ) A bB = 2 π(1 −ν ) ( x 2 + y 2 ) 2
在y方向受力是使B位错攀移的力,能使B位错攀移的正应力 是(σxx)A,故B位错在y方向受力为 GbAbB y (3 x 2 + y 2 ) A →B
Fy = 2 π(1 −ν ) ( x 2 + y 2 ) 2
位错靠近自由表面,它的一部分应变能会被松弛掉,越靠近 表面,松弛的能量越多。为了降低能量,位错就有逸出表面的 倾向,即自由表面对位错有一吸力。 一个平行于表面距表面为L的直螺型位错,其单位长度的弹 性应变能变为: Gb 2 L ln Eel = 4π r0 单位长度位错所受自由 表面的吸引力Fim :
ζ [ zi : t∂ ]
7
错排能随在点阵中位置的变化:
Gb 4 πζ E = [1 + 2 cos 4 πα exp(− )] b 4π(1 −ν )
2 m
α=0∼1
位错能近似值
与点阵位置相关部分
位错移动要从能谷越过能峰,谷、峰的差值就是单 位长度位错滑动的激活能(有时也称为P-N能),也 就是余弦项振幅的二倍,去掉上式的第一项,得单 位长度位错滑移激活能为:
6
6.2.8.2 位错滑动
P-N点阵模型(R. Peierls, F.R.N. Nabarro)
完整晶体沿滑移面剖开再作相对位移b/2。然后令A面上各原 子沿x轴位移u(x), B面上各原子沿x轴反向位移-u(x)。
P
根据P-N模型计算出滑动面两侧相对位移u的表达式:
b 2 x(1 −ν ) b x a u= − arctan = − arctan ζ= , 定义为位错的半宽度 2(1 − ν ) 2π2π ζ a
15
考察2个位错叠加前后的能量是增加还是减小,如 果能量增加,这2个位错是相斥的,反之是相吸的。
弗兰克能量判据
柏氏矢量守恒:bA和bB两个位错,合成后的位错的柏 氏矢量b = bA+bB。 能量判距: 相吸: bA2+ bB2 >b2; 相斥: bA2+ bB2 <b2; 几何上来看,若bA与bB 交角是锐角 ,则两位 错相斥;若bA与bB交角 是钝角 ,两位错相吸。
刃型位错:C1C2、 A1A2 、 A’1A’2、D1D2 螺型位错:B1B2 割阶: C1C2、A’1A’2 弯结: B1B2、A1A2 未知: D1D2 、滑移面未定
割阶都是刃型位错, 刃型位错不一定都 是割阶。
23
位错产生割阶,会增加位错的能量。位错运动和其他位错相
交割产生割阶要额外作功,使位错运动的阻力增大。 带割阶的螺型位错在滑 移面作滑动保守运动时, 割阶则作攀移(非保守) 运动,整个位错滑动后 会使割阶后面产生一系 列空位或间隙原子。 攀移速度很慢,所 以这根位错的滑移速度 由割阶攀移速度所控制。 整根位错运动包括割阶 的攀移,所以对形变阻 力有贡献。
这个力可以分解为x方向的力(Fx)和y方向的力(Fy):
FxA →B = FrA →B cosθ = GbAbB x 2π x 2 + y 2
注意:螺位错的滑移面是任意的,所有方向的受力 都是作用
B位错在x方向受力是B位错在滑移面 上的受力。 A 位错在 B 位错滑移面上 滑移方向的分切应力为(τxy)A,故B位 错在x方向受力为:
位错错排能随位错核心位置呈周 期性的变化,使位错倾向于位于 滑移面上P-N能谷位置。热激活 使位错在某些地方翻越P-N势能 而出现弯结。 在弯结处位错从一个能量值 位置延伸到相邻的极小值位置。 弯结的形状和长度m取决于EP。 • 一方面,位错力图尽可能多 地位于 P-N 势能的极小值位 置,使m=0; • 另一方面,位错也尽可能地 缩短长度来降低能量,得出 m>>a的直线。
一些金属的理论强度与实验强度的比较
晶体
Ag Al Cu Ni Fe Mo Nb Cd Mg (柱面滑移) Ti (柱面滑移) Be (基面滑移) Be (柱面滑移)
理论强度 (G/30)GPa
2.64 2.37 4.10 6.70 7.10 11.33 3.48 2.07 1.47 3.54 10.32 10.32
16
1, 平行螺型位错之间的交互作用
SA 和 SB2 个平行 z 轴的右螺位错, 柏氏矢量分别为bA和bB。 A位错的应力:τθz =GbA/2πr,是 唯一的分量,故A位错对 B位错 的作用力为:
(x, y)
F
A→ B r
GbA bB = (τ θz ) A bB = 2πr
FyA →B = FrA →B sin θ = GbAbB y 2π x 2 + y 2
aN sU1 b2
实际内力不是 正弦关系,而 且峰值更低。
4
U1的值就是:
bG U1 = a 2 Ns 4π
2
2π2 Nπ sU1 = τ max = b
Ns b G = 2 b 4π a2πN s
2
bG a
因为a ≈ b,所以理论强度近似为G/2π。因为原子间 的斥力的短程性,能量曲线不是正弦形的,所以上 面的估计是过高的,τmax的更合理值约为G/30。理论 切变强度和切变模量相差约1个数量级。但是,实验 测定的切变强度比理论切变强度低2~4个数量级。 1934年,G.L. Taylor, M. Polanyi, E. Orowan 提出 晶体中的位错模型。1956年,Menter在电子显微镜 5 下观察到了铂钛花青晶体中的位错。
第6章 有序介质中 的点缺陷和线缺陷
(第三部分线缺陷)
1
6.2.8 位错运动
晶体塑性变形机制是晶体的某些晶面相 对切动产生永久变形。 这一过 程的宏 观描述
这一过程 的原子尺 度的描述
2
6.2.8.1 理论切变强度
设切动面每个原子的原子间势函 数U(x)近似地用余弦函数表示
2 πx U ( x) = U 0 + U1 cos b
12
6.2.8.4 位错运动与宏观应变的关系
考 虑 一 体 积 为 hld 的晶体,设它仅含 平行的直刃位错, 在外加分切应力下, 位错将滑动而产生 永久变形D。 当一根位错完全扫过滑移面(即 扫过了d距离),则对D贡献为b。 b D= 若走过距离 xi的 i 位错对 D 的贡献 d 应是 (xi/d)b 。若运动位错的数目 是N,则总位移是:
2G 4 πζ 2G 2 πa τP = exp(− )= exp[− ] b b(1 −ν ) (1 −ν ) (1 −ν )
• a ≈ b,设ν = 1/3,τP ≈ 10-4G。这一简单的模型 成功地预测了实际切变强度的数量级。 • EP和τP都和exp(−a/b)成正比,因而若位错处在 低指数面,位错的柏氏矢量是密排方向时,b 9 减小,位错运动要克服的τP最小。
原子间的势函数
原子间的恢复力
3
产生位移所需的切应力τ(x) 表达为:
dU 2π N sU1 2π x τ ( x) = −Ns = sin dx b b
Ns切动面上单位面积上的原子数
在弹性变形范围,应力和 应变服从胡克定律:
τ = Gγ
剪切模量G
γ = x/a
2
G
dτ π a 2π4 N π sU1 2 = = lim γ → 0 dγ b b
• 弹性交互作用—位错与位错、位错与空位、位 错与溶质原子、位错与表面及面缺陷交互作用; • 化学交互作用—位错与溶质位错之间交互作用; • 电交互作用—位错与溶质位错之间交互作用。
6.2.9.1 位错与位错之间的交互作用
两个位错间的交互作用力 ① 两个位错之间的交互作用能随两个位错间距的变化率。 ② 按位错在应力场受力的公式,一个位错的应力场对另 一个位错的作用力。
讨论对B位错滑动的影响: 滑移面平行于xz面,B位错滑动时y坐标是不变的。为了讨论方 便,用n=x/y (=ctgθ)代入Fx式,得
GbAbB n(n 2 − 1) Fx = 2π (1 −ν ) y (n 2 + 1) 2
18
同号相斥
准稳定位置 稳定位置
y x<y x>y
45º
x
异号相吸
令dFx/dn = 0, 得: •n=±2.414(即θ=3π/8)是相斥极大值位置。 •n=±0.414(即θ=π/8)是相吸的极大值位置。 •对应的Fx的最大值为:±0.25Gb2/2πy(1−ν)
4 πζ Gb 2 exp(− ) EP = b π(1 −ν )
8
位错攀越P-N能垒要克服的阻力FP等于[dEm/d(αb)] 的最大值 :
2 πa 4 πζ 2Gb 2Gb ] FP = exp[− exp(− )= b b(1 −ν ) (1 −ν ) (1 −ν )
与上式相应的切应力τP=FP/b,即:
∑x
i =1
N
i
13
• 宏观塑性切应变γp = D/h, • 可动位错密度 ρm = Nl/(hld), 得出塑性切应变的等式 :
γ p = bρ m x
位错移动的 平均距离:
x=
∑x
i =1
N
i
N
应变速率与位错 移动速度的关系:
γp = bρ m v
14
6.2.9 位错与位错以及位错与其它 缺陷之间的交互作用
∂Ecl Gb 2 Fim = = ∂ L 4 πL
这个力相当于在自由表面外侧与位错成镜面对称位置的一个 反号位错对真实位错的作用力,故称映像力。用映像位错的 方法来求自由表面对位错的作用力。
21
6.2.9.3 位错之间的短程交互作用
两个非平行位错在外力作用下靠近时在靠近点附 近有交互作用,交互作用范围取决于两个位错交角 θ 和两个位错间距离 r 的大小 ,作用在长度约为 πrcosθ的位错段上。需要有附加额外的力才能使两 个位错交割,交割后位错有可能留下割阶,割阶对 位错的继续运动会产生阻力。 位错交割