电子显微分析技术及其在材料科学中的应用
电子显微镜的应用与技术

电子显微镜的应用与技术电子显微镜(EM)是一种常用于生物学、材料科学和物理学领域的高分辨率成像技术。
与传统的光学显微镜不同,电子显微镜使用高速电子束代替光束,使得可以达到更高的空间分辨率。
在本文中,我们将探讨电子显微镜的应用、技术以及未来发展。
1. 电子显微镜的应用电子显微镜在现代科学和工程领域中有着广泛的应用。
在生物学和医学领域,电子显微镜被用于分析细胞结构和病原体的形态和组成。
在材料科学中,电子显微镜可以通过成像微观结构和组成,来预测物质的性能和行为。
它也被用于研究材料的缺陷、疏松度和压力,以及研究成分如何影响材料的性能和行为。
2. 电子显微镜的技术电子显微镜的技术包括扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)。
在SEM中,高能电子束被聚焦到非常小的束斑上,然后通过扫描样品进行成像。
样品被铀金膜或其他材料蒙在顶部,这使得电子束通过样品后可以形成显微图像。
在TEM中,样品被放置在电子束的路径上,在样品内部的电子则通过镜头成像。
3. 未来的发展电子显微镜技术的未来发展主要集中在改善分辨率和速度,以及开发更好的样品制备方法。
在分辨率方面,科学家正在研究通过控制电子波的干涉来提高分辨率的方法。
针对制备样品的问题,未来的趋势是开发更智能的样品制备方法,以实现更快的制备速度和更高的可重复性。
总之,电子显微镜技术在生物学、材料科学和物理学中都起着至关重要的作用。
对于科学家来说,电子显微镜成为了解决科学难题的有力工具。
随着电子显微镜技术的不断发展,我们相信它将继续发挥更重要的作用,帮助我们更好地认识自然界和材料科学。
高分辨电子显微学进展及其在材料科学中的应用

显 微 学 ;2 原 子 分 辨 率 的 扫 描 透 射 电 子 显 微 学 ( 原 子 序 数 衬 度 成 像 ) () 或 。两 种 成 像 技 术 均 可 达 到 亚 埃 的 分 辨 率 。介 绍 了这 两 种 技 术 的各 自特 点 及 其 在 功 能 材 料 的 微 观 结 构 缺 陷 表 征 、 电 薄 膜 的极 性 确 定 等 方 面 的 应 铁 用 。随 着 亚 埃 分 辨 率 的 电子 显 微 学 的 发 展 , 它必 将 对 材 料 科 学 、 理 学 、 米 科 学 、 学 及 生 命 科 学 等 产 生 重 物 纳 化
Vo . 7 NO 3 M a . 2 0 12 . r O1
实验 技 术 与方 法
高分辨 电子显微学进展及其在材料科学 中的应用
王 乙潜 ,梁 文 双
( 岛大 学 国家 重 点 实验 室 培 育 基 地 ,山 东 青 岛 2 6 7 ) 青 60 1
摘
要 :简 要介 绍 了 高分 辨 电 子显 微学 的最 新 进 展 。 主要 表 现 在 两 个 方 面 : 1 球 差 校 正 的 高 分 辨 透 射 电 子 ()
a o i r s l t n s a n n r n miso lc r n mi r s o y ( TEM r Z c n r s ma ig t m c e o u i c n i g ta s s in ee to c o c p o S o - o ta ti g n ),c n r a h a s b a e c u —
( liain Baef rS aeKe a o ao y Cut t s o tt yL b rt r ,Qig a ie st ,Qig a 6 0 l,Chn ) v o n d o Unv riy n do2 6 7 ia
全息电子显微术及其在材料科学中的应用

全息电子显微术及其在材料科学中的应用商业计划书:全息电子显微术及其在材料科学中的应用1. 概述全息电子显微术是一种先进的显微技术,通过使用电子束和干涉原理,能够以三维形式记录和再现物体的显微结构。
本商业计划书旨在探讨全息电子显微术的商业应用潜力,并重点关注其在材料科学领域中的应用。
2. 市场分析2.1 全息电子显微术市场全息电子显微术市场正以惊人的速度增长。
预计在未来几年内,全息电子显微术市场的年复合增长率将超过10%。
这主要归因于其在生物学、材料科学、纳米技术等领域的广泛应用。
2.2 材料科学市场材料科学市场也是一个庞大的市场,涉及诸多领域,如制造业、电子行业、航空航天等。
材料科学的发展需要先进的显微技术来研究材料的微观结构和性能,因此全息电子显微术在材料科学领域具有巨大的商业潜力。
3. 全息电子显微术在材料科学中的应用3.1 纳米材料研究全息电子显微术可以提供高分辨率的纳米级别图像,帮助研究人员观察和分析纳米材料的结构和形貌。
这对于研究纳米材料的生长机制、相变行为和性能优化至关重要。
3.2 材料表面形貌分析材料表面形貌对材料的性能和应用起着重要作用。
全息电子显微术可以提供高分辨率的表面形貌图像,并能够捕捉到微观尺度的细节,帮助研究人员深入了解材料表面的特征和变化规律。
3.3 功能材料研究全息电子显微术还可以用于研究功能材料的结构和性能。
通过观察和分析全息电子显微图像,研究人员能够获得关于功能材料内部结构和相互作用的重要信息,从而指导材料的设计和优化。
4. 商业模式4.1 全息电子显微术设备销售公司可以开展全息电子显微术设备的销售业务,向科研机构、大学和企业提供高质量的全息电子显微设备。
同时,公司还可以提供售后服务和技术支持,确保客户能够充分利用设备进行研究。
4.2 技术咨询和培训公司可以提供全息电子显微术的技术咨询和培训服务,帮助客户了解全息电子显微术的原理和应用,并指导客户在材料科学领域中的具体应用。
EBSD分析技术及其在材料科学研究中的应用

!"#$ 分析技术及其在材料科学研究中的应用
黄文长, 冯继军
(东风汽车有限公司 工艺研究所, 湖北 十堰 !!"##$ ) 摘要: 介绍了 ,-./ 技术的基本原理、 试验分析方法。通过安装 ,-./ 附件的扫描电子显微镜, 可以对块状样品进行 亚微米级的晶体结构进行分析, 使显微组织形貌观察、 微区化学成分分析及晶体学数据分析相互联系起来, 拓展了扫 描电子显微镜的功能及应用。 关键词: ,-./ 分析技术;材料;科学;应用 中图分类号: 012234"& 文献标识码: 5
!"!
#$%& 试验分析方法
除了扫描电子显微镜外, %&’( 系 统 一 般 由
荧光屏、 图象处理系统和计算机系统组 ::( 相机、 样品高角度倾斜 (约 8"; ) 成。在进行 %&’) 采集时, 以增强背散射信号, ::( 相机和荧光屏相连, %&’) 经图象处理系统放大后输入到计算机系统,然后用 软件对采集的 %&’) 进行识别、 标定和后续计算 (如 取向图 :<= 、极图、反极图、取向分布函数 <(> 等) 。目前, %&’( 系统通过对 ’%= 电子束和样品台 进行自动控制, 实现了 %&’) 的自动采集和标定, 可 以在短时间内获得大量的晶体学信息。 由于非弹性散射电子束来源于样品表层几十纳 米范围内,样品的表面状态对于 %&’) 的质量有很 大的影响。 样品表面应无严重形变层且不得充电。 对 于金属样品表面的加工变形层,可用化学或电解抛 光来消除, 也可采用软质抛光材料 (如硅胶) 进行抛 光去除。此外, 也可以采用离子溅射减薄, 去除金属 或非金属样品在研磨抛光过程中形成的加工变形 层。 一般碳钢用 #! 硝酸酒精腐蚀, 铝合金可用 !! 氢 氟酸进行腐蚀。 对于非导电样品, 不能用喷镀金属导 电膜来防止电荷积累, 可将样品加工成小块, 并在分
电子显微分析技术及应用

电子显微分析技术及应用材料测试技术是材料科学与工程研究以及应用的重要手段和方法,目的就是要了解、获知材料的成分、组织结构、性能以及它们之间的关系,即材料的基本性质和基本规律。
同时为发展新型材料提供新途径、新方法或新流程。
在现代制造业中,测试技术具有非常重要的地位和作用。
材料的组织形貌观察,主要是依靠显微镜技术,光学显微镜是在微米尺度上观察材料的组织及方法,电子显微分析技术则可以实现纳米级的观察。
透射电子显微镜、扫描电子显微镜和电子探针仪等已成为从生物材料、高分子材料到金属材料的广阔范围内进行表面分析的不可缺少的工具。
下面将主要介绍其原理及应用。
1.透射电子显微镜(TEM)a)透射电子显微镜 b)透射光学显微镜图1:透射显微镜构造原理和光路透射电子显微镜(TEM)是一种现代综合性大型分析仪器,在现代科学、技术的研究、开发工作中被广泛地使用。
所谓电子显微镜是以电子束为照明光源的显微镜。
由于电子束在外部磁场或电场的作用下可以发生弯曲,形成类似于可见光通过玻璃时的折射现象,所以我们就可以利用这一物理效应制造出电子束的“透镜”,从而开发出电子显微镜。
而作为透射电子显微镜(TEM)其特点在于我们是利用透过样品的电子束来成像,这一点有别于扫描电子显微镜。
由于电子波的波长大大小于可见光的波长(100kV的电子波的波长为0.0037nm,而紫光的波长为400nm),根据光学理论,我们可以预期电子显微镜的分辨本领应大大优于光学显微镜。
图l是现代TEM构造原理和光路。
可以看出TEM的镜筒(Column)主要有三部分所构成:(1)照明系统,即电子枪;(2)成像系统,主要包括聚光镜、物镜、中间镜和投影镜;(3)观察系统。
通过TEM中的荧光屏,我们可以直接几乎瞬时观察到样品的图像或衍射花样。
我们可以一边观察,一边改变样品的位置及方向,从而找到我们感兴趣的区域和方向。
在得到所需图像后,可以利用相机照相的方法把图像记录下来。
现在新一代TEM也有的装备了数字记录系统,可以将图像直接记录到计算机中去,这样可以大大提高工作效率。
电子显微学在材料科学中的研究应用

电子显微学在材料科学中的研究应用电子显微学是一种高分辨率的显微学技术,在材料科学中有着广泛的应用。
它可以通过束缩小的高能电子来照射样品,从而观察到其微观结构和化学组成。
电子显微学技术主要包括透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子能谱分析(EDS)等,每种技术都有其独特的优点和应用范围。
首先,透射电子显微镜是一种在材料科学中最常用的电子显微学技术之一。
这种技术可以用来观察材料的微观结构,例如晶格、晶界、表面形貌等。
例如,透射电子显微镜可以用于研究材料的晶化和生长过程、界面多级结构、异形晶体的形成和演化等方面。
这种技术的优势在于其能够提供高分辨率的影像,使得研究人员可以更加准确地描述和了解材料的结构和特性。
其次,扫描电子显微镜也是一种广泛用于材料科学研究的电子显微学技术之一。
与透射电子显微镜不同,扫描电子显微镜可以用来研究材料的表面形貌和微观结构。
这种技术的优势在于,它可以提供高分辨率的三维表面形貌信息,并且能够观察研究超小微区,如材料表面的纳米结构、微区变形和腐蚀过程等。
最后,透射电子能谱分析是一种分析样品化学成分的技术。
这种技术通过电子示范的方式研究样品的元素分布和化学组成,可以辨别各种化学元素并检测它们在样品中的含量。
透射电子能谱分析可以用于研究材料的热力学过程、材料的物理和化学性质等方面。
总体而言,电子显微学技术在材料科学中具有广泛的应用。
它可以广泛地被用于研究不同类型的材料,例如晶体、生物样本、高分子材料等等。
在研究领域内,各种电子显微学技术和科研方法的研究和使用也在进行中,它能帮助我们更好地了解和解决材料科学中的各种问题。
总而言之,电子显微学技术在材料科学中是一个极其重要的工具,它在深入理解材料微观结构、表面形貌和化学成分等方面发挥着重要的作用。
未来,也有必要通过不断的研究和改进,促进电子显微学技术在材料科学中的应用,将其应用于更加详细和深入的研究,帮助我们更好的认知和发展材料科学。
显微分析技术在材料研究中的应用与发展趋势

显微分析技术在材料研究中的应用与发展趋势摘要:显微分析技术在材料研究中起着至关重要的作用。
它利用不同的原理和方法对材料进行深入观察和分析,以揭示其组织结构、成分特征和功能性能。
本文概述了光学显微镜、电子显微镜和扫描探针显微镜等常见的显微分析技术。
光学显微镜通过可见光的折射、散射和吸收现象实现样品的显微观察和形貌表征。
电子显微镜则利用高速电子束与样品相互作用,获得更高分辨率和详细的图像信息。
扫描探针显微镜可以利用扫描探针对样品表面进行拓扑和化学成分的显微观察。
这些技术在材料研究中具有不同的优势和局限性,并满足不同研究需求。
光学显微镜适用于表面形态和颗粒分析,电子显微镜适用于高分辨率和深度分析,扫描探针显微镜则提供高精度的化学成分信息。
显微分析技术在材料研究中有着广泛的应用,有助于揭示材料的微观性质和特征。
随着先进显微镜技术的发展和改进,未来的显微分析技术将更加强大和多样化,为材料科学的深入研究提供更广阔的空间。
基于此,本篇文章对显微分析技术在材料研究中的应用与发展趋势进行研究,以供参考。
关键词:显微分析技术;材料应用分析;发展趋势分析引言材料研究是现代科学与工程领域的重要组成部分,对于开发新材料、改进现有材料以及解决实际问题具有重要意义。
而显微分析技术作为材料研究中不可或缺的分析工具,具有深入了解材料微观结构和性能的能力。
它可以对材料进行高分辨率观察和深度分析,并揭示其组织结构、成分特征和功能性能。
随着科学技术的不断进步,显微分析技术也得到了极大的发展。
同时,对于显微分析技术的发展趋势的探讨,也有助于我们认识到改进和创新的机会,提高材料研究的效率和质量。
因此,本文旨在为材料科学领域的学者和研究人员提供有关显微分析技术应用与发展的综合指南和参考,促进材料研究的进一步发展与创新等。
1显微分析技术概述显微分析技术是一种广泛应用于材料研究领域的重要工具。
它根据不同的原理和方法,对材料进行深入观察和分析,以揭示其组织结构、成分以及功能性能。
电子显微镜的发展与应用

电子显微镜的发展与应用电子显微镜是一种现代高科技仪器,它通过聚集电子束对材料的显微结构进行观察和分析,是材料科学、物理学等领域中最常用的分析手段之一。
本文将从电子显微镜的历史、原理、技术特点和应用方面进行介绍。
一、电子显微镜的历史电子显微镜是现代显微镜技术中的一种新型仪器,它的历史可以追溯到20世纪30年代末期。
当时人们开始尝试用电子束来取代光束观察物体的微小结构,以期获得更高分辨率的成像效果。
在短短几十年的时间里,电子显微镜技术得到了快速发展,主要表现在以下几个方面:1. 改善电子源的性能,例如提高电子束的能量和亮度,使得电子束更容易穿透厚样品。
2. 发展各种种类的探针,例如扫描探针显微镜、透射电子显微镜、衍射电子显微镜等,不同的探针具有不同的优缺点,可根据具体需求进行选择。
3. 发展样品制备技术,例如离子切割技术、冷冻切片技术、金属薄膜制备技术等,这些技术可提高样品的表面平整度和断面质量,从而获得更高质量的显微图像。
二、电子显微镜的原理电子显微镜的原理主要是利用电子束与样品相互作用所产生的各种信号(例如散射、透射、反射等信号),通过探针来探测这些信号从而获得目标物体的显微结构信息。
下面我们来分别介绍以下两种常用的电子显微镜:1. 透射电子显微镜透射电子显微镜原理与传统光学显微镜类似,通过透射样品的电子束来获得样品内部结构的信息。
透射电子显微镜的分辨率通常可以达到0.1nm左右,是目前分辨率最高的显微镜之一。
它适用于物质结构的研究,例如晶体学、材料学等领域。
2. 扫描电子显微镜扫描电子显微镜则是利用电子束的散射、反射信号来获取材料的表面形貌和组成信息。
其分辨率可以达到纳米级别,具有高度的表面灵敏度。
扫描电子显微镜适用于纳米材料、生物样品以及矿物材料等领域的研究。
三、电子显微镜的技术特点电子显微镜的技术特点主要表现在以下几个方面:1. 高分辨率:电子显微镜的分辨率远远高于光学显微镜,可以达到亚纳米级别,从而获得更为细节的结构信息。
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色差
• 焦距和象转角均随电子速度变化而不同。
• 中心色差 • 旋转色差
f (焦距)∝V/(NI)2 加速电压(V)和透镜电流(I)分别变化△V和△I时,f变化为 △f. 象转角随加速电压和电流的波动而变化,造成象点被拉长,离轴 愈远,象点就被拉得越长。
象散
• 磁透镜的非轴对称会引起象散,但可以采用添加消象 散装置及进行消象散操作进行补偿。
高能粒子与物质相互作用及其 产生的各种信息
• 粒子在固体内的散射:弹性和非弹性散射。 • 原子的激发及去激发过程。 • 能量为E1的电子束入射后与原子碰撞产生各种电 子信息的能量分布。 • 收集和分析各种信息,究竟能表征物质的何种特 性?
粒子在固体内的散射
• 弹性散射:总动能在散射前后守恆,如同原子核的碰撞, 但不包括高能状况下产生的核反应。 • 非弹性散射:总动能中有一部分转化为其他形式的能量。 如激发物质中的电子、离子、光子的发射。这样测量这些 能量的参数,就可以知道被碰撞物质中原子的种类、能量 等信息。
薄透镜的成像
• 透镜可以使光线会聚或发散,使物象放大或缩小。 • 在透镜的光轴上总可以找到一点F,如果把点光源放在 在该点上,则通过透镜后的光线会成为平行光,F点称 为透镜的物方焦点,F点到透镜光心的距离称为物方焦 距。如果入射光为平行光,通过透镜后会被会聚在F’ 点上,称为象方焦点,同样也有象方焦距。 • 正透镜:物在两倍焦聚之外,得到缩小倒 立的实象。物在焦聚之内,得到放大正立 的虚象。 负透镜:物在透镜 前任何位置,得到 缩小正立的虚象。
• 如果物镜为一完整透镜无球差,失焦量取△f,衍射束与透射束之 间的夹角为 ,由图中可看出二波之间的光程差为: • = △f(1+ 2/2)—△f=△f 2/2 将Bragg衍射公式 ~ /d代入 得 =△f (2/2d2) 相应的相位差是: △f =2 /= 2 / [△f(2/2d2)] = △f(/d2)= △f 2(/) • 原来与A波相差90o相位的C波,由于失焦后又移动了相位90o ,这 时C波与A波同相位,合成振幅应为/A/+/C/,因此在这个平面上每 隔间距d(黑点所示)就会出现亮点,相位衬度被显示出来。当 △f 为正,n =1时,合成振幅为/A/+/C/,出现正反差;当n =3时, 合成振幅为/A/—/C/,出现负反差,所以相位衬度只有在一定的失 焦量下才能被显示出来。 • 在实际情况下,完整的、无球差的物镜是没有的,所以还要考虑 物镜球差对电子波相位的影响。 • 如果所有的衍射光束参与成象,象就能不失真的反映出物的细节, 但实际上是不可能的,因为必须考虑物镜球差的影响,需要选用 适当大小的光阑。
球差
• A—物平面 N—高斯平面(通过旁轴电子形成的象点, 与轴线垂直作一平面) M—最小糢糊圆 α 0—孔径角(发射电子相对于中心束的最大夹角,电镜中一般为 10-2—10-3弧度) 非旁轴电子对旁轴电子来说,增加了附加偏转会聚能力,在更靠 近物的地方聚焦。球差不能完全消除,减小α 0可减少球差,因此 需要采用增加光阑的办法。
光学显微镜的光学系统
• 透镜1、2构成物镜,透镜3、4构成目镜。从A—B物体 上反射的光线通过物镜,在透镜内折射后落到目镜的 透镜3上,并在透镜3的后面形成一倒立的放大实像 B’—A’,在这个地方放置一个目镜光阑,限 制边缘部分的光线。通过放大镜4观察物像 B’—A’,构成一倒立放大的虚像B”—A”。
相位衬度
•
从电子波动性来看,入射 电子中的透射波与散射波之间有相位差 (特薄的样品除外)。样品各部分散射波的强弱不同,透射波与散 射 波合成成象时就会出现明暗的差别,称为相位衬度。 • 当试样很薄时,可以忽略电子的非弹性散射影响,电子在逸出样 品下表面时,振幅几乎没有变化,可以认为只有相位变化。但是从 荧光屏上观察不到电子波的相位变化,而只有将相位的不同转化为 振幅的不同后才能从荧光屏上观察到。A为透射波,C为散射波, A+C的合成波为B波。当A与C波重新在相面上组合,若物镜为完整 透镜、正聚焦以及无光阑的情况下,此时象面与物面为严格的共轭 面,成为一片亮的象而无细节,不能反映相位衬度。
0ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
cosα )/eH
• 3 实际情况是利用靠近轴旁的那部分电子来成象,α 角
非常小(10-2 ∽10-3弧度),从P出发的电子,都将会 聚在P’处。
电子显微分析仪器工作的基本原理
• 电子在磁场中运动时受到劳伦兹力的作用会发生偏转。 只要设计出合理的磁场强度和分布——磁透镜,电子 通过该磁透镜就会发生聚焦。因此,磁透镜对电子束 来说,也具有像玻璃透镜对可见光一样的参量——焦 点、焦距、焦面。 • 具有一定能量的离子、电子和光子束与物质相互作用 时,可产生各种不同的信息,收集分析这些信息,就 可以了解被作用物质的特性。如果能将这种“三子” 聚焦成微细束斑,则可进 行物质的微区分析工作。
电子显微分析技术及其在 材料科学中的应用
材料科学的发展需要有现代分析方法作 为基础和支撑
• 确定材料的成分和体系(金属、陶瓷、高分子、复合材料; 结构、功能材料)后, 再结合制造加工工艺的优化,改变 和控制晶体结构及显微组织,这样,才能使材料的使用性 能提高到一个新的水平。 • 现代工艺设备及技术的发展支持了制造工艺的发展和进步。 • 现代分析技术及仪器设备的发展支持了对晶体结构和显微 组织研究的深化。 • 现代测试方法及仪器设备的发展支持了对材料性能(自身 具备的)和使用性能(自身具备的性能和环境条件结合后 表现的性能)的测试研究。
二次电子能谱分布
透射电子显微镜
• 电镜的光路图
总放大倍数 MT=M0*MI1* MI2*MP M0=50 MI1=3 MI2=15 MP=220 则 MT≈500,000
• 改变放大倍数时,通常 是改变中间镜的强度, 变弱时,中间镜的物平 0 1 面向物镜移动,因为投 影镜的强度固定不变, 则中间镜的象平面必须 不变,这样,要靠调节 物镜来聚焦。
•
原子的激发及去激发过程
• 原子的激发 及去激发过程——光子、X射线及俄歇电 子的发生。 • 由于这种原子去激发过程时释放的能量与原子的电子 壳层结构有关,因此,收集分析这些去激发过程时释 放的光子、X射线及俄歇电子的 能量,就可以了解原子的种类。
能量为E1的电子束入射后与原子碰撞产生 各种电子信息的能量分布
电子在均匀磁场中的运动轨迹
• 1 电子的初速υ 0与磁场强度H垂直时,受到的 Lorentz 力F=eυ 0 H, 半径 R=(mυ 0 )/ (eH) • 2 电子的初速υ 0与磁场强度H斜交成α 角,电子的运 动轨迹最终是一条螺旋线。
υ z=υ 0 cosα , υ ⊥=υ 0 sinα , R=(m υ 0 sinα )/eH, h=(2π mυ
电子的波长与加速电压的关系
电子的波长:λ h / mv-----------------(1) h—普朗克常数; m—电子质量; v—电子速度. • 动能等于位能,电子的速度与加速静电位 有一定的关 系 . 1/2 mv2e---------------(2) v2e / m---------------(3) 代 入 (1) 得 λ h / 2e m 150/ (Å)---(4) 若 100kV, λ 0.04 Å • 光学玻璃透镜最大孔径半角为 70——75o ,分辨率可 以达到照明光波长的 1/2 。但是电子显微镜的孔径半 角很小,大约在 10-2——10-3 弧度左右。所以电子显 微镜的分辨率约为2 Å水平,比光学显微镜高1000倍 左右。
光的反射、折射和全反射
• 反射:入射角等于反射角 i = i” • 折射:当光线由折射率比较小的介质(如空气)进入 折射率比较大的介质(如玻璃)时,折射光线靠近法 线;反之,折射光线将偏离法线。n sin i = n’sin i’, n、 n’分别为介质1和2的折射率。 • 全反射:当光线由折射率大的介质向折射率小的介质 入射时,随着入射角的增大折射角将增加得更大。这 时反射光增强,折射光减弱。当入射角大于临界角 ic 时,只有反射光而没有折射 光,称为全反射。
Fresnel(费涅尔)条纹
• 电子光源的直接波和来自微孔边缘的散射波发生干涉 而呈现的明暗条纹图。常用微栅孔的 Fresnel 条纹的 对称性来判别物镜象散和进行消象散操作。 • 两束电子之间的光程差为:(Z/cos—Z),如满 足 n =(Z/cos—Z),则相互干涉后会行成一系列 的强度条纹( Fresnel条纹)。是电子束通过薄膜后 产生的相位差。
振幅衬度和衍射衬度
• 样品中质量厚度大的部分被挡掉的弹性散射电子数多,在象中相 应的部分就成为较暗的地区,形成振幅衬度。 • 晶体中的原子作周期排列,入射电子与它们相碰撞时会在某些特 定方向产生很强的散射波,这就是通常所说的Bragg衍射。 2dsinθ =nλ .这样,用透射电子束成象时,取向不同的晶粒就可以 得到不同的衬度,反应出它们不同的取向,形成衍射衬度。 • 衍衬象 中心暗场衍衬象
衬度的形成
• 衬度: 图象各个部分光强度的差别。 • 样品各个部分对电子不同散射 的特性构成了象的衬度差别。散射 特性与Z,A,t,P,V 等有关,电子受重原子(Z大)弹性散射 的可能性大,快速电子受弹性散射的可能性小,质量厚度大, 则 弹性散射的可能性大。 • 电子通过(入射 )样品原子的静电场时,两者作用的结果可表现 为运动方向和能量的改变,当电子的路径到原子核之间的径向距 离很小时,电子主要受原子核场的作用,由于原子核的质量比电 子的大得多,所以电子运动的方向将有较大的改变,能量转移很 小,产生弹性 散射。 θ = 0.01-0.1弧度。 • 当电子路径与原子核之间距离较大时,入射电子受到的主要是原 子中电子的厍伦场作用。作用结果使入射电子的散射角较小而能 量损失的几率较大,产生非弹性散射 。θ ≦10-4弧度。 • 根据衬度形成的原因,可分为振幅(质量)衬度、衍射衬度和相 位衬度。