双层金属工艺中的IMD—PETEOS

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金属板覆膜技术

金属板覆膜技术

金属板覆膜技术金属板覆膜技术是把塑料膜和金属板通过高温热压,将膜贴在金属板上的加工技术。

覆膜技术在1977年诞生于日本,最初用于制罐,可代替内涂、外涂技术,到现在为止已发展到了建材内外装饰装修、家电、汽车等多种领域。

覆膜加工由于不使用粘着剂、溶剂,所以不含甲醛,且塑料膜可经过美化装饰、抗菌、防染等处理,确保了人体的安全性和健康、同时又起到了环保的作用。

应用于制罐行业的覆膜板,俗称为覆膜铁(LaminatedSteel),是采用PP薄膜与马口铁进行覆合而成。

传统的金属罐内侧都必须经过涂装加工,而涂装方法所含有的物质,对人体和环境都会产生有害影响,尤其是食用罐头,现在的处理方法是在罐的内壁采用树脂进行涂装。

但是,因这种涂装工艺所使用的涂料里含有环境激素的有害物质-双酚A类(Bis-phenolA)物质,是一种国际公认的环境激素,而且可能出现溶出的问题,一旦溶出超标,会对人体产生不良影响。

且这个问题导致的严重后果已经引起国内外的重视。

金属板覆膜技术的诞生,是金属罐生产的革命性进步。

随着它的广泛应用,传统金属罐生产工艺和技术将得到颠覆,生产率、生产成本、清洁卫生、环境保护等各个方面也都将前进一大步。

一、覆膜板的特点覆膜板是比传统印涂马口铁更具优良的耐深冲、耐磨、耐腐蚀和装饰性等特点的一种兼有高分子树脂薄膜和金属板材双重特点的金属材料。

这一特点决定了覆膜板可以使用冷轧板作为基材,快速与套印精确的印刷薄膜覆合,因此,覆膜板大大降低了材料成本。

1、覆膜板具有优良的性能(1)覆膜板的耐腐蚀、抗锈蚀等特性,是涂料板不能比拟的。

因为是塑料薄膜的复合板,所以涂料板存在耐腐蚀性和附着力的矛盾,对于覆膜板而言就是轻易解决了,这对番茄罐、二片罐等食品罐来说,覆膜板是理想的材料。

(2)覆膜板外观光洁、爽滑、装饰性好、手感好。

(3)覆膜板化学稳定性好、耐候性能、耐老化,可以适应恶劣的环境而不会发生脱落和锈蚀。

(4)覆膜板加工性能优良,具有耐深冲、耐磨,在加工中不易破损。

IMD工艺介绍

IMD工艺介绍

IML工艺介绍(本公司采用的工艺)一、IML的概念IMD(In-Mold Decoration)是一种在注塑模具内放置Film薄膜来装饰塑胶外观表面的新技术。

目前IMD有两种制造方法,一种是把印刷好的Film薄膜制作成循环滚筒卷状带,安装到注塑机和注塑模具内,象标签Label贴到前模面上全自动地循环带移动式的生产出来;即人称之为IMD(在模具内转印注塑)。

另一种是把Film薄膜(即PET片材)印刷好经过成型机Forming成型,再经过剪切后放置到注塑模具内生产出来的。

即称之为IML(在模具内贴膜注塑)。

此Film一般可分为三层:基材(一般是PET)、油墨层(INK)、胶合材料(多为一种特殊的粘合胶)。

当注塑完成后,通过粘合胶作用使Film和塑胶紧密结合融为一体,由于本身正表面覆耐磨保护膜的PET在最外层,有耐磨和耐刮伤的作用,其表面硬度可达到3H,而且会越摸越亮。

其中注塑材料多为PC、PMMA、ABS等。

注:此工艺其产品的断层结构为:PET片材 +油墨层+塑胶层二、IML的工艺工序裁料---平面印刷---油墨干燥固定---贴保护膜---冲定位孔---热成型---剪切外围形状---材料注塑成型。

工艺流程如下:1)裁料:把卷状的薄膜Film裁剪成已设计好尺寸的方形块,供印刷、成型工序用。

2)平面印刷:根据要求的图标、文字制造成菲林网,在裁剪好的薄膜 Film方形块上印刷图标、文字。

3)油墨干燥固定:把印刷好的薄膜Film方形放置在高温烤炉里干燥,目的是固定IML油墨。

4)贴保护膜:避免在冲定位孔工序时弄花已印刷好的薄膜Film表面,有时需贴上单层或双层保护膜。

5)冲定位孔:热成型的定位孔一定要冲准。

剪切工序的定位孔有时也要事先冲孔。

6)热成型(高压或铜模):把印刷好的薄膜加热后,用高压机或铜模在预热状态下成型。

7)剪切外围形状:把成型好的立体薄膜的废料剪切掉。

8)材料注塑:把成型后跟前模立体形状一模一样的薄膜放到前模上,注塑出IML成品。

第14章集成电路版图设计资料

第14章集成电路版图设计资料

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MOS dummy
• 在MOS两侧增加dummy poly。
• 添加dummy管,可以提 供更好的环境一致性。
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RES dummy
• 类似于MOS dummy方法增加dummy,有时会在四 周都加上。
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CAP dummy
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• 第二张mask定义为active mask。 有源区用来定义管子的栅以及允许注入的p型或者n型扩散的源漏区。
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• 第三张mask为poly mask: 包含了多晶硅栅以及需要腐蚀成的形状。
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• 第四张mask定义为n+mask, 用来定义需要注入n+的区域。
• 不同的工艺线和工艺流程,电学参数有所不同。
• 描述内容:晶体管模型参数、各层薄层电阻、层与层间的 电容等。
• 几何设计规则是图形编辑的依据,电学设计规则是分析计 算的依据。
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• 完成一个反相器的版图设计
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Interconnect
• 关键走线与左右或上下走线的屏蔽采用相同层或 中间层连接VSS来处理。
• 也可增大两者间的间距来减少耦合。
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Guard Ring的设计
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深阱guard ring

mdbe工艺原理

mdbe工艺原理

mdbe工艺原理MDBE工艺原理,简称为Metal Drop Bonding and Etching(MDBE),是一种先进的微纳加工技术,用于制备具有微米级尺寸的金属结构。

该技术主要包括金属点状沉积和蚀刻两个步骤,通过这两个步骤的反复重复,可以制备出各种形状和尺寸的金属结构。

MDBE工艺的原理主要包括以下几个方面:1.金属点状沉积:首先通过电化学方法,在衬底上生成微米级的金属点状区域。

通常使用的金属有银、铜、金等。

这些金属点的形成可以通过控制电位和电流密度来实现。

该步骤的目的是为了提供金属结构的基础种子,以便后续的金属生长。

2.金属生长:通过电镀或电沉积的方法,在金属点上沉积金属,使金属结构逐渐生长。

这一步骤的实现需要控制电镀液中的离子浓度和金属沉积速率,以确保金属结构的尺寸和形态得到精确控制。

3.蚀刻:在金属结构生长完毕后,通过化学蚀刻的方法,将衬底部分暴露在外,并去除多余的金属。

化学蚀刻的方法可以根据金属结构的材料不同而有所不同,常见的蚀刻液有酸性、碱性和氧化蚀刻液。

通过控制蚀刻液的成分和温度等参数,可以控制腐蚀速率,从而实现对金属结构的精确蚀刻。

4.反复重复:以上两个步骤的反复重复,可以实现金属结构的多次生长和蚀刻,从而制备出复杂的金属微结构。

MDBE工艺的优点主要包括以下几个方面:1.高灵活性:MDBE工艺适用于制备多种金属结构,可以实现不同形状、尺寸和复杂度的金属微结构。

2.高精度:MDBE工艺可以实现对金属结构的精确控制,尺寸和形态可以达到亚微米级别,满足微纳器件对精细结构的需求。

3.成本低廉:MDBE工艺相对于传统的微纳加工方法,具有较低的成本,不需要昂贵的设备和复杂的加工步骤,可以在普通实验室中进行。

4.生产效率高:MDBE工艺可以实现大面积的金属结构制备,并且具有较高的加工速度和效率。

总之,MDBE工艺通过金属点状沉积和蚀刻两个步骤的反复重复,可以制备出具有微米级尺寸的金属结构。

双金属加工工艺

双金属加工工艺

双金属加工工艺双金属加工工艺是一种常见的金属加工方法,它利用两种不同金属的性质差异,通过热处理、冷却等工艺手段将它们紧密地结合在一起,从而形成具有特殊性能的双金属材料。

下面将介绍双金属加工工艺的原理、分类、应用以及未来发展方向。

双金属加工工艺的原理是基于不同金属的热膨胀系数不同。

在加工过程中,先将两种金属片按照一定比例堆叠在一起,然后通过热处理使其达到一定温度,使两种金属片发生热膨胀。

由于两种金属的热膨胀系数不同,导致两种金属在加热过程中出现不同程度的变形。

然后通过冷却使两种金属片重新收缩,形成紧密结合的双金属材料。

根据不同的双金属材料组合和加工工艺,双金属加工工艺可以分为多种类型。

其中,最常见的是层合式双金属加工工艺。

该工艺是将两种金属片堆叠在一起,并通过加热和冷却使其结合。

另外还有扩散式双金属加工工艺,该工艺是通过控制两种金属片的扩散速度,使其在接触面上形成相互渗透的层。

此外,还有爆炸焊接、激光焊接等特殊的双金属加工工艺。

双金属加工工艺在工业生产中有着广泛的应用。

首先,双金属材料具有优良的物理性能和化学性能,可以满足不同工业领域对材料性能的要求。

例如,双金属材料可以同时具备高强度和高耐腐蚀性,适用于制造化工设备、海洋设备等。

其次,双金属材料还可以实现不同材料的功能整合,提高产品的综合性能。

例如,双金属材料可以将高硬度材料和高韧性材料结合在一起,用于制造刀具、机械零件等。

此外,双金属材料还可以用于制造传感器、电阻器等电子元器件。

随着科学技术的不断发展,双金属加工工艺也在不断创新和进步。

未来,双金属加工工艺将继续发展出更多的新型工艺和新材料。

例如,目前研究人员正在探索利用纳米技术和3D打印技术改进双金属加工工艺,以实现更精细、复杂的双金属结构。

另外,随着人们对环境保护和可持续发展的要求不断提高,双金属材料的可再生性和可降解性也将成为研究的热点。

双金属加工工艺是一种重要的金属加工方法,它通过将两种不同金属结合在一起,形成具有特殊性能的双金属材料。

imd工艺案例

imd工艺案例

imd工艺案例
IMD(IML、IMR、IMF)是一种模内装饰工艺,将印刷完成的薄膜利用不同型式置入模具,经射出成型后,得到具有印刷质感之成型产品。

以下是IMD工艺的一个案例:
产品:车用烟灰盒装饰件
在塑件的结构上,要求外观整洁美观,不能有污点及微尘,表面不能有缺陷或缩影。

在制造过程中,薄膜成型模具的设计是模内注射是否成功的关键。

工艺流程:
1. 裁料:将印刷完成的薄膜裁剪成适当的大小和形状。

2. 平面印刷:在薄膜表面进行平面印刷,以增加美观和辨识度。

3. 油墨干燥固定:确保油墨在薄膜表面固定,不会在后续的加工过程中脱落或变形。

4. 贴保护膜:在印刷完成的薄膜表面贴上一层保护膜,以防止在加工过程中对表面造成损伤。

5. 冲定位孔:在薄膜上冲出定位孔,以确保在置入模具时能够准确对位。

6. 热成型:将印刷完成的薄膜加热并放入模具中,利用热压成型技术将其成型为所需的产品形状。

7. 剪切外围形状:根据产品要求,将多余的边缘部分剪切掉,使产品更加整洁美观。

8. 材料注塑成型:将已成型的薄膜放入注塑模具中,注入塑料材料进行注塑成型,得到最终的成型产品。

通过以上工艺流程,可以得到具有印刷质感的车用烟灰盒装饰件。

这种工艺不仅可以提高产品的美观度和辨识度,还可以增强产品的耐用性和抗刮性。

以上内容仅供参考,建议查阅专业书籍或咨询专业人士以获取更准确的信息。

多层镀工艺

多层镀工艺

多层镀工艺
多层镀工艺是一种用于在金属表面制备多层的特殊电镀工艺。

该工艺在电子、半导体、光学、航空航天等众多领域具有广泛的应用。

以下是多层镀工艺的详细介绍。

多层镀工艺通常包括前处理、电镀、后处理等步骤。

首先,需要对基材进行表面处理,去除表面的油污、氧化物和其他杂质,以确保镀层的良好结合。

接着,根据需要制备所需的镀层材料,如铜、镍、金、铬等,并将其制成适当的溶液。

在电镀过程中,将基材置于电镀槽中,通过电流将镀层材料沉积在基材表面,形成所需的镀层。

最后,对镀层进行后处理,如清洗、钝化等,以提高镀层的耐蚀性和外观质量。

多层镀工艺的关键在于控制镀层的厚度、均匀性和结合力。

为了达到这些要求,需要精确控制电镀参数,如电流密度、时间、温度等。

同时,还需要选择合适的镀液配方和添加剂,以提高镀层的耐蚀性、导电性和耐磨性等性能。

在生产过程中,还需要对镀层质量进行严格的质量控制,包括定期检测镀层厚度、外观和性能等指标。

多层镀工艺具有多种优点,如镀层厚度可调、镀层种类丰富、结合力好等。

同时,该工艺还具有生产效率高、成本低等优点,因此在许多领域得到了广泛应用。

然而,多层镀工艺也存在一些缺点,如对环境影响较大、对操作人员健康影响较大等。

因此,在生产过程中需要采取相应的环保措施和安全措施,确保生产过程的安全和环保。

总之,多层镀工艺是一种重要的金属表面处理技术,在许多领域具有广泛的应用。

通过严格控制电镀参数和选择合适的镀液配方,可以实现高质量的镀层制备。

在生产过程中需要注重质量控制和环保安全措施的实施,以确保多层镀工艺的稳定性和可靠性。

peteos工艺

peteos工艺

peteos工艺peteos工艺是一种基于古老传统而又不断革新的手工艺术,它源自于古代民间传统,经过不断的整合与创新,逐渐演变为一门独特的艺术形式。

peteos工艺的特点在于其精湛的技艺和细致的工艺,每一个制作出来的作品都凝聚了匠人的心血与智慧。

peteos工艺最初起源于一些地方民间的手工技艺,在经过时间的积淀和传承后,逐渐形成了独特的风格和特色。

peteos工艺的制作过程非常繁琐复杂,需要匠人将不同的材料进行精心搭配,再经过多道工序的加工制作而成。

每一个环节都需要精雕细琢,保证最终作品的完美呈现。

在peteos工艺中,材料的选择至关重要。

匠人会根据不同的作品需求,选择不同的原材料进行制作。

有的作品需要用到木材、石材等天然材料,有的则需要利用金属、玻璃等现代材料。

无论是传统还是现代,peteos工艺都能将各种材料巧妙地结合在一起,创造出独具魅力的作品。

除了材料选择之外,peteos工艺中的工艺技法也是至关重要的一环。

匠人需要掌握各种不同的工艺技法,如雕刻、拼接、磨削等。

这些技法的灵活运用,可以使作品更加富有层次感和立体感,给人一种身临其境的感受。

peteos工艺作为一门传统的手工艺术,一直以来都备受人们的喜爱与推崇。

它不仅是一种艺术形式,更是一种文化传承与创新的体现。

随着时代的变迁,peteos工艺也在不断融合和发展,与时俱进,焕发出新的生机与活力。

总的来说,peteos工艺是一门充满魅力与艺术感的手工艺术。

它融合了传统与现代的元素,展现出匠人们的智慧与技艺。

peteos工艺不仅是一种艺术表现形式,更是一种对传统文化的传承与弘扬。

希望peteos工艺可以继续传承下去,为人类的文化艺术事业增添新的光彩。

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双层金属工艺中的IMD—PETEOS
张义强
【期刊名称】《微电子技术》
【年(卷),期】1995(023)006
【摘要】本文讨论了PETEOS在金属层间介质(IMD)上的运用,并就其运用于亚微米CMOS、双层金属工艺中所要求的一些电、机械及结构方面的特性进行了探讨研究。

【总页数】6页(P32-37)
【作者】张义强
【作者单位】无
【正文语种】中文
【中图分类】TN405.97
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3.双层辉光离子渗金属工艺试验的回归分析 [J], 张艳梅;李忠厚;苏永安;徐重
4.基于神经网络的双层辉光离子渗金属工艺预测模型的研究 [J], 徐江;谢锡善;徐重
5.FELLOW CMOS双层金属工艺的门阵列版图设计系统 [J], 薛华;李峰;钱黎明;李劲松;童家榕;章开和;唐璞山
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