LCD 清洗技术简介
LCD清洗技术
LCD清洗技术LCD生产部：胡世义2009-4-18一、概论1.清洗体系的组成 清洗是与人们生活与生产实践关系十分密切的一种劳动。
随着生产力发展和社会的进步，清洗已发展成一门涉及范围广，内容丰富的实用技术污垢是物体受到外界物理的、化学的或生物的作用，在表面上形成的污染层或覆盖层。
通常我们把污垢从固体表面上清除的过程叫清洗。
由于待清洗的物体都存在于特定的介质环境中，因此清洗过程中必然存在3种物质：被清洗的固体物体、存在于固体表面的污垢以及周围的介质。
而在3种物质之间必然存在一定的作用力才能使清洗过程发生。
把这种作用力称为清洗作用力。
因此一个清洗体系包括4个要素，即清洗物体、污垢、介质及及清洗作用力。
清洗过程可以用如下简式表示： 物体*污垢物体+污垢清洗作用力介质2.介质的作用2.1.湿式清洗与干式清洗通常清洗都是在溶液中进行的，如在水、各种水溶液和有机溶剂中进行清洗，把在液体介质中进行的清洗称为湿式清洗。
在有些情况下清除污垢是在空气中或在N2等惰性气体中进行的，这种以气体为介质的清洗式法称为干式清洗。
干式清洗不使用液体，因此有不需要清洗后进行干燥的优点，但由于气体介质使从因体表面解离分散下来的污垢粒子稳定分散的能力不强，所以污垢粒子可能会再吸附到物体表面造成再污染使清洗不彻底。
不过在高精密工业清洗领域往往采用干式清洗可以获得比湿式清洗更高的洁净度。
2.2.介质在清洗过程中的作用2.2.1对清洗作用力起传输作用，如把肥皂直接打在衣服上是不能清洗掉污质的 2.2.2.防止解离下来的污垢再吸附的作用二、清洗材质——玻璃1.玻璃的组成和性质玻璃是由熔融状态物体过冷而形成的无定形状态固体物质。
具有高透明度、硬脆、高阻隔性等特点。
玻璃的化学成分较复杂，其中二氧化硅是构成玻璃骨架的主要成分。
我们所用的玻璃一般为普通钙钠玻璃，是把硅砂，长石，纯碱，石灰石按一定比例混合加热熔融制成的，其中硅砂提供二氧化硅骨架。
2.玻璃表面的性质特点玻璃表面的性质与其内部有明显区别，了解这点对掌握玻璃清洗工艺有很大意义。
LCD替代ODS清洗技术概述
LCD替代ODS清洗技术概述
众所周知，以前LCD行业大量使用的氟里昂、三氯乙烷属于臭氧层损耗物质（ODS），严重破坏地球高空臭氧层，危害人类的生态环境，是国际公约限期停止生产和使用的物质。
国家环保总局外经办发布了《关于消耗臭氧层物质（ODS）清洗剂实行使用许可证的通知》强制减少和淘汰ODS清洗剂，LCD行业已有14家企业参与了《中国清洗行业ODS整体淘汰计划》，并获国际多边基金赠款，其中已有9家企业的替代清洗设备已经完成，即将投入运行。
故选择适合的替代清洗剂及其工艺路线的选择成为当务之急。
一、LCD替代清洗剂及其工艺路线的选择
适用于LCD行业的替代清洗剂有水基清洗剂、半水基清洗剂、溶剂清洗剂三种类型，水基和半水基清洗适用于超声水洗工艺路线，溶剂清洗剂适用于气相超声清洗工艺路线。
表1列举替代清洗技术的比较。
值得一提的是，对于LCD狭缝残留液晶的清洗的速度而言，水基清洗剂远远不及溶剂和半水基清洗剂。
其原因有二：一是水基清洗剂去除LCD残留液晶是以表面活性与液晶的乳化作用为主，乳化对超声的依赖性较大，二是水的表面张力比溶剂大，对狭缝的润湿性能较差。
半水基和溶剂清洗剂对液晶是一种溶解作用。
二、LCD替代清洗技术的成本比较
三、环保清洗剂Fisher 2000系列产品在LCD上的应用。
LCD-清洗技术简介
漂 洗
P3 siliron HS(2 槽) 1- 5%, 45 -60 ℃, 5-10 min. 浸渍＋超声波 P3 siliron LS(2 槽) 1- 3%, 45 -60 ℃, 5-10 min. 喷淋＋刷洗
去离子水 (4-5 槽)
RT - 60 ℃ , 5-10 min. 浸渍＋超声波
刻蚀 Color Filter 曝光 显影
去除边缘，显影
清洗
去除研磨和切割残留物
光阻 BM制程
Array board 光刻制程
Array board 基板玻璃
清洗
曝光
去除光阻
检测
去除边缘
去除光阻
检测
印框胶
面板组合
注射液晶
清洗 去除残留液晶
贴偏振片
检测
下一道工序
LCD基板玻璃表面的污染物
污染物分类 有机污染物 污染物来源 包装纸中的有机物、指 印、油脂等 清洗方法 玻璃清洗剂清洗 碱液清洗
清 洗 P3 kaltfin 20 + P3 Etarap ES 漂 洗 漂 洗 漂 洗 （纯水） 烘 干
85-100℃
1
2
烘箱
过滤器
油水分离器
废水处 理系统 离子交换塔 自来水
贮油槽
活性炭
LCD清洗剂的要求
• 不损害玻璃。 • 对封口胶无害。 – 环氧树脂, 丙烯酸树脂 • 不损害金属。 – 铝, 银, 铜
以X光能量分散光谱仪
(Energy Dispersive Spectrometer)
分析微粒子污染物，确认该微粒 子为玻璃屑
泄漏液晶清洗
一.目的：
对封口、裂片、磨边后之液晶片作清洗工作，主要目的是去除狭 隘中的残留液晶。
什么是LCD端子等离子清洗,以及LCD端子等离子清洗介绍
什么是LCD端子等离子清洗，以及LCD端子等离子清洗介绍
什么是LCD端子等
离子清洗，以及LCD端子等
离子清洗介绍,等离子表面
处理这门工艺现在正应用
于LCD、LED、IC，PCB，SMT、
BGA、引线框架、平板显示
器的清洗和蚀刻等领域。
等
离子清洗过的IC可显著提
高焊线邦定强度，减少电路
故障的可能性；溢出的树脂、残余的感光阻剂、溶液残渣及其他有机污染物暴露于等离子体区域中，短时间内就能清除。
PCB制造商用等离子处理来去除污物和带走钻孔中的绝缘物。
等离子工艺的引入是对这些工艺的一种革新。
低温等离子技术不仅可以实现高洁净度的清洁要求，而且处理过程还是彻底的无电势过程，即在等离子处理过程中，不会在电路板上形成电势差而造成放电。
在引线接合工艺中，使用方等离子技术，可以非常高效地预处理一些敏感易损的零部件，比如硅晶片、LCD显示器，或者集成电路（IC）等，并且不会对这些制品有任何的损伤。
lcd清洗工艺流程
lcd清洗工艺流程LCD清洗工艺流程随着科技的不断发展，液晶显示屏（LCD）已经成为我们日常生活中不可或缺的一部分。
然而，长期使用后，LCD屏幕上会积累灰尘，污渍等杂质，导致显示质量下降。
为了保持显示的清晰度和画质，定期清洗LCD屏幕是非常重要的。
下面介绍LCD清洗的工艺流程。
1. 准备工作首先，需要准备一些清洁工具。
一条柔软的干净毛巾、纯净水、无酒精清洁剂和一个喷雾瓶是必备的清洁工具。
2. 关闭显示屏在开始清洗之前，必须关闭显示屏。
如果显示屏仍在运行，可能会受到清洁溶液的损害。
3. 清洁溶液制备取一个喷雾瓶，将纯净水和无酒精清洁剂按比例混合，制备清洁溶液。
一般来说，一部分清洁剂需要加入10部分纯净水。
但是请确保读取并遵循清洁剂的使用说明。
4. 清洗液应用将清洁溶液均匀地喷在柔软的毛巾上，不要直接喷在LCD屏幕上。
这可以防止过多的液体进入屏幕内。
5. 轻轻擦拭用精湛的手法，轻轻地擦拭屏幕。
使用毛巾的一端开始，然后缓慢移动至屏幕的其他部位。
注意使用柔软的手法，不要过度施加压力以免损坏LCD屏幕。
6. 清洁边框和触摸屏除了屏幕本身，也要注意清洁边框和触摸屏。
使用同样的清洁溶液和柔软的毛巾，轻轻擦拭边框和触摸屏。
7. 去除残留液用一块干净的干毛巾轻轻擦拭屏幕，以去除任何残留的清洁溶液。
8. 重新开启显示屏在确保屏幕完全干燥后，重新开启显示屏。
确保屏幕上没有残留水分，以免损坏电子元件。
总结：以上就是LCD清洗的工艺流程。
为了保持LCD显示屏的清晰度和画质，定期清洗是必要的。
但是在进行清洗时，需要注意使用柔软的工具和轻柔的手法，避免使用含酒精的溶液以及过度施加压力。
正确的清洗方法可以延长LCD屏幕的使用寿命，并提供更好的视觉体验。
LCD 清洗简介
Pollution Source
污染源的种类 污染的危害 污染源
Particle EUV × ◎
Organic ◎ ◎
Particle
1. Pinhole 2. Pattern Defect 3. Signal Open
1. Material Fray 2. Substrate Unpacking 2. C/R Pollution 3. Human Pollution 1. Human Pollution 2. Substrate Unpacking 3. Detergent 4. PR 5. Material Fray
气泡在破裂的时候产生冲击力可以打掉基板表面的大颗粒particlecdadiwbubblecdadiwbubblecjcjcavitationjet利用高压喷出diw可以在housing内产生大量气穴利用气穴破裂产生的冲击力打掉particle
Cleaner Introduction
Reporter: Date: 2006/11/17
HF
氢氟酸： 是HF气体的水溶液。由于玻璃基板在搬送过程中暴露在空气中，容易在膜 层上形成氧化膜，利用氢氟酸可以去除表面的氧化膜。
安全： 1. 氢氟酸易挥发易腐蚀，人体摄入1.5g以上HF会导致立即死亡。 2. 浓度为30%以上的氢氟酸接触人体会立即有疼痛感和皮肤溃烂。 3. 身体任何部位接触低浓度氢氟酸，应当立即用清水冲洗，尤其是眼部和手 指。
CJ
CJ = Cavitation Jet 利用高压喷出DIW可以在Housing内产生大量气 穴，利用气穴破裂产生的冲击力打掉Particle。 通常CJ的压力在10kg/cm2以上，所以必须用专 用的CJ Pump提供动力。 Particle (1um)
投影机光学系统清洗技术标准
投影机光学系统清洗技术标准一、投影机一些指标1、ANSI流明的测试投影机投射全白画面，用光度计（单位LUX）在屏幕上测得九个点（田子型）的照度。
将测得的数据乘上画面面积（m2）得ANSI流明。
平均流明度：将测得九个点的照度的平均值乘上画面的面积，即得到平均ANSI流明。
峰值流明：测得九个点中照度最高的值乘上画面面积即得到峰值流明。
2、色温色温是衡量图像显示设备色彩还原能力的一种重要的指标。
色温偏低，图像偏红，色彩鲜艳度变差。
显示设备的标准色温在6500K（绝对温度），相当于中午12点钟天空有薄云时的太阳光的照度（白光）。
投影机在投射全白画面时，如果画面偏红，说明色温偏低，光学系统故障及灯泡衰老都会引起色温偏低。
3、色纯度色纯是衡量投射的画面各点照度的均匀度，色偏差的程度。
可以通过九个点亮度的测试值的差异看出色纯度的好坏。
4、对比度对比度是投影机亮度全关和全开时的照度的比值，可以通过屏幕投射黑白方块图案，对图案黑块和白快照度的比较估算出来。
光学系统脏污会引起对比度下降。
5、会聚精度这项指标只对液晶（LCD）投影机而言。
LCD投影机采用R、G、B三基色液晶成像，最后通过菱镜混色而成彩色图像。
会聚不良，会引起图像套色偏差现象。
二、投影机清洗程序1、测光，将待清洗的投影机进行测光，并将数据记录在测光表上，以作为清洗后光亮度提高倍数计算的依据。
2、光学系统的清洗1、LCD投影机光学的清洗LCD投影机的光学系统较为复杂，下表详细列出清洁镜片清单2、DLP投影机的清洗DLP投影机主要光学部件有：导管镜、色轮、反射镜、DMD、镜头。
主要清洗色轮、反射镜子、DMD、镜头等。
三、机芯清洁机芯清洁包括、外机、过滤网、风扇、电路板、内机除尘。
四、故障维修在清洗前测试发现投影机有故障，征得客户的同意，提供免费修理（需元器件费用由客户承担）。
五、测光清洗完毕，再进行一次测光，将数据记录在测光表上与先前的数据比较，算出亮度提高的倍数。
e9清洗法去除废弃液晶显示器中的液晶
第32卷第2期2015年6月上海第二工业大学学报JOURNAL OF SHANGHAI SECOND POLYTECHNIC UNIVERSITYV ol.32No.2Jun.2015文章编号:1001-4543(2015)02-0096-08十二烷基硫酸钠清洗法去除废弃液晶显示器中的液晶张刚,徐金球(上海第二工业大学文理学部,上海201209)摘要:液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)是电视、电脑和手机等电子产品的重要部件,其中所含的液晶属于高分子有机化合物。
采用表面活性剂十二烷基硫酸钠(Sodium Dodecyl Sulfate,SDS)清洗法对废弃LCD中液晶的去除进行了研究。
在SDS浓度为1.0g/L、清洗时间为30min、清洗温度为50◦C的条件下对LCD玻璃基板上的液晶进行了清洗,液晶的去除率高达99.6%。
采用BaCl2投加法结晶析出清洗液中的液晶,在BaCl2浓度为1.33g/L 的条件下,清洗液中总有机碳(Total Organic Carbon,TOC)的去除率为97.0%,表明液晶几乎全部结晶析出。
关键词:十二烷基硫酸钠;液晶显示器;液晶;清洗;析出中图分类号:X7文献标志码:A0引言进入21世纪以来,液晶显示器(Liquid CrystalDisplay,LCD)因其具有成像效果好及能耗低等特点而快速取代了阴极射线管显示器成为主流产品,主要应用于液晶电脑、电视及手机等产品中。
2008年底,液晶电视的销量已超过传统的阴极射线管显示器电视。
据资料显示,2013年间,我国液晶电脑、电视及手机的销量分别为2.3亿台、1.2亿台及12亿台。
液晶显示器的报废年限大约为4∼6年,其中以手机更新换代较为频繁。
LCD中所含的液晶及其他材料具有一定生理毒性[1-3],若干年后大量报废的LCD会对环境构成危害,因此,对废弃LCD的正确有效的处理处置已成当今面临的重要问题。
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85-100℃
1
2
烘箱
过滤器
油水分离器
废水处 理系统 离子交换塔 自来水
贮油槽
活性炭
LCD清洗剂的要求
• 不损害玻璃。 • 对封口胶无害。 – 环氧树脂, 丙烯酸树脂 • 不损害金属。 – 铝, 银, 铜
PI 前 清 洗
漂 洗
P3 siliron HS(2 槽) 1- 5%, 45 -60 ℃, 5-10 min. 浸渍＋超声波 P3 siliron LS(2 槽) 1- 3%, 45 -60 ℃, 5-10 min. 喷淋＋刷洗
去离子水 (4-5 槽)
RT - 60 ℃ , 5-10 min. 浸渍＋超声波
刻蚀 Color Filter 曝光 显影
去除边缘，显影
清洗
去除研磨和切割残留物
光阻 BM制程
Array board 光刻制程
Array board 基板玻璃
清洗
曝光
去除光阻
检测
去除边缘
去除光阻
检测
印框胶
面板组合
注射液晶
清洗 去除残留液晶
贴偏振片
检测
下一道工序
LCD基板玻璃表面的污染物
污染物分类 有机污染物 污染物来源 包装纸中的有机物、指 印、油脂等 清洗方法 玻璃清洗剂清洗 碱液清洗
切割后 清洗
P3 siliron AP P3 siliron HS P3 siliron L P3 siliron E
P3 siliron TK P3 siliron TKA
P3 siliron S P3 siliron SA
最新产品：P3 siliron AP 去除研磨剂 P3 siliron SA 去除颗粒，纸屑，玻璃屑，油污
LCD 清洗技术简介
汉高股份有限公司
电子产品的发展方向 TFT-LCD
LCD的结构
透明电极
Color Filter
集成电路
反射片
Black Matrix
玻璃基板
液 晶
导向膜 反射片 光源
Array Board
ITO玻璃制造流程和玻璃清洗剂
母板
CeO 研磨
研磨后 清洗
涂膜前 清洗
ITO 涂膜
切割
UV光照射(O3)清洗 无机污染物 灰尘、玻璃屑或研磨剂 等微粒子(particle) 超音波清洗
喷淋加毛刷清洗 配合溢流与过滤
基板预清洗
一.目的： 对PI 投入前之基板做清洗工作，确保基板之清洁状态。 二.原理： 利用洗剂、毛刷、超音波、IR、UV等装置，将基板上的微粒及油 污清除。
LCD基板清洗
1. 表面活性剂和助洗剂的协同作用，显示出卓越的清洗性能 2. 采用了漂洗助剂，残留物极易漂洗干净。
助洗剂 / 表面活性剂的协同作用
清洗能力 (%)
100 80 60 40 20
助洗剂 + 表面活性剂
助洗剂浓度: 2.0 % 表面活性剂浓度: 0.1 % 清洗温度: 60 °C
助洗剂 表面活性剂 水
0 0 1 3 5 10
Lit. from: Oberfläche-Surface 1984, Rossmann: Reinigung starrer Oberflächen
处理时间 (min)
水洗水
脱脂 水洗
水洗水计算方程式 (简化式)
n Co Cx
L =m 1 2 3
L m n Co Cx
= = = = =
彩色滤光片的制造过程
P3 poleve HP P3 disperse H
BM 基板清洗
光阻 涂布 前段 预烤 紫外线 曝光 去除边缘 显影 后段 烘烤 ITO 制程
重复三次(R,G,B)
玻璃基板
彩色层
黑色矩阵
ITO导电膜
保护层
TFT-LCD 制造流程
金属铬 BM制程
Color Filter 基板玻璃
去离子水 (4-5 槽)
RT - 60 ℃ , 5-10 min. 喷淋＋刷洗
强碱清洗的特点
强碱与玻璃有一定的亲合力，容易在玻璃表面形成碱性覆盖 膜，不易被漂洗除去。为解决碱液吸附残留表面问题，需采 取增加冲洗次数的方法改善，一般清洗设备会设计更多的清 洗和漂洗槽，但这也增加了设备费用成本。
P3 siliron系列玻璃清洗剂的特点
水洗水的消耗 (l/m2表面) 带出量 (l/m2表面) 水洗区的水洗槽数量 最后脱脂槽的浓度 (g/l) 最后水洗槽的浓度 (g/l)
举例: m = 10 ml/m2 表面 Co = 25 g/l Cx = 0.01 g/l 稀释比例=1:2500
消耗量: 1 个水洗槽 2 个水洗槽 3 个水洗槽
LCD 清洗条件
泄漏液晶清洗
清 洗
P3 kaltfin 20 (2 槽)
45 - 60 ℃, 5-10 min. 超声波＋搅拌
漂 洗
IPA (3 槽)
RT - 45 ℃ , 15-20 min. 超声波＋搅拌
P3 kaltfin 20 + P3 Etarap ES (2 槽)
45 - 60 ℃, 5-10 min. 超声波＋搅拌
以X光能量分散光谱仪
(Energy Dispersive Spectrometer)
分析微粒子污染物，确认该微粒 子为玻璃屑
泄漏液晶清洗
一.目的：
对封口、裂片、磨边后之液晶片作清洗工作，主要目的是去除狭 隘中的残留液晶。
二.原理： 利用液晶清洗剂、超音波等装置，配合溢流(overflow)与过滤 (filtration)将狭隘中的残留液晶以及表面的微粒清除干净。 由于STN-LCD工艺是先将液晶盒裁切(裂片)之后才进行清洗，可 以预知液晶盒的玻璃面板边缘与表面，除了沾附液晶分子，亦将 附着许多玻璃屑(微粒子)，所以清洗槽的溢流与过滤功能就显得 非常重要。
25.00 l/m2 表面 0.50 l/m2 表面 0.14 l/m2 表面
LCD基板玻璃清洗条件
控制项目 清洗剂浓度测定: 每天进行一次 电导率法 酸碱滴定 － 总碱 定期添加
约5g/m2
LCD基板玻璃清洗条件
测试方法 水膜浸润度 扫描式电子显微镜(SEM) X光能量分散光谱仪(EDS)
颗粒残留
Pure Water (4 槽或以上)
40 - 60 ℃ , 15-20 min. 超声波＋搅拌
P3 allpass 7000/7750 (2 槽)
45 - 60 ℃, 5-10 min.
超声波＋搅拌
Pure Water (4 槽或以上)
40 - 60 ℃ , 15-20 min. 超声波＋搅拌
LCD 清洗工艺