镀膜技术十个主要问题及答案
电镀基础知识问答汇总搞电镀一定要知道！
电镀基础知识问答汇总搞电镀一定要知道！因此要使自己能胜任电镀工这个岗位，就必须懂一点电镀的基本常识，通过理论上的培训，实践操作合格，这样才能真正的做合格的电镀工。
以下是电镀基础知识汇总的的100个问答，希望能帮到身边的电镀师傅们。
1.电解液为什么能够导电?答:电解液导电与金属导体的导电方式是不一样的。
在金属导体中，电流是靠自由电子的运动输送的，在电解液中则是由带电的离子来输送电流。
在电解液中由于正负离子的电荷相等，所以不显电性，我们叫做电中性。
当我们对电解液施加电压时，由于强大的电场的吸引力，离子分别跑向与自己极性相反的电极。
阳离子跑向阴极，阴离子跑向阳极。
它们的运动使电流得以通过，这就是电解液导电的道理。
2.在电镀过程中，挂具发热烫手，是由于镀液温度太高造成的吗?答:挂具的发热虽然与溶液的温度有关系，但主要的原因是:(1)通过挂具的电流太大。
(2)挂具上的接触不良，电阻增高而使挂具发热。
3.控制电镀层厚度的主要因素是什么?答:控制电镀层厚度的主要因素为电流密度、电流效率与电镀时间。
4.黄铜镀层与青铜镀层是同一样的台金镀层吗?答:不是，黄铜镀层是铜和锌的合金镀层，青铜镀层是铜和锡的合金镀层。
5.法拉第定律是表示什么关系的，试述法拉第的第一定律和第二定律?答:法拉第定律是描述电极上通过的电量与电极反应物重量之间的关系的，又称为电解定律。
法拉第第一定律:金属在电解时所析出的重量与电解液中所通过的电流和时间成正比。
W=KItW——析出物质的重量(g)K——比例常数(电化当量)I——电流强度(安培)t——通电时间(小时)法拉第第二定律:同量电流通过不同电解液时，则所析出金属之重量与各电解液之化学当量成正比。
K=CEC——比例常数。
E——化学当量6.为什么镀件从化学除油到弱酸蚀，中间要经清水洗净?答:因为通常的化学除油溶液都是碱性的，如果把除油溶液直接带进酸腐蚀溶液中，就会起酸、碱的中和反应，降低了酸的浓度和作用。
镀膜机常见故障及分析解决预防措施
镀膜机常见故障及分析解决预防措施一.常见故障,问题及解决方法下表对一些镀膜时常见的故障、真空度问题、及掉膜和膜质问题做了一些简单分析,并给予解决方案及预防措施.12346二.一些基础知识及注意事项和应急措施1. 膜厚控制仪控制参数Soak power1----预熔功率1 约为蒸发功率的一半Soak power2----预熔功率2 也称预蒸镀功率略小于最大功率Maxpower ----最大功率Dep Rate ----蒸发速率Final Thk ----膜厚（波长）Soak time----预熔时间Rise time ----功率上升时间Density ----材料密度检测膜厚原理通过改变探头上晶片的频率（由于膜的蒸发改变了其重量，所以其震动频率发生变化）来计算膜厚，而探头所处的位置和工具因数的设置都影响到测试精度，探头的位置和测试膜厚的关系如小：(1).探头高了,测试得到的厚度<实际得到的膜厚(玻片上厚度)(2).探头低了,测试得到的厚度>实际得到的膜厚(玻片上厚度)(3).工具因数调高,相当于探头位置降低,所以膜厚要增加2. 膜和材料间的关系2.1.U5吸收杂光,影响膜质和亮度.镀的过多,膜会发银;镀的过少,膜发黑,不亮泽,有银色;没镀上,则为银白2.2.U3脱膜剂,影响膜质.镀的过多,膜质稀烂,易脱落;镀的过少,膜会打卷,发硬2.3.SiO2决定颜色2.4.U6基层,影响膜的鲜艳度和亮度3. 均匀性3.1.径向均匀性:同一玻片上部与下部的不均匀,与光斑的调节、材料的料面、坩埚转速和转向、玻片的曲率有关3.2.重复均匀性:同一锅膜的每一套间的不均匀,与真空度的高低、操作者看颜色有关3.3.整体均匀性:同一套膜四块玻片上的均匀性,与光斑的稳定性、工转的转速和蒸发速率的匹配、真空度的高低、径向均匀性有关4. 灯丝问题4.1.放气时要记住关灯丝电源,以免氧化灯丝4.2.初次使用或更换新灯丝,应进行灯丝预热定型处理,以防灯丝加热过快变形.预热时,高压关闭,直接加热灯丝,缓慢加灯丝电流,由几安培加至15A时,维持3-5分钟4.3.灯丝安装a.灯丝不宜太高或太低:太高会造成光斑不可调,容易打烂栅极和阳极片;太低会造成光斑能量太散,不易蒸发b.栅极片应略低于阳极片c.各个压块、引线的接触面应清洗干净避免造成接触不良d.打紧螺钉时应松紧适当，太松会接触不良，太紧会造成“滑丝”5. 轰击条件：真空度4.0Pa到8.0Pa之间时间:20到30分钟轰击棒应用240#砂纸砂干净再用酒精擦一遍再装入真空室轰击完后关闭轰击开关,取轰击棒时应带手套或用包住轰击棒以免被烫伤6. 换机械泵油将油放干净,把出气口的盖板取下,然后取下挡油板,用布将机械泵油腔内擦干净(特别注意死角地方),擦干净后倒点新油盖住出气口开机械泵运行20秒将油放出,这样反复做两到三次,洗干净后即可加油.加油应加到观察油窗伤两条红线之间(油加少了会造成机械泵的抽气性能下降,油加多了会造成抽气时油喷出来).油加好后将挡油板,盖板依次装好.7. 应急措施7.1. 突然停电首先将设备总电源开关关闭(防止突然恢复电力所有用电设备工作造成电流冲击过大),然后将所有开关复位,处在关的状态(开关弹起为关的状态),等待电力恢复如果长时间电力无法恢复应将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使其冷却.设备循环水关小,防止停电时间过长导致循环水无法循环使水流失7.2.停水首先应关闭扩散泵,将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使扩散泵冷却关闭各阀门及机械泵,不能让其长时间在无冷却水的状态下工作导致设备损坏7.3.停气气压低于0.43Mpa时阀门会自动关闭,此时应将各阀门开关复位处在关的状态(开关弹起为关).如果长时间无法恢复供气,则将扩散泵,机械泵等运作的设备关闭,关扩散泵15分钟后打开扩散泵快冷冷却扩散泵。
漆面保护膜美容镀膜的问题及解答
卡古宇ikangaroo镀膜的问题及解答1、自然环境使车漆暗淡无光的因素有哪些？①紫外线②各种污垢的黏附③铁粉的氧化④酸雨⑤凹凸洗车伤⑥树脂鸟粪油性物质⑦水珠透镜（飞漆空调水等）2、“紫外线”是如何伤害车漆的？紫外线会破坏色漆的分子结构，使颜料析出游离树脂之外，造成色漆层的褪色。
3、为什么污垢能使车漆暗淡？车漆表面残留的水滴、洗车用的水、未擦拭干净的钙铁成分，粘土的黏附会让车漆表面凹凸不平，暗淡失色。
4、铁粉是如何氧化车漆的？正常天气下，车体表面的温度可达70-90℃，铁粉的温度可达120℃，当铁粉温度超过车漆表面温度时就会熔进车漆。
以后遇水铁粉生锈从而氧化车漆。
5、车漆上的铁粉从哪里来的？空气中的游离、刹车片、工业产生的铁粉、建筑产生的铁粉等。
6、酸雨是如何腐蚀车漆的？空气中含的硫化物，氧化物，遇到水蒸气从而形成微弱酸性的雨滴，当这些雨滴落在车漆上后，如果不及时洗车，在弱酸中的水份慢慢蒸发后，酸性浓度越来越强，从而腐蚀车漆。
7、凹凸洗车伤是如何形成的？①洗车过程中不干净的海绵毛巾的擦拭②长期使用酸碱过高的清洗液③飞起的鞭炮、飞石，将车漆砸出小凹8、油烟、树脂、鸟粪是如何伤害车漆的？油烟、树脂等物质和车漆的主要成分相似，在空气中会变质，含有酸性，易黏附，易与车漆相溶，在高温下易形成游离态吸附灰尘杂质，鸟粪中含有酸性物质，因此伤害车漆。
9:、水珠如何伤害车漆？水珠如凹凸镜一般，将阳光聚光从而灼伤车漆。
10、镀膜的发展历程？车蜡→封釉→普通镀膜（纳米镀膜）→结晶镀膜（镀晶）11、车蜡的主要组成部分？蜡、溶剂、研磨剂12、车蜡的分类？按形态分液蜡、固蜡、软蜡。
功能是去污、上光。
按成份分石油提炼、植物提炼。
13、釉的主要成分、普通镀膜的主要成分、结晶镀膜的主要成分？①氟素树脂、硅树脂（硅胶类）溶剂②液蜡树脂溶剂混合③硅化物14、结晶镀膜九大特色？1）增加车漆的硬度2）超长的持久性3）防紫外线4）不龟裂、不脱落5）高度柔韧6）质感光泽、增加亮度7）耐高温、抗腐蚀8）良好的疏水性9）无毒不含溶剂低碳环保。
镀膜工艺工程师岗位面试题及答案(经典版)
镀膜工艺工程师岗位面试题及答案1.请简要介绍一下您的背景和经验，以及您之前在镀膜工艺领域的工作经历。
回答：我具有材料工程学士学位，并在镀膜领域有超过8年的工作经验。
我曾在ABC公司担任镀膜工艺工程师，负责开发和改进镀膜工艺，以提高产品性能。
在之前的工作中，我成功地引入了新的镀膜技术，减少了生产过程中的废品率，并降低了成本。
我的经验使我熟悉不同类型的涂层材料、设备和工艺控制方法。
2.镀膜工程师的主要职责之一是开发和优化镀膜工艺。
请分享一次您成功开发或优化工艺的经历。
回答：在我之前的职位上，我们面临着一个挑战，需要将一种新的高性能涂层引入产品线，以提高产品的耐磨性。
我首先进行了广泛的文献研究，了解了不同涂层材料的特性。
然后，我设计了一系列实验，以确定最佳的工艺参数和材料组合。
通过系统性的试验和分析，我成功地开发出了一种具有卓越性能的涂层工艺，提高了产品的寿命。
3.镀膜工艺通常需要严格的质量控制。
请描述一次您如何确保镀膜过程中的质量控制，以保证产品符合标准。
回答：在我之前的项目中，我们采用了严格的质量控制方法，确保镀膜过程的一致性和质量。
首先，我们建立了详细的工艺规范，包括工艺参数、材料规格和检验标准。
然后，我们在生产线上实施了实时监控系统，监测关键工艺参数，如温度、湿度和镀膜速度。
如果发现任何异常，系统会立即发出警报并停止生产，以防止次品的产生。
此外，我们进行了定期的样本检验，以验证产品是否符合规格。
这一质量控制方法确保了产品的一致性和高质量。
4.镀膜工程师需要与供应商合作，获取适当的材料和设备。
请分享一次您与供应商合作的经历，以确保项目的顺利进行。
回答：我曾在一个项目中需要获取一种特殊的涂层材料，市场上很少有供应商提供。
我首先与几家供应商联系，但都没有找到合适的材料。
于是，我开始主动与材料制造商沟通，并分享了我们项目的要求和挑战。
通过积极的合作和技术交流，我们最终共同开发了一种符合我们需求的定制涂层材料。
真空玻璃镀膜常见问题
玻璃镀膜常见问题主要有掉膜、斑点或斑纹、划伤或擦伤、破裂等，具体分析如下：一、掉膜：镀膜玻璃膜层表面出现的局部掉膜或脱膜现象。
主要表现为局部的透光率增强或膜层完全脱落，脱膜形态一般是指点状、团状和片状的。
对掉膜现象，在生产过程中产生的，我们都有严格的标准控制，一般来说，掉膜部位的直径大于2.5mm是不允许的。
产生原因：引起掉膜的原因较多，往往也较难界定，其主要原因有：1、生产方面：因镀膜工艺的原因，在生产中可能会出现一些针状的掉膜，也叫针眼，是溅射镀膜工艺本身无法避免的。
另外，因镀膜原片本身或设备清洗的原因，也有可能造成掉膜。
2、运输掉膜：因玻璃开箱搬运后或切割完后，没有按要求在玻璃片与片之间垫任何衬垫物或垫得不满不平，致使玻璃之间直接接触，在搬运或运输过程中造成玻璃与玻璃膜面直接的相对摩擦而导致掉膜。
这种掉膜一般为点状或团状的掉膜，可用手或检验设备感觉或检查到摩擦的痕迹。
3、腐蚀性掉膜：因玻璃膜面在切割堆放、施工使用或清洗中，因交叉施工或使用了不正确的方法，使得玻璃膜面接触到了酸碱或氧化性物质等，致使玻璃膜面被污染腐蚀而掉膜。
这种掉膜一般能在掉膜面或现场找到腐蚀性物质残留的痕迹。
二、划伤或擦伤：镀膜玻璃表面和其它较硬的物质相对滑动或磨擦造成的线状或带状的伤痕为划伤或擦伤，主要表现为划伤或擦伤部位的玻璃透光率增高，或膜面脱落透亮。
其形态多为不规则的弧形细条状或带状。
产生原因：划伤或擦伤往往是在施工安装使用中产生的，主要有：1、生产方面：由于设备或后清洗的原因，在生产中是存在玻璃划伤可能性的，但这种划伤一般为规则的和直线型的，是能控制和检验出来的。
另外，生产过程中对镀膜玻璃的搬运、装箱也是有可能造成划伤的，原片本身也可能存在划伤。
但客观的说，大片镀膜玻璃因是直接在线用装片机装片，一般是不可能造成划伤的，而强化镀膜玻璃因也是直接贴膜后装箱，膜面一般不会接触其它硬物，所以通常也是不会出现划伤或擦伤的。
看完你就是专家！电镀专业知识问答集结
看完你就是专家！电镀专业知识问答集结慧聪表面处理网讯：1.电解液为什么能够导电？答：电解液导电与金属导体的导电方式是不一样的。
在金属导体中，电流是靠自由电子的运动输送的，在电解中则是由带电的离子来输送电流。
当我们对电解液施加电压时，由于强大的电场的吸引力，离子分别跑向与自己极性相反的电极。
阳离子跑向阴极，阴离子跑向阳极。
它们的运动使电流得以通过，这就是电解液导电的原理。
2、什么是电解？答：当电流通过电解液时，在电极上发生的氧化还原反应使电解质在电流作用下被分解的过程就叫做电解。
通电时电解质的阳离子移向阴极，并在阴极得到电子而被还原成新物质；阴离子移向阳极，并在阳极上失去电子而被氧化成新物质3、金属为什么要进行电镀？答：金属在各种不同环境下使用时，由于外界介质在金属表面上的化学和电化学作用而产生了金属腐蚀。
金属腐蚀的结果，不仅是金属本身的损失，而且由于金属制品结构的损坏而失去使用价值造成人力物力的浪费，其价值比金属本身要大很多倍。
因此，在大量生产金属和金属制品的同时，就必须与金属的腐蚀进行斗争。
电镀工艺是增加金属防护性能及改善金属表面质量的最有效的方法之一。
金属制品电镀就是为了保护金属不受腐蚀、改善金属制品的性能和增加制品表面的美观。
4、什么是电镀？答：借电解作用，在金属制件表面上沉积一薄层其它金属的方法，就叫做电镀。
电镀包括镀前处理（除油、除锈）、镀上金属层和镀后处理（钝化、除氢）等过程。
用于防止金属制品腐蚀，修复磨损部分，增加耐用性、反光性、导电性和美观等。
电镀时将金属制件作为阴极，所镀金属板或棒作为阳极，分别挂于铜制的极棒上面浸入含有镀层成分的镀液中，通入直流电。
在个别情况下，也有用不溶性阳极，例如镀铬时用铅或铅梯合金阳极。
5、试述电镀溶液配制过程。
答：（1）将计量好的所需电镀药品先分别放入开料槽（小槽）内，再加入适量的清水溶解充分后，才能将溶液倒入镀槽内。
（2）溶液所含的杂质，可以先用各种化学方法清除，并以活性炭处理。
镀膜技术员面试题及答案
镀膜技术员面试题及答案一、选择题1. 镀膜技术中，以下哪项不是常见的镀膜方法？A. 真空蒸镀B. 化学气相沉积C. 电镀D. 磁控溅射答案：C2. 在真空镀膜过程中，以下哪个参数对膜层质量影响最大？A. 真空度B. 镀膜速率C. 基底温度D. 镀膜材料答案：A二、填空题1. 镀膜技术中，________是用来测量膜层厚度的仪器。
答案：椭偏仪2. 磁控溅射技术中，通常使用________来增强溅射效率。
答案：磁场三、简答题1. 简述真空蒸镀的基本原理。
答案：真空蒸镀是一种物理气相沉积技术，其基本原理是将镀膜材料在高真空环境下加热至蒸发，蒸发的原子或分子在基底上沉积形成薄膜。
2. 说明为什么在镀膜过程中需要控制真空度。
答案：控制真空度是为了降低气体分子与蒸发材料原子的碰撞概率，减少气体分子对沉积过程的干扰，从而提高膜层的质量和均匀性。
四、计算题1. 如果一个镀膜室的初始压力为1.0×10^-2 Pa，经过抽真空后压力降至1.0×10^-4 Pa，求抽真空后的压力降低了多少百分比？答案：初始压力为1.0×10^-2 Pa，抽真空后的压力为1.0×10^-4 Pa，压力降低量为1.0×10^-2 - 1.0×10^-4 Pa。
降低百分比为[(1.0×10^-2 - 1.0×10^-4) / 1.0×10^-2] × 100% = 90%。
五、论述题1. 论述化学气相沉积（CVD）技术在半导体制造中的应用及其重要性。
答案：化学气相沉积技术在半导体制造中被广泛用于沉积多种薄膜材料，如硅、二氧化硅、氮化硅等。
CVD技术通过化学气体在基底表面的化学反应生成固态薄膜，具有高纯度、高均匀性和可控的薄膜厚度等优点。
在集成电路的制造过程中，CVD技术用于形成绝缘层、保护层和导电层，对提高器件性能和可靠性起着至关重要的作用。
镀膜产品常见不良分析、改善对策（文章虽长，值得品味）
镀膜产品常见不良分析、改善对策（文章虽长，值得品味）镀膜产品的不良，部分是镀膜工序的本身造成的，部分是前工程遗留的不良，镀膜最终的品质是整个光学零件加工的（特别是抛光、清洗）的综合反映，对策镀膜不良时必须综合考虑，才能真正找到不良产生的原因，对策改善才能取得成效。
一、膜强度膜强度是镜片镀膜的一项重要指标，也是镀膜工序最常见的不良项。
膜强度的不良（膜弱）主要表现为：① 擦拭或用专用胶带拉撕，产生成片脱落；② 擦拭或用专用胶带拉撕，产生点状脱落；③ 水煮15分钟后用专用胶带拉撕产生点状或片状脱落；④ 用专用橡皮头、1Kg力摩擦40次，有道子产生；⑤ 膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子。
改善思路：基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力。
膜强度不良的产生原因及对策：① 基片与膜层的结合。
一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因。
由于基片表面在光学冷加工及清洗过程中不可避免地会有一些有害杂质附着在表面上，而基片的表面由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入在破坏层的杂质（如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主要），很难以用一般的方法去除干净，特别对于亲水性好，吸附力强的基片尤其如此。
当膜料分子堆积在这些杂质上时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。
此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附也差，同样会影响膜强度。
硝材化学稳定性差，基片在前加工过程中流转过程中，表面已经受到腐蚀，形成了腐蚀层或水解层（也许是局部的、极薄的）。
膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差，膜牢固度不良。
基片表面有脏污、油斑、灰点、口水点等，局部膜层附着不良，造成局部膜牢固度不良。
改善对策：㈠加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。
㈡加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油汽挥发。
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镀膜技术十个主要问题及答案问题：一、镀膜技术可区分为那几类?可区分为：(1)真空蒸镀(2)电镀(3)化学反应(4)热处理(5)物理或机械处理二、常用的真空泵浦有那几种?适用的抽气范围为何?真空泵浦可分：(1)机械帮浦(2)扩散泵浦(3)涡轮泵浦(4)吸附泵浦(5)吸着泵浦真空泵浦抽气范围：泵浦抽气范围机械泵浦10-1 ~ 10-4 毫巴扩散泵浦10-3 ~ 10-6 毫巴涡轮泵浦10-3 ~ 10-9 毫巴吸附泵浦10-3 ~ 10-4 毫巴吸着泵浦10-4 ~ 10-10 毫巴三、电浆技术在表面技术上的应用有那些?1)溅浆沉积：溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材，使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜，溅射离子的起始动能约在100eV。
常用的电浆气体为氩气，质量适当而且没有化学反应。
(2)电浆辅助化沉积：气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行，如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。
(3)电浆聚合：聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中，然后涂布于基板上。
电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电浆，经化学反应后形成一致密的聚合体并披覆在基板上，由于基材受到电浆的撞击，其附着性也很强。
(4)电浆蚀刻：湿式碱性蚀刻，这是最简单而且便宜的方法，它的缺点是碱性蚀刻具晶面方向性，而且会产生下蚀的问题。
(5)电浆喷覆：在高温下运转的金属组件须要有陶瓷物披覆，以防止高温腐蚀的发生。
四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?加热方式分为：(1)电阻加热(2)感应加热(3)电子束加热(4)雷射加热(5)电弧加热各具有的特点：(1)电阻加热：这是一种最简单的加热方法，设备便宜、操作容易是其优点。
(2)感应加热：加热效率佳，升温快速，并可加热大容量。
(3)电子束加热：这种加热方法是把数千eV之高能量电子，经磁场聚焦，直接撞击蒸发物加热，温度可以高达30000C。
而它的电子的来源有二：高温金属产生的热电子，另一种电子的来源为中空阴极放电。
(4)雷射加热：激光束可经由光学聚焦在蒸镀源上，产生局部瞬间高温使其逃离。
最早使用的是脉冲红宝雷射，而后发展出紫外线准分子雷射。
紫外线的优点是每一光子的能量远比红外线高，因此准分子雷射的功率密度甚高，用以加热蒸镀的功能和电子束类似。
常被用来披覆成份复杂的化合物，镀膜的品质甚佳。
它和电子束加热或溅射的过程有基本上的差异，准分子雷射脱离的是微细的颗粒，后者则是以分子形式脱离。
(5)电弧加热：阴极电弧沉积的优点为：(1)蒸镀速率快，可达每秒1.0微米(2)基板不须加热(3)可镀高温金属及陶瓷化合物(4)镀膜密高且附着力佳五、真空蒸镀可应用在那些产业?主要产业大多应用于装饰、光学、电性、机械及防蚀方面等，现就比较常见者分述如下：1.镜片的抗反射镀膜(MgO、MgF2、SiO2等)，镜片置于半球支顶，一次可镀上百片以上。
2.金属、合金或化合物镀膜，应用于微电子当导线、电阻、光电功能等用途。
_3.镀铝或钽于绝缘物当电容之电极。
4.特殊合金镀膜MCrAlY具有耐热性抗氧化性，耐温达1100OC，可应用须耐高温环境的工件，如高速切削及成形加工、涡轮引擎叶片等。
5.镀金属于玻璃板供建筑物之装饰及防紫外线。
6.离子蒸镀镀铝，系以负高电压加在被镀件上，再把铝加热蒸发，其蒸气经由电子撞击离子化，然后镀到钢板上。
7.镀铝于胶膜，可供装饰或标签，且镀膜具有金属感等。
最大的用途就是包装，可以防潮、防空气等的渗入。
8.机械零件或刀磨具镀硬膜(TiC、TiN、Al2O3)这些超硬薄膜不但硬度高，可有效提高耐磨性，而且所需厚度剪小，能符合工件高精度化的要求。
9.特殊合金薄片之制造。
10.镀多层膜于钢板，改善其性能。
11.镀硅于CdS太阳电池，可增加其效率。
12.奈米粉末之制造，镀于冷基板上，使其不附着。
六、TiN氮化钛镀膜具有那些特点?有以下的优点：(1)抗磨损(2)具亮丽的外观(3)具安全性，可使用于外科及食品用具。
(4)具润滑作用，可减少磨擦。
(5)具防蚀功能(6)可承受高温七、CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为那五个步骤?(1)不同成份气相前置反应物由主流气体进来，以扩散机制传输基板表面。
理想状况下，前置物在基板上的浓度是零，亦即在基板上立刻反应，实际上并非如此。
(2)前置反应物吸附在基板上，此时仍容许该前置物在基板上进行有限程度的表面横向移动。
(3)前置物在基板上进行化学反应，产生沉积物的化学分子，然后经积聚成核、迁移、成长等步骤，最后联合一连续的膜。
(4)把多余的前置物以及未成核的气体生成物去吸附。
(5)被去吸附的气体，以扩散机制传输到主流气相，并经传送排出。
八、电浆辅助VCD系统具有何特色?一般CVD均是在高温的基板下产生沉积反应，如果以电浆激发气体，即所谓的电浆辅助CVD(Plasma enhanced CVD 简称PECVD)，则基板温度可以大幅降低。
然而一般薄层的光电镀膜或次微米线条，相当脆弱，容易受到电浆离子撞击的伤害，故PECVD并不适宜。
九、CVD制程具有那些优缺点?优点：(1)真空度要求不高，甚至不须真空，如热喷覆。
(2)高沉积速率，APCVD可以达到1μm/min。
(3)相对于PVD，化学量论组成或合金的镀膜比较容易达成。
(4)镀膜的成份多样化，包括金属、非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、光电材料、聚合物以及钻石薄膜等。
(5)可以在复杂形状的基材镀膜，甚至渗入多孔的陶瓷。
(6)厚度的均匀性良好，LPCVD甚至可同时镀数十芯片。
缺点：(1)热力学及化学反应机制不易了解或不甚了解。
(2)须在高温度下进行，有些基材不能承受，甚至和镀膜起作用。
(3)反应气体可能具腐蚀性、毒性或爆炸性，处理需格外小心。
(4)反应生成物可能残余在镀膜，成为杂质。
(5)基材的遮蔽很难。
十、钻石材料具有那些优点?可应用在那些产业上?优点：硬度高、耐磨性高、低热胀率、散热能力良好、防蚀能力加>>>等等可应用在：声学产品、消费产品、生医产品、光学产品、超级磨料、航天产品、钻石制造、化学产品、电子产品、机械产品。
十一、钻石薄膜通常可使用那些方法来获得?近年来膜状的钻石合成技术突飞猛进。
钻石膜的厚度，可自奈米至毫米。
薄膜常以物理气相沉积的方法生成。
厚膜则多以化学气相沉积的方法获得。
十二、试说明PVD法生长钻石薄膜之特性?PVD沉积钻石时除撞击区的少数原子外，其它的碳原子乃在真空下，而且温度很低，因此常被认为是低压法。
由于钻石在低压为介稳定状态故PVD法乃被归类为介稳定生长钻石的方法。
但在生长钻石的撞击区碳原子所受的压力及温度都很高。
由于高温影响的区域有限，因此钻石乃在非平衡状态下长出。
在这种情况原子不易扩散，生出钻石的原子排列只是短程有序，但长程排列则含极多缺陷，甚至也含大量杂质，故称为类钻碳。
以PVD法生长钻石或DLC 因基材温度很低，生长速率缓慢，通常只沉积极薄的一层。
由于膜较薄，可附在复杂的工件表面上。
镀DLC膜时因工件不受高温影响，所以PVD沉积的DLC用途广泛，可用为模具涂层及硬盘护膜等。
若要生长较厚的钻石膜，原子必须扩散至晶格内的稳定位置，因此基材温度要提高，但也不能高到使生出的钻石转化成石墨。
十三、试说明CVD法生长钻石薄膜之特性?为使CVD的钻石生长顺利，碳源常用已具钻石结构的甲烷。
甲烷可视为以氢压出的单原子钻石。
所以故煮饭时的煤气含大量悬浮的单原子钻石或DLC。
甲烷分解时若氢原子可在附近若即若离的伴随，沉积出的碳可维持钻石的结构，并接合在钻石膜上而不同再转化成石墨。
十四、使用CVD法成长钻石薄膜，氢元素和碳元素的浓度有何重要性?CVD生长钻石膜的瓶颈乃在避免碳氢化物形成石墨，因此氢原子应比碳源多很多。
碳源浓度决定了钻石膜的生长速率，但碳源太高时氢原子会来不及维护钻石结构而使分解出的碳变成石墨。
因此碳源太浓反而会降低转化成钻石的比率。
碳源的浓度和温度决定了钻石随方向生长速率的差异，因此也决定了钻石的晶形。
氢原子的浓度不仅决定了钻石膜是否能成长，也决定了钻石膜的质量。
氢原子产生的比率不太受气体，但和温度有直接关联。
随着热源温度的降低及距离的增大，氢原子的浓度也会急遽下降。
十五、何为化学气相蒸镀(CVD)?主要的优缺点有那些？化学气相蒸镀乃使用一种或多种气体，在一加热的固体基材上发生化学反应，并镀上一层固态薄膜。
优点:(1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如热喷覆(2)沉积速率快，大气CVD可以达到1μm/min(3)与PVD比较的话。
化学量论组成或合金的镀膜较容易达成(4)镀膜的成份多样化，如金属、非金属、半导体、光电材料、钻石薄膜等等(5)可以在复杂形状的基材镀膜，甚至渗入多孔的陶瓷(6)厚度的均匀性良好，低压CVD甚至可以同时镀数十芯片缺点:(1)热力学及化学反应机制不易了解或不甚了解(2)需要在高温下进行，有些基材不能承受，甚至和镀膜产生作用(3)反应气体可能具腐蚀性、毒性或爆炸性，处理时需小心(4)反应生成物可能残余在镀膜上，成为杂质(5)基材的遮蔽很难十六、良好的薄膜须具备那些特性?影响的因素有那些?通俗的定义为在正常状况下，其应用功能不会失效。
想要达到这个目的，一般而言这层薄膜必须具有坚牢的附着力、很低的内应力、针孔密度很少、够强的机械性能、均匀的膜厚、以及足够的抗化学侵蚀性。
薄膜的特性主要受到沉积过程、成膜条件、接口层的形成和基材的影响，随后的热处理亦扮演重要角色。
十七、沉积的薄膜有内应力的存在，其来源为何?(1)薄膜和基材之间的晶格失配(2)薄膜和基材之间的热膨胀系数差异(3)晶界之间的互挤十八、薄膜要有良好的附着力，必须具有那些基本特性?(1)接口层原子之间须有强的化学键结，最好是有化合物的形成或化学吸附，理吸附是不够的(2)低的残存应力，这可能导因于镀膜和基材晶格或热膨胀系数的失配，也可能是薄膜本身存有杂质或不良结构(3)没有容易变形的表结构，如断层结构，具有机械粗糙的表面是可以减低问题的恶化(4)没有长期变质的问题，镀膜曝露在大气等的外在环境，如果本身没生氧化等化学反应，则镀膜自然失去其功能十九、膜厚的量测方法有那些?大致上可分为原位量测、离位量测两类原位星测系指镀膜进行中量测，普遍使用在物理气相沉积，如微天平、光学、电阻量测。
离位量测系指镀膜完成后量测，对电镀膜的行使较为普遍，具有了解电镀效率的目的，如质量、剖面计、扫描式电子显微镜。
二十、何为物理蒸镀?试简述其步骤?物理蒸镀就是把物质加热挥发，然后将其蒸气沉积在预定的基材上。
由于蒸发源须加热挥发，又是在真空中进行，故亦称为热蒸镀或真空蒸镀。
其可分为三个步骤(1)凝态的物质被加热挥发成汽相(2)蒸汽在具空中移动一段距离至基材(3)蒸汽在基材上冷却凝结成薄膜。