真空等离子清洗机系列介绍
四大等离子清洗机功能简介
四大等离子清洗机功能介绍
1.表面刻蚀
在等离子体的作用下，材料表面的一些化学键发生断裂，形成小分子产物或被氧化成CO、CO：等，这些产物被抽气过程抽走，使材料表面变得凹凸不平，粗糙度增加。
等离子表面刻蚀_金铂利莱
2.表面活化
在等离子体作用下，难粘塑料表面出现部分活性原子、自由基和不饱和键，这些活性基团与等离子体中的活性粒子接触会反应生成新的活性基团.但是，带有活性基团的材料会受到氧的作用或分子链段运动的影响，使表面活性基团消失，因此经等离子体处理的材料表面活性具有一定的时效性。
等离子清洗机处理原理-金铂利莱
3.表面接枝
在等离子体对材料表面改性中，由于等离子体中活性粒子对表面分子的作用，使表面分子链断裂产生新的自由基、双键等活性基团，随之发生表面交联、接枝等反应。
4.表面聚合
在使用有机氟、有机硅或有机金属等作为等离子体活性气体时，会在材料表面聚合产生一层沉积层，沉积层的存在有利于提高材料表面的粘接能力。
在低温等离子体对难粘塑料进行处理时，以上四种作用形式会同时出现。
金铂利莱等离子清洗机
因此，可以根据低温等离子体所使用的气体，将其分为反应型低温等离子体和非反应型低温等离子。
不知道金铂利莱解释了这么多，您有没有掌握呢？如您还有疑惑，欢迎您关注，我们将诚心为您解疑答惑。
真空卷对卷等离子
真空卷对卷等离子
卷对卷真空等离子是一种利用等离子体清洗表面杂质的技术，其工作原理是将待清洗的卷材置于真空室中，通过加热和气体注入等方式形成等离子体，并利用等离子体清洗表面杂质。
该技术具有以下特点：
- 高效性：与传统的清洗方法相比，其清洗速度更快、效果更好。
- 适应性强：可以适用于各种类型的卷材清洗，包括金属薄膜、光刻胶、玻璃基板等。
- 环保性：不需要使用任何化学物品，也无需大量用水。
- 干燥性：不需要使用水分，可以避免由于水分残留引起的二次污染。
- 提高材料性能：使用等离子体清洗材料表面可以提高材料的粘附力和润湿性，从而提高后续加工时的工艺性能。
卷对卷真空等离子清洗机是一种颇具前景的清洗技术，具有高效、环保、适应性强等优点，将成为未来材料清洗和加工的主流技术之一，并在半导体、显示器件等领域发挥重要作用。
真空清洗机
3
第一章
清洗与清洗机
4
1.清洗与清洗机
主体特征
决定
清洗方法 引导 清洗机开发
① 主体特征：即清洗对象的要求及其形态结构等。也是场需求和被清洗对
象的本质。实质就是被什么污染的和被污染的是什么。 包括：材质 形状与结构特点 污染类型、成分、程度 性质等等 如：金属、非金属、特殊材质；平面、深沟、角、深孔槽；尘埃、油、脂、锈、 油墨、染料；静电、粘结、渗透等等。
Youngster (雅士特---杨氏） Liquid type cleaning machine
Youngster (雅士特---杨氏）真空微泡清洗机
推广说明书
杨献维
2014.11.03
1
Youngster (雅士特---杨氏） Liquid type cleaning machine
Too rich & Good character
等离子清洗机原理
等离子清洗机原理等离子清洗机是一种利用等离子体效应进行表面清洗和处理的设备。
等离子清洗机的原理是利用高频电场或射频电场产生等离子体，通过等离子体的化学反应和物理作用，对表面进行清洗和改性处理。
等离子清洗机主要包括等离子体发生器、反应室、真空系统、控制系统等部分。
下面将具体介绍等离子清洗机的原理及其工作过程。
首先，等离子清洗机的工作原理是利用高频电场或射频电场产生等离子体。
在反应室中加入适当的气体，通过高频电场或射频电场的作用，气体分子被激发产生等离子体。
等离子体是一种由正负电荷的离子和自由电子组成的气体状态，具有较高的能量和活性。
这种等离子体可以在较低的温度下产生，并且可以对表面进行高效清洗和处理。
其次，等离子清洗机利用等离子体的化学反应和物理作用对表面进行清洗和改性处理。
等离子体具有较高的能量，可以激发表面分子的化学反应，使其与污染物或氧化层发生化学反应，从而达到清洗和去除污染物的目的。
同时，等离子体还可以改变表面的化学成分和结构，实现表面的功能性改性，如增加表面的亲水性、增强附着力等。
此外，等离子清洗机主要包括等离子体发生器、反应室、真空系统、控制系统等部分。
等离子体发生器是产生高频电场或射频电场的装置，可以激发气体分子产生等离子体。
反应室是等离子体与工件表面进行反应的空间，可以根据工件的尺寸和形状进行设计。
真空系统是维持反应室内的真空度，保证等离子体的产生和反应过程在较低的气压环境下进行。
控制系统则是对整个清洗机的运行参数进行控制和调节，保证清洗和处理的效果和稳定性。
综上所述，等离子清洗机利用等离子体的化学反应和物理作用对表面进行清洗和改性处理，具有高效、环保、节能等优点。
通过合理设计和控制，可以实现对不同材料和形状的工件进行清洗和处理，广泛应用于电子、航空航天、汽车、医疗器械等领域。
随着科学技术的不断发展，等离子清洗机在表面处理领域将发挥越来越重要的作用。
等离子清洗机工作原理
等离子清洗机工作原理一、引言等离子清洗机是一种常用的表面处理设备，广泛应用于电子、航空航天、汽车等工业领域。
本文将详细介绍等离子清洗机的工作原理，包括等离子体的生成、清洗过程、清洗效果等方面的内容。
二、等离子体的生成等离子体是一种由电子和离子组成的高度电离的气体状态。
在等离子清洗机中，等离子体的生成是通过高频电源产生的电场和磁场来实现的。
当工作室内的气体被加热到一定温度时，电场和磁场的作用下，气体中的分子会发生电离，产生大量的电子和离子，形成等离子体。
三、清洗过程1. 预处理：在进行清洗之前，需要对待清洗的物体进行预处理。
预处理包括去除表面油污、尘埃等杂质，以确保清洗效果的提高。
2. 等离子清洗：待清洗的物体放置在等离子清洗机的工作室内，通过高频电源产生的电场和磁场，使气体中的分子发生电离，形成等离子体。
等离子体会释放出大量的能量，与物体表面发生碰撞，将表面的污垢、氧化物等有机物和无机物清除。
3. 后处理：清洗结束后，需要对物体进行后处理。
后处理包括去除清洗剂残留、干燥等步骤，以确保物体表面的干净和无残留。
四、清洗效果等离子清洗机具有以下几个优点，可以得到较好的清洗效果：1. 高效清洗：等离子体释放的能量强大，可以有效清除物体表面的污垢和氧化物，使表面恢复光洁。
2. 均匀清洗：等离子体可以均匀地覆盖整个物体表面，不会出现清洗死角，确保清洗效果均匀一致。
3. 无损清洗：等离子清洗机采用非接触式清洗，不会对物体表面造成损伤，保证物体的完整性。
4. 环保节能：等离子清洗机采用气体作为介质，无需使用化学溶剂，不会产生废水和废气，符合环保要求。
五、应用领域等离子清洗机广泛应用于以下领域：1. 电子行业：用于清洗半导体芯片、集成电路等电子元器件，提高元器件的质量和可靠性。
2. 航空航天行业：用于清洗飞机发动机部件、航天器零部件等，确保零部件的表面清洁度和可靠性。
3. 汽车行业：用于清洗汽车发动机零部件、变速器部件等，提高汽车零部件的质量和性能。
电芯表面等离子清洗
电芯表面等离子清洗电芯表面等离子清洗是一种常用的清洗方法，可以有效地去除电芯表面的污垢和杂质，提高电芯的性能和寿命。
本文将从清洗原理、设备和工艺流程等方面进行详细介绍。
一、清洗原理等离子清洗是利用等离子体对物体表面进行清洗的一种方法。
等离子体是由气体分子或原子通过加热或电场激发而形成的带有正负电荷的粒子群。
在等离子体中，正负电荷之间存在强烈的相互作用力，这种力可以将物体表面的污垢和杂质去除。
二、清洗设备1. 等离子清洗机：等离子清洗机是专门用于电芯表面清洗的设备。
它通常由一个封闭式的工作室、一个真空系统、一个高频发生器和一个气体供应系统组成。
工作时，将电芯放置在工作室内，通过真空系统将工作室抽成真空状态，然后加入适当的气体并通过高频发生器产生等离子体进行清洗。
2. 气体供应系统：气体供应系统用于提供清洗所需的气体。
常用的气体有氢气、氧气、氮气等。
不同的气体对清洗效果有不同的影响，选择合适的气体可以提高清洗效果。
3. 高频发生器：高频发生器是产生等离子体所需的能量源。
通过高频电场激发气体分子或原子，使其形成等离子体。
三、清洗工艺流程1. 准备工作：将待清洗的电芯放置在等离子清洗机的工作室内，并确保工作室密封良好。
2. 抽真空：打开真空系统，将工作室抽成真空状态。
真空度的选择根据具体情况而定，一般要求在一定范围内保持稳定。
3. 气体供应：选择合适的清洗气体，并通过气体供应系统将其加入到工作室中。
可以根据需要调整气体流量和压力。
4. 高频激发：打开高频发生器，产生适当强度和频率的高频电场。
高频电场会激发气体分子或原子形成等离子体。
5. 清洗过程：等离子体与电芯表面发生相互作用，将表面的污垢和杂质去除。
清洗时间的长短可以根据需要进行调整。
6. 停止清洗：清洗完成后，关闭高频发生器和气体供应系统。
等离子体逐渐消失，工作室内的压力恢复正常。
7. 取出电芯：打开工作室，取出已清洗好的电芯。
注意操作时要避免对电芯造成损坏。
等离子清洗机工作原理
等离子清洗机工作原理清洗是许多行业中必不可少的一个环节，而等离子清洗机作为一种高效、环保的清洗设备，被广泛应用于电子、半导体、光学、航空航天等领域。
本文将详细介绍等离子清洗机的工作原理。
一、等离子清洗机的基本原理等离子清洗机是利用等离子体的化学反应和物理作用来实现清洗的一种设备。
其基本工作原理如下：1. 等离子体产生：等离子清洗机通过高频电源产生高频电场，使工作室内的工作气体（通常为氧气、氮气等）发生电离，形成等离子体。
等离子体是由带正电荷的离子和带负电荷的电子组成的高能粒子体。
2. 等离子体清洗：在等离子体的作用下，工作室内的气体分子会发生电离、激发和解离等化学反应，产生大量的活性粒子和自由基。
这些活性粒子和自由基具有很强的化学反应性，能够与表面的污染物发生反应，将其分解、脱附或转化为无害物质。
3. 等离子体辅助清洗：除了化学反应，等离子体还可以通过物理作用对工作室内的表面进行清洗。
等离子体中的带电粒子会受到电场力的作用，沿着电场方向加速运动，并与表面碰撞，将污染物从表面剥离。
二、等离子清洗机的工作流程等离子清洗机的工作通常包括以下几个步骤：1. 预处理：在清洗之前，需要对待清洗物进行预处理。
预处理包括去除大颗粒的污染物、油脂、灰尘等，以保证清洗效果。
2. 装载：将待清洗物放入等离子清洗机的工作室中。
工作室通常由不锈钢材料制成，具有良好的耐腐蚀性和密封性。
3. 抽真空：关闭工作室的门，启动真空泵，将工作室内的气体抽空，以减少气体分子对等离子体的干扰。
4. 等离子体产生：通过高频电源产生高频电场，使工作室内的气体发生电离，形成等离子体。
5. 清洗：等离子体作用下，待清洗物表面的污染物发生化学反应和物理作用，被分解、脱附或剥离。
6. 气体处理：清洗过程中产生的气体会通过排气系统排出。
排气系统通常包括气体净化装置，用于去除清洗过程中产生的有害气体。
7. 结束清洗：清洗完成后，停止等离子体的产生，关闭真空泵，打开工作室的门。
等离子清洗机工作原理
等离子清洗机工作原理引言概述等离子清洗机是一种高效的清洗设备，通过等离子技术可以有效地去除表面的污垢和油脂，广泛应用于半导体、光伏、航空航天等领域。
本文将详细介绍等离子清洗机的工作原理。
一、等离子清洗机的基本原理1.1 等离子的生成等离子是一种高能带电气体，通过加热气体或者施加高压电场等方式可以生成。
在等离子清洗机中，通常采用射频等离子源来产生等离子。
射频电场会将气体份子激发至高能态，形成等离子。
1.2 等离子的作用等离子具有高能量和高活性，可以有效地击穿表面的氧化物和有机物，使其分解成气体并被吸走。
等离子清洗机通过等离子的作用，可以快速清洗表面污垢和油脂。
1.3 清洗效果由于等离子清洗机产生的等离子能够深入到微观表面结构中，清洗效果非常显著。
清洗后的表面光洁度高，无残留物，符合高端产品的要求。
二、等离子清洗机的工作流程2.1 气体净化在等离子清洗机中，首先需要对气体进行净化处理，去除其中的杂质和水分。
惟独纯净的气体才干产生高质量的等离子。
2.2 等离子清洗经过气体净化后，气体被导入等离子清洗室，通过射频等离子源产生等离子。
等离子对表面进行清洗，将污垢和油脂分解并吸走。
2.3 后处理清洗完成后，需要对设备进行后处理，包括清洗室的排气和清洗室的清洁。
确保设备处于良好的工作状态，以便下一次使用。
三、等离子清洗机的应用领域3.1 半导体行业在半导体生产过程中，表面的纯净度对产品的性能有重要影响。
等离子清洗机可以有效去除表面的有机物和氧化物，提高半导体的质量。
3.2 光伏行业光伏电池的表面需要保持干净，以确保光的吸收效率。
等离子清洗机可以快速清洗光伏电池表面，提高光伏电池的转换效率。
3.3 航空航天领域航空航天领域对零部件的清洁度要求非常高，以确保飞行安全。
等离子清洗机可以快速、高效地清洗航空航天零部件，满足行业标准。
四、等离子清洗机的优势4.1 高效清洗等离子清洗机可以快速、高效地清洗表面污垢和油脂，节省时间和人力成本。
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一，产品介绍
机台名称：真空等离子清洗机
机台型号：PM120L/PM180L
整机规格：PM120L: 1320(W)×1720(H)×1030(D)mm
PM180L: 1400(W)×1720(H)×1050(D)mm
电极规格： PM120L: 10层平板式电极板（470(W)×410(D)mm）可定制
PM180L: 10层平板式电极板（530(L)×400(W)mm）可定制
电源系统：5KW等离子体发生源（40KHz，可选13.56MHz）
控制系统：触摸屏+PLC自动控制
进气系统：2—5路工作气体可选：Ar2、N2、H2、CF4、O2
特点：高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持
用途：适用于摄像头及行业，手机制造、半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等等。
1、摄像头、指纹识别行业：软硬结合板金PAD表面去氧化；IR表面清洗、清洁。
2、半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗
3、硅胶、塑胶、聚合体领域：硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。
二，实验用真空等离子设备PMT-100
机台型号：PMT-100（实验用机）
整机规格：600mm(W)×500mm(D)×400mm(H)
真空室规格：200(W)×200(H)×200(D)mm
电极规格：190 ×150×2层
电源系统：1KW等离子体发生源（可选13.56MHz）
控制系统：触摸屏+PLC自动控制
进气系统：2路工作气体可选：Ar2、N2、H2、CF4、O2
特点：高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持
用途：适用于印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。
1、印制线路板行业：高频板表面活化，多层板表面清洁、去钻污，软板、软硬结合板表面
清洁、去钻污，软板补强前活化。
2、半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗
3、硅胶、塑胶、聚合体领域：硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化
三，FPC卷材用卷对卷真空等离子处理机 RTR2000-W550型
机台名称：卷对卷式等离子体处理系统
机台型号： OKSUN-RTR2000L-W800H
处理宽幅： 100mm～800mm（可定制）
真空腔： 2000L（可定制）
电源系统： 2KW～10KW等离子体发生源
控制系统：触摸屏+PLC自动控制
进气系统：标配2路工作气体，可扩展至5路工作气
体（Ar2、N2、H2、CF4、O2）
机台用途：用于处理PI聚酰亚胺薄膜、FPC柔性线路板的真空卷对卷设备；
设备特点：主要用于处理100～600mm宽幅之材料，材料在真空室内部水平处理，上下料简单，可用于刻蚀工艺。
四，卷对卷等离子处理机 RTR6000-W2000型
机台名称：卷对卷式等离子体处理系统
机台型号： OKSUN-RTR6000L-W1800G
处理宽幅： 100mm～1800mm（可定制）
真空腔： 6200L（可定制）
电源系统： 2KW～10KW等离子体发生源
控制系统：触摸屏+PLC自动控制
进气系统：标配2路工作气体，可扩展至5路工作气
体（Ar2、N2、H2、CF4、O2）
机台用途：用于处理PE薄膜、PET薄膜，聚酯薄膜，聚酰亚胺PI薄膜，聚酯纤维布等表面
处理的真空卷对卷设备；
设备容积：6200L；
设备特点：主要用于处理100～1800mm宽幅之材料，材料在真空室内部垂直处理，独特电极结构，专门处理宽幅材料薄膜等卷材；
五，卷对卷等离子处理机 RTR1000L-W600A
机台名称：卷对卷式等离子体处理系统
机台型号：OKSUN-RTR1000L-W600A
处理宽幅： 100mm～600mm（可定制）
真空腔： 1200L（可定制）
电源系统： 2KW～10KW等离子体发生源
控制系统：触摸屏+PLC自动控制
进气系统：标配2路工作气体，可扩展至5路工作气
体（Ar2、N2、H2、CF4、O2）
机型用途：用于处理PI聚酰亚胺薄膜、FPC柔性线路板的真空卷对卷设备；
设备特点：主要用于处理100～600mm宽幅之材料，材料在真空室内部水平处理，上下料简单，可用于刻蚀工艺。
真空室自动开关，一键式启停，操作简单方便。
※真空室内置张力控制系统，有效保护材料涨缩，使处理更加平稳；
※高性能等离子发生器，激发更为稳定之等离子体；
※特殊电极结构，更适合宽幅双面材料进行等离子体表面处理；
※采用中通水冷电极，真正实现过程温度控制，均衡均一；
※独特的卷曲设计，有效解决了卷式材料穿料问题，牵引材料更加便捷；
※具备上下料车，取代人工上下材料，上下卷更加方便；
※变频节能，通过真空制自动调节变频器频率，达到自动调节真空泵转速维持真空度；
六，PCB用水平等离子处理机
整机规格：2000(W)×1500(D)×1960(H) mm
电极规格：17层平板式电极板（944W×790 D mm (28W ×24D in)）
电源系统：10KW等离子体发生源（40KHz，可选13.56MHz）
控制系统：PC工控系统+PLC自动控制
进气系统：2—5路工作气体可选：Ar2、N2、H2、CF4、O2
特点：高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持
用途：适用于印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。
1、印制线路板行业：高频板表面活化，多层板表面清洁、去钻污，软板、软硬结合板表面
清洁、去钻污，软板补强前活化。
2、半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗
3、硅胶、塑胶、聚合体领域：硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化
七，PR60/80L真空等离子清洗机
机台型号：PR60/80L
整机规格：PR60L: 6层1200mm(W)×960mm(D)×1720mm（H）
PR80L:8层 920mm(W)×1030mm(D)×1720mm（H）
电极规格：6层平板式电极板（383mm×317mm）
8层平板式电极板（420mm×360mm）
电源系统：0-1000W等离子体发生源（40KHz，可选13.56MHz）
控制系统：触摸屏+PLC自动控制
进气系统：2—5路工作气体可选：Ar2、N2、H2、CF4、O2
特点：高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持
用途：适用于摄像头及行业，手机制造、半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车
电子行业，航空工业等等。
1、摄像头、指纹识别行业：软硬结合板金PAD表面去氧化；IR表面清洗、清洁。
2、半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗
3、硅胶、塑胶、聚合体领域：硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。