X射线光电子能谱

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X射线光电子能谱仪介绍

X射线光电子能谱仪介绍

X射线光电子能谱仪介绍X射线光电子能谱仪(X-ray Photoelectron Spectroscopy,简称XPS),也称为电子能谱仪(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis,简称ESCA),是一种分析物质表面化学成分和电子结构的有效工具。

本文将从原理、仪器结构、操作流程和应用等方面进行详细介绍。

首先,我们来了解XPS的基本原理。

XPS是利用X射线照射样品表面,当X射线与样品表面原子发生相互作用时,会发生光电效应。

光电子(或称为光电子子)从样品表面解离出来并被收集。

通过测量其动能和相对强度,可以获得样品表面的化学成分和原子的电子态信息。

XPS仪器的主要结构包括X射线源、样品台、光电子分析仪和能谱仪。

X射线源通常采用单晶衍射器或连续谱型,能够提供较高的光子能量和对数计数率。

样品台有多种形式,如固定晶格、转动晶格、升降台等,能够调整样品的位置和角度。

光电子分析仪是收集和加速光电子的装置,包括透镜系统、走时单元和检测器等。

能谱仪则通过光电子的动能和相对强度来测量和分析样品的化学成分。

XPS的操作流程一般包括样品准备、实验参数设置、数据采集和数据处理等步骤。

首先,样品需进行表面处理,如去除氧化层、清洗污染物等,以确保表面的纯净度和可再现性。

其次,根据实验需求设置合适的参数,如X射线源能量、极角、测量区域等。

然后,通过探测光电子的动能和相对强度,采集一系列能谱。

最后,根据所得数据进行分析和处理,如峰拟合、能量校准、峰面积计算等,从而获得样品的化学成分和表面电子结构信息。

XPS在多个领域具有广泛的应用。

首先,它可用于表面化学成分分析,可以确定样品表面元素的种类和含量。

其次,XPS可以研究样品的化学状态和电子结构变化,如氧化态、配位数、轨道混成等。

另外,XPS也可用于界面分析,研究不同材料之间的相互作用和界面电子结构。

此外,XPS还可用于薄膜、催化剂、电极、半导体等领域的研究和表征。

X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法X射线光电子能谱分析法(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)是一种非常重要的表面分析技术,广泛应用于材料科学、化学、表面物理、生物技术和环境科学等领域。

本文将对X射线光电子能谱分析法进行详细介绍,包括基本原理、仪器分析系统和应用领域。

一、基本原理X射线光电子能谱分析法是利用X射线照射固体表面,使其产生光电子信号,并通过测量光电子的动能和数量,来确定样品表面的化学成分及其状态。

其主要基于光电效应(photoelectric effect)和X射线物理过程。

光电效应是指当光子入射到固体物质表面的时候,会将表面电子激发到导带或导带以上的能级上,并逃离固体形成受激电子。

这些逃逸的电子称为光电子,其动能与入射光子的能量有关。

X射线物理过程主要包括光子的透射、散射和与原子内电子的相互作用等。

当X射线入射到固体表面时,会发生漫反射和荧光特性,造成信号的背景噪声。

同时,X射线的能量足够高,可以与样品的内层电子发生作用,如光电子相对能谱(Photoelectron RELative Energies)和化学平移分量(Chemical Shift)等。

二、仪器分析系统X射线光电子能谱分析系统包括光源、样品室、分析仪和检测器等。

光源常用的是具有较窄X射线能谱线宽的准单色X射线源,如AlKα线或MgKα线。

样品室的真空度一般要达到10^-8Pa左右,以避免空气对样品的干扰。

分析仪是用于测量光电子动能和数量的关键部件,常见的配备有放大器、电子能谱仪和角度分辨收集器等。

放大器将来自检测器的信号放大,并进行滤波处理以滤除高频噪声。

电子能谱仪是用于测量光电子动能的装置,一般包括一个径向入射、自由运动的光电子束和一个动能分析系统。

角度分辨收集器则用于测量光电子的角度分布。

检测器用于测量光电子的数量,常见的有多种类型的二极管(如能量分辨二极管和多道分析器)和面向瞬态X射线源的时间分辨仪器。

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是一种重要的表面分析技术,广泛应用于物质表面成分、电子态和化学状态的研究。

本文将从XPS的原理、仪器构成、数据分析以及应用等方面进行详细介绍。

XPS原理基于光电效应,即当材料表面受到X射线照射后,光电子从表面脱离。

这些脱离的光电子具有一定的动能,其动能与被照射材料的原子核和电子状态相关。

通过测量脱离光电子的动能和相应的能谱,可以获得材料表面的成分和电子结构等信息。

XPS仪器通常由X射线源、光学系统、光电子能谱仪以及数据采集与分析系统组成。

X射线源通常采用非常纯净的铝或镁,通过加热产生X射线,其能量通常在0.5-2.5 keV范围内。

光学系统将X射线聚焦在材料表面,使其与表面相互作用。

此外,还需要一个真空系统以及样品调节装置,以保证实验过程的可靠性。

在光电子能谱仪中,光电子在进入光学透镜之后,通过缝隙进入光谱学荧光屏,其中光电子会击中荧光屏产生荧光,然后荧光被光电二极管或者多道采集系统接收。

通过测量光谱的能量分布,可以得到XPS的能谱图像。

数据采集与分析系统用于处理和分析得到的XPS数据。

根据样品组成和光电子的能量分布,可以识别和测量各种元素的化学状态和含量。

此外,还可以通过能级分别效应等技术,研究材料的表面电子结构和化学键性质。

XPS在材料科学和表面化学等领域具有广泛的应用。

首先,XPS被广泛应用于材料表面组分分析。

通过测量光电子的能量分布,可以确定元素的存在和相对含量,从而判断材料的组成。

其次,XPS可以提供元素的化学状态信息,即原子与其他元素的化学键类型和性质。

这对于研究各种材料的界面和表面反应具有重要意义。

此外,XPS还可以通过研究表面电荷分布和电子能带结构等信息,研究材料的电子结构与性质。

总结来说,X射线光电子能谱是一种重要的表面分析技术,可以提供材料的组分、化学状态以及电子结构等信息。

xps测价带谱的原理

xps测价带谱的原理

xps测价带谱的原理XPS(X射线光电子能谱)是一种常用的表征材料表面化学组成和电子结构的表征技术。

它可以用来研究各种材料的元素组成、化学状态以及电子能级分布情况。

XPS测价带谱是XPS的一种应用,它通过研究材料的电子能级分布,揭示材料的能带结构和电子能级的行为。

本文将详细介绍XPS测价带谱的原理。

1. X射线光电子能谱简介X射线光电子能谱是一种利用X射线照射样品,测量被照样品表面光电子能谱的技术。

当样品被X射线照射时,其表面的原子会吸收能量并发射出光电子。

这些光电子的能量与原子的电子能级分布有关,因此可以通过测量光电子的能量来了解样品的化学组成和电子状态。

2. XPS测价带谱原理XPS测价带谱是在X射线光电子能谱的基础上,进一步研究材料的能带结构和电子能级行为的方法。

它利用X射线的能量和角度控制,使光电子的能谱与样品的能带结构相对应。

通过测量光电子的能量和角度分布,可以获得样品中各个元素的电子能级和态密度的信息。

3. XPS测价带谱的实验步骤XPS测价带谱的实验步骤主要包括样品准备、仪器调试和数据分析三个部分。

首先,需要准备样品,并将其表面清洁干净,以保证测量结果的准确性。

其次,需要调整X射线的能量和角度,使其与样品的能带结构相匹配。

这需要仪器的准确调试。

最后,通过测量和分析光电子的能量和角度分布,得到样品的能带结构和电子能级的信息。

4. XPS测价带谱的应用XPS测价带谱在材料科学和表面科学研究中得到了广泛的应用。

它可以用来研究半导体材料、金属表面、化学反应等许多领域。

在半导体材料研究中,XPS测价带谱可以用来研究半导体材料中电子能级的分布和载流子行为,为半导体器件的设计和优化提供重要依据。

在金属表面研究中,XPS测价带谱可以用来研究金属吸附剂和催化剂的表面化学反应,揭示反应机制和催化活性的变化规律。

在化学反应研究中,XPS测价带谱可以用来研究化学反应过程中原子和分子的电子态和化学键的变化,以及反应产物和中间体的特性。

x射线光电子能谱

x射线光电子能谱

x射线光电子能谱X射线光电子能谱(XPS),又称为“X射线衍射光谱”,是一种高分辨率的表征材料电子结构的重要方法。

它基于X射线和电子碰撞而产生,可以用来研究材料表面、界面和小尺寸结构中电子结构的特征,以及电子态、核体积之间的关系。

XPS既可以用于常规的材料表征,如检测气体的化学成分,也可以用于对超导、磁导体、聚合物等新材料的表征。

X射线光电子能谱是一种基于表面的结构分析技术,它利用X射线照射材料,使材料内部电子层转移到近表面,并以多种方式向外释放,如放射、内发射和外散射。

这些电子与内部电子层之间的转移,会产生电子能谱,其特征反映了材料的电子结构。

XPS是一种实用性很强的材料表征技术,可用于研究材料表面、界面和小尺寸结构中的电子结构,使材料得到全面的表征。

它可以检测材料表面的化学成分,以及材料表面的电荷分布和失活层的厚度;检测薄膜的厚度、表面结构和反常表面状态;检测物质体积中的化学成分;检测复合物中材料的混合比例;以及测量超导、磁导体、多孔材料等新材料的电子结构等。

当材料受到光或电子诱导时,可利用XPS观察表面电荷分布的变化,从而研究光或电子诱导的电子量子效应和物质表面的电子结构。

XPS的主要仪器由X射线源、负压封装台和电子视觉系统三部分组成。

X射线源通常是氩弧光源,它可以产生1400~180 eV的能量范围的X射线。

负压封装台可以将样品放在真空环境或受到有机溶剂、氧气等介质的环境中,以便实现样品表面的近稳定状态。

电子视觉系统包括显微镜、探针或离子发射等,用于测量和检测电子发散的能量和强度。

XPS技术有很多优势,如直接量度表面氧化物层厚度、分析特殊表面吸附分子状态等,使材料表征变得更加简单快捷,这在材料和技术的各个方面都大有裨益。

除此之外,XPS的再现性优于其他表征技术,它的分辨率高于其他几乎所有表征技术,例如同位素分析、X射线粉末衍射分析和磁共振波谱。

尽管XPS的优势显而易见,但它也有一些缺点,如它的量子效率较低、需要用高能X射线照射样品,会产生一定的副产物,或检测能力受到限制等。

X射线光电子能谱

X射线光电子能谱
由于卤族元素F的电负性大于O的电 负性,造成C原子周围的负电荷密度 较低,这时1中C的1s电子同原子核 结合比较紧密。因此1中C1s的结合 能高于2。 借助于XPS谱图以及元素的电负性可 以分析元素或者离子之间的结合状态
XPS的基本原理
与氧化态关系
当某元素的原子处于不同的氧化态时,它的结合 能也会发生变化。以金属铍的氧化过程为例。
参考文献





[1] 王文生. X射线光电子能谱技术及其应用 [J]. 电子元件与材料. 1991(01) [2] 俞宏坤. X射线光电子能谱(XPS)[J]. 上 海计量测试. 2003(04) [3] 吴正龙,刘洁. 现代X光电子能谱(XPS)分 析技术[J]. 现代仪器. 2006(01) [4] 文美兰. X射线光电子能谱的应用介绍 [J]. 化工时刊. 2006(08) [5] 郭沁林. X射线光电子能谱[J]. 物理. 2007(05)
X射线光电子能谱的应用
1.对固体样品的元素成分进行定性、定量或半定量及价态分 析; 2.固体样品表面的组成、化学状态分析,广泛应用于元素分 析、多相研究、化合物结构鉴定、富集法微量元素分析、 元素价态鉴定; 3.应用于氧化、腐蚀、摩擦、润滑、燃烧、粘接、催化、包 覆等微观机理研究;污染化学、尘埃粒子研究等的环保测 定;分子生物化学以及三维剖析如界面及过渡层的研究


1887年,海因里希·鲁道夫·赫兹发现了光电效应 1905年,爱因斯坦解释了该现象,并为此获得了1921年的 诺贝尔物理学奖 1907年,因斯(P.D. Innes)用伦琴管、亥姆霍兹线圈、 磁场半球(电子能量分析仪)和照像平版做实验来记录宽 带发射电子和速度的函数关系,他的实验事实上记录了人 类第一条X射线光电子能谱 第二次世界大战后瑞典物理学家凯·西格巴恩和他在乌普 萨拉的研究小组在研发XPS设备中获得了多项重大进展, 并于1954年获得了氯化钠的首条高能高分辨X射线光电子 能谱 1967年之后的几年间,西格巴恩就XPS技术发表了一系列 学术成果,使XPS的应用被世人所公认

x射线光电子能谱表述

x射线光电子能谱表述

x射线光电子能谱表述X射线光电子能谱(X-rayPhotoelectronSpectroscopy,XPS)是一种手段,用于研究物质表面成份和构型。

它采用X射线(X-ray 束照射物质表面,并从物质表面释放出光电子,然后检测受X-ray辐射的表面物质的谱线,从而分析物质的成份。

X射线光电子能谱的主要优势之一是,能够分析微小的物质表面而不受样品量的限制。

二、X射线光电子能谱的基本原理X射线光电子能谱是基于光电子的物理原理的,其根本原理是采用x射线(X-ray)束照射物质表面,在物质表面释放出光电子,从而产生光电子能谱。

在X射线束照射下,光电子能谱轻微变化,从而可以从中提取出信息,并用于物质成分分析。

X射线光电子能谱原理的基本过程是:X射线照射到物质表面,物质表面会被电离产生一些能量,被称为电子的能量。

当电子离开物质表面,它们的能量将以分散的方式释放出来,称为光电子能谱(PEES)。

PEES由几个部分组成,每个部分的能量都有所不同,以微形式表示。

经过特定的处理,这些能量可以被视为物质成分的信号,从而进行物质成分分析。

三、X射线光电子能谱的应用X射线光电子能谱是一种快速准确的分析方法,可以用来分析物质表面化学成分和结构,比如元素种类和比例,表面及深度的催化特性,表面的温度、气压和湿度等。

X射线光电子能谱在很多领域都有应用,比如:(1)材料科学与工程:X射线光电子能谱可用于研究表面形貌,以及复杂材料结构中的成分和构型等;(2)环境科学与工程:X射线光电子能谱可以用于分析环境中物质的特性,比如空气中的污染物、土壤中的有毒物质、水体中的有害元素等;(3)化学工程:X射线光电子能谱可以用于涂料表面的成分分析,以及用于分析化学反应的表面过程;(4)生物学:X射线光电子能谱可以用于研究物质表面的热力学特性、物质表面的相互作用和膜蛋白的构型特性等。

总之,X射线光电子能谱是一种灵活的手段,用于研究物质表面的化学成分和结构,是研究表面物理和化学性质的理想方法,在材料科学、化学工程和环境科学等多个领域得到广泛应用。

《X射线光电子能谱》课件

《X射线光电子能谱》课件

3 3. 问题探讨和建议
鼓励听众思考和讨论涉及 X射线光电子能谱的问题, 并提供相关研究建议。
3
3. 统计研究实验中的应用,以及如何进行误差分析和数据可靠性评 估。
第四部分:X射线光电子能谱的应用案例
1. 反应机理和反应动力学 的研究
探索X射线光电子能谱在研究化 学反应机理和反应动力学中的应 用案例。
2. 材料表征和界面分析
展示X射线光电子能谱在材料表 征和界面分析中的实际应用,如 薄膜表面分析和纳米材料研究。
3. 化学成分分析
说明X射线光电子能谱在化学成 分分析中的优势,如表面元素含 量检测和化学状态表征。
第五部分:X射线光电子能谱的研究进 展和展望
1 1. 新技术和新方法的发展
预测X射线光电子能谱领域未来的发展方向,包括新的仪器技术和数据处理方法。
2 2. 应用领域的拓展
展望X射线光电子能谱在新的应用领域,如生物医学、能源材料和环境科学等方面的发展。
2 2. 光电效应原理
深入解释X射线光电子能谱的定义和原理,以 及如何通过光电效应获得材料表面化学信息。
讲解光电效应的基本概念和原理,以及光电 子发射的条件和限制。
3 3. 能量分辨率和解析度的概念
4 4. 应用领域
介绍X射线光电子能谱的能量分辨率和解析度 是如何影响数据质量和实验结果的。
探讨X射线光电子能谱在材料科学、化学分析、 表面物理和界面研究等领域的广泛应用。
3 3. 未来的发展方向
探讨X射线光电子能谱可能的未来发展方向,如高分辨率、原位研究和多模态分析等。
总结
1 1. X射线光电子能谱
的优势和特点
总结X射线光电子能谱作 为表面分析技术的独特优 势,如高灵敏度、非破坏 性等特点。
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光电子 (e-)
X射线 (h)
与电子所在壳层的平均半径r,入射光子的频率和受激原子的原子序数Z有关。 一般来说,在入射光子的能量一定的情况下: 1、同一原子中半径越小的壳层,光电效应截面越大;电子结合能与入射光子的 能量越接近,光电效应截面越大。 2、不同原子中同一壳层的电子,原子序数越大,光电效应截面越大。
h A A*, e
光电子 (e-)
X射线 (h)
在某些情况下,还会引起俄歇电子的发 射。(为什么?)俄歇电子发射对于材 料的结构分析很有用处。
X射线光电子能谱分析的基本原理
1、光电效应(光致发射或者光电离):
当光子与材料相互作用时,从原子中各 个能级发射出的光电子的数目是不同的, 有一定的几率。光电效应的几率用光电 截面表示,定义为某能级的电子对入 射光子的有效能量转移面积,或者一定 能量的光子从某个能级激发出一个光电 子的几率。
Eb h Ek
对于固体材料,电子的结合能定义为把电子从所在的能级转移到费米能级(0K 时固体能带中充满电子的最高能级)所需要的能量。另外,固体中电子从费米能 级跃迁到自由电子能级(真空能级)所需要的能量成为逸出功,即功函数。所以, 入射光子的能量h分为三部分:电子结合能Eb,逸出功Ws,自由电子的动能Ek。 所以:
另外,原子中的电子既有轨道运动又有自旋运动。它们之间存在着耦合(电磁相
互)作用,使得能级发生分裂。对于 >0的内壳层,这种分裂可以用内量子数j来
表示。其数值为:
j
l ms
l
1 2
所以:对于 =0,j=1/2。对于 >0,则j= +½或者 -½。也就是说,除了s能 级不发生分裂外,其他能级均分裂为两个能级:在XPS谱图中出现双峰。
EK 538 EK2 0.42 EK 1/2
对于无机化合物材料
EK 2170 EK2 0.72 EK
对于有机化合物材料
EK 49 EK2 0.11EK 1/2
X射线光电子能谱分析的基本原理
6、化学位移:
在实验测定中往往发现,得到的结合 能数据与原子的数据有偏差。或者说: 谱线有一定的位移,称为结合能的位 移。原因在于原子中的一个内壳层电 子的Eb同时受到核内电荷和核外电荷 分布的影响。当这些电荷的分布发生 变化时,就会引起Eb的变化。同种原 子由于所处的化学环境不同,引起内 壳层电子的结合能的变化,在谱图上 表现为谱线的位移。这种现象称为化 学位移。它实质上是结合能的变化值。 如图所示的S2p谱线,尽管是同一种 元素,由于所处的化学环境不同,结 合能有所位移。
电子结合能更为精确地计算还应该考虑它地驰豫过程所产生地能量变化。因 为一个内壳层的电子被发射出去后,同时留下一个空位时,原子中的其余电 子,包括价电子将经受核静电吸引的突然变化,它们的分布需要重新调整。 这种重新调整的过程成为电子的驰豫过程。驰豫过程的时间和内壳层电子发 射的时间相当,因而驰豫过程必然对发射的电子产生影响。
各个元素的不同能级的驰豫能量已经 well documented。可以在参考文献中 获得。
X射线光电子能谱仪
光电子能量分析器
半球形电子能量分析器示意图。
右图所示的是XPS 全谱。它给出的各 个元素的各个轨道 的结合能是进行定 性分析的依据。谱 图的横坐标是电子 的结合能(eV), 纵坐标是光电子线 的相对强度 (cps)。另外, 在图谱中还有一些 俄歇线。
dI I0 dt / (EK )
I (t) I0 exp t / (Ek )
从左式中知道,当厚度t达到 (EK)的4倍时,强度衰减到原 来的2%以下;当t为(EK)的3 倍时,衰减到原来的5%不到。 一般定义3 (EK)为XPS的信息 深度。
这说明,能够逃离固体表面的光电子来源于表层有限厚度范围之内。实际 上, (EK)非常小。对于金属材料,约为0.5~3 nm左右;无机材料为2~4 nm左右;有机高聚物为4~10 nm左右。所以,XPS是一种分析深度很浅的 表面分析技术。
W
EK'
W‘
(b) 样品与仪器 接触 h

Eb
Eb h EK' W '
W‘是仪器的功函数,一般在4eV左 右,已知。所以知道了电子动能, 即可求出结合能。
K (a) 样品
固体材料中光电过程的能量关系示意图 其实,在接触处的能带应该弯曲。为什么?
X射线光电子能谱分析的基本原理
各种原子和分子的不同轨道的电子结合能是一定的,具有标识性。因此,只 要借助XPS得到结合能Eb,就可以方便地定出物质地原子(元素)组成和官 能团类别。
X射线光电子能谱分析
电子能谱分析是一种研究物质表层元素组成与离子状态的表面分析技术。 其基本原理是利用单色射线照射样品,使样品中原子或者分子的电子受激 发射,然后测量这些电子的能量分布。
通过与已知元素的原子或者离子的不同壳层的电子的能量相比较,就可 以确定未知样品中原子或者离子的组成和状态。
X射线
电子 电子
一般认为:对于那些具有特征能量的光电子穿过固体表面时, 其强度衰减遵从指数规律。假设光电子的初始强度为I0,在固体 中经过dt距离,强度损失了dI,显然,有:
dI I0 dt / (EK )
X射线光电子能谱分析的基本原理
(EK)是一个常数,与电子的动能有关,称为光电子非弹性散射自由程或 者电子逸出深度。有时也被称为非弹性散射“平均自由程”。如果t代表垂 直于固体表面并指向固体外部的方向,则(EK)就是“平均逸出深度”。 这样,光电子垂直于固体表面发射,并经历距离t后的强度为:
X射线光电子能谱分析的基本原理
实验中发现,光电子的逸出深度对于不同材料以及不同动能的光电子时不同 的。为了便于定量计算,人们做了大量的工作,综合大量的实测数据,总结 出了一下经验公式。
对于单质材料,(EK)与元素种类无关,只与电子的动能有关。如果光 电子的动能在100~2000 eV之间,则近似与(EK)½成正比。
可以这样理解,内壳层出现空穴后,原子中其他电子很快向带正电的空穴驰 豫,于是对发射的电子产生加速,所以原来定义的结合能Eb是中性原子的出 台能量E初和达到最后空穴态的终态能量E终之差。与突然发生的过程相比, 这样测得的结合能要小一些。这个差别是由原子的驰豫能量造成的。虽然考 虑驰豫过程对分析图谱有帮助,但是相对来说,差别的数值不大,因此有时 可以忽略该差别。
Eb h Ws Ek
X射线光电子能谱分析的基本原理
4、电子结合能Eb:
显然,样品同谱仪材料具有 不同的功函数。但是在试验 中,固体样品通过样品台同 仪器室接触良好,并且一同 接地。因此,它们具有相同 的费米能级(为什么?)。 此时有:
EV EF 价电子带
Ek Ws EK' W ' M
L
EK Ws
X射线光电子能谱分析的基本原理
3、原子能级的划分:
原子内层电子的运动可以用描述单个电子运动状态的4个量子数来表征。通常电 子能谱是在没有外加磁场的情况下进行的,所以磁量子数m是兼并的(不产生能 级的分裂)。因此,在电子能谱研究中,通常用主量子数n,角量子数 ,和内量 子数 j 来表征内层电子的运动状态。
注意看右图:俄歇电子发射是一个三能 级过程。
在XPS谱图中会观察到俄歇线。它们对 结构的确定很有帮助。
X射线光电子能谱分析的基Leabharlann 原理X射线激发光电子的原理图。
入射电子激发俄歇电子过程示意图
X射线光电子能谱分析的基本原理
3、原子能级的划分:
原子中单个电子的运动状态可以用量子数n, ,m1,ms来表示。其中: n:主量子数。每个电子的能量主要取决于n。n,E 。n可以取1,2, 3,4……,分别对应着K,L,M,N……等壳层。 : 角量子数,决定了电子云的几何形状。不同的l值将原子内的壳层分为几 个亚层,即能级。l 值与n有关,0,1,2,……,(n-1)。分别对应 着s,p,d,f等能级。在给定的壳层上, ,E 。 m1:磁量子数,决定了电子云在空间伸展的方向(取向)。给定后,m1可 以取【- ,+ 】的任何整数。 ms:自旋量子数,表示电子绕其自身轴的旋转取向。与上述3个量子数无 关,取+½或者- ½。
光电效应截面越大,说明该能级上的电子越容易被光激发。与同原子其他壳层上 的电子相比,它的光电子峰的强度就大。 科学工作者对Al和Mg的K线激发下,各元素的各能级的光电效应截面进行了计算。
X射线光电子能谱分析的基本原理
X射线激发光电子的原理图。
2、俄歇电子的发射:
如左图示。当原子中的一个内层电子因X 射线的照射而发生光致电离发射出去后, 在内层留下一个空位(原子变成了离子, 处于激发态)。激发态离子要向低能转 化发生驰豫(Relaxation): (1)通过辐射跃迁释放能量(类似X射 线的产生),产生X射线荧光。波长在X 射线区,能量为两个能级的能量差。 (2)通过非辐射跃迁使另一个电子激发 成为自由电子。此电子为俄歇电子。
被测样品
一般认为,表层的信息深度为10 nm左 右。如果利用深度剖析技术如离子束溅 射等,可以对样品进行深度分析。
常用的电子能谱技术有: X射线光电子能谱分析(XPS) 俄歇电子能谱分析(AES) 紫外光电子能谱分析(UPS)
等等。
参考书
1、《材料结构表征及应用》,吴刚主编,化学工业出版社 2、《现代分析技术》,陆家和,陈长彦主编,清华大学出版社 3、网上的若干网站,会有一些资料。
X射线光电子能谱分析的基本原理
1、光电效应(光致发射或者光 电离):
如右图示。原子中不同能级上的 电子具有不同的结合能。当一束 能量为h的入射光子与样品中的 原子相互作用时,单个光子把全 部能量交给原子中某壳层(能级) 上一个受束缚的电子。如果光子 的能量大于电子的结合能Eb,电 子将脱离原来受束缚的能级,剩 余的能量转化为该电子的动能。 这个电子最后以一定的动能从原 子中发射出去,成为自由电子; 原子本身则成为激发态的离子。
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