金属硅标准
硅片等级分类及标准
严重线痕、厚薄片：TV>220±60卩m。崩边片：有缺损但可以改 ①103的硅片。 气孔片：硅片中间有穿孔 。
外形片：切方滚圆未能磨出的硅片。
倒角片（同心度）：任意两个弧的弦长之差>1.5mm菱形片（垂直度）：任意两边的夹角>90°±0.8。
凹痕片：硅片两面凹痕之和〉30卩m。
脏 片：硅片表面有严重污渍且发黄发黑。 尺寸偏差片：几何尺寸超过二级品的范围。
注：以上标准针对的硅片厚度为220卩m。
硅片等级分类及标准
一、优等品1：硅片表面光滑洁净。
2:TV:220±20卩m。
3：几何尺寸：
边长125土0.5mm；对角150土0.5mm、148±0.5mm、165土0.5mm；边长103土0.5mm、对角135±0.5mm；
边长150±0.5mm、156±0.5mm、对角203±0.5mm、200±0.5mm。同心度：任意两个弧的弦长之差w 1mm。
边长150±0.52mm、156±0.52mm、对角203±0.52mm、200±0.52mm。同心度：任意两个弧的弦长之差w 1.5mm。
垂直度：任意两边的夹角：90°±0.8。
三级
品：
1：表面有油污但硅片颜色不发黑,有线痕和硅落现象
2: 220± 40卩m wTV w220± 60卩m。
3：硅落：整张硅片边缘硅晶脱落或部分硅晶脱落。
垂直度:任意两边的夹角:90°±0.5。
二级品:
1:表面有少许污渍、线痕、凹痕，轻微崩边。
2:220±30卩m wTV w 220±40卩m。
3:凹痕：硅片表面凹痕之和w30卩m。
4：崩边范围：崩边口不是三角形状，崩边口长度w1mm,深度w 0.5mm
企业标准(工业硅)
工业硅分析（试行）Q/SXHG-J-ZH-201-2006 ———————————————————————————1 范围本标准规定了工业硅的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存。
本标准适用于在矿热炉内用碳质还原剂与硅石熔炼而制得的工业硅，经粉碎后供生产甲基氯硅烷产品时使用。
分子式：Si相对分子质量：28.092规范性引用文件下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。
凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。
凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。
GB/T601 化学试剂标准滴定溶液的制备GB/T603 化学试剂实验方法中所用制剂及制品的制备GB/T6679 固体化工产品采样通则GB/T2881 工业硅技术条件GB/T6682 分析实验室用水规格和试验方法3 要求3.1 外观：深灰色，具有金属光泽的块状物。
3.2 工业硅的质量符合表1的要求。
4 试验方法本标准所用试剂和水，在没有注明其它要求时，均指分析纯试剂和符合GB6682中二级水规格。
4.1 工业硅分析试样的制备将采集的试样放在浅盘中在（105~110）℃烘箱中干燥2h后，取出放在空气中干燥，将样品用机械破碎，磨粉，粒度直径≤0.149mm，将制好的试样储存于具有玻璃塞广口磨口瓶或其他合适的塑料袋中，贴好标签备用。
4.2 硅含量的测定4.2.1 方法提要将试样用碱（KOH）熔融，使硅酸根与氟离子生成硅氟酸根离子，再与钾离子作用，形成硅氟酸钾沉淀。
反应方程式如下：（300~400）℃Si+O2+2OH-SiO32-+H2OSiO32-+6H-+6F- SiF62-+3H2OSiF62-+2K+K2SiF6↓随后将沉淀溶解于废水中，生成氢氟酸。
用氢氧化钠标准溶液滴定水解出来的氢氟酸，即可计算硅的含量。
硅片等级分类及标准
硅片等级分类及标准（150³150）一、优等品(Ⅰ类片)1、物理、化学特性错误！未找到引用源。
型号:P 晶向〈100〉±1°；错误！未找到引用源。
氧含量: ≤1.0³1018at/cm3；错误！未找到引用源。
碳含量: ≤5³1016at/cm3；错误！未找到引用源。
少子寿命:τ=1.3-3.0μs(在测试电压≥20mv下裸片的数据)；错误！未找到引用源。
电阻率: 0.9-1.2、1.2-3.0、3.0-6.0Ω²cm；错误！未找到引用源。
位错密度：≤3000个/cm2；2、几何尺寸错误！未找到引用源。
边长：125³125±0.5mm；错误！未找到引用源。
对角：150³150±0.5mm；错误！未找到引用源。
同心度：任意两弧的弦长之差≤1mm;错误！未找到引用源。
垂直度：任意两边的夹角90°±0.3°；错误！未找到引用源。
厚度：200±20μm; (中心点厚度≥195μm,边缘四点厚度≥180 μm)180±20μm; (中心点厚度≥175μm,边缘四点厚度≥160 μm)错误！未找到引用源。
TTV：≤30μm;错误！未找到引用源。
弯曲度：≤40μm；3、表面指标错误！未找到引用源。
线痕：无可视线痕；错误！未找到引用源。
目视表面：无沾污、无水渍、染色、白斑、指印等；错误！未找到引用源。
无崩边、无可视裂纹、边缘光滑、目视无翘曲；二、合格品（Ⅱ类片）1、物理化学特性错误！未找到引用源。
型号:P 晶向〈100〉±1°；错误！未找到引用源。
氧含量: ≤1.0³1018at/cm3；错误！未找到引用源。
碳含量: ≤5³1016at/cm3；错误！未找到引用源。
少子寿命:τ=1.0-1.2μs(在测试电压≥20mv下裸片的数据)；错误！未找到引用源。
工业硅技术问答
工业硅技术问答1．什么是硅和工业硅？元素硅(Si)原来称为矽，工业硅（也称金属硅或结晶硅）是指以含氧化硅的矿物和碳质还原剂等为原料经矿热炉熔炼制得的含Si97％以上的产物。
“工业硅”之称是我国于1981年GB2881-81国家标准公布时正式定名，其含意主要是指这种硅之纯度是接近于99%的工业纯度，英文称为金属硅，俄文称为结晶硅。
现在人工制得硅的纯度，实际上已达到99999999999％。
2.硅和工业硅有那些特性？①硅的主要物理性质为:密度(25℃)2．329g／cm3(纯度99．9％)，熔点1413℃，沸点3145℃，平均比热(0～100℃)为729J ／(kg·K)，熔化热为50.66kJ／mol，纯度为99．41%的硅抗压强度极限为9．43kgf／cm2。
②硅的化学性质：硅在元素周期表中属ⅣA族，原子序数为14，原子量为28．0855，化合价表现为四价或二价(四价化合物为稳定型)。
因晶体硅的每个硅原子与另外四个硅原子形成共价键，其Si-Si键长2．35A，成为正四面体型结构，与金刚石结构相近，所以硅的硬度大，熔点、沸点高。
硅不溶于任何浓度的酸中，但能溶于硝酸与氢氟酸的混合液中，与1：l浓度的混合稀酸发生如下反应：Si+4HF+4HNO3=SiF4↑+4NO2↑+4H2O3Si+12HF+4HNO3=3SiF4↑+4NO2↑+8H2O这个特性可用于硅的化学分析中，即先将试样硅中的硅以氟化物形式挥发，而分析硅中残留的铁、铝、钙元素。
硅能与碱反应，生成硅酸盐，同时放出氢气，如：Si+2NaOH+H2O=Na2SiO3+2H2↑这是野外制氢的好办法。
硅与卤族元素反应，生成相应化合物，如:Si＋2F2＝SiF4Si＋2Cl2＝SiCl4这是利用工业硅制取多晶硅的主要反应之一。
硅在高温下能与氧化合，生成SiO2或SiO:2Si+O2＝2SiO这是工业硅生产中，发生在电弧区的副反应，可造成硅的挥发损失，降低冶炼中硅的实收率。
金属硅产品质量标准
金属硅产品质量标准金属硅是一种重要的工业原料，广泛应用于冶金、化工、电子等领域。
为确保金属硅产品的质量和使用效果，通常需要满足以下几个质量标准：1.化学成分标准：金属硅产品应符合特定的化学成分要求。
其中，硅含量是关键指标，一般要求在99%以上。
此外，还需控制杂质元素（如铁、铝、钙、镁等）的含量以及其他有害元素（如砷、锑等）的限制值。
2.粒度分布标准：金属硅产品的粒度对其应用性能具有重要影响。
一般会根据不同行业和用户要求设定相应的粒度分布标准。
例如，对于冶金行业来说，常见的粒度范围是10-100mm或更小。
3.电阻率标准：由于金属硅具有良好的导电性能，在一些特殊领域如电子行业中，对其电阻率有严格要求。
电阻率通常以欧姆·厘米（Ω·cm）为单位进行衡量，并根据具体用途制定相应的上下限。
4.化学活性标准：金属硅产品的化学活性主要指其与其他物质的反应性。
根据具体用途和工艺要求，需要控制金属硅的氧化率或还原性等指标，以确保其在特定环境下的稳定性和可靠性。
5.杂质含量标准：金属硅产品中可能存在一些不可避免的杂质，如氧、氮、碳等。
这些杂质的含量需要控制在一定范围内，以保证产品品质和使用效果。
6.纯度要求：金属硅通常需要具备较高的纯度，以确保其在各种应用中的稳定性和可靠性。
除了控制化学成分外，还需要评估其他纯度指标，如氧含量、碳含量等。
7.物理性能标准：金属硅的物理性能也是一个重要的质量考量因素。
例如，抗压强度、热膨胀系数、导热系数等指标会影响其在高温或特殊环境下的性能表现。
8.表面质量标准：金属硅产品通常需要具备良好的表面状态和光洁度，以满足后续加工或使用时的要求。
表面缺陷、氧化皮、杂质颗粒等问题都可能对产品质量造成不利影响。
9.包装及运输标准：为确保金属硅产品在运输和储存过程中不受损坏或污染，需要制定相应的包装和运输标准，并采取适当的防护措施。
这些标准通常包括包装形式、堆码方式、防潮防尘措施等。
化学级冶金级金属硅区别
化学级冶金级金属硅区别金属硅是一种广泛应用于冶金、化工等领域的材料。
根据其纯度和用途，金属硅可以分为不同的级别，其中化学级和冶金级是两种常见的分类。
本文将详细介绍化学级冶金级金属硅的区别。
一、化学级金属硅1.定义：化学级金属硅是指纯度较高的金属硅，通常纯度在98.5%以上，主要用于生产有机硅化合物、硅烷等化工产品。
2.特点：- 纯度高：化学级金属硅的杂质含量较低，能满足化工行业对原料纯度的要求。
- 粒度细：化学级金属硅的粒度通常较细，有利于提高其在化学反应中的活性。
- 表面光滑：化学级金属硅的表面光滑，有利于提高其在有机硅化合物等领域的应用效果。
二、冶金级金属硅1.定义：冶金级金属硅是指纯度相对较低的金属硅，通常纯度在97%左右，主要用于钢铁、铜、铝等冶金行业。
2.特点：- 纯度适中：冶金级金属硅的纯度能满足冶金行业对原料的要求，同时具有一定的成本优势。
- 粒度较粗：冶金级金属硅的粒度较粗，有利于在冶金过程中提高其反应速度和效果。
- 杂质含量较高：冶金级金属硅中的杂质含量相对较高，但在冶金过程中可以通过熔炼等方法进行去除。
三、化学级与冶金级金属硅的区别1.纯度：化学级金属硅的纯度高于冶金级金属硅，适用于对纯度要求较高的化工领域。
2.粒度：化学级金属硅的粒度较细，冶金级金属硅的粒度较粗，这与它们在各自领域的应用需求有关。
3.杂质含量：化学级金属硅的杂质含量较低，冶金级金属硅的杂质含量相对较高。
4.应用领域：化学级金属硅主要用于化工行业，如有机硅化合物、硅烷等；冶金级金属硅主要用于冶金行业，如钢铁、铜、铝等。
总结：化学级与冶金级金属硅在纯度、粒度、杂质含量和应用领域等方面存在显著区别。
普及知识-认识金属硅及其他
金属硅是什么？“金属硅”（我国也称工业硅）是本世纪六十年代中期出现的一个商品名称。
它的出现与半导体行业的兴起有关。
目前，国际通用作法是把商品硅分成金属硅和半导体硅。
金属硅是由石英和焦炭在电热炉内冶炼成的产品，主成分硅元素的含量在98%左右（近年来，含Si量99.99%的也归在金属硅内），其余杂质为铁、铝、钙等。
半导体硅用于制作半导体器件的高纯度金属硅。
是以多晶、单晶形态出售，前者价廉，后者价昂。
因其用途不同而划分为多种规格。
据统计，1985年全世界共消耗金属硅约50万吨，其中用于铝合金的金属硅约占60%，用于有机硅的不足30%，用于半导体的约占3%，其余用于钢铁冶炼及精密陶瓷等。
硅的性质硅是半金属之一，旧称“矽”。
熔点为1412℃，密度为2.34克/cm3。
质硬而脆。
在常温下不溶于酸，易溶于碱。
金属硅的性质与锗、铅、锡相近，具有半导体性质。
硅在地壳中资源极为丰富，仅次于氧，占地壳总重的四分之一还强，以二氧化硅或硅酸盐形式存在。
最纯的硅矿物是石英或硅石。
硅有两种同素异形体：一种为暗棕色无定形粉末，性质活泼，在空气中能燃烧；另一种为性质稳定的晶体（晶态硅）。
一般硅石和石英用于玻璃和其它建材，优质的石英用于制作合金、金属和单晶。
硅的用途硅大量用于冶炼成硅铁合金作钢铁工业中合金元素，在很多种金属冶炼中作还原剂。
硅还是铝合金中的良好组元，绝大多数铸造铝合金都含有硅。
硅是电子工业超纯硅的原料，超纯半导体单晶硅做的电子器件具有体积小、重量轻、可靠性好和寿命长等优点。
掺有特定微量杂质的硅单晶制成的大功率晶体管、整流器及太阳能电池，比用锗单晶制成的好。
近年来非晶硅太阳能电池研究进展很快，转换率达到了8%以上。
硅钼棒电热元件最高使用温度可达1700℃，具有电阻不易老化和良好的抗氧化性能。
用硅生产的三氯氢硅，可配制几百种硅树脂润滑剂和防水化合物等。
此外，碳化硅可作磨料，高纯氧化硅制作的石英管是高纯金属冶炼及照明灯具的重要材料。
金属硅的牌号和用途
金属硅的牌号和用途．金属硅的牌号和用途2的纯度，金属硅又称结晶硅或工业硅，制取高纯度的半导体材料以及金属硅品位达到99.999(5N)产业，制取高纯度的半导体材料外还能做配制3C是工业提纯的单质硅，主要用于生产有机硅应用于有特殊用途的合金等多方面使用主要用作非铁基合金的添加剂。
硅是非金属元素，兰灰色，有金属℃，1410原子量为，28.80，密度为2.33g/m3 .熔点为性硬且脆。
色泽，硅的含量约占地壳质量的26%金属硅的分类通常按金属硅成分所含的铁、铝、其最常使用的牌号沸点为2355℃。
电阻率2140Ωm.、411钙三种主要杂质的含量来分类。
按照金属硅中铁、铝、钙的含量，可把金属硅分为553、441、1101等不同的牌号。
、、33052202、25021501、、、4213303SPECIFICATION :SiMETAL :2202#SI : 99% MIN.FE : 0.2% MAX.AL : 0.2% MAX. 3CA : 0.02% MAX.3303#SI : 99% MIN.FE : 0.3% MAX.AL : 0.3% MAX.CA : 0.03% MAX.441#SI : 99% MIN.FE : 0.4% MAX.AL : 0.4% MAX. CA : 0.1% MAX.553#4 SI : 99% MIN.FE : 0.5% MAX.AL : 0.5% MAX.CA : 0.3% MAX.411#SI : 99% MIN.FE : 0.4% MAX. AL : 0.1% MAX.CA : 0.1% MAX.421#SI : 99% MIN.FE : 0.4% MAX.AL : 0.2% MAX.5CA : 0.1% MAX. 规格说明: ON-990911Si441产品编号(1)Si 99% Min Fe 0.3% Max Al 0.3%Max Ca 0.03% Max6(2)Si 99% Min Fe 0.4% MaxAl 0.4% Max Ca 0.1% MaxSize : 10-100 mm 90% MinPacking in plastic woven bags of 1MT net each的纯度，是工业提纯的金属硅品位达到99.999(5N)用途：制取高纯度的半导体材料以及产业，制取高纯度的半导体材料外还能做配制有单质硅，主要用于生产有机硅应用于3C特殊用途的合金等多方面使用，其中品位达到较低者使用在金属合金配料—铝硅系合金、硅黄铜合金、硅青铜合金等用途。
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继续追问：国家标准是国家制定的用于规范金属硅市场的一种准则，它对于金属硅市场的统一、稳定、和谐发展具有非常重要的意义。
现在，金属硅国家标准已经被广大的金属硅生产厂家和金属硅企业所接受，已经成为一种行业标准。
金属硅是由石英和焦炭在电热炉内冶炼成的产品，主成分硅元素的含量在98%左右（近年来，含Si量99.99%的也归在金属硅内），其余杂质为铁、铝、钙等。
根据金属硅国家标准，金属硅通常按所含的铁、铝、钙三种主要杂质的含量来分类，主要类型有以下几种：
#1101 #2202 #3303 #3305 #441 #553
Si 99 99 99 99 99 98.5
Fe 0.1 0.2 0.3 0.3 0.4 0.5
Al 0.1 0.2 0.3 0.3 0.4 0.5
Ca 0.01 0.02 0.03 0.05 0.1 0.3
P 0.003 0.003 0.003 0.004 0.004 0.004
Ni 0.03 0.03 0.03 / / /
Mn 0.03 0.03 0.03 / / /
Ti 0.02 0.02 0.03 0.03 / /
金属硅基础知识（牌号化学成分、检验标准等）2006-10-02 00:00 来源：我的钢铁作者：mysteel 试用手机平台
金属硅定义：金属硅又称结晶硅或工业硅，其主要用途是作为非铁基合金的添加剂。
硅是非金属元素，呈灰色，有金属色泽，性硬且脆。
硅的含量约占地壳质量的26%；原子量为28.80；密度为2.33g/m3；熔点为1410C；沸点为2355C；电阻率为2140Ω.m。
金属硅的牌号：按照金属硅中铁、铝、钙的含量，可把金属硅分为553、441、411、42 1、3303、3305、2202、2502、1501、1101等不同的牌号。
金属硅的附加产品:包括硅微粉,边皮硅，黑皮硅，金属硅渣等。
其中硅微粉也称硅粉、微硅粉或硅灰，它广泛应用于耐火材料和混凝土行业
金属硅的用途：金属硅（Si）是工业提纯的单质硅，主要用于生产有机硅、制取高纯度的半导体材料以及配制有特殊用途的合金等。
（1）生产硅橡胶、硅树脂、硅油等有机硅
硅橡胶弹性好，耐高温，用于制作医疗用品、耐高温垫圈等。
硅树脂用于生产绝缘漆、高温涂料等。
硅油是一种油状物，其粘度受温度的影响很小，用于生产高级润滑剂、上光剂、流体弹
簧、介电液体等，还可加工成无色透明的液体，作为高级防水剂喷涂在建筑物表面。
（2）制造高纯半导体
现代化大型集成电路几乎都是用高纯度金属硅制成的，而且高纯度金属硅还是生产光纤的主要原料，可以说金属硅已成为信息时代的基础支柱产业。
（3）配制合金
硅铝合金是用量最大的硅合金。
硅铝合金是一种强复合脱氧剂，在炼钢过程中代替纯铝可提高脱氧剂利用率，并可净化钢液，提高钢材质量。
硅铝合金密度小，热膨胀系数低，铸造性能和抗磨性能好，用其铸造的合金铸件具有很高的抗击冲击能力和很好的高压致密性，可大大提高使用寿命，常用其生产航天飞行器和汽车零部件。
硅铜合金具有良好的焊接性能，且在受到冲击时不易产生火花，具有防爆功能，可用于制作储罐。
钢中加入硅制成硅钢片，能大大改善钢的导磁性，降低磁滞和涡流损失，可用其制造变压器和电机的铁芯，提高变压器和电机的性能。
随着科学技术的发展，金属硅的应用领域还将进一步扩大
金属硅的主要产区:金属硅主要分布在西南地区的云南，四川，贵州，广西，华中的湖南，湖北，华东的福建地区，东北地区主要是黑龙江的黑河，临江地带，吉林和辽宁，内蒙古，其中陕西青海等地也有厂家生产。