第2章2011 2012年电镀工艺课件金属电沉积

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《电镀培训教材》PPT课件

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第二章 塑胶电镀
一.塑胶电镀对塑胶件的技术要求: 1.要求光度高的部位,制件必须表面平滑。 2.零件表面设计符合电镀要求,即较大平面中间应呈突 起状,一般突起在0.10-0.15mm;菱角部位到圆,v型 槽的宽度应是深度3倍,盲孔深度为直径的1/2-1/3。 3.零件应有足够的强度,壁厚一般在3mm左右,最薄不 应低于1.9mm,最厚不应大于3.8mm. 4.有镶嵌件的塑胶制品,应为铝制件。 5.应留有电镀装挂位置。装挂位置应设计在不影响外观 部位。
b.溶剂浸渍法 将零件完全浸入(20-22)℃1:1的甲乙酮和 丙酮的混合溶液液中15秒,取出后立即甩干,检验裂纹状态。
解决办法:在60-75℃的温度下加热2-4h,或在25%(体积) 的丙酮中浸泡30分。
常用塑胶热处理温度:ABS塑胶65-75 ℃,聚丙烯80-100 ℃, 氯化聚醚80-120 ℃,聚碳酸酯110-130 ℃,改性聚苯烯50-60 ℃,聚苯醚100-120 ℃;聚酰胺在沸水中处理。
3.阴极电流效率 改善阴极电流效率,提高电解液的分散能力和覆 能盖能力。
4.机体的表面状况 提高机体表面光洁度,采用短时间冲击电波, 提高氢在机体上的过电位等,可以消除机体对分散能力和覆盖 能力的不良影响。
5.几何因素的影响 在实际生产中采用辅助阴极和象形 阳极,合理调节阴阳极之间的距离等方法尽可能消除 对几何因素对电解液分散能力的影响。镀铬电解液是 一个特殊,它是一种强氧化性的酸性电解液,在所应 用的电解液中分散能力最差的一种,在镀铬时为了提 高电解液的分散能力往往从电化学性能以外的角度出 发,采用防护阴极,是用辅助阳极和非金属屏蔽以及 合理调节电极之间的距离等方法,使其处于最佳的电 流分布状态。
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第二章电镀基本原理与概念

第二章电镀基本原理与概念

第二章電鍍基本原理與概念電鍍之定義電鍍之目的各種鍍金的方法電鍍的基本知識電鍍基礎有關之計算及化學冶金電鍍之定義電鍍(electroplating)被定義為一種電沈積過程(electrodepos- ition process),是利用電極(electrode)通過電流,使金屬附著於物體表面上,其目的是在改變物體表面之特性或尺寸。

電鍍之目的電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層(deposit),改變基材表面性質或尺寸。

例如賦予金屬光澤美觀、物品的防鏽、防止磨耗、提高導電度、潤滑性、強度、耐熱性、耐候性、熱處理之防止滲碳、氮化、尺寸錯誤或磨耗之另件之修補。

各種鍍金的方法電鍍的基本知識電鍍大部份在液體 (solution) 下進行,又絕大部份是由水溶液 (aqueous solution)中電鍍,約有 30 種的金屬可由水溶液進行電鍍, 由水溶液電鍍的金屬有:銅Cu、鎳Ni、鉻Cr、鋅Zn、鎘Cd 、鉛Pb、金Au、銀Ag、鉑Pt、鈷Co、錳Mn、銻Sb、鉍Bi、汞Hg、鎵Ga、銦In、鉈、As、Se、Te、Pd、Mn、Re、Rh、Os、Ir、Nb、W 等。

有些必須由非水溶液電鍍如鋰、鈉、鉀、鈹、鎂、鈣、鍶、鋇、鋁、La、Ti、Zr、Ge、Mo等。

可油水溶液及非水溶液電鍍者有銅、銀、鋅、鎘、銻、鉍、錳、鈷、鎳等金屬。

電鍍的基本知識包括下列幾項:溶液(solution)被溶解之物質稱之為溶質(solute),使溶質溶解之液體稱之溶劑(solute)。

溶劑為水之溶液稱之水溶液(aqueous solution)。

表示溶質溶解於溶液中之量為濃度(concentration)。

在一定量溶劑中,溶質能溶解之最大量值稱之溶解度(solubility)。

達到溶解度值之溶液稱之為飽和溶液(saturated solution),反之為非飽和溶液(unsaturated solution)。

溶液之濃度,在工廠及作業現場,使用易了解及便利的重量百分率濃度(weight percentage)。

金属的电沉积过程课件

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2023 WORK SUMMARY
金属的电沉积过程课 件
REPORTING
目录
• 电沉积过程简介 • 电沉积的物理化学基础 • 电沉积的工艺与参数 • 电沉积的设备与装置 • 电沉积的实践与应用 • 电沉积过程的优化与控制
PART 01
电沉积过程简介
定义与原理
定义
电沉积是一种通过电解液中的金 属离子在阴极上还原并沉积成金 属的过程。
电解液浓度
浓度对电沉积过程有重要 影响,过高或过低的浓度 可能导致沉积不均匀或无 法进行沉积。
添加剂使用
为了改善电沉积效果,有 时需要添加一些添加剂, 如稳定剂、光亮剂等。
电沉积的工艺条件
电流密度
电流密度的大小直接影响 沉积速率和沉积物的质量 ,需要根据实际情况进行 调整。
温度
温度对电沉积过程有一定 影响,过高或过低的温度 可能导致沉积不均匀或无 法进行沉积。
时间
电沉积时间的长短会影响 沉积层的厚度和致密性, 需要根据实际需求进行控 制。
电沉积参数的影响
电流密度对沉积层质量的影响
01
电流密度过小会导致沉积速率慢,过大则可能导致烧焦或气孔
等缺陷。
温度对沉积层质量的影响
02
温度过高可能导致金属离子水解,过低则可能导致沉积不均匀

时间对沉积层质量的影响
03
时间过长可能导致过度沉积或偏析,过短则可能导致沉积不完
金属离子的还原过程
还原反应
在电流的作用下,金属离子获得电子,从阳离子变为金属原子。
形核与生长
新形成的金属原子聚集形成晶核,随后晶核不断生长,形成金属沉积层。
PART 03
电沉积的工艺与参数
电解液的选择与制备

电镀基础知识ppt课件

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锌的标准电位比铁负,对钢铁而方是阳极 性镀层,可提供可靠的电化学保护,锌镀层的 使用湿度不超过250℃,在此湿度以上锌结晶组 织变形、发脆、耐蚀性下降。
镀锌电解液可分为碱性和弱酸性两大类, 常用的有:无氰锌酸盐、氰化物镀锌、氯化物 镀锌、硫酸盐镀锌。
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一、锌酸盐镀锌
电镀是一种电化学过程,也是一种氧化还原过 程。电镀的基本过程(以锌为例)是将零件浸在 金属盐的溶液中作为阴极,金属锌块作阳极,接 通直流电源后,在零件上就会沉积出金属锌镀 层。
3
一、电镀层的基本要求
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1、与基本金属结合牢固,附着力好。 2、镀层完整、结晶细致紧密、孔隙率小。 3、具有良好的物理、化学及机械性能。 4、具有符合标准规定的镀层厚度,而且镀 层分布要均匀。
三、 后处理见后面章节. (因电镀种类不同而异)
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第三章
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镀锌层的外观呈表白色,标准电极电位为 -0.76V,易溶于酸也溶于碱,是典型的两性金 属,锌在干燥空气中几乎不发生变化,锌腐蚀 的临界湿度大于70%,因此在潮湿大气中能与 CO2和O2作用生成一层主要由碱式碳酸锌组成 的薄膜,有一定的缓蚀作用,熔点420℃。
3、酸碱性:一般酸性较强的溶液中,金属不易钝 化。
4、工作条件:阴极电流密度对其影响最大,一般 情况下,在不大于临界钝化电流度的情况下,提高 电流密度可以加速阳极的溶解,反之则加速钝化。 低温有利于发生阳极钝化,因为这时的临界钝化电 流密度值要比高温时小。
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第二章
Hale Waihona Puke 目录常见的工艺流程:前处理( 化 学 除
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应用电化学41金属电沉积和电镀原理ppt课件

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特点:它们的极化原因是电化学引起的,因此是电化学极 化,并可从简单盐中沉积出致密的镀层。
2)络离子的还原
设 氰化物镀铜电解液基本组成
CuCN 35g/L(0.4 mol/L) NaCN 48g/L (1.0 mol/L) Cu+ 与CN-形成的络离子可能有[Cu(CN)2]-、 [Cu(CN)3]2-、 [Cu(CN)4]3-等不同形式,认为主要存在形式是[Cu(CN)3]2其在水中的电离平衡为:[Cu(CN)3]2-=Cu++3CN-
阴极性镀层 当镀层与基体金属形成腐蚀电池时,镀层因电位比基体更
正,基体金属首先受到腐蚀溶解,这时镀层为阴极性镀层。 阴极性镀层仅能对基体起到机械保护作用,不能起到电化
学保护作用,如:
铁上镀Sn: Sn2 /Sn -0.14V Fe2 /Fe -0.44V?
形成腐蚀电池时,Sn为阴极,Fe为阳极
(4) 电铸
提纯金属或湿法冶金
(5) 电加工 某些精密的零件,机械加工困难,可采用电加
工成型技术
(6) 表面处理 制备特殊用途材料如发泡镍、中空镍纤维等
(7) 高科技 如电沉积法制备一维纳米线
(8) 材料制备 制备催化材料、复合材料、金属膜材料等
常规电镀对电镀层的基本要求: 通常对电镀层要求:
镀层与基体结合牢固,一定的厚度及厚度均匀 镀层结构致密、孔隙率小等。 进一步要求:镀层内应力小、柔韧性好、有一定的硬度、
自行车轮镀铜镍铬; 吊灯等灯具电镀仿金镀层或仿银镀层; 仪器仪表盘装饰性电镀缎面镍;
功能性镀层 功能性镀层是具有特定功能和特定意义的镀层, 通常是只对 某一种零件和某一种特殊使用条件下所要求的特殊功能,因 此功能性镀层包括的项目较多,而且随着技术的发展和应用 的开发,今后还会越来越多,如: •耐磨镀层: 提高零件的表面硬度,增加抗磨损性能(如直 轴、曲轴、气缸, 纺织机械中的各种辊桶镀硬铬或喷涂陶磁 微粒); •减磨镀层: 多用于滑动接触面,需要电镀韧性好的金属, 如轴瓦,轴套等镀Sn、Pb-Sn、Pb-In等;

电镀工艺学-金属电沉积理论

电镀工艺学-金属电沉积理论

即电化学步骤和电结晶步骤,动力学规律交迭,极化曲线复
杂、数据分析困难; 2 固体表面不均匀,结晶过程中电极表面不断变化; 3 对大多数金属而言,界面步骤都进行的很快, 用经典电化学 测量极化曲线的方法不能揭示界面动力学规律。
2
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
电镀工艺学
第二章 金属电结晶
1
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
• 金属电结晶的基本概念 • 定义:通常把金属离子或络离子的放电并形成金属晶体的过 程称为金属电结晶 1 金属电结晶的界面反应至少包括放电和结晶两个连续的步骤,
1. 电化学极化较小的金属体系:
当从铜、银、锌、镉、铅、锡等金属的简单盐溶液中沉积这 些金属时极化都很小,即交换电流密度都很大。
8
Plating technology 如: 1 M
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
ZnSO4
80mA/cm2 42mA/cm2
吸附原子的表面扩散控制 在许多电极上,吸附原子的表面扩散速度并不大,如果电
化学步骤比较快, 则电结晶过程的进行速度将由吸附原子的
表面扩散步骤控制;如果电极体系的交换电流较小,则往往是 联合控制。 假设一个台阶上有一个无穷小面积dx、dy。 假设单位表面上吸附原子的平均浓度为。
其对时间t的变化应为表面上由法拉第电流产生的吸附原子的

第二章-金属电沉积PPT优秀课件

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二、传质控制步骤
1)电迁移:溶液中的荷电粒子(离子)在外电场作用下, 向电极迁移的一种传质方式。在电镀中,由于大量导电盐 的加入或其它不参加电极反应的荷电粒子的存在,一般沉 积金属离子的电迁移可忽略不计。
二、传质控制步骤
2)对流:溶液中的反应粒子(或组分)随液体流动同时 进行传递的过程称为对流。此时液体与物质粒子之间不存 在相对运动,电解液流动的主要原因为:
第四节 金属的电结晶
一、电结晶的基本概念
电结晶:金属离子放电以后进入晶格形成晶体 的过程。
晶体表面并不是十分完整,存在台阶和拐角。通 常把拐角这类位置称为晶体的生长点。
第四节 金属的电结晶
一、电结晶的基本概念
在电极电位偏离平衡电位不远处,电流密度很 小,晶粒长大比较 粗大。 当电极电位变得更负时,吸附原子来不及规则 地排列在晶格上,获得的晶粒 细小。
V DCi0 Cis
-扩散层的有效厚度
ik
I S
Q St
ik-电流密度
法拉第定律:
如果氧化还原反应中表示得失电子的计量系数为 n,即为n mol电子从负极通过外电路转移到正极, 则产生的电量Q为nF。
F-法拉第常数,其值为96485 C·mol-1。
根据法拉第定律:
Q nFM M-反应物摩尔数
一、电结晶的主要形态
可见叠加层的形貌,层与 层之间紧密连接、叠加 厚度均匀,每层的厚度保持在30-80 nm左右。
二、结晶形态与过电位的关系
过电位是决定结晶形态的首要因素。
实际使用的电流密度超过极限电流密度时,扩散过
电位急剧增大,会导致阴极上大量析氢和常常形成
形状如树枝的枝状沉积层,或形状如海绵的疏松沉
式中:io—交换电流密度,是当电极反应处平衡时 ( ik k)a 的电i0流密度;α、β为阴阳极反应的传递系 数且满足α+β=1。

电镀工艺简介PPT课件(PPT54页)

电镀工艺简介PPT课件(PPT54页)

功能
阴极电解 阳极电解 酸活化 镀半光镍
镀全光镍
镀瓦特镍
镀装饰铬
电解粉
除油
电解粉
除油、表面颗粒物
硫酸、酸盐
侵蚀表面氧化膜
硫酸镍、氯化镍、 获得半光镍镀层,填平基体,提高 硼酸、添加剂 光亮度及耐蚀性能
硫酸镍、氯化镍、 获得全光镍镀层,提高光亮度及耐 硼酸、添加剂 蚀性能
硫酸镍、氯化镍、 获得瓦特镍镀层,提高镀铬的活化
硫酸镍、氯化 镍、硼酸
铬酐、硫酸、 添加剂
功能
获得半光镍镀层,填平基体,提高表 面光亮镀及耐蚀性能
获得全光镍镀层,提高光亮度及耐蚀 性能
获得瓦特镍镀层,提高镀铬的活化性 能 获得铬镀层,提高装饰性能及耐蚀性 能
四、电镀工艺流程
► 不锈钢电镀工艺流程:
工序
超声波除腊 热浸除腊 超声波除腊
超声波除油 化学除油
电解粉
除油
氰化亚铜、氰 获得碱铜镀层,预防工件在镀硫酸铜 化钠、添加剂 时被腐蚀分解,提高耐蚀性能
硫酸、硫酸铜、获得硫酸铜镀层,填平基体,提高工
添加剂
件表面光亮镀
四、电镀工艺流程
► 锌合金工艺流程:
镀半光镍 镀全光镍 镀瓦特镍 镀装饰铬
工序 主要成分
硫酸镍、氯化 镍、硼酸、添 加剂
硫酸镍、氯化 镍、硼酸、添 加剂
超声波除油 化学除油 超声波除油
主要成分
除腊水 除蜡水
功能
除去工件表面抛光腊、内腔杂质 除去工件表面抛光腊
除蜡水
除去工件表面抛光腊、内腔杂质
除油粉
除去工件表面油污、内腔杂质
除油粉
除去工件表面油污
除油粉 除油粉 除油粉
除去工件表面油污、内腔杂质 除去工件表面油污 除去工件表面油污、内腔杂质
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极化曲线:电流通过电极时电极会发生极 化,表征电流密度与电极电势之间变化关 系的曲线称为极化曲线。 极化度:是指电极电势随电流密度的变化 率,它相当于改变单位电流密度所引起的 电极电势的变化,即极化曲线的斜率,也 称极化率。
§2.2 金属电结晶的基本历程
结论
• 金属离子在水溶液形成络合物的过程是 一步步完成的,举例:铜氰配离子
配离子的电化学还原历程
1. 电解液中以主要形式存在的配离子(浓度 最大最稳定的配离子),在电极表面上转化 成能在电极上直接放电的表面配合物,即化 学转化步骤。 2.表面配合物直接在电极上放电。
以氰化镀锌为例
[ Zn(OH ) 4 ]2 Zn(OH )2 2OH(配位数减少)
[ Zn(CN ) 4 ]2 4OH [ Zn(OH ) 4 ]2 4CN (配位体交换)
• 浓差极化:由于电极表面附近反应物或反 应产物的扩散速度小于电化学反应速度而 产生的极化,称为浓差极化或浓度极化。
• 转化反应引起的极化: 由于表面转化步骤(包 括前置、后继及平行转化)的反应速度小于 电化学反应速度而产生的极化,称为转化 反应引起的极化。
• 结晶过程引起的极化: 由于电结晶步骤反应 速度小于电化学反应速度而产生的极化,称 为结晶过程引起的极化。
晶界
晶核的形成和长大
金属析出的反应历程
结晶的吸附原子表面扩散控制
在平衡电势附近
RT i cM 吸 k ( 0 0 ) nF i c M吸
k 电化学+结晶
二维晶核形成速度与过电势的关系
(晶核与电极是同种金属)
h NM 1 W =K exp( ) nFRT K
高交换电流密度金属 • 根据i0值 中交换电流密度金属
低交换电流密度金属

高交换电流密度金属 中交换电流密度金属 低交换电流密度金属
结论
交换电流 大 小
电化学极化
镀层
(注:指从金属的 简单盐溶液中得到 的镀层)


结晶粗大, 结晶细小, 结构不致密 结构致密
§2.4 电镀层的结构和性能
电沉积金属的结构:外延生长、择优取向、 结晶形态 电镀层的基本性能:密度、电阻率、硬度、 强度与塑性 镀层内应力
一、电沉积金属的结构
若是一种金属电沉积在另一种金属基 外延: 体上,在通电的初始阶段,同样也会出现镀 层沿袭着基体晶格生长的现象,这就是通常 所说的外延。
晶格参数差别不足15%
外延生长
由无序取向的晶粒构成的多晶沉积层
择优取向
晶粒出现相同的特征性取向
择优取向:在多晶沉积层继续生长过程中,新 形成的沉积层将有相当数量的晶粒出现相同的 特征性取向,称为择优取向。
• 金属析氢过电势 • 交换电流
一、金属析氢过电势
析氢过电势:伴随氢气析出反应的过电势
被称为析氢过电势。
氢的析出过电势与阴极电流密度的关系
H a b lg j
高氢过电势金属 • 根据a值 中氢过电势金属 低氢过电势金属
中氢过电势金属 0.5 0.7V
高氢过电势金属 1.0 1.6V
游离配位剂
放电电势负移
氨三乙酸
金属配离子还原时的阴极极化
结论
• 配离子的主要存在形式≠放电配离子
浓度最大 的配离子 品种
配位数 较低的 配离子
直接在电极上放电的配离子
电极体系 配离子的 主要存在形式 直接在电极上 放电的配离子
Zn(Hg)/Zn2+, CN-, OH-
[Zn(CN)4]2-
Zn(OH)2

低氢过电势金属 0.1 0.3V
二、交换电流

当电极体系处于平衡态时,位于 交换电流 : 金属侧的金属原子电化学位与位于溶液侧中 的相应的离子的电化学位(G+nFEaq)是 相等的。此时虽然没有宏观反应发生,但微 观物质交换仍在发生,绝对阴极电流iko等于 绝对阳极电流iao。用统一的符号io代替iao和 iko,并称其为交换电流io 。
电结晶的主要形态
层状
金字塔状(棱锥状) 块状
屋脊状
立方层状
螺旋状
晶须状
枝晶
结晶形态 • 螺旋—对于向顶部盘绕而上的螺旋,可以 当作分层的棱锥体 • 晶须—是一种长的线状体,在相当高的电 流密度下,尤其是溶液中存在有机杂质时 容易形成。 • 枝晶—是一种树枝状的结晶,多数从单盐 溶液中沉积出来
2 1
结论
过电势越大,成核速度越大,晶粒越细
三维晶核形成速度与过电势的关系
(晶核与电极是异种金属)
W =K exp(结论
b
K
) 2
随着过电势的增加,形成晶核的速度急剧增加
结论
• 极化越大,形成的晶核尺寸越小,形成的 金属层就越细致光滑。所以在电镀的过程 中总是设法使得阴极电化学极化大一些。
§2.3 金属析氢过电势
• 汞齐: 又称汞合金,是汞与一种或几种其他 金属所形成的合金。
碱金 属

稀土 金属 碱土 金属
• 碱金属——锂﹑钠﹑钾﹑铷﹑铯﹑钫 • 碱土金属——铍、镁、钙、锶、钡、镭 • 稀土金属——元素周期表中IIIB族中钪、钇、 镧系17种元素的总称
• 欠电势沉积: 在异种金属表面上,可在比 平更正的电势沉积出单原子层或不足单原 子层的金属,称为“欠电势沉积”。
2.若溶液中金属离子以比简单水化离子更 稳定的络离子形式存在,则为了实现还原反 应就必须由外界供给更多的能量,因而体系 的平变得更负,使离子析出较为困难,例如 氰化物溶液中铁族金属无法电沉积出来。利 用这一原理,电镀锌时,常采用络合剂来掩 蔽铁族金属。
3.在非水溶剂中,金属离子的溶剂化能有 可能与水化能相差很大,此外,各种溶剂的 分解电势也各不相同,因此某些在水溶液中 不能在电极上析出的金属可以在适当的有机 溶剂中电沉积出来,例如,Li,Al,Mg等金 属不能自水溶液中电沉积,但可以从适当的 有机溶剂中电沉积出来。
镀层微观内应力
压应力
镀层宏观内应力:单面电镀的金属弯曲成C型
镀层承受拉应力
镀层
镀层
镀层承受压应力
• 微观内应力仅局限在晶粒尺寸大小的范围 内,它是晶格发生畸变或晶界遭受应变时 所产生的应力。 • 微观内应力仅影响硬度
§2.5 金属配离子还原时的极化
氰化物
氢氧化物 常用的配位剂 过量 卤化物 柠檬酸 焦磷酸
第二章 金属电沉积
§2.1 §2.2 §2.3 §2.4 §2.5 §2.6 §2.7 §2.8 金属离子阴极还原的可能性 金属电结晶的基本历程 金属析氢过电位 电镀层的结构和性能 金属络离子还原时的极化 金属的E-pH图及其在电镀领域中的应用 电解液对沉积层结构的影响 电解规范对沉积层结构的影响
电极的极化
电极过程历程
液相传质步骤
前置的表面转化步骤
电子转移步骤
后继的表面转化步骤 及平行的表面转化步骤
液相传质步骤
新相生成步骤 (晶态或气态)
•电极过程中的速度由最慢的单元步骤控制。
• 电流密度:单位面积电极上通过的电流强度, 通常以A/dm2表示。
• 电极电势:在标准状态下,某电极与标准 氢电极(作为负极)组成原电池,所测得 的电动势称为该电极的氢标准电极电势, 简称电极电势。 • 平衡电极电势:金属浸在只含有该金属盐 的电解液中,达到平衡时所具有的电极电 势,即电极反应处于热力学平衡状态时的 电极电势称为平衡电极电势。
注意
• 在电镀过程中,产生阴极极化的原因,一 般是电化学极化和浓差极化现象共存,只 是随条件的变化而有所侧重。
• 以电化学极化为主 电流密度很小
• 往往发生浓差极化
电流密度较大
在不加添加剂 • 主要是浓差极化起 的简单盐溶液 作用 中
• 析出电势:金属和其他物质(如氢气)在 阴极上开始镀出的电势,就称为该金属的 析出电势,也称沉积电势或放电电势。
0.1nm 内亥姆霍兹层 内亥姆霍兹层 外亥姆霍兹层 外亥姆霍兹层 0.2-0.3nm
特性吸附 金 属
水合金属离子
107-108V/cm
放电金属离子 (水合离子或配离子) 配体定向排列
数百nm
放电金属离子 脱去配体 扩散层
10µ m
放电位置
扩散双电层
亥姆霍兹层双电层
电极/水溶液界面的结构
电极表面的各个层
元素周期表
碲 砹
金属以配离子形式存在,则金属析出电位负移
• 在氰化物溶液中,只有(铜分族)及在 (铜分族右方)的金属元素才能在电极上 析出。即分界线的位置向右移动了。
能够导致分界线变化的情况
1.若金属电极过程的还原产物不是纯金属 而是合金,则反应产物中金属的活度比纯金 属小,因而有利于还原反应的实现,例如汞 齐的生成现象;还常观察到欠电势沉积现象。
内亥姆霍兹层
亥姆霍兹双电层
(内层或固定层或紧密层)
外亥姆霍兹层
扩散双电层
扩散层
2、 通电时金属离子的放电历程
(1) 金属离子(水合离子或配离子)从溶液 的内部向电极表面扩散,达到距电极表面数 百nm以内的扩散双电层边缘,其周围的配 体在电场作用下发生重排,远离电极表面。 (2) 金属离子在电场的作用下向电极表面 的双电层内进行迁移 ,在紧密双层的界面, 金属离子要脱去其尾部的配体。
• 标准电极电势:在标准状态下,即电极反 应中所有反应物与产物的活度(或逸度) 均等于1时的平衡电极电势称为标准电极电 势。 • 电化序:将各物质的标准电极电势按次序 排列成表,这个表称为金属的电化序。它 反映了金属氧化和还原的能力。
• 极化:指电流通过电极时,电极电势偏离 其平衡电势的现象。
• 阴极极化:直流电通过电极时,阴极电势 偏离平衡电势向负的方向移动的现象。 • 阳极极化: 直流电通过电极时,阳极电势 偏离平衡电势向正的方向移动的现象。
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