半导体物理基本概念大全
半导体物理学概念总结
半导体物理学概念总结
半导体物理学是研究半导体材料及其在电子学和光学中的性质和行为的学科。
以下是对半导体物理学概念的总结：
1. 半导体材料，半导体是一种介于导体和绝缘体之间的材料。
它的导电性介于导体和绝缘体之间，具有在一定条件下可控制的电导率。
2. 禁带宽度，半导体中的电子处于能带中，禁带宽度是指价带和导带之间的能量差。
当禁带宽度较小时，半导体易于导电。
3. 载流子，半导体中的载流子包括电子和空穴。
电子是带负电荷的载流子，而空穴是带正电荷的载流子。
4. 杂质，在半导体中加入少量的杂质可以改变其导电性能。
掺杂可以分为n型和p型，分别引入额外的自由电子或空穴。
5. PN结，PN结是半导体器件中常见的结构，由n型半导体和p型半导体组成。
在PN结中，会出现内建电场和整流特性。
6. 肖特基结，肖特基结是由金属和半导体组成的二极管。
它具有低反向漏电流和快速开关特性。
7. 光电子学，半导体在光照射下会产生光生载流子，这一特性被广泛应用于光电子学领域，如光电二极管和太阳能电池。
8. 晶体管，晶体管是半导体器件中的重要组成部分，可以放大和控制电流。
它的发明对电子技术产生了深远影响。
在半导体物理学中，以上概念都是非常重要的，它们构成了半导体器件和电子技术的基础。
研究半导体物理学不仅有助于深入理解现代电子器件的工作原理，也对半导体材料的开发和应用具有重要意义。
希望以上总结能够帮助你更好地理解半导体物理学的基本概念。
半导体物理归纳总结
半导体物理归纳总结半导体物理是研究半导体材料及其在电子器件中的应用特性的学科领域。
在过去几十年里，半导体技术的飞速发展对我们的生活产生了巨大的影响。
本文将对半导体物理的一些重要概念和原理进行归纳总结，帮助读者更好地理解半导体器件的工作原理及其应用。
1. 半导体的基本概念半导体是介于导体和绝缘体之间的一类物质，具有中等电导率。
它的导电性质可以通过控制掺杂和温度来进行调节。
常见的半导体材料有硅和锗，它们的物理性质决定了半导体器件的性能。
2. 半导体材料的能带结构半导体材料的能带结构直接影响其导电性质。
能带是描述电子能量和电子分布的概念。
在半导体中，价带是最高的填满电子的能带，而导带是电子可以自由移动的能带。
半导体的导电性取决于导带和价带之间的能隙大小。
3. 掺杂与载流子掺杂是将某种杂质引入到半导体材料中，以改变半导体的导电特性。
掺杂可以分为施主掺杂和受主掺杂两种。
施主掺杂会引入额外的自由电子，增加半导体的导电性，而受主掺杂引入额外的空穴，减少导电性。
掺杂后产生的自由电子和空穴被称为载流子，它们在半导体中的运动导致了电流的流动。
4. pn结及其特性pn结是由p型半导体和n型半导体相接触形成的结构。
在pn结中，p区富含空穴，n区富含自由电子。
当p区和n区相接触时，会发生空穴和自由电子的复合过程，形成耗尽区。
耗尽区内形成了电场，阻止了进一步的复合。
这种特殊的结构使得pn结具有整流特性，即在正向偏置下电流可以流动，而在反向偏置下电流几乎不流动。
5. 半导体器件的应用半导体器件包括二极管、场效应晶体管、晶体管等，它们在各种电子设备中起着重要作用。
二极管是一种具有单向导电性的器件，广泛应用在电源供电和信号处理中。
场效应晶体管是一种高度可控的电流放大器，常用于放大和开关电路。
晶体管则是一种功率放大器，被广泛应用在音频和无线通讯领域。
总结：半导体物理是一门涉及半导体材料特性和器件应用的重要学科。
通过对半导体的能带结构、掺杂与载流子、pn结特性以及器件应用的介绍，我们对半导体器件的工作原理有了更深入的理解。
半导体物理学中的基本概念
半导体物理学中的基本概念半导体是一种电子性能介于导体和绝缘体之间的物质。
在现代电子技术中，半导体被广泛应用于各种电子器件中。
要了解半导体，首先要掌握一些基本概念。
1. 能带结构能带结构是描述半导体电子状态的重要工具。
一个半导体晶体中的电子被排列在一系列能带中。
能带是一段能量范围，其中的电子具有相似的能量和动量。
在导带（conduction band）中，电子的能量很高，它们可以流动在半导体中，而在价带（valence band）中，电子的能量较低，它们被束缚在原子核和其他离子周围。
2. 禁带宽度禁带宽度（bandgap）是能带结构的一个重要参数。
它是导带和价带之间的能量间隙，通过这个间隙电子要么不能被激发到导带中，要么不能从导带回到价带中。
禁带宽度的大小是半导体的一个重要参数。
它的大小直接决定了半导体的电子和光学性质。
3. n型半导体和p型半导体n型半导体和p型半导体是两种不同类型的半导体。
n型半导体中存在较多的自由电子，它们带负电荷。
p型半导体中存在较多的空穴，它们带正电荷。
当n型半导体和p型半导体接触时，会出现pn结，这种结构在电子器件中得到了广泛应用。
4. pn结pn结是由n型半导体和p型半导体组成的结构。
在pn结中，n型半导体和p型半导体之间的禁带宽度是逐渐变小的。
这是因为在p型半导体中大量的电子会移动到n型半导体中，形成空穴。
这些空穴和n型半导体中的自由电子可以在pn结中重新组合，产生光子释放出能量。
5. 掺杂半导体需要通过掺杂来实现特定的电子性能。
掺杂是向半导体中引入特定的杂质元素，改变其电学性质的过程。
p型半导体中通常掺杂一些III族元素（例如硼），使得p型半导体中存在大量的空穴。
n型半导体中通常掺杂一些V族元素（例如砷），使得n型半导体中存在大量的自由电子。
总之，半导体物理学是现代电子技术的重要基础。
了解半导体物理学的基本概念对于理解电子器件原理、设计和制造都非常重要。
半导体物理主要概念
半导体物理主要概念在现代科技和电子领域中，半导体材料具有重要的地位。
半导体物理学涉及了许多核心概念，这些概念对我们理解半导体材料的性质和应用至关重要。
本文将重点介绍一些关键的半导体物理主要概念。
1. 能带理论（band theory）能带理论是解释固体材料电子结构的核心理论。
它描述了原子的电子如何在固体中形成能带（电子能量分布的区域）。
根据能带理论，固体材料中的电子可以填充到不同能量的能带中。
价带是离自由电子最近的能带，其中填满电子的能带称为价带；离自由电子最远的能带是导带，其中可以存在自由电子。
价带和导带之间的能量间隔称为能隙（band gap），是一个半导体的重要参数。
有无能隙区分了导电性质和绝缘性质的半导体。
2. 禁带宽度（band gap width）禁带宽度，也称能隙宽度，是半导体能带理论的一个重要概念。
禁带宽度是价带和导带之间的能量差异。
半导体材料根据禁带宽度的不同，可以分为直接带隙半导体和间接带隙半导体。
直接带隙半导体的价带和导带在动量空间中的最小距离很小，电子可以通过发射或吸收光子以较高的效率进行能带跃迁。
而间接带隙半导体的最小距离较大，电子的能带跃迁一般需要借助缺陷或其他粒子的参与。
3. 斯特克斯位移（Stark effect）斯特克斯位移描述了外加电场对半导体能带结构的影响。
当半导体材料中存在电场时，它会改变价带和导带的能量分布，导致能带发生位移。
斯特克斯位移是半导体器件如光电二极管等的基础理论。
4. 谐振频率（resonant frequency）谐振频率是指在某种特定的条件下，半导体材料会表现出共振特性。
半导体材料中的晶格结构和电子能级之间的相互作用会导致谐振频率的存在，这在电子器件的设计和性能优化中发挥重要作用。
5. 载流子（charge carrier）载流子是指在半导体材料中能够自由移动的电荷粒子。
在半导体中，载流子通常可以分为两类：电子和空穴（空穴可以看作是价带内缺少电子导致的正电荷）。
半导体物理学
半导体物理学半导体物理学是研究半导体材料及其物性的学科领域。
半导体材料是一种将电流在导电和绝缘体之间进行调控的材料，具有在一定条件下可变的电导特性。
在现代电子技术中，半导体器件如晶体管、二极管和集成电路等起着重要作用。
本文将介绍半导体物理学的基本概念、理论与应用。
一、半导体的基本概念半导体是介于导体和绝缘体之间的一类材料。
与导体相比，半导体的电导率较低；而与绝缘体相比，半导体在一定条件下可以导电。
半导体材料通常由硅、锗和化合物半导体等组成。
半导体中主要存在两种载流子：电子和空穴。
电子是带负电荷的粒子，而空穴则可以被视为缺少一个电子的位置。
在半导体中，电子和空穴的行为决定了它的导电特性。
二、半导体的能带结构半导体的能带结构与其导电特性密切相关。
能带是描述材料中电子能量和允许电子处于的状态的能级。
常用的能带有价带和导带。
在绝缘体和绝缘态半导体中，价带和导带之间存在能隙，电子需要克服能隙才能跃迁到导带中形成电流。
而在半导体中，能隙相对较小，室温下部分电子已经跃迁到导带，因此半导体材料具有较好的导电性。
三、半导体的掺杂掺杂是通过向半导体材料中引入杂质来改变其电导特性。
掺杂分为n型和p型两种类型。
n型半导体是通过掺入五价杂质（如磷或砷）来引入额外的自由电子，从而增加半导体的导电性能。
而p型半导体则是通过掺入三价杂质（如硼或铝）来引入额外的空穴，从而增加半导体的导电性能。
四、半导体器件半导体物理学的应用主要体现在各种半导体器件的研制和应用上。
晶体管是最重要的半导体器件之一。
晶体管的基本原理是通过控制电流在半导体材料中的流动来放大和开关信号。
晶体管的发明极大地改变了电子技术的发展，并推动了计算机、通信和各种电子设备的进步。
二极管是另一种常见的半导体器件，它是由一个p型半导体和一个n型半导体组成。
二极管具有只允许单向电流通过的特性，可以用于整流、光电探测和电压调节等应用。
集成电路是一种将多个晶体管、二极管和其他电子元件集成在一起的半导体器件。
半导体物理学基本概念
半导体物理学基本概念1.离子晶体:由正负离子或正负离子集团按一定比例组成的晶体称作离子晶体。
离子晶体中,正负离子或离子集团在空间排列上具有交替相间的结构特征。
离子间的相互作用以库仑静电作用为主导。
2.共价晶体:主要由共价键结合而成的晶体。
共价晶体中共价键的方向性与饱与性规定了共价晶体中原子间结合的方向性与配位数。
由于共价键非常稳定,所以一般来说,共价晶体的结构很稳定,具有很高的硬度与熔点。
由于所有的价电子都参与成键,不能自由移动,因而共价晶体通常不导电。
3.晶胞:晶格中最小的空间单位。
一般为晶格中对称性最高、体积最小的某种平行六面体。
4.弗仑克耳缺陷(肖特基缺陷):在一定温度下,晶格原子不仅在平衡位置附近做振动运动,而且一部分原子会获得足够的能量,克服周围原子对它的束缚,挤入晶格原子间的间隙,形成间隙原子,原来的位置便成为空位。
这时间隙原子与空位就是成对出现的,称为弗仑克耳缺陷。
若只在晶体内形成空位而无间隙原子时,称为肖特基缺陷。
5.施主(受主)杂质及施主(受主)电离能:V族杂质在硅、锗中电离时,能够释放电子而产生导电电子并形成正电中心,称它们为施主杂质或n型杂质。
使多余的价电子挣脱束缚成为导电电子所需的能量称为杂质电离能,用△表示。
Ⅲ族杂质在硅、锗中能够接受电子而产生导电空穴,并形成负电中心,称它们为受主杂质或p型杂质。
使空穴挣脱受主杂质束缚成为导电空穴所需的能量称为受主杂质电离能,用Δ、6.直接(间接)复合:电子在导带与价带之间的直接跃迁,引起电子与空穴的直接复合。
电子与空穴通过禁带的能级(复合中心)进行复合。
根据复合过程发生的位置,又可以把它区分为体内复合与表面复合。
7.复合率:n与p分别表示电子浓度与空穴浓度。
单位体积内,每一个电子在单位时间内都有一定概率与空穴复合,这个概率显然与空穴浓度成正比,可以用rp表示,那么复合率R就有如下的形式:R=rnp ,比例系数r 称为电子--空穴复合概率。
半导体物理学基本概念(版)
半导体物理学基本概念1.离子晶体：由正负离子或正负离子集团按一定比例组成的晶体称作离子晶体。
离子晶体中，正负离子或离子集团在空间排列上具有交替相间的结构特征。
离子间的相互作用以库仑静电作用为主导。
2.共价晶体：主要由共价键结合而成的晶体。
共价晶体中共价键的方向性和饱和性规定了共价晶体中原子间结合的方向性和配位数。
由于共价键非常稳定，所以一般来说，共价晶体的结构很稳定，具有很高的硬度和熔点。
由于所有的价电子都参与成键，不能自由移动，因而共价晶体通常不导电。
3.晶胞：晶格中最小的空间单位。
一般为晶格中对称性最高、体积最小的某种平行六面体。
弗仑克耳缺陷（肖特基缺陷）：在一定温度下，晶格原子不仅在平衡位置附近做振动运动，而且一部分原子会获得足够的能量，克服周围原子对它的束缚，挤入晶格原子间的间隙，形成间隙原子，原来的位置便成为空位。
这时间隙原子和空位是成对出现的，称为弗仑克耳缺陷。
若只在晶体内形成空位而无间隙原子时，称为肖特基缺陷。
施主（受主）杂质及施主（受主）电离能：V族杂质在硅、锗中电离时，能够释放电子而产生导电电子并形成正电中心，称它们为施主杂质或n型杂质。
使多余的价电子挣脱束缚成为导电电子所需的能量称为杂质电离能，用△表示。
Ⅲ族杂质在硅、锗中能够接受电子而产生导电空穴，并形成负电中心，称它们为受主杂质或p型杂质。
使空穴挣脱受主杂质束缚成为导电空穴所需的能量称为受主杂质电离能，用Δ.直接（间接）复合：电子在导带和价带之间的直接跃迁，引起电子和空穴的直接复合。
电子和空穴通过禁带的能级（复合中心）进行复合。
根据复合过程发生的位置，又可以把它区分为体内复合和表面复合。
复合率：n和p分别表示电子浓度和空穴浓度。
单位体积内，每一个电子在单位时间内都有一定概率和空穴复合，这个概率显然和空穴浓度成正比，可以用rp表示，那么复合率R就有如下的形式：R=rnp ，比例系数r 称为电子--空穴复合概率。
量子态密度：单位k空间中的量子态数，称为k空间的量子态密度。
半导体物理知识点及重点习题总结
半导体物理知识点及重点习题总结基本概念题：第⼀章半导体电⼦状态1.1 半导体通常是指导电能⼒介于导体和绝缘体之间的材料，其导带在绝对零度时全空，价带全满，禁带宽度较绝缘体的⼩许多。
1.2能带晶体中，电⼦的能量是不连续的，在某些能量区间能级分布是准连续的，在某些区间没有能及分布。
这些区间在能级图中表现为带状，称之为能带。
1.3导带与价带1.4有效质量有效质量是在描述晶体中载流⼦运动时引进的物理量。
它概括了周期性势场对载流⼦运动的影响，从⽽使外场⼒与加速度的关系具有⽜顿定律的形式。
其⼤⼩由晶体⾃⾝的E-k 关系决定。
1.5本征半导体既⽆杂质有⽆缺陷的理想半导体材料。
1.6空⽳空⽳是为处理价带电⼦导电问题⽽引进的概念。
设想价带中的每个空电⼦状态带有⼀个正的基本电荷，并赋予其与电⼦符号相反、⼤⼩相等的有效质量，这样就引进了⼀个假想的粒⼦，称其为空⽳。
它引起的假想电流正好等于价带中的电⼦电流。
1.7空⽳是如何引⼊的，其导电的实质是什么？答：空⽳是为处理价带电⼦导电问题⽽引进的概念。
设想价带中的每个空电⼦状态带有⼀个正的基本电荷，并赋予其与电⼦符号相反、⼤⼩相等的有效质量，这样就引进了⼀个假想的粒⼦，称其为空⽳。
这样引⼊的空⽳，其产⽣的电流正好等于能带中其它电⼦的电流。
所以空⽳导电的实质是能带中其它电⼦的导电作⽤，⽽事实上这种粒⼦是不存在的。
1.8 半导体的回旋共振现象是怎样发⽣的（以n型半导体为例）答案：⾸先将半导体置于匀强磁场中。
⼀般n型半导体中⼤多数导带电⼦位于导带底附近，对于特定的能⾕⽽⾔，这些电⼦的有效质量相近，所以⽆论这些电⼦的热运动速度如何，它们在磁场作⽤下做回旋运动的频率近似相等。
当⽤电磁波辐照该半导体时，如若频率与电⼦的回旋运动频率相等，则半导体对电磁波的吸收⾮常显著，通过调节电磁波的频率可观测到共振吸收峰。
这就是回旋共振的机理。
1.9 简要说明回旋共振现象是如何发⽣的。
半导体样品置于均匀恒定磁场，晶体中电⼦在磁场作⽤下运动运动轨迹为螺旋线，圆周半径为r ，回旋频率为当晶体受到电磁波辐射时，在频率为时便观测到共振吸收现象。
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2. 两种金属A 和B 通过金属C 相接触，若温度相等，证明其两端a ，b 的电势差同A，B 直接接触的电势差一样。
如果A 是Au，B 是Ag，C 是Cu或Al ，则Va b 为多少？
4. 受主浓度NA=1017CM-3的P 型锗，室温下的功函数是多少？若不考虑表面态的影响，它分别同Al ，Au，Pt 接触时，形成阻挡层还是反阻挡层？锗的电子亲和能取4.13eV 。
5. 某功函数为2.5eV 的金属表面受到光照射。
①这个面吸收红光或紫光时，能发出光电子吗？②用波长为185nm 的紫外线照射时，从表面放出的光电子的能量是多少eV？
6. 电阻率为10 cm Ω⋅的n 型锗和金属接触形成的肖特基势垒二极管。
若已知势垒高度为0.3eV，求加上5V反向电压时候的空间电荷层厚度。
半导体物理学基本概念
有效质量-----载流子在晶体中的表观质量，它体现了周期场对电子运动的影响。
其物理意义：1）有效质量的大小仍然是惯性大小的量度；2）有效质量反映了电子在晶格与外场之间能量和动量的传递，因此可正可负。
空穴-----是一种准粒子，代表半导体近满带（价带）中的少量空态，相当于具有正的电子电荷和正的有效质量的粒子，描述了近满带中大量电子的运动行为。
回旋共振----半导体中的电子在恒定磁场中受洛仑兹力作用将作回旋运动，此时在半导体上再加垂直于磁场的交变磁场，当交变磁场的频率等于电子的回旋频率时，发生强烈的共振吸收现象，称为回旋共振。
施主-----在半导体中起施予电子作用的杂质。
受主-----在半导体中起接受电子作用的杂质。
杂质电离能-----使中性施主杂质束缚的电子电离或使中性受主杂质束缚的空穴电离所需要的能量。
n-型半导体------以电子为主要载流子的半导体。
p-型半导体------以空穴为主要载流子的半导体。
浅能级杂质------杂质能级位于半导体禁带中靠近导带底或价带顶，即杂质电离能很低的杂质。
浅能级杂质对半导体的导电性质有较大的影响。
深能级杂质-------杂质能级位于半导体禁带中远离导带底（施主）或价带顶（受主），即杂质电离能很大的杂质。
深能级杂质对半导体导电性质影响较小，但对半导体中非平衡载流子的复合过程有重要作用。
位于半导体禁带中央能级附近的深能级杂质是有效的复合中心。
杂质补偿-----在半导体中同时存在施主和受主杂质时，存在杂质补偿现象，即施主杂质束缚的电子优先填充受主能级，实际的有效杂质浓度为补偿后的杂质浓度，即两者之差。
直接带隙-----半导体的导带底和价带顶位于k空间同一位置时称为直接带隙。
直接带隙材料中载流子跃迁几率较大。
间接带隙-----半导体的导带底和价带顶位于k空间不同位置时称为间接带隙。
间接带隙材料中载流子跃迁时需有声子参与，跃迁几率较小。
平衡状态与非平衡状态-----半导体处于热平衡态时，载流子遵从平衡态分布，电子和空穴具有统一的费米能级。
半导体处于外场中时为非平衡态，载流子分布函数偏离平衡态分布，电子和空穴不具有统一的费米能级，载流子浓度也比平衡时多出一部分，但可认为它们各自达到平衡，可引入准费米能级表示。
电中性条件-----半导体在任何情况下都维持体内电中性，即单位体积内正电荷数与负电荷数相等。
非简并半导体----半导体中载流子分布可由经典的玻尔兹曼分布代替费米分布描述时，称之为非简并半导体。
简并半导体-----半导体重掺杂时，其费米能级有可能进入到导带或价带中，此时载流子分布必须用费米分布描述，称之为简并半导体。
简并半导体有如下性质：1）杂质不能充分电离；2）杂质能级扩展为杂质能带。
如果杂质能带与导带或价带相连，则禁带宽度将减小。
本征半导体-----本征半导体即纯净半导体，其载流子浓度随温度增加呈指数规律增加。
杂质半导体----在半导体中人为地，有控制地掺入少量的浅能级杂质的半导体，可在较大温度范围内保持半导体内载流子浓度不随温度改变。
即掺杂的主要作用是在较大温度范围维持半导体中载流浓度不变。
多数载流子与少数载流子------多数载流子是在半导体输运过程中起主要作用的载流子，如n-型半导体中的电子。
而少数载流子在是在半导体输运过程中起次要作用的载流子，如n-型半导体
中的空穴。
费米分布------费米分布是费米子（电子）在平衡态时的分布，其物理意义是在温度T时，电子占据能量为E的状态的几率，或能量为E的状态上的平均电子数。
费米能级-----费米能级是T=0 K时电子系统中电子占据态和未占据态的分界线，是T=0 K时系统中电子所能具有的最高能量。
漂移速度----载流子在外场作用下定向运动的平均速度，弱场下漂移速度大小正比于外场强度。
迁移率----描述半导体中载流子在外场中运动难易程度的物理量，若外场不太强，载流子运动遵从欧姆定律时，迁移率与电场强度无关，为一常数。
强场时，迁移率与外场有关。
电导率-----描述材料导电性质的物理量。
半导体中载流子遵从欧姆定律时，电流密度正比于电场强度，其比例系数即为电导率。
电导率大小与载流子浓度，载流子的迁移率有关。
从微观机制看，电导率与载流子的散射过程有关。
电阻率-----电导率的倒数。
本征半导体电阻率随温度上升而单调下降。
同样，电阻率与载流子的散射过程有关。
金属电阻率-----随温度上升而上升。
（晶格振动散射）
散射几率-----载流子在单位时间内被散射的次数。
平均自由时间-----载流子在两次散射之间自由运动的平均时间。
强场效应-----电场强度较高时载流子的平均漂移速度与电场强度间的关系偏离线性关系的现象，此时迁移率不再是常数。
电场强度继续增加时，漂移速度不再随外场增加而变化，达到饱和。
热载流子-----半导体处于强场中时，电子的平均能量高于晶格平均能量，以温度度量，则电子平均温度高于晶格平均温度，因此称强场中电子为热载流子。
多能谷散射-----半导体中有多个能量值接近的导带底时，电子被散射到不同能谷的现象。
负微分电导（电阻）------定义dJ/dE为微分电导，当半导体中电流密度随电场增加而减小时，微分电导小于零，称为负微分电导。
耿氏振荡-----存在负微分电导的半导体在强场中电流出现振荡的现象。
由于载流子分布不均匀，在高阻区形成偶极畴，偶极畴不断产生、长大、漂移和吸收的过程便产生微波振荡。
非平衡载流子-半导体处于非平衡态时，比平衡态时多出来的那一部分载流子称为非平衡载流子。
Δp=Δn
非平衡载流子的注入与复合-----非平衡载流子的产生过程称为注入，非平衡载流子湮灭的过程称为复合。
准费米能级-----半导体处于非平衡态时，导带电子和价带空穴不再有统一的费米能级，但可以认为它们各自达到平衡，相应的费米能级称为电子和空穴的准费米能级。
少子寿命----非平衡少数载流子在半导体中存在的平均时间。
即产生非平衡载流子的因素去除后，非平衡载流子浓度衰减至初始时浓度的1/e倍所需的时间。
直接复合-----电子从导带直接跃迁至价带与空穴相遇而复合。
间接复合-----电子通过禁带中的能级而跃迁至价带与空穴相遇而复合。
表面复合----发生在半导体表面处的复合。
体内复合----发生在半导体内部的复合。
辐射复合----电子从高能级跃迁至低能级与空穴复合时，多余的能量以辐射光子的形式释放。
无辐射复合-----电子从高能级跃迁至低能级与空穴复合时，多余的能量以辐射声子的形式释放。
俄歇复合----电子从高能级跃迁至低能级与空穴复合时，释放的能量用于其它载流子由较低能态跃迁至较高能态。
复合中心-----对间接复合起促进作用的深能级杂质。
相应的杂质能级称为复合中心能级，通常位于半导体禁带中央能级附近。
载流子陷阱------对间接复合起阻碍作用的深能级杂质。
相应的杂质能级称为陷阱能级。