霍尔系数和电导率测量
实验二霍尔系数和电阻率的测量

实验二霍尔系数和电阻率的测量把通有电流的半导体置于磁场中,如果电流方向与磁场垂直,则在垂直于电流和磁场的方向会产生一附加的横向电场,这个现象称为霍尔效应。
随着半导体物理学的发展,霍尔系数和电导率的测量已成为研究半导体材料的主要方法之一。
通过实验测量半导体材料的霍尔系数和电导率可以判断材料的导电类型、载流子浓度、载流子迁移率等主要参数。
若能测量霍尔系数和电导率随温度变化的关系,还可以求出材料的杂质电离能和材料的禁带宽度。
一、实验目的1. 了解霍尔效应实验原理以及有关霍尔元件对材料要求的知识;2. 学习用“对称测量法”消除副效应的影响,测量并绘制试样的V H-I S和V H-I M曲线;3. 确定试样的导电类型、载流子浓度以及迁移率。
二、实验原理霍尔效应从本质上讲是运动的带电粒子在磁场中受洛仑兹力作用而引起的偏转。
当带电粒子(电子和空穴)被约束在固体材料中,这种偏转就导致在垂直于电流和磁场的方向上产生正负电荷的积累,从而形成附加的横向电场,即霍尔电场。
对于图(a)所示的N型半导体试样,若在X方向的电极D、E上通以电流I S,在Z方向加磁场B,试样中载流子(电子)将受洛仑兹力:FB()v eg其中,e为载流子(电子)电量,v为载流子在电流方向上的平均定向漂移速率,B为磁感A C A C(a)(b)图样品示意图无论载流子是正电荷还是负电荷,Fg 的方向均沿Y 方向,在此力的作用下,载流子发生偏移,则在Y 方向即试样A 、A ’电极两侧就开始聚集异号电荷,在A 、A ’两侧产生一个电位差V H ,形成相应的附加电场E H ——霍尔电场,相应的电压V H 称为霍尔电压,电极A 、A ’称为霍尔电极。
电场的指向取决于试样的导电类型。
N 型半导体的多数载流子为电子,P 型半导体的多数载流子为空穴。
对N 型试样,霍尔电场逆Y 方向,P 型试样则沿Y 方向,有I S (X)、B (Z) E H (Y) < 0 (N 型)E H (Y) > 0 (P 型)显然,该电场是阻止载流子继续向侧面偏移。
霍尔效应

班级 2 组别_____________姓名杨戈学号1080600081日期_____________ 指导教师__________【实验题目】霍尔效应【实验目的】1.掌握霍尔效应的原理,霍尔系数和电导率的测量方法2.了解霍尔器件的应用并进一步理解半导体的导电机制。
【实验仪器】样品,磁场部分(直流恒压源),铜-康铜热电偶,数字式电压表测温仪,数字式测量仪表【实验原理】1.半导体内的载流子根据半导体导电理论,半导体内载流子的产生有两种不同的机构:本证激发和杂质电离(1)本征激发半导体材料内共价键上的电子有可能受到热激发后跃迁到导带上,在原共价键上留下一个电子空位——空穴,这个空穴很容易受到邻键上的电子跳过来填补而转移到邻键上。
因此半导体内存在参与导电的两种载流子:电子和空穴。
这种不受外来杂质的影响由半导体本身靠热激发产生电子-空穴的过程,称为本征激发。
(2)杂质电离在纯净的第IV族元素半导体材料中,掺入微量III或V族元素杂质,称为半导体掺杂。
掺杂后的半导体在温室下的导电性能主要由浅杂质决定。
如果硅材料中掺入微量III族元素(B,Al等),这些第III族原子在晶体中取代部分硅原子位置,与周围硅原子组成共价键时,从邻近硅原子价键上夺取一个电子成为负离子,而在邻近失去一个点的硅原子价键上产生一个空穴,这样满带中的电子激发到禁带中的杂质能级上,使硼原子电离成硼离子,而在满带中留下空穴参与导电,这种过程称为在职电离。
产生一个空穴所需的能量称为杂质电离能。
这样的杂质叫受主杂质,由受主杂质电离而提供空穴导电为主的半导体材料称为p型半导体。
当温度较高时,浅受主杂质几乎完全电离,这时价带中的空穴浓度接近受主杂质浓度。
同理,在IV族元素半导体(硅,锗等)中,掺入微量的V族元素,如磷砷等,那么杂质原子与硅原子形成共价键时,多余的一个价电子只受到磷例子的微弱束缚,在温室下这个点子可以脱离束缚使磷原子成为正离子,并向半导体提供一个自由电子。
半导体霍尔系数与电导率测量实验报告

半导体霍尔系数与电导率测量13应用物理(1)班 杨礴 2013326601111一、实验目的1.了解霍尔效应实验原理以及有关霍尔器件对材料要求的知识2.测量试样的导电类型、载流子浓度以及迁移率二、实验原理霍尔效应的测量是研究半导体性质的重要实验方法。
利用霍尔效应,可以确定半导体的导电类型和载流子浓度。
利用霍尔系数和电导率的联合测量,可以用来研究半导体的导电机制(本征导电和杂质导电)和散射机制(晶格散射和杂质散射),进一步确定半导体的迁移率、禁带宽度、杂质电离能等基本参数。
测量霍尔系数随温度的变化,可以确定半导体的禁带宽度、杂质电离能及迁移率的特性。
1、 霍尔效应和霍尔系数设一块半导体的x 方向上有均匀的电流流过,在z 方向上加有磁场,则在这块半导体的y 方向上出现一横向电势差,这种现象被称为“霍尔效应”, 称为“霍尔电压”,所对应的横向电场称为“霍尔电场”。
霍尔电场强度的大小与流经样品的电流密度和磁感应强度的乘积成正比:式中比例系数称为“霍尔系数”。
半导体样品的长、宽、厚分别为l 、a 、b ,半导体载流子(空穴)的浓度为p ,它们在电场作用下,以平均漂移速度沿x 方向运动,形成电流。
在垂直于电场方向上加一磁场,则运动着的载流子要受到洛Z X H H B J R E ••=仑兹力的作用该洛仑兹力指向-y 方向,因此载流子向-y 方向偏转,这样在样品的左侧面就积累了空穴,从而产生了一个指向+y 方向的电场——霍尔电场。
当该电场对空穴的作用力q 与洛仑兹力相平衡时,空穴在y 方向上所受的合力为零,达到稳态。
在稳态时,有 :若是均匀的,则在样品左、右两侧面间的电位差: 而x 方向的电流: 由以上的式子得: 所以对p 型半导体: n 型半导体: 所以的计算式:三、实验仪器霍尔传感器,可调恒流源3.5A ,可调恒流源10mA ,电磁线圈5A四、实验内容1.测量霍尔电压V H 和霍尔电流I S 的关系(1)按要求连接导线。
半导体的霍尔系数与电导率的测量

半导体的霍尔系数与电导率的测量引言1879年,霍尔(E.H.Hall)研究通有电流的导体在磁场中受力时,发现在垂直于磁场和电流的方向上产生了电动势,这个电磁效应称为“霍尔效应”。
在半导体材料中,霍尔效应比在金属中大几个数量级,引起人们对它的深入研究。
霍尔效应的研究在半导体理论的发展中起了重要的推动作用。
直到现在,霍尔效应的测量仍是研究半导体性质的重要实验方法。
利用霍尔系数和电导率的联合测量,可以用来研究半导体的导电机构(本征导电和杂质导电)、散射机构(晶格散射和杂质散射),并可以确定半导体的一些基本参数,如:半导体材料的导电类型、载流子浓度、迁移率大小、禁带宽度、杂质电离能等。
利用霍尔效应制成的元件,称为霍尔元件,也已广泛地用于测试仪器和自动控制系统中。
实验原理1.霍尔效应和霍尔系数设一块半导体的x方向上有均匀的电流Ix流过,在z方向上加有磁场Bz,则在这块半导体的y方向上出现一横向电势差UH,这种现象被称为“霍尔效应”,UH称为“霍尔电压”,所对应的横向电场E H称为“霍尔电场”。
见图6.1-1。
实验指出,霍尔电场强度E H的大小与流经样品的电流密度Jx和磁感应强度Bz的乘积成正比E H=R H·Jx·Bz(6.1-1)式中比例系数RH称为“霍尔系数”。
下面以p型半导体样品为例,讨论霍尔效应的产生原理并推导、分析霍尔系数的表达式。
半导体样品的长、宽、厚分别为L、a、b,半导体载流子(空穴)的浓度为p,它们在电场E x作用下,以平均漂移速度vx沿x方向运动,形成电流Ix。
在垂直于电场E x方向上加一磁场Bz,则运动着的载流子要受到洛仑兹力的作用F=q×B(6.1-2)式中q为空穴电荷电量。
该洛仑兹力指向-y方向,因此载流子向-y方向偏转,这样在样品的左侧面就积累了空穴,从而产生了一个指向+y方向的电场—霍尔电场E y。
当该电场对空穴的作用力qEy与洛仑兹力相平衡时,空穴在y方向上所受的合力为零,达到稳态。
实验二霍尔系数和电阻率的测量

实验二 霍尔系数和电阻率的测量把通有电流的半导体置于磁场中,如果电流方向与磁场垂直,则在垂直于电流和磁场的方向会产生一附加的横向电场,这个现象称为霍尔效应。
随着半导体物理学的发展,霍尔系数和电导率的测量已成为研究半导体材料的主要方法之一。
通过实验测量半导体材料的霍尔系数和电导率可以判断材料的导电类型、载流子浓度、载流子迁移率等主要参数。
若能测量霍尔系数和电导率随温度变化的关系,还可以求出材料的杂质电离能和材料的禁带宽度。
一、实验目的1. 了解霍尔效应实验原理以及有关霍尔元件对材料要求的知识;2. 学习用“对称测量法”消除副效应的影响,测量并绘制试样的V H -I S 和V H -I M 曲线;3. 确定试样的导电类型、载流子浓度以及迁移率。
二、实验原理霍尔效应从本质上讲是运动的带电粒子在磁场中受洛仑兹力作用而引起的偏转。
当带电粒子(电子和空穴)被约束在固体材料中,这种偏转就导致在垂直于电流和磁场的方向上产生正负电荷的积累,从而形成附加的横向电场,即霍尔电场。
对于图 (a)所示的N 型半导体试样,若在X 方向的电极D 、E 上通以电流I S ,在Z 方向加磁场B ,试样中载流子(电子)将受洛仑兹力:B v e F g ()其中,e 为载流子(电子)电量,v 为载流子在电流方向上的平均定向漂移速率,B 为无论载流子是正电荷还是负电荷,Fg 的方向均沿Y 方向,在此力的作用下,载流子发生偏移,则在Y 方向即试样A 、A ’电极两侧就开始聚集异号电荷,在A 、A ’两侧产生一个电位差V H ,形成相应的附加电场E H ——霍尔电场,相应的电压V H 称为霍尔电压,电极A 、A ’称为霍尔电极。
电场的指向取决于试样的导电类型。
N 型半导体的多数载流子为电子,P 型半导体的多(a (b图 样品示意图数载流子为空穴。
对N 型试样,霍尔电场逆Y 方向,P 型试样则沿Y 方向,有I S (X)、B (Z) E H (Y) < 0 (N 型)E H (Y) > 0 (P 型)显然,该电场是阻止载流子继续向侧面偏移。
半导体的霍尔系数与电导率实验报告

半导体的霍尔系数与电导率实验报告半导体的霍尔系数与电导率实验报告一、实验目的1. 了解半导体材料的基本性质;2. 掌握霍尔效应的基本原理和测量方法;3. 掌握电导率的测量方法;4. 通过实验,探究半导体材料的电学特性。
二、实验原理1. 霍尔效应当一个电流I在导体中流动时,会在导体内产生磁场B。
如果在导体上施加一个横向磁场,则磁场会使电子受到一个横向力F,使电子在导体中发生偏转,这种现象称为霍尔效应。
霍尔效应的大小与横向磁场、电流强度、样品尺寸和载流子类型等因素有关。
2. 电导率电导率是指单位长度、单位截面积的导体,在单位电压下通过的电流强度。
对于半导体材料来说,其电导率与载流子浓度和载流子迁移率有关。
三、实验步骤1. 实验器材:霍尔效应测量仪、半导体样品、恒流源、数字万用表等。
2. 实验步骤:(1)将半导体样品固定在霍尔效应测量仪上,并接上恒流源和数字万用表,调节恒流源使其输出电流为所需值。
(2)调节霍尔效应测量仪上的磁场大小和方向,使其满足实验要求。
(3)记录数字万用表上的电压值、电流值和磁场值。
(4)更改实验条件,重复步骤2和步骤3,记录数据。
(5)根据数据计算出半导体样品的霍尔系数和电导率。
四、实验结果及分析1. 实验数据实验数据如下表所示:2. 计算结果根据实验数据,可以计算出半导体样品的霍尔系数和电导率。
计算公式如下:$$R_H=%frac{V_H}{IB}$$$$%sigma=%frac{I}{VB}$$其中,RH为霍尔系数,σ为电导率,VH为霍尔电压,I为电流强度,B为磁场大小,V为电压值。
根据上述公式,可以得到半导体样品的霍尔系数为1.6×10-3m3/C,电导率为3.3×10-3 S/m。
3. 结果分析根据实验结果可以看出,半导体样品的霍尔系数较小,说明其载流子浓度较低。
而电导率比较大,说明半导体样品中的载流子迁移率较高。
这与半导体材料的特性相符。
五、实验总结通过本次实验,我们掌握了半导体材料的基本性质和电学特性,并了解了霍尔效应和电导率的基本原理和测量方法。
实验十九霍尔效应-电导率的测定

实验十九 霍尔效应-电导率的测定一、实验目的1. 掌握霍尔效应产生的原理。
2. 了解变温霍尔效应测试系统的使用方法。
3. 掌握测量材料电阻率的基本原理和方法。
二、实验原理1. 霍尔效应霍尔效应是指在外加磁场下,处于导电状态的材料中的载流子由于受洛伦兹力的作用运动发生偏转,在垂直于磁场方向的材料的两端积聚异种电荷的现象。
并且当外加磁场一定,电流不变以及温度恒定的情况下,材料在平行磁场两端积聚电荷数达到稳定,因此产生一个恒定电压V H , 称为霍尔电压,该值大小由下式表述:t IBR V H H /= (1)式中:V H 单位为V ,t 为样品厚度,单位为m ;I 为通过样品的电流,单位为A ; B 为磁通密度,单位为wb/m 2;R H 为霍尔系数,与材料的性质有关,单位m 2/C 。
2. 材料的电阻率材料的电阻率是表征材料导电能力的重要参数,它与材料的几何形状以及材料中所加电流和电压无关。
标准样品(直六面体)的电阻率由下式表示:)(m ILtwV ⋅Ω=ρσ (2) 其中V σ为电导电压,单位为V ,t 为样品厚度,单位为m ,w 为样品宽度,单位为m ,L 为样品电位引线之间的距离,单位为m ,I 为通过样品的电流,单位为A 。
三、实验仪器设备及流程1.CVM-200霍尔效应仪。
2.TC-201温控仪。
3.SV-12变温恒温仪。
4. 可换向永磁磁铁。
5. 实验样品:1) 美国Lakeshore公司HGT-2100高灵敏霍尔探头,工作电流10mA,室温下灵敏度为55-140mV/kG;2) 碲镉汞单晶,厚1.11mm,最大电流50mA。
四、实验操作步骤1.磁场标定系统中的S1为已在室温下标定过的霍尔探头,在室温下用开关选择样品S1,并使恒温器位于可换向永磁磁铁中心,恒温器真空抽口垂直于商标面。
开机后快速将横流源输出调到mA,此时CVM-200表的微伏表电压读数即为磁场的特斯拉数。
霍尔探头最大电流为10mA。
半导体霍尔系数与电导率测量实验报告

半导体霍尔系数与电导率测量实验报告实验目的:1.了解半导体材料的霍尔效应原理及其在物理中的应用;2.学习使用霍尔测量仪器测量半导体样品的霍尔系数和电导率。
实验仪器和材料:1.霍尔效应实验装置2.N型半导体样品3.针对净电荷携带型的霍尔探头4.模拟多用表5.直流电源实验原理:霍尔效应是指在电流通过垂直于磁场和电流方向的导体时,引起的横向电场现象。
在半导体材料中,载流子(电子或空穴)在外加磁场下发生漂移运动,从而在横向形成一电场,这个现象称为霍尔效应。
霍尔效应与材料的类型(N型或P型)、载流子类型(电子或空穴)、载流子浓度和电导率等因素有关。
霍尔系数与电导率有着密切的关系。
霍尔系数RH的定义为,当载流子在单位尺寸、单位载流密度和单位磁感应强度下受到的洛伦兹力,与单位电场大小的比值。
电导率σ与半导体样品的电阻率ρ之间有如下关系:σ=1/ρ。
因此,通过测量霍尔系数和电阻率,可以确定半导体材料的电导率。
实验步骤:1.将霍尔样品插入霍尔探头中,确保霍尔探头正面与样品接触良好。
2.将多用表调至电压测量模式并连接至霍尔探头,用以测量霍尔电压。
将直流电源连接至样品和导线,调整电压和电流的大小。
3.调节磁场大小,将霍尔探头放置于磁场中,使其垂直于电流方向。
记录多用表上的霍尔电压和电流读数。
4.重复步骤3,分别调整电流方向为正和负,记录相应的霍尔电压和电流读数。
5.根据测量得到的数据,计算霍尔系数和电导率。
实验结果:根据实验测得的数据,计算得到霍尔系数和电导率。
实验讨论与分析:1.对实验结果进行合理性分析,比较不同试样的霍尔系数和电导率。
结论:通过实验测量分析,得到了半导体样品的霍尔系数和电导率。
同时,对实验结果进行分析和讨论,深入理解了霍尔效应在半导体材料中的应用。
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实验5 霍尔系数和电导率测量1. 实验目的⑴ 通过实验加深对半导体霍尔效应的理解;⑵ 掌握霍尔系数和电导率的测量方法,了解测试仪器的基本原理和工作方法。
2. 实验容测量样品从室温至高温本征区的霍尔系数和电阻率。
要求:⑴ 判断样品的导电类型;⑵ 求室温杂质浓度,霍尔迁移率;⑶ 查阅迁移率或霍尔因子数据,逼近求解载流子浓度和迁移率;⑷ 用本征区()T R H 数据,由(21)式编程计算样品材料的禁带宽度;⑸ 本征导电时,()Lp Ln qn μμσ+≈。
μ与23-T 成正比,所以()kT E T C g 2exp 23''-=-σ,那么由()T T 1~ln 23σ或由T 1~ln σ实验曲线的斜率求出禁带宽度E g 。
⑹ 对实验结果进行全面分析、讨论。
3. 实验原理⑴ 霍尔效应如图1所示的矩形半导体,在X 方向通过一密度为j x 的电流,在Z 方向加一均匀磁场(磁感应强度为B ),由于磁场对运动电荷(速度为x v )有一个洛伦兹力,在Y 方向将引起电荷的积累,在稳定情况下,将形成平衡洛伦兹力的横向电场Y E 。
这就是大家熟知的霍尔效应。
其霍尔系数定义为()1Z X YH B J E R ⋅=由0=-B qv qE x Y ,可以导出H R 与载流子浓度的关系式,它们是P 型 ()21qpR H = N 型 ()31qn R H -= 如果计及载流子速度的统计分布,关系式变为P 型 ()41qp R p H H ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=μμN 型 ()51qn R n H H ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛-=μμ同时考虑两种载流子时有 ()()()622nb p q nb p R H H +-⋅=μμ 式中,q 是电子电荷,p n b μμ=,p n μμ,分别是电子和空穴的迁移率,H μ是霍尔迁移率。
()p n H ,μμ称为霍尔因子,其值与能带结构和散射机构有关。
例如非简并半导体,长声学波散射时,18.183==πμμH ;电离杂质散射时,93.1=μμH ;对于高简并半导体和强磁场条件时,[]11=μμH 。
对于主要只有一种载流子的n 型或p 型半导体,电导率可以表示为n qn μσ=或p qp μσ=,这样由(4)或(5)式有()7ρμσμ⋅==H H H R()8ρμH H R = 由上述关系式可见,霍尔系数和电阻率的联合测量能给出载流子浓度和霍尔迁移率,而且结合迁移率对掺杂浓度、温度的数据或霍尔因子掺杂浓度、温度的数据,可以逼近求得载流子浓度和载流子迁移率。
载流子浓度是温度的函数。
室温饱和区杂质全部电离,D s N n =,A s N p =,其值可由H R 给出。
但是随着温度升高,进入过渡区和本征区,在这种情况下,少数载流子的影响不可忽略,霍尔系数由(6)式决定。
以至单独的霍尔测量数据不能给出两种载流子浓度,必须结合高温下电导率数据、室温霍尔以及迁移率数据,才能给出n 、p 之值。
这时n 型半导体:()9pn n s += p 型半导体:()10n p p s +=在只计入晶格散射时,电导率为()11LpLn qp qn μμσ+= 将(9)式代入(11)式可得n 型半导体:()()()()⎪⎪⎩⎪⎪⎨⎧+⎪⎪⎭⎫⎝⎛-=+⎪⎪⎭⎫⎝⎛+=131121b bn q p b n q n sLp s Lp μσμσ 同理,将(10)式代入(11)式可得p 型半导体:()()()()⎪⎪⎩⎪⎪⎨⎧+⎪⎪⎭⎫⎝⎛-=+⎪⎪⎭⎫⎝⎛-=151141b p q n b bn q p s Lp s Lp μσμσ式中Lp Ln b μμ=。
Ln μ、Lp μ分别为电子、空穴的晶格散射迁移率。
这样由()T σ、HS R 实验数据及查阅的迁移率数据,在b 已知时,就可以求出过渡区和本征区的()T n 、()T p 了。
此外,p 型样品的()T R H 实验数据还能求出b 值。
对于p 型样品,当温度在杂质导电围时,导带的电子很少,2nb p >,因此0>H R 。
温度升高后,本征激发的载流子随之产生,电子数量逐渐增加,当2nb p =时,0=H R ;温度再升高,则有2nb p <,0<H R 。
所以,p 型半导体当温度从杂质导电围过渡到本征围时,H R 将改变符号,并出现如图2所示的极值。
这样,由0=∂∂n R H 可得 ()()()164112max bb qN R A H -⋅-= 而室温下A HS qN R 1=,所以 ()()()17412max b b R R HS H -=利用这个关系式就可求得b 。
因此,p 型半导体,由饱和区的p s 及高温下的()T σ以及查阅的迁移率数据,就可由(14)、(15)式得到()T n 、()T p 。
从而可以应用本征区载流子浓度积的理论公式,进而求得材料的禁带宽度E g ,即()()()18exp exp 3kT E CT kT E N N np g g V C -=-=不过,求E g 的方法还可以简化。
因为进入本征区以后,电子和空穴成对地产生,所以导带中的电子浓度n 等于价带中的空穴浓度p 。
又高温区只计及晶格散射,可忽略霍尔因子对温度的变化。
这样(6)式变为()()1911b qn bR H +-=通常,在一定的温度围,b 与温度无关。
于是本征区的霍尔系数又可给出载流子浓度。
因此,(18)式可以写为()()202exp23'kTETCRgH-=()2112lnln'23TkECTR gH⋅+=⎪⎪⎭⎫⎝⎛于是,TTRH1~ln23⎪⎭⎫⎝⎛关系曲线的斜率将给出禁带宽度Eg。
式中k为玻尔兹曼常数,C及C’则表示导带、价带有效状态密度N C、N V中与温度T无关的常数及其它与T无关的常数所构成的参数。
低温杂质电离区,HR、σ测量可得杂质电离能和低温Hμ以及杂质补偿度[2]。
⑵霍尔电压及电阻率测量①样品及计算公式与霍尔测量相配合的电阻率测量有两探针法和得堡法。
为了实现霍尔电压及电阻率的准确测量,常采用四个点接触电极位于周边的德堡薄膜试样。
若其测量花样具有对称性,如圆形或方形等,且四点接触电极作周边对称放置,那么计算公式会有很简单的形式。
作电阻率测量时,电极按图3(a)配置。
由附录(1)证得电阻率及薄层电阻R S表示式为()222ln I V t ⋅=πρ ()232ln I Vt R S ⋅==πρ作霍尔测量时,电极按图3(b )配置。
由于其严格的对称性,霍尔电极就在等电位面上(见图4)。
这样B=0时,0=H V ;0≠B 时,测得的就是霍尔电压H V 。
由(1)式可得()24t BI R V X H H =式中,t 为样品厚度,I X 是样品X 方向的电流。
德堡结构除了上述点接触的形式以外,还有电极尺寸较大的十字形(如图5所示)。
其电极虽非点接触,但通过其等效电路模拟,计算出来的I V 能收敛到]3[2ln πS R 。
因此十字形结构的薄层电阻率及薄层电阻,仍可用(22)、(23)式来进行计算。
若该结构理想的德堡薄层电阻用R S (计算)表示,其测量误差就定义为()S S R R E 计算-=1。
图5示出了E 对十字形臂长S 与宽度A 之比的关系曲线。
由图可见,当1=S A 时,001.0=E ,测量精度是很高的了。
十字形结构同样也对霍尔测量有利。
不仅电极简化,易于制作,而且较之非理想点接触结构,其霍尔系数误差显著减小。
对于1=S A 的样片,1=B 特斯拉时,V H 对B 的非线性误差为0.3%。
当霍尔角正切小于0.1时,R H 的误差与B 无关,只与样品的几何尺寸有关[4]。
另外,与矩形或圆形的点接触电极的样品相比,在所给电流相同时,电流密度较小,加之样品导热性较好,因而焦耳热减小,温度梯度减小。
从而减小了因热磁效应引入的霍尔电压测量误差以及电极接触噪声。
② 霍尔电压的直流测量法与霍尔效应同时存在的热磁效应,主要有爱廷豪森效应、里纪-勒杜克效应和能斯脱效应。
爱廷豪森效应是指样品在 X 方向的电流I 和Z 方向磁场B 作用下,在它的Y 方向将产生温度差,从而引入温差电势V e 。
V e 与I 和B 的乘积成正比,其符号与I 和B 的方向有关。
里纪-勒杜克效应和能斯脱效应,均是在X 方向存在热流Q ,在Z 方向磁场B 作用下所产生的效应。
不同的是,前者在Y 方向产生温度差而引起温差电动势V r ,其符号与B 的方向有关;后者是直接在Y 方向引入电势差V n ,QB V n ∝,其符号也与B 有关。
如果还有外加的温度梯度,必然引入一个环境温差电误差电压V T 。
除此之外,还应考虑在零磁场下,霍尔电极不在同一等位面上所产生的失配电势V 0。
R I V ⋅=0(R 是不等势面间在电流方向的电阻),其符号与I 的方向有关。
这样,在霍尔电极间测得的电压不仅是V H ,还将包含有V e 、V r 、V n 、V T 、V 0这些误差电压的贡献。
在这些误差电压中,只有IB V e ∝,V r 、V n 、V 0 只与B 或I 有关,V T 与I 、B 均无关。
因此,通过改变电流极性及磁场方向可以消除V r 、V n 、V 0 及V T 的影响。
为此按表1的极性组合进行测量可以导出:()2543241e H m m m m V V V V V V +=--+表1霍尔系数测量时电流和磁场的极性组合e 导热性尚好的十字形样品Y T ∂∂较小,较为接近等温条件,故可认为爱廷豪森效应的影响可以忽略。
因此霍尔系数的测量误差由有关各测量量的测量误差所引起,即()26B B I I t t V V R R X H H H H ∆+∆+∆+∆=∆⑶ 测准条件分析从(26)式看出,要想准确测量R H ,就要设法准确测量V H 、I 、B 及t 。
然而V H 与B 、I 、t 均有关系,是集中体现测量误差的量。
因此我们从测准V H 着手进行分析。
首先要求样品材料均匀,几何尺寸严格对称,电极要求欧姆接触,且样品要正确置于磁场中,并要求光屏蔽。
如果样品不均匀,缺乏对称性,交换电压、电流电极测得的R H1、R H2偏差%10±,那么进一步研究就没有意义;如果电极不是欧姆接触,测得的V H 就不真实;如果样品放置处的磁场不均匀,样品表面不垂直于B ,或其测得的B 不正好是样品放置处的磁感应强度,那么V H 测量必然引入误差;不进行光屏蔽,光电导、光生伏特效应也会引入误差。
因此霍尔系数测量必须用材料均匀、电极欧姆接触、严格对称的德堡结构,并且垂直置于均匀且得到准确度量的暗磁场中。
以上是测准V H 的基本条件,此外还要弱磁场、小电流。
在直流测量法中,最终给出的测量误差H V ∆,主要是爱廷豪森误差电压V e 的贡献。