压延铜电解铜区别
材料——精选推荐

材料FPC覆盖膜,即绝缘树脂,⾏业内⼀般有以下种类:1、酚醛树脂;2、环氧树脂(EP);3、聚苯醚树脂(PPO);4、聚酰亚胺树脂(PI);5、聚酯树脂(PET);6、氰酸酯树脂(CE);7、聚四氟⼄烯树脂(PTFE);8、双马来酰亚胺三嗪树脂BT;其中,最常见、最常⽤的是聚酰亚胺树脂(PI)。
FPC覆盖膜,⾏业称为CVL,主要的作⽤与PCB的绿漆类似:1)保护铜箔不暴露在空⽓中,避免铜箔的氧化;2)为后续的表⾯处理进⾏覆盖。
如不需要镀⾦的区域⽤CVL覆盖起来。
3)在后续的SMT中,阻焊作⽤。
覆盖膜,⼀般也可以叫保护膜coverlay,保护线路不被氧化,损害。
如硬板中的油墨作⽤。
PC的基本结构铜箔基板(Copper Film)铜箔:基本分成电解铜与压延铜两种. 厚度上常见的为1oz 1/2oz 和1/3 oz基板胶⽚:常见的厚度有1mil与1/2mil两种.胶(接着剂):厚度依客户要求⽽决定.覆盖膜保护胶⽚(Cover Film)覆盖膜保护胶⽚:表⾯绝缘⽤. 常见的厚度有1mil与1/2mil.胶(接着剂):厚度依客户要求⽽决定.离形纸:避免接着剂在压着前沾附异物;便于作业.补强板(PI Stiffener Film)补强板:补强FPC的机械强度,⽅便表⾯实装作业.常见的厚度有3mil到9mil.胶(接着剂):厚度依客户要求⽽决定.离形纸:避免接着剂在压着前沾附异物.EMI:电磁屏蔽膜,保护线路板内线路不受外界(强电磁区或易受⼲扰区)⼲扰。
发表于 2011-06-06 10:47:07引⽤1楼?摘要:fpc各种问题及改善⽅法⼀、FPC软性电路板简介以俱挠性之基材制成之印刷电路板具有体积⼩重量轻可做3D ⽴体组装及(li tizuzhuangji)动态挠屈等幽 1.1. 基本材料 1.1.1. 铜箔基材COPPER CLAD LAMINATE 由铜 ...fpc各种问题及改善⽅法⼀、FPC软性电路板简介以俱挠性之基材制成之印刷电路板具有体积⼩重量轻可做3D ⽴体组装及\动态挠屈等1.1. 基本材料1.1.1. 铜箔基材COPPER CLAD LAMINATE由铜箔+胶+基材组合⽽成亦有⽆胶基材亦即仅铜箔+基材其价格较⾼在⽬前应⽤上较少除⾮特殊需逑。
FPC基础知识培训教材

贴膜(Dry film)
镀铜(Plating copper)
蚀刻(Etching)
剥膜(Stripping)
第17页
FPC 基础知识-加工流程
补强(stiffener)
层压(Laminating)
叠层(Lay up)
层压(Laminating)
表面处理(finish)
丝印(Silkscreen)
出货(Delivery)
第13页
FCCL(柔性覆铜板)
FCCL——柔性覆铜板,就是我们常说的柔性基材。 柔性基材又可分为带胶基材和无胶基材。 带胶基材:成本低,应用广。长期工作温度约105 ℃。 无胶基材:成本高,柔韧性好,尺寸稳定性高, 在200℃以上。长期工作温度可达130 ℃。
第14页
FPC 基础知识-加工流程
一、单面板流程
生益(Shengyi),宏仁(Grace),台虹 (Taiflex),雅森(Aplus),九江福莱克斯 (Jiujiang flex),律胜(Microcosm),华烁 (Haiso)
云达(Yunda),华烁(Haiso)
东溢(Dongyi),华烁(Haiso),有沢 (Arisawa),华弘(Huahong)
第23页
补强板的种类
第24页
压合
模板 锡铝箔 分离片 FPC 分离片 绿硅胶 玻钎布 烧付铁板 模板
压合参数参考作业指 导书设定
覆盖膜 铜 PI
第25页
板材供应商
一般板材供应商
高端板材供应商
基材
覆盖膜 PI补强板 粘接胶
生益(Shengyi),宏仁(Grace),台虹 (Taiflex),雅森(Aplus),九江福莱克斯 (Jiujiang flex),律胜(Microcosm),有沢 (Arisawa),新扬(Thinflex),LG chemical,华 烁(Haiso)
压延铜箔和电解铜箔

按铜箔的不同制法,可分为压延铜箔和电解铜箔两大类。
分别是压延铜箔(Rolled Copper Foil) 和电解铜箔(Electrode Posited copper)关健字:铜箔,覆铜箔层压板按铜箔的不同制法,可分为压延铜箔和电解铜箔两大类。
(1)压延铜箔(Rolled Copper Foil) 是将铜板经过多次重复辊轧而制成的原箔(也叫毛箔),根据要求进行粗化处理。
由于压延铜箔加工工艺的限制,其宽度很难满足刚性覆铜板的要求,所以压延铜箔在刚性覆铜箔板上使用极少。
由于压延铜箔耐折性和弹性系数大于电解铜箔,故适用于柔性覆铜箔板上。
它的铜纯度(99.9%)高于电解铜箔(99.8 9/5),在毛面上比电解铜箔平滑,这些都有利于电信号的快速传递。
因此,近几年国外在高频高速信号传输、细导线印制板的基材上,采用压延铜箔。
它在音响设备上的印制板基材使用,还可提高音质效果。
它还用于为了降低细导线、高层数的多层线路板的热膨胀系数(TCE)而制的“金属夹心板”上。
日本近年还推出压延铜箔的新品种,如:高韧性压延铜箔,一种具有低温结晶特性的压延铜箔。
由于其具有高的抗弯折曲性,适用于柔性板上。
另一种是无氧压延铜箔,其特性是含氧量只有O.001%,其拉伸强度高,可用于TAB中要求引线强度高的印制电路板上,以及音响设备的印制板上。
(2)电解铜箔(Electrode Posited copper)是将铜先经溶解制成溶液,再在专用的电解设备中将硫酸铜电解液在直流电的作用下,电沉积而制成原箔,然后根据要求对原箔进行表面处理、耐热层处理及防氧化处理等一系列的表面处理。
电解铜箔不同于压延铜箔,电解铜箔两面表面结晶形态不同,紧贴阴极辊的一面比较光滑,称为光面;另一面呈现凹凸形状的结晶组织结构,比较粗糙,称为毛面。
电解铜箔和压延铜箔的表面处理也有一定的区别。
由于电解铜箔属柱状结晶组织结构,强度韧性等性能要逊于压延铜箔,所以电解铜箔多用于刚性覆铜板的生产,进而制成刚性印制板。
电解铜 压延铜

电解铜和压延铜是两种不同的铜材料,它们在制作工艺、性能和应用方面有一定的区别。
1. 制作工艺:
电解铜:电解铜是通过电解法生产的,将含铜的矿石提炼成铜离子,然后让铜离子在阴极上析出,形成铜箔。
电解铜的生产过程中,需要使用电解液(如硫酸铜)和电力。
压延铜:压延铜是将高纯度的铜通过碾压法压制而成,经过锻火、抗氧化、粗化处理等制程。
压延铜的生产过程主要是机械加工,不需要使用电解液和电力。
2. 性能特点:
电解铜:
- 导电性强:电解铜的纯度较高,导电性能优良。
- 耐弯折度较弱:电解铜在生产过程中形成的铜箔较薄,遇到弯曲或折叠时容易断裂。
- 成本较低:由于生产过程中使用了大量的电解液和电力,电解铜的成本相对较低。
压延铜:
- 耐弯折度好:压延铜在生产过程中经过碾压,形成铜箔的韧性较好,耐弯折性能优越。
- 导电性较弱:相较于电解铜,压延铜的导电性能略逊一筹。
- 成本较高:由于生产过程中没有使用电解液和电力,压延铜的成本相对较高。
3. 应用领域:
电解铜:由于其优良的导电性能和较低的成本,电解铜广泛应用于电力、通信、家电、汽车等产业。
此外,电解铜还用于制作铜箔、铜线、铜管等铜制品。
压延铜:压延铜具有良好的耐弯折性能,适用于需要频繁弯曲和折叠的场合。
例如,在翻盖手机、摄像头等领域,压延铜因其柔韧性好而得到广泛应用。
电解铜 压延铜

电解铜压延铜
摘要:
1.电解铜和压延铜的定义与特点
2.电解铜和压延铜的生产过程
3.电解铜和压延铜的应用领域
4.电解铜和压延铜的发展前景
正文:
电解铜和压延铜是两种不同类型的铜材料,它们各自具有独特的性质和用途。
电解铜是通过电解过程制成的纯度较高的铜,具有良好的导电性和导热性,广泛应用于电器、通信等领域。
压延铜则是通过压延工艺生产的铜材,具有良好的延展性和可塑性,主要用于制造各种铜制品。
电解铜的生产过程主要分为两个阶段:电解和精炼。
首先,将含铜矿石进行冶炼,得到粗铜。
然后,将粗铜作为阳极,纯铜作为阴极,放入电解槽中进行电解。
在电解过程中,铜离子在阴极上析出,形成纯度较高的电解铜。
最后,通过精炼工艺,可以进一步提高电解铜的纯度。
压延铜的生产过程则是通过将铜材放入压延机中进行连续轧制,使其具有较好的延展性和可塑性。
在压延过程中,可以根据需要调整轧制力度和次数,以获得不同厚度和性能的压延铜。
电解铜和压延铜在多个领域都有广泛的应用。
电解铜主要用于电器、通信、汽车等行业,如电缆、电子元器件、散热器等。
压延铜则广泛应用于装饰、五金、家具等行业,如铜板、铜条、铜管等。
随着科技的发展和人们生活水平的提高,电解铜和压延铜的需求量不断增
加。
未来,随着新能源汽车、5G 通信等新兴产业的发展,电解铜和压延铜的市场前景十分广阔。
此外,随着环保意识的增强,绿色、低碳、环保的生产工艺将成为行业发展的主流,电解铜和压延铜生产过程的环保问题也将得到更多关注。
总之,电解铜和压延铜作为两种重要的铜材料,具有广泛的应用领域和发展前景。
FPC软板简介

软板(FLEXIBLE PRINTED CIRCUIT)简介以俱挠性之基材製成之印刷电路板,具有体积小,重量轻,可做3D 立体组装及动态挠曲等优点 2. 基本材料 2.1.铜箔基材COPPER CLAD LAMINATE 由铜箔+胶+基材组合而成,现亦有无胶基材亦即仅铜箔+基材,其价格较高,在目前应用上较少除非特殊需求铜箔Copper Foil 在材料上区分為压延铜(ROLLED ANNEAL Copper Foil)及电解铜(ELECTRO DEPOSITED Copper Foil)两种在特性上来说压延铜之机械特性较佳,有挠折性要求时大部分均选用压延铜厚度上则区分為1/2oz1oz 2oz 等三种一般均使用1oz 基材Substrate 在材料上区分為PI (Polymide ) Film 及PET (Polyester) Pilm 两种 PI 之价格较高但其耐燃性较佳PET价格较低但不耐热因此若有焊接需求时大部分均选用 PI 材质厚度上则区分為1mil 2mil 两种2.1.3. 胶Adhesive 胶一般有Acrylic 胶及Expoxy 胶两种最常使用Expoxy 胶,厚度上由0.4~1mil 均有,一般使用1mil 胶厚。
2.2.覆盖膜Coverlay覆盖膜由基材+胶组合而成,其基材亦区分為PI 与PET 两种,视铜箔基材之材质选用搭配之覆盖膜。
覆盖膜之胶亦与铜箔基材之胶相同厚度则由0.5~1.4mil 2.3.补强材料Stiffener 软板上局部区域為了焊接零件或增加补强以便安装而另外压合上去之硬质材料2.3.1. 补强胶片区分為PI 及PET 两种材质2.3.2. FR4 為Expoxy 材质2.3.3. 树脂板一般称尿素板补强材料一般均以感压胶(PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE)与软板贴合,但PI 补强胶片则均使用热熔胶(Thermosetting)压合印刷油墨印刷油墨一般区分為防焊油墨(Solder Mask 色) 文字油墨(Legen 白色黑色) 银浆油墨(Silver Ink 银色)三种而油墨种类又分為UV 硬化型(UV Cure)及热烘烤型(Thermal Post Cure)二种表面处理背胶(双面胶) 胶系一般有Acrylic 胶及Silicone 胶等而双面胶又区分為有基材(Substrate)胶及无基材胶2.5.1. 防銹处理於裸铜面上抗氧化剂 2.5.2. 鍚铅印刷於裸铜面上以鍚膏印刷方式再过迴焊炉2.5.3. 电镀电镀锡/铅(Sn/Pb) 镍/金(Ni/Au) 2.5.4. 化学沉积以化学药液沉积方式进行锡/铅镍/金表面处理 3. 常用单位mil: 线宽/距之量测单位1mil= 10-3 inch= 25.4x10-3 mm= 0.0254 mm : 镀层厚度之量测单位=10-6 inch 4. 软板製程 4.1.一般流程4.2.钻孔NC Drilling 双面板為使上下线路导通以镀通孔方式先钻孔以利后续镀铜 4.2.1. 钻孔程式编码铜箔基材钻孔程式B40 NNN RR 400(300) 铜箔基材品料号末三码版别程式格式(4000/3000) 覆盖膜钻孔程式 B45 NNN RR 40T(30B) 覆盖膜品料号末三码版别 40/30 程式格式 T 上CVL B 下CVL 加强片钻孔程式 B46 NNN RR 4#A 加强片品料号末三码版别 4 程式格式 # 离型纸方向印刷识别标记 ½ 贴加强片标记 S 贴CVL 标记 C 电测套Pin 孔(E) 供整板电测套Pin 用4.4.5. 底片版面设计标记 冲型套Pin 孔(G) 供冲型套Pin 用 印刷对位标记 印刷套Pin 孔(P):供印刷套Pin 用 假贴合套Pin 孔(K):供假贴合套Pin 用 AOI 套Pin 孔(D):线路上同曝光套Pin 孔供AOI 套Pin 用 冲孔辅助孔(H):供底片或线路冲孔之準备孔 曝光套Pin 孔(D):底片经冲孔后供曝光套Pin 用 孔铜切片检查不可孔破 4.4.压膜/ 曝光Dry Film Lamination/Exposure 4.4.1. 乾膜Dry Film 為一抵抗蚀刻药液之介质藉由曝光将影像转移显影后有曝光之位置将留下而於蚀刻时可保护铜面不被蚀刻液侵蚀形成线路4.4.2. 底片底片為一透明胶片我们所使用之曝光底片為一负片(看得到黑色部分為我们所不要之位置透明部分為我们要留下之位置),底片有药膜面及非药膜面药膜面错误会造成曝光时光散射而造成影像转移时无法达到我们所要之线宽尺寸造成良率降低底片药膜乾膜曝光之乾膜基材4.4.3. 底片编码原则C01 –T TRA - NNNNN REV. MM/DD/YY MM/DD/YY=月/日/年 =底片版别NNNNN= 品料号TRA 线路底片T=正面线路 B=背面线路C01=底片代码4.4.4. 底片版面设计 Tooling Hole 镀铜面铜厚度 夹板是否夹紧 微蚀是否清洁无滚轮痕水痕压折痕镀铜注意事项 断针检查4.3.黑孔/镀铜Black Hole/Cu Plating 於钻孔后以黑孔方式於孔壁绝缘位置以碳粉附著而能导电再以镀铜方式於孔壁上形成孔铜达到上、下线路导通之目的其大致方式為先以整孔剂使孔壁带正电荷经黑孔使带负电微粒之碳粉附著於表面再以微蚀将铜面上之碳粉剥离仅留孔壁绝缘位置上有一层碳粉经镀铜后形成孔铜整孔黑孔微蚀镀铜黑孔注意事项 对位孔须位於版内 钻针寿命 钻孔程式档名,版别 板数量 砌板厚度(上砌板 0.8mm 下砌板 1.5mm) 尺寸迭板方向打Pin 方向 0-无, 1-上, 2-下, 3-双面A 加强片A 背胶钻孔程式B47 NNN RR 4#A 背胶品料号末三码版别 4 程式格式# 离型纸方向0-无, 1-上, 2-下, 3-双面A 加强片A 4.2.2. 钻孔程式版面设计对位孔位於版面四角其中左下角為2 孔(方向孔) 其餘3 个角均為1 孔共5 孔此五孔為钻孔时寻边用亦為曝光及AOI 之套Pin 孔以及方向辨别用断针检查孔位於左下角之方向孔上方為每一孔径钻针所钻之最后一孔有断针造成漏钻时即会减少该孔径之孔切片检查孔於板中边料位置先钻四角1.0mm 孔做為割下试片之依据再於内部以该料号最小孔径钻四孔做為镀铜后之切片检查用4.2.3. 钻孔注意事项贴背胶标记 A 或BA线宽量测区供线宽量测之标準区其所标示之尺寸10mil4.6mil 等為底片之设计尺寸為底片进料检验之尺寸蚀刻后之规格中心值则依转站单上所标示品DateCode 标记做為生週期之控制以8888 数字标记顺序為週/年工单编号标示框W/N[ ] 做為工单编号填写用备註8888 数字表示方式如下 最小线宽/线距标记W/G 供蚀刻条件设定 底片编号标记做為底片复本之管制為以8888 数字标记 300MMXY 轴各一⎽版面尺寸标记双面板裁切乾膜时须切不可残留乾膜屑 压膜不可偏位 压膜滚轮须平整及清洁 压膜须平整不可有气泡 乾膜不可皱折 4.4.6. 压膜注意事项曝光台面之清洁压膜/曝光后之基材经显影将须保留之线路位置乾膜留下以保护铜面不被蚀刻液蚀刻蚀刻后形成线路再经剥膜将乾膜剥除曝光显影蚀刻剥膜4.5.1. D.E.S.注意事项 吸真空是否足够时间牛顿环是否出现 曝光能量21 阶测试须在7~9 阶间 曝光对位须準确不可有孔破偏位之情形 底片工令号是否正确 底片寿命是否在使用期限内 底片须清洁不可有刮伤,异物,缺口,凸出,针点等情形 底片药膜面须正确(接触乾膜方向) 4.4.7. 曝光注意事项放板方向位置单面板收料速度左右不可偏摆显影是否完全剥膜是否完全是否有烘乾线宽量测线路检验4.6.微蚀微蚀為一表面处理工站藉由微蚀液将铜面进行轻微蚀刻以将氧化层蚀刻去除再上抗氧化剂防止氧化不良品是否区隔 防呆装置是否开啟 整板电测时,电镀线是否切断 检查码是否正确 测试档名是否正确 测试点数是否正确 导通阻抗、绝缘阻抗、高压电压等条件是否正确 背胶/加强片方向4.13. 电测以整板或冲型后单pcs 进行电测,一般仅测Open/Short/绝缘阻抗成品若有电阻/电容则须以ICT 整板电测时,区分為完全测试及仅测短路(开路以目检手指或Pad 是否镀上锡铅判别)两种 4.13.1. 整板短路测试原理当线路為简单排线时可藉由电镀线设计方式进行整板电测以节省电测时间,其原理為利用排线单、双跳线拉出电镀线,当任一相邻线路短路时,即可测出,而断线时则手指无法镀上锡铅,如图所示虚线表示成型边 4.13.2. 电测注意事项 毛边 压痕 手指偏位 烘烤后密著性测试以3M 600 胶带测试4.12. 冲型一般均以钢模(Hard Die)冲软板外型,其精度较佳,刀模(Steel Rule Die)一般用於製样用,或是一般背胶、PI/PET 加强片、等精度要求不高之配件冲型用亦或是分条用。
电解铜

电解铜-前言铜的电解提纯:将粗铜(含铜99%)预先制成厚板作为阳极,纯铜制成薄片作阴极,以硫酸(H2SO4)和硫酸铜(CuSO4)的混和液作为电解液。
通电后,铜从阳极溶解成铜离子(Cu)向阴极移动,到达阴极后获得电子而在阴极析出纯铜(亦称电解铜)。
粗铜中杂质如比铜活泼的铁和锌等会随铜一起溶解为离子(Zn和Fe)。
由于这些离子与铜离子相比不易析出,所以电解时只要适当调节电位差即可避免这些离子在阳极上析出。
比铜不活泼的杂质如金和银等沉积在电解槽的底部。
这样生产出来的铜板,称为“电解铜”,质量极高,可以用来制作电气产品。
沉淀在电解槽底部的称为“阳极泥”,里面富含金银,是十分贵重的,取出再加工有极高的经济价值。
工方法及工艺流程1.铜冶炼的原料炼铜的原料是铜矿石。
铜矿石可分为三类:(1)硫化矿,如黄铜矿(CuFeS2)、斑铜矿(Cu5FeS4)和辉铜矿(Cu2S)等。
(2)氧化矿,如赤铜矿(Cu2O)、孔雀石[CuCO3Cu(OH)2]、蓝铜矿[2CuCO3Cu(OH)2]、硅孔雀石(CuSiO32H2O)等。
(3)自然铜。
铜矿石中铜的含量在1%左右(0.5%~3%)的便有开采价值,因为采用浮选法可以把矿石中一部分脉石等杂质除去,而得到含铜量较高(8%~35%)的精矿砂。
除了铜精矿之外,废铜亦为精炼铜的主要原料之一,包括旧废铜和新废铜,旧废铜来自旧设备和旧机器,废弃的楼房和地下管道;新废铜来自加工厂弃掉的铜屑(铜材的产出比为50%左右),一般废铜供应较稳定,废铜可以分为:裸杂铜:品位在90%以上;黄杂铜(电线):含铜物料(旧马达、电路板);由废铜和其他类似材料生产出的铜,也称为再生铜。
湿法冶炼:湿法冶炼一船适于低品位的氧化铜,生产出的精铜称为电积铜。
现代湿法冶炼有硫酸化焙烧-浸出-电积,浸出-萃取-电积,细菌浸出等法,适于低品位复杂矿、氧化铜矿、含铜废矿石的堆浸、槽浸选用或就地浸出。
湿法冶炼技术正在逐步推广,预计2009年可达总产量的25%,湿法冶炼的推出使铜的冶炼成本大大降低。
FPC基础流程介绍

晶体结构 分子紧密程度 挠曲性
压延铜 垂直排列
紧密
好
电解铜 叠加排列
疏松
一般
导电性 一般 好
价格 高 低
*NVD常规产品从使用要求上看,电解铜可满足,且成本较低
安全 品质 交期 成本
FPC基材介绍
1.3 压延铜和电解铜外观的区分。
从铜箔面看
从PI面看
压延铜 偏黄
电解铜 偏红
电解铜PI 面呈黑色
电解铜PI 面呈红色
AOI找点 设备
AOI扫描机
安全 品质 交期 成本
贴覆盖膜
将加工好的覆盖膜,根据板上的对位标识,贴 合到板上。将线路部分保护起来,露出焊盘和手指 位置.
加工好的 覆盖膜
安全 品质 交期 成本
压合
将贴好覆盖膜的板,用压机经一定的温度、压力将覆盖膜压 到板上,赶出气泡,后经烘烤将胶熟化,使其固化在FPC上,起 到保护线路的作用。
安全 品质 交期 成本
FPC基材介绍
2.1 FPC基材从结构上区分,分为有胶基材和无胶基材。 有胶基材:即铜箔与PI之间用胶连接. 无胶基材:铜箔与PI之间没有胶层,通过其它工艺复合.
CU
CU
AD
PI
PI
CU
AD
CU
双面无胶 基材
双面有胶 基材
安全 品质 交期 成本
FPC基材介绍
2.2 有胶基材和无胶基材特性。 从技术角度来讲,无胶基材更符合软板软、薄、轻的特性。
洗板机
压膜机
注: 底片(现用负片) :为一透明胶片,我们现在
使用的曝光底片叫黑片(银盐片),黑色部分为我
们所不要的位置,透明部分为我们要留下的位置 ,底片有药膜面和非药膜面。
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它们使用在FPC中有何区别?谢谢!
最佳答案
电解铜顾名思义就是通过电解的方法使铜离子吸附在基材上而形成铜箔,所以它的特点是,导电性强,但耐弯折度相对较弱
压延铜是通过挤压的方法得到铜箔,它的特点是耐弯折度好,但导电性弱于电解铜,主要用于翻盖手机里的摄像头之类的
从外观上看,电解铜发红,压延铜偏黄
解析挠性电路板压延,电解,高延展电解材料
众所周知,在挠性电路板制作工艺中,选材相当重要,从材料厚度,可焊性,熔点,导电性,阻焊等各方面都有很具体的要求,在这里我们重点讲到铜箔的选择。
一,挠性电路板用的铜箔材料主要分为压延铜(RA)和电解铜(ED)两种,他是粘结在覆盖膜绝缘材料上的导体层,经过各制程加工等蚀刻成所需要的图形。
选择何种类型的铜材做为挠性电路板的导体,需要从产品应用范围及线路精度等方面考量。
从性能上比较,压延铜材料压展性,抗弯曲性要优于电解铜材料,压延材料的延伸率达到20-45%,而电解铜材料只有4-40%。
但电解铜材料是电镀方法形成,其铜微粒结晶结构,在蚀刻时很容易形成垂直的线条边缘,非常利于精细导线的制作,另外由于本身结晶排列整齐,所形成镀层及最终表面处理后形成的表面较平整。
反之压延材料由于加工工艺使层状结晶组织结构再重结晶,虽压展性能较好,但铜箔表面会出现不规则的裂纹和凹凸不平,形成业界里面的铜面粗糙问题。
针对电解材料的缺点材料供应商研发了高延电解材料,就是在常规加工过后将材料再次进行热处理等工艺使铜原子重结晶,使其达到压延材料所拥有的特性。
二,电解铜,压延铜材料加工工艺:电解铜箔是通过酸性镀铜液在光亮的不锈钢辊上析出,形成一层均匀的铜膜,经过连续剥离,收卷而获得;压延铜箔则是用一定厚度(20cm)的铜锭或铜块,经过反复压延,退火加工形成所需要的铜箔厚度。
三,铜箔材料的微观结构:因加工艺不一样,在1000倍显微镜下观察材料断面,压延材料铜原子结构呈不规则层状强晶,对经过热处理的重结晶,所以不易形成裂纹,铜箔材料弯曲性能较好;而电解铜箔材料在厚度方向上呈现出柱状结晶组织,弯曲时易产生裂纹而断裂;同样,在经过热处理等特殊加工的高延电解铜箔材料断面观察时,虽还是以柱状结晶为主,但在铜层中以形成层状结晶,弯曲时也不易断裂。
见以下示意图。
压延铜箔材料断面示意图电解铜箔材料断面示意图
高延电解铜箔材料断面示意图
四,铜箔材料的弯曲性:
大多数挠性电路板产品对弯曲性能要求较高,所以导致多数生产厂对压延材料的偏爱,其实这里也是有很多盲目的选择因素,以上有提到压延材料有其特性,同时他也有许多的缺点在里面,应当适当应用。
以下数据为相等条件下各类铜箔材料弯曲性测试结果。
(见下表)
经测试,压延铜箔的弯曲性是普通电解铜箔的4倍,但其价格也较贵。
所以对弯曲性要求不高的的产品(如,按键板,模组板,3D静态挠性电路等),可以选择用高延电解铜箔来替代压延铜箔材料,当然可靠性要求比较高的情况下(如滑盖手机板,折叠手机板等),还是采用压延铜箔材料较好。
五,铜箔材料的发展趋向:
随着电子消费产品越来越小型化以及航天,军用及民用高科技产品的可靠性要求越来越严格,对于挠性电路板工艺加工和材料的物理性能要求越来越高,现以出现的有:
1,高弯曲性压延铜箔,同样条件下,弯曲性是常规压延材料的七倍
2,精细及超精细图形制作用电解铜箔材料,针对COF产品高弯折的精细导线制作,相同条件下线路蚀刻后线条更均匀,残铜更少。
加工工艺是采用喷镀法在聚酰亚胺薄膜上喷度一层薄铜,然后再进行电镀达到铜层约9um的超薄铜箔。
3,压延合金铜,合金铜箔材料主要特性是导电性能好,接近纯铜,机械性能,热稳定性都较好于常规压延材料。
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纯铜是玫瑰红色金属,表面形成氧化铜膜后呈紫色,故工业纯铜常称紫铜或电解铜。
纯铜呈紫红色,又称紫铜。
纯铜密度为8.96,熔点为1083℃,具有优良的导电性、导热性、延展性和耐蚀性。
主要用於制作发电机、母线、电缆、开关装置、变压器等电工器材和热交换器、管道、太阳能加热装置的平板集热器等导热器材。
请高手告诉我:电解铜适合哪些类型的FPC 压延铜适合哪些类型的FPC(急!!!)
压延铜箔(RA)的弯曲性是普通电解铜箔(ED)的4倍,相对来讲压延铜的价格也比较贵。
所以对弯曲性要求不高的的产品(如按键板,3D静态挠性电路等),可以选择用电解铜箔来替代压延铜箔材料,当然可靠性要求比较高的情况下(如
滑盖手机板,折叠手机板,折叠显示器连接,手机内置天线片),需要采用压延铜箔材料较好。