表面光电子能谱_XPS_及其在木材科学与技术领域的应用
X射线光电子能谱XPS

X射线光电子能谱复旦大学材料系吕平在对许多材料的研究和应用中,了解其表面性能是很重要的。
而要获得材料的表面性能,就需要一些特殊的仪器,对各种材料从成分和结构上进行表面表征。
其中,X射线光电子能谱(XPS)由于其对材料表面化学性能的高度识别能力,成为材料分析的一种重要技术手段。
X射线光电子能谱是由Siegbahn等人在20 世纪50年代提出并实现用于物质表面元素定性定量分析的方法。
Siegbahn由于对光电子能谱的谱仪技术和谱学理论的杰出贡献而获得了1981年诺贝尔奖。
这是一种以光与物质相互作用的原理为基础的方法。
1.光与物质的相互作用一、光电效应物质受光作用放出电子的现象称为光电效应,也称为光电离或光致发射。
如图1所示,这个过程表示为:hν+A→A∗++e−A: 中性原子;hν:光子能量;A*+:出于激发态的离子;e-:光电子。
光电子的能量 E k=hν−E BE B是以真空能级为参考的电子结合能。
虽然光电离也是一个电子跃迁过程,但它有别于一般电子的吸收和发射过程,它不遵守一定的选择定则,任何能级的电子都可以被电离。
原子各能级发射出冠电子的概率由电离截面σ决定。
σ越大,说明该能级上的电子月容易被激发,与原子其他能级上的电子相比,它的光电子峰的强度就交大。
σ与原子序数Z,主量子数n,角量子数l,入射光频率ν决定。
二、受激原子的弛豫由电离过程产生的终态离子A*+处于高激发态,会自发发生弛豫而变为稳定状态。
这一过程分为辐射弛豫和非辐射弛豫两种,前者发射X荧光,后者发射俄歇电子。
其过程如图2所示。
hν图1图 2X射线荧光的能量是特征性的,与元素一一对应。
俄歇电子的能量也是特征性的,与入射能量无关。
荧光几率与俄歇几率如图3所示,即低Z元素容易发生俄歇效应。
图 3三、光电子逸出深度虽然X光的穿透深度可达1mm,只有从表面逸出的光电子,才对确定Eb的谱峰有所贡献。
对于XPS 有用的光电子能量100~1200eVλm=0.5~2.0nm(金属)=4~10nm(高聚物)信息深度d与逸出深度的关系,d=λsinα,如图4 所示。
X射线光电子能谱分析方法及原理(XPS)

半导体工业
晶体缺陷分析、界面性质研究 等。
环境科学
大气污染物分析、土壤污染研 究等。
X射线光电子能谱分析的优缺点
1 优点
提供元素化学状态信息、非破坏性分析、高表面敏感性。
2 ห้องสมุดไป่ตู้点
样品需真空处理、分析深度有限、昂贵的设备和维护成本。
总结和展望
X射线光电子能谱分析是研究材料表面的有力工具。未来,随着仪器和技术的 不断进步,XPS将在更多领域发挥重要作用。
X射线光电子能谱分析方 法及原理(XPS)
X射线光电子能谱分析(XPS)是一种表面分析技术,通过测量材料的X射线光 电子能谱来研究材料的电子结构和化学组成。
X射线光电子能谱分析的基本 原理
XPS基于光电效应,探测材料与X射线相互作用所放出的光电子。通过测量光 电子能量和强度,可以推断材料表面元素的化学态。
X射线光电子能谱分析的仪器和实验设备
XPS仪器
包含X射线源、光电子能谱仪 和数据处理系统。
电子枪
产生高能电子束,用于激发材 料表面。
光电子能谱仪
测量光电子的能量和角度,用 于分析材料的电子结构。
X射线光电子能谱分析的样品准备方法
1 表面清洗
去除杂质和氧化层,以确保准确测量。
2 真空处理
在超高真空条件下进行实验,避免气体影响。
3 固定样品
使用样品架或夹具将样品固定在仪器中。
X射线光电子能谱分析的数据处理和解 析方法
峰面积计算
根据光电子峰的面积计算元素含量。
能级分析
通过分析光电子的能级分布,推断材料的化学状态。
谱峰拟合
将实验谱峰与已知标准进行拟合,确定元素的化学态和含量。
X射线光电子能谱分析的应用领域
X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法X射线光电子能谱分析法(XPS)是一种常用的表面分析技术,它通过测量材料表面的X射线光电子能谱来研究材料的化学组成、表面形貌以及表面电子结构等信息。
XPS技术具有高表面分辨率、高化学分辨率和宽能量范围等优点,被广泛应用于材料科学、表面科学和界面科学等领域。
下面将详细介绍XPS的原理、仪器结构、测量步骤以及应用。
XPS的原理:XPS基于光电效应,即当光子与物质相互作用时,能够使物质中的电子获得足够的能量从而被抛出。
通过测量被抛出的光电子的能量以及其强度,可以得到材料表面的各种信息。
XPS谱图由两个平行的轴表示,一个是电子能量轴,用来表示光电子的能量,另一个是计数轴,用来表示光电子的强度。
XPS的仪器结构:XPS的典型仪器结构包括光源、透镜系统、分析室、光电子能谱仪、多道分析器和检测器等部分。
其中,光源产生具有特定能量和强度的X射线,透镜系统用于聚焦X射线到样品表面,分析室用于保持真空环境,并可进行样品的表面清洁和预处理,光电子能谱仪用于测量光电子能谱,多道分析器用于对光电子的能量进行分析,检测器用于测量光电子的强度。
XPS的测量步骤:1.样品表面处理:对于有机材料,样品表面可能存在有机污染物,需要通过加热或离子轰击等方法进行表面清洁。
对于无机材料,一般不需要进行表面处理。
2.真空抽取:将样品放入真空室中,并进行抽取,以保证测量时的真空环境。
3.光源和透镜系统调节:调节光源的能量和透镜系统的聚焦,使其能够产生精确的X射线束。
4.测量样品表面:将样品置于X射线束中,测量样品表面的X射线光电子能谱。
5.数据分析:对测量得到的光电子能谱进行分析,得到材料的化学组成、表面形貌以及表面电子结构等信息。
XPS的应用:1.表面化学组成分析:XPS可以确定材料表面的元素组成和化学状态,对于催化剂、薄膜材料等具有重要意义。
2.表面形貌研究:通过测量不同位置的XPS谱图,可以了解材料表面的形貌特征,如晶体结构、晶粒尺寸等。
XPS_X射线光电子能谱技术

X射线光电子能谱X射线光电子能谱学(英文:X-ray photoelectron spectroscopy,简称XPS)是一种用于测定材料中元素构成、实验式,以及其中所含元素化学态和电子态的定量能谱技术。
这种技术用X射线照射所要分析的材料,同时测量从材料表面以下1纳米到10纳米范围内逸出电子的动能和数量,从而得到X射线光电子能谱。
X射线光电子能谱技术需要在超高真空环境下进行。
XPS是一种表面化学分析技术,可以用来分析金属材料在特定状态下或在一些加工处理后的表面化学。
这些加工处理方法包括空气或超高真空中的压裂、切割、刮削,用于清除某些表面污染的离子束蚀刻,为研究受热时的变化而置于加热环境,置于可反应的气体或溶剂环境,置于离子注入环境,以及置于紫外线照射环境等。
∙XPS也被称作ESCA,这是化学分析用电子能谱学(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)的简称。
∙XPS能够检测到所有原子序数大于等于3的元素(即包括锂及所有比锂重的元素),而不能检测到氢和氦。
∙对大多数元素而言的检出限大约为千分之几,在特定条件下检出极限也有可能达到百万分之几,例如元素在表面高度集中或需要长时间的累积时间。
XPS可以用来测量:∙表面的元素构成(通常范围为1纳米到10纳米)∙纯净材料的实验式∙不纯净表面的杂质的元素构成∙表面每一种元素的化学态和电子态∙表面元素构成的均匀性XPS特点XPS作为一种现代分析方法,具有如下特点[3]:(1)可以分析除H和He以外的所有元素,对所有元素的灵敏度具有相同的数量级。
(2)相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,相互干扰较少,元素定性的标识性强。
(3)能够观测化学位移。
化学位移同原子氧化态、原子电荷和官能团有关。
化学位移信息是XPS用作结构分析和化学键研究的基础。
(4)可作定量分析。
既可测定元素的相对浓度,又可测定相同元素的不同氧化态的相对浓度。
表面光电子能谱_XPS_及其在木材科学与技术领域的应用

木材或木质结构单元如单板 、刨花和纤维等的表 面结构和化学组成对木质材料的表面性能影响极大 。 木材的氧化 、老化 、降解和木材胶接结构的破坏 、涂层 的脱落等往往从木材表面或界面开始 。但迄今为止 , 有关木材表面化学的知识还了 解尚少[ 1] , 因此 , 有关 木材表面的研究有着十分重要的意义 。
究中的重要性远不如 C1s峰 , 甚至许多 研究报导中根本不考虑 O 1s峰 。 O1s峰 一般比较窄 , 一般认为对纯纤维素 , 其
图 3 杉木表面 C1s的 XPS 图谱 Fig.3 XPS C1 s spectra of Chinese-fir wood
O 1s峰只有一个成分 , 因而没有化学位
原子内层电子受激发射 , 这些电子称为光电子 , 其现象 称为光电离或光致发射 , 有时称为光电效应 , 其过程服 从 Einstein 关系式 :
hv =Eb +Ek 式中 :hv 为入射光子能量 , 对于已知光源 , 该值一定 ; E k 为射出光电子的能量 , 可由光谱仪测出 ;Eb 为原子 内层电子的结合能 , 可根据上述关系式计算出 。固体 样品的真空能级与表面状态有关 , 易于改变 , 所以选 F ermi 能级作为参考能级 。
2 木质材料表面的 XPS 分析 木材主要由纤 维素 、半纤维素 、木素和抽出物组
成 , 其元素组成主要为 C 、H 、O 。 除 H 元素外 , C 和 O 元素均可由 XPS 探测分析 , 其中 C 元素的分析尤有价 值 。C 原子的电子结构为 1S22S22P2 , 其中 2S 和 2P 的 电子是形成杂化轨道而构成化学键的价电子 , XPS 探 测分析的主要对象是 C 原子内层的 1S 电子 。 如前所 述 , 由于电子结合能之大小与所结合的原子或原子团 有关 , 故可依 C1s峰强度和化学位移来了解其周围的化 学环境 , 从而得到有关木材表面化学性质的信息 。
XPS分析技术及其在材料微分析方面中的应用

XPS分析技术及其在材料微分析方面中的应用摘要:本文介绍了X 射线光电子能谱(XPS)分析技术的基本原理、技术特点、研究进展、分析仪器构成以及在材料微分析方面的实际应用。
关键词:XPS分析技术;微分析;应用1、引言:近年来,利用各种物理、化学或机械的工艺过程改变基材表面状态、化学成分、组织结构或形成特殊的表面覆层,优化材料表面,以获得原基材表面所不具备的某些性能,如高装饰性、耐腐蚀、抗高温氧化、减摩、耐磨、抗疲劳性及光、电、磁等,达到特定使用条件对产品表面性能的要求的各种表面特殊功能处理技术得到迅速发展;对表面分析技术发展提出更高要求[1]。
材料表面分析业已发展为一种常用的仪器分析方法,特别是对于固体材料的分析和元素化学价态分析。
目前常用的表面成分分析方法有:X射线光电子能谱(XPS),俄歇电子能谱(AES),静态二次离子质谱(SIMS)和离子散射谱(ISS)。
AES分析主要应用于物理方面的固体材料科学的研究,而XPS的应用面则广泛得多,更适合于化学领域的研究[2]。
SIMS和ISS由于定量效果较差,在常规表面分析中的应用相对较少[3]。
但近年随着飞行时间质谱(TOF-SIMS)的发展,使得质谱在表面分析上的应用也逐渐增加。
X射线光电子能谱(XPS)也被称作化学分析用电子能谱(ESCA)。
该方法是在六十年代由瑞典科学家Kai Siegbahn教授发展起来。
三十多年的来,X射线光电子能谱无论在理论上和实验技术上都已获得了长足的发展。
XPS已从刚开始主要用来对化学元素的定性分析,业已发展为表面元素定性、半定量分析及元素化学价态分析的重要手段。
XPS的研究领域也不再局限于传统的化学分析,而扩展到现代迅猛发展的材料学科。
目前该分析方法在日常表面分析工作中的份额约50%,是一种最主要的表面分析工具。
在X射线源上,已从原来的激发能固定的射线源发展到利用同步辐射获得X射线能量单色化并连续可调的激发源[6];传统的固定式X射线源也发展到电子束扫描金属靶所产生的可扫描式X射线源;X射线的束斑直径也实现了微型化,最小的束斑直径已能达到6μm使得XPS在微区分析上的应用得到了大幅度的加强。
XPS表面分析技术在材料研究中的应用

表面分析技术1
表面分析技术
• 表面分析技术的应用涉及半导体、催化、冶
金、腐蚀、涂层、粘合、聚合物、注入、渗 杂等; • 表面分析技术是研究物质表面的形貌、化学 组成、原子结构、原子态等信息的实验技术; • 表面分析技术通过研究微观粒子与表面的相 互作用获得表面信息; • 按所获得的信息分类,可分为组分分析、结 构分析、形貌分析等。
解决荷电效应的方法
XPS设备与分析33
• 解决办法1:电子综合枪:用一个高电流、低能
量电子源引进补偿电子流。价格贵,使用不多; • 解决办法2:结合能坐标基准较好的办法是用内 标法,即将谱中一个特定峰明确地指定一个准确 的结合能Eb。一个常用的校正方法是令饱和碳氢 化合物(或吸附碳, 污染碳)中C1s284.8eV结合能 为基准定标。如 XPS谱图中污染碳C1s的测试值 为C1s=285.8eV,而 污染碳C1s的标准值为 C1s=284.8eV,相差悬1个电子伏特, XPS谱图中所 有元素的结合能都要减去1个电子伏特; • 解决办法3: 当样品中污染碳含量很少或样品中 含有其他的碳材料时,结合能坐标基准可用外标 法,在样品上蒸镀金作为参照物来定标,即选定 Au为84.0eV
XPS设备与分析35
化学位移
氟聚合物的C1s谱
碳的宽扫描XPS图谱
XPS设备与分析36
碳的化合物结合能位移图
XPS设备与分析37
XPS设备与分析38
XPS定量分析原理
• X射线光电子谱线强度反映样品中单质元
素及化合物各构成元素的含量或浓度; • 测量谱线强度,便可进行定量分析; • 测量样品中单质元素及化合物各构成元素 的绝对浓度相当困难,一般都是测量其相 对含量,也就是测量样品中某种元素在其 单质及该元素化合物中的相对原子浓度; • 只要测得特征谱线强度(峰高、峰面积), 再利用相应元素及含该元素化合物的灵敏 度因子,便可得到相对浓度。
XPS在材料分析中的应用

小结
经过长期研究开发,XPS表面分析技术已经成为 一种常用而又有效的仪器分析方法。同时可以看出, 在实际分析检测过程中,为了准确、完整了解表面分 析,仅采用一种分析方法是不够的,应采用多种分析 手段,以期从不同角度分析表面特征,获得更完善的 信息
Thank you!!!
当α= 90°时,XPS的采样深度最深, XPS的采样深度较深时,主要收集的是 次表面的成分
图七,Si3N4样品表面的硅主要以SiO2物 种存在。在掠射角逐渐增大时 , Si3N4 的峰强度也在增大,说明样品内部主要 成分是Si3N4
元素价带谱分析
在C60中,π键的共轭度较小,其 三个分裂峰的强度较强。而在碳 纳米管和石墨中由于共轭度较大, 特征结构不明显。 从图上还可见,在C60分子的价 带谱上还存在其他三个分裂峰, 这些是由C60分子中的π键所产生。 从图上可见,在石墨,碳纳米管 和C60分子的价带谱上都有三个 基本峰。这三个峰均是由共轭键 产生的。
Eb⎯特定原子轨道上的结合能,eV;
φs⎯逸出功,eV
XPS的分析技术特点 : (1)非破坏性; (2)可以研究有机物等表面;
(3)真空要求相对较低;
(4)能进行元素化合态和电子能带结构分析。
仪器构成
具体应用
表面元素定性分析
从图4可以看出,在薄膜表 面主要有Ti、N、C、O和 Al元素存在。Ti、N的信号 较弱,而O的信号很强。 这结果表明形成的薄膜主 要是氧化物,氧的存在会 影响Ti(CN)x薄膜的形成
XPS表面分析技术在材料 研究中的应用
徐泽 1131109079
前言
分析原理
仪器构成 具体应用
前言
表面分析技术是通过研究微观粒子与表面的相互作用获得表面信息, 研究物质表面的形貌、化学组成、原子结构、原子态等信息
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致 ,需进行校正 , 一般可用 O1s 峰作参 照[ 8, 9] ,因为其化学位移较小 。 经校正
后的结合能分别为 284.95 eV 、286.66
eV 和 288.18 eV , 即荷 电效应约 2.05
eV , 校正后的 C1 、C2 、C3 的结合能落在
正常范围内 。 O 1s峰在木材表 面化学组成 的研
学环境和氧化态的差异会引起化学位移 , 实际上 , 许多 化学位移比较小 , 光电子峰难以明显分开而形成峰的 重叠 。把重叠峰分解成与化学环境相应的各个子峰的 过程称为重叠峰的解叠 。 解叠过程是人为的曲线拟合 过程 , 即通过调节子峰的数量 、位置 、宽度和高度 , 直到 它们的叠合与实验曲线拟合为止 。 分析实验曲线的拐 点和样品分子的结构 , 可大致确定出子峰的数量 、位置 和相对强度 。在解叠过程中尚需扣除本底 。
况相符 。图 3 是样品的 C1s的谱峰 , 外
轮廓线下的三个小峰由峰分解技术得
到 , 代表处于不同化学结构的碳原子 ,
分别为 C1 、C2 、C3 , 峰面积 的百分 比 分别为 :79.13 、15.17 和 5.70 %, 表明 C —C 键的含量很高 , 即非碳水化合物 含量较高 。 外轮廓线与三个小峰的合
样品中除 H 和 He 以外的所有元素的
内层电子的结合能 , 图 2 在 285 ~ 290
eV 和 535 eV 附近有强峰 , 表明杉木
表面化学组成中含大量的 C 和 O 元
素 , 分析过程中尚能给出各元素的含
量比 。 本 研 究 的 杉 木 O/ C 比 为
0.22 , 表明未经抽提处理的杉木表面 富集松香酸等抽出物[ 7] , 这与实际情
收稿日期 1998-12-08 *西南林学院副教授 , 昆明 650224
面灵敏度远高于其它方法 , 此外不破坏样品 , 对样品的 形态也无特殊要求 。
本文简要介绍表面光电子能谱的基本原理 、分析 方法 、木材表面化学组成基本特征以及表面光电子能 谱在木材科学与技术领域的应用 。
1 基本原理及实验技术[ 3 , 4] 具有一定能量 hv 的 X 射线照射样品时 , 样品中
木材或木质结构单元如单板 、刨花和纤维等的表 面结构和化学组成对木质材料的表面性能影响极大 。 木材的氧化 、老化 、降解和木材胶接结构的破坏 、涂层 的脱落等往往从木材表面或界面开始 。但迄今为止 , 有关木材表面化学的知识还了 解尚少[ 1] , 因此 , 有关 木材表面的研究有着十分重要的意义 。
2 木质材料表面的 XPS 分析 木材主要由纤 维素 、半纤维素 、木素和抽出物组
成 , 其元素组成主要为 C 、H 、O 。 除 H 元素外 , C 和 O 元素均可由 XPS 探测分析 , 其中 C 元素的分析尤有价 值 。C 原子的电子结构为 1S22S22P2 , 其中 2S 和 2P 的 电子是形成杂化轨道而构成化学键的价电子 , XPS 探 测分析的主要对象是 C 原子内层的 1S 电子 。 如前所 述 , 由于电子结合能之大小与所结合的原子或原子团 有关 , 故可依 C1s峰强度和化学位移来了解其周围的化 学环境 , 从而得到有关木材表面化学性质的信息 。
Application of X-ray Photoelectron Spectroscopy in Wood Science and Technology
Du Guanben
(Southw est Forest ry College , K unming 650224)
Abstract X-ray photoelect ron spect roscopy(XPS)is one of the most pow erful and useful tool f or chemical composi tion analysis on both wood and fiber surfaces .In this paper , principal theory and analy zing method of XPS were reviewed .Relevant experimental and data processes of w ood surf ace analysis were int roduced .F inally , practical applicat ions of the XPS in wood science and technology w ere discussed . Keywords X-ray pho toelectron spectroscopy(XPS);Wood science and technology
E b =hv -Eb -Υsp 式中 :Υsp 为谱仪功函数 , 考虑局部电场对光电子的作
· 17 ·
M ay 1999
CHINA WOOD INDUST RY
Vol .13 No .3
用 , 公式可进一步修正 。 被测样品原子的种类将影响其电子的结合能 , 同
时化学结构和化学环境使其产生微小的变化 , 这种变 化称为化学位移 。 因此 , 通过测定电子结合能的大小 可对化学元素定性 , 通过测定化学位移的大小可以了 解其化学结构或化学状态 , 这是应用 XPS 技术得到的 最重要的信息 。
图 2 杉木表面 XPS 宽扫描图 Fig.2 Wide-scan XPS spectra of Chinese-fir wood
成曲线基本重叠 , 表明拟合良好 。图谱
中 C1 、C2 、C3 的结合能分别为 287.00
eV 、288.71 eV 和 290.23 eV , 显然高于
前述的正常范围 , 这是表面荷电效应所
木材等多数高分子样品是非导电性材料 , 由于样 品表面的荷电效应使发射出来的光电子的动能减少 , 因而测得的结合能大于真实值达几个电子伏特 。 要得 到准确的结合能值就必须对图谱的能量坐标进行校正 , 或用电子中和枪消除或减少荷电效应 。校正的基本方 法是利用图谱中已知结合能的峰作为参考峰 。
如前所述 , 同一元素不同原子的光电子峰 , 由于化 · 18 ·
究中的重要性远不如 C1s峰 , 甚至许多 研究报导中根本不考虑 O 1s峰 。 O1s峰 一般比较窄 , 一般认为对纯纤维素 , 其
图 3 杉木表面 C1s的 XPS 图谱 Fig.3 XPS C1 s spectra of Chinese-fir wood
O 1s峰只有一个成分 , 因而没有化学位
醚键(diary l ether)联接的氧 , O2 仍为
纤维素中与碳单键联接的氧 , O3 则为 酚羟 基(phenolic OH)的氧 或类似 结 构中的氧 , 如氧一侧与苯环相连而另 一侧与烷烃碳相连等 , 此外 , 羧酸根中的 氧也归入此
图 4 杉木表面 O1s的 XPS 图谱 Fig.4 XPS O1s spectra of Chinese- fir wood
上述结合方式中 , 前三种是主要结合方式 。 图 2 、图 3 和图 4 分别是作者在 PH I 5500 ESCA 仪器 上所得 到的杉 木样 品(未抽 提)的 XPS 宽 扫描 图 、C1s的谱峰和 O1s的谱峰 。X PS 宽扫描图可以给出
第 13 卷 第 3 期
木材工业
1999 年 5 月
移 , 因为纤维素中和碳的联接方式
均为单键 , 这类氧通常归为 O2 , 而通
过双键与碳相连的氧具有较低的结合
能 , 归为 O 1 。 A hmed 等[ 9] 以 木素 模
型化合物和纤 维素的 XPS 分析 为基 础 , 尝试性地把氧分为三类 :O1 为苄
基芳基醚(benzyl ary l ether)或二芳基
Do rris 和 G ray[ 5, 6] 将木材中的碳原子划分为四种 结合形式 , 分别记为 C1 、C2 、C3 、C4 , 各结构特征和化 学位移如下 :
C1 —仅与其它碳原子 或氢原子 相结合 。 这主要 来自木素苯基丙烷和脂肪酸 、脂肪和蜡等 , 其电子结合 能较低 , 约为 285 eV 。
电子能谱仪的主要原件包括激发源 、电子能谱分 析器 、探测器纪录控制系统 、真空系统等 , 如图 1 所示 。 由激发源发射出来的光子束照射在样品上 , 样品中的 束缚电子受激发而电离 , 进而发射光电子 。 光电子在 能量分析器中按其能量或动量被`色散' 或聚焦 , 由探 测器接受 , 探测器输出的脉冲信号经放大 、甄别和整形 后输入到记录控制系统 , 最后输入至 X-Y 记录仪的 Y 轴驱动器上 ;而对光电子能量的扫描可通过连续地或 步进地控制分析器电压或电流的变化来实现 。将此扫 描电压同时输至 X-Y 记录仪的 X 轴驱动器上 , 作出光 电子能谱 。
X PS 的起源最早可追溯到对光电子的研究[ 2] , 但 在 70 年代以后 , 逐渐扩大到对有机物 、高分子材料及 木质材料表面的研究 , 现已成为木材表面研究的重要 分析手段 。 电子能谱的基本原理是用 X 射线 、紫外光 或电子束等照射样品 , 使样品中原子或分子的电子受 激发射出来 , 测出这些电子的能量分布 , 从中获得所需 的能量信息 。根据激发源和测量参数的不同 , 电子能 谱法有许多分支 。 用 X 射线作为激发源的称为 X 射 线光电子能谱(XPS), 由于其在化学分析领域广泛应 用 , 故又称化学分析用电子能谱(ESCA)。X 射线光电 子能谱的信息主要来自 10 nm 以内的近表面层 , 其表
原子内层电子受激发射 , 这些电子称为光电子 , 其现象 称为光电离或光致发射 , 有时称为光电效应 , 其过程服 从 Einstein 关系式 :
hv =Eb +Ek 式中 :hv 为入射光子能量 , 对于已知光源 , 该值一定 ; E k 为射出光电子的能量 , 可由光谱仪测出 ;Eb 为原子 内层电子的结合能 , 可根据上述关系式计算出 。固体 样品的真空能级与表面状态有关 , 易于改变 , 所以选 F ermi 能级作为参考能级 。