溅射靶材和蒸镀膜料
第三章_溅射镀膜
（2）溅射淀积的成膜速度低，真空蒸镀淀积速率为0.1～
5μm/min，而溅射速率为0.01～0.5μm/min；
（3）基板温升较高和易受杂质气体影响。
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§3-2 溅射的基本原理
溅射镀膜基于荷能离子轰击靶材时的溅射效应，
整个溅射过程都是建立在辉光放电 的基础之上，
即溅射离子都来源于气体放电。气体放电是离子溅 射过程的基础。
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“溅射”: 指荷能粒子轰击固体表面（靶）， 使固体原子（或分子）从表面射出的现象。
溅射原子：射出的粒子，大多呈原子状态。
荷能粒子：轰击靶材，可以是电子、离子或中性 粒子。
因离子在电场下易于加速并获得所需动能， 故大多采用离子作为轰击粒子。该离子又称入射 离子，这种镀膜技术又称为离子溅射镀膜或淀积 。
当电流增至C点时，极板两端电压突然降低，电流突然 增大，并同时出现带有颜色的辉光，此过程称为气体的 击穿，图中电压VB称为击穿电压。
在D点以后，电流与电压无关，即增大电源功率时， 电压维持不变，而电流平稳增加。
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正常辉光放电的特点：
（1）电子和正离子是来源于电子的碰撞和正离子的轰
击，即使自然游离源不存在，导电也 将继续下去。
不同入射角θ的溅射率值S(θ)，和垂直入射时的
溅射率值S(0)，对于不同靶材和入射离子的种类，
有以下结果：
a.对于轻元素靶材，S(θ)/S(0)的比值变化显著；
b.重离子入射时，S(θ)/S(0)的比值变化显著；
c.随着入射离子能量增加，S(θ)/S(0)呈最大
值的角度逐渐增大，但是S(θ)/S(0)的最大值
一、气体放电现象 考虑直流电场作用。
靶材质量对大面积镀膜生产的影响
靶材质量对大面积镀膜生产的影响The influence of the target equality on the large areacoating glass production胡冰王烁摘要：真空磁控溅射镀膜现在已经成为工业镀膜生产中最主要的技术之一。
靶材作为磁控溅射镀膜使用的大宗原材料，其质量对膜层性能有很大的影响，同时会影响到镀膜的生产效率和成本，对大面积玻璃镀膜企业有很大的影响。
本文结合生产实际使用情况，将靶材对镀膜生产影响的主要特征参数，包括靶材的密度、晶粒尺寸、纯度、与衬管（背板）连接质量等因素进行了分析和研究，并在其参数控制方面给予相关建议。
Abstract：In present，vacuum magnetron sputtering coating has become one of the main techniques of coating industry . Be used as bulk raw materials of the magnetron sputtering coating，targets have a great influence on film quality, efficiency and cost of coating production,have a great influence on large area coating glass industry.In this paper, the main characteristic parameters of the targets, including the grain size , purity, density of target materials and quality of bonding,etc. which influence the quality of the large area coating were analysised and studied combine with the actual production，some advices in the parameters control were given.关键词大面积镀膜Low-E玻璃靶材Key words Large area coating low-emissivity glass targets1 引言现代建筑大多已开始采用大面积玻璃采光，这一方面带给我们更明亮的房间以及更宽阔的视野，另一方面由于透过玻璃传递的热能远高于周围墙体，导致整个建筑物的使用能耗明显增大。
《薄膜材料与技术》复习资料总结
《薄膜材料与技术》复习资料总结【讲义总结】1.真空区域的划分：①粗真空(1x105~1x102Pa)。
在粗真空下，气态空间近似为大气状态，分子以热运动为主，分子间碰撞十分频繁；②低真空(1x102~1x10-1)。
低真空时气体分子的流动逐渐从黏滞流状态向分子流状态过度，此时气体分子间碰撞次数与分子跟器壁间碰撞次数差不多；③高真空(1x10-1~1x10-6)。
当达到高真空时，气体分子的流动已经成为分子流状态，以气体分子与容器壁间的碰撞为主，且碰撞次数大大减小，蒸发材料的粒子沿直线飞行；④超高真空(＜1x10-6)。
达到超高真空时，气体分子数目更少，几乎不存在分子间碰撞，分子与器壁的碰撞机会更少。
2.获得真空的主要设备：旋片式机械真空泵，油扩散泵，复合分子泵，分子筛吸附泵，钛生化泵，溅射离子泵和低温泵等，其中前三种属于气体传输泵，后四种属于气体捕获泵，全为无油类真空泵。
3.输运式真空泵分为机械式气体输运泵和气流式气体输运泵。
4.极限压强：指使用标准容器做负载时，真空泵按规定的条件正常工作一段时间后，真空度不再变化而趋于稳定时的最低压强。
5.凡是利用机械运动来获得真空的泵称为机械泵，属于有油类真空泵。
6.旋片式真空泵泵体主要由锭子、转子、旋片、进气管和排气管等组成。
7.真空测量：指用特定的仪器和装置，对某一特定空间内的真空度进行测定。
这种仪器或装置称为真空计。
按测量原理分为绝对真空计和相对真空计。
8.物理气相沉积：是利用某种物理过程实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
特点：①需要使用固态或熔融态的物质作为沉积过程的源物质；②源物质通过物理过程转变为气相，且在气相中与衬底表面不发生化学反应；③需要相对较低的气体压力环境，这样其他气体分子对于气相分子的散射作用较小，气相分子的运动路径近似直线；④气相分子在衬底上的沉积几率接近100%。
在物理气相沉积技术中最基本的两种方法是蒸发法和溅射法。
9.蒸发沉积薄膜纯度取决于：①蒸发源物质的纯度；②加热装置、坩埚等可能造成的污染；③真空系统中的残留气体。
有色行业专题系列研究之——靶材：国内需求高增、国产替代加速，蓄势待发
万联证券证券研究报告|有色金属国内需求高增、国产替代加速，蓄势待发强于大市（维持）——有色行业专题系列研究之——靶材日期：2021年01月22日[Table_Summary] 行业核心观点：有色行业涉及的金属品种及代表性的金属材料众多，产业链涵盖资源开发、冶炼和加工各个环节，产品广泛用于工业、新能源、电子、军工各个领域，周期各有差异、结构多点开花,且当前处于新一轮景气上行周期，完全具备乘时乘势基础。
系列专题着力能源金属及相关金属材料，本篇聚焦靶材，望有助于诸君！投资要点：⚫ 高纯金属制备，镀膜实现导电或阻挡功能：靶材是制备功能薄膜的原材料，以99.95%以上高纯金属为原料制备，用于面板、半导体、光伏和磁记录媒体等领域，实现导电或阻挡等功能。
其中，半导体领域对纯度和技艺要求最高，5N5以上。
靶材种类繁多，客户需求非标，定制属性明显。
当前趋势是高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、以及高纯金属。
⚫ 中期较高增长、当前景气上行，国产替代加速：需求端，我们测算，国内靶材市场到2023年接近300亿元，面板和半导体领域受益于全球消费增长和中国份额提升，市场分别达200/50亿元量级，光伏领域则随着HJT 电池降本应用潜在需求可期，3年总需求CAGR 达9.7%较快增长；就目前而言，面板和半导体行业景气度周期上行，在线办公+5G+传统汽车消费复苏等因素持续发力，这一趋势预计未来1-2年可维持，目前相关靶材企业开工率接近满产。
供给端，全球市场依然由霍尼韦尔等企业寡占，但国内企业已经打通半导体靶材国产替代技术基础，有研新材、江丰电子进入全球主流芯片代工企业；国内四五家面板靶材企业进入京东方，国产替代整体从1到N 呈加速态势。
⚫ 国内公司着力面板和半导体领域，纵横向皆有拓展：江丰电子业务领域涉及半导体和平板显示，投资加码市场最大平板显示领域，对高纯金属原料也有拓展；阿石创靶材以平板显示用为主，亦在投资加码显示靶材；有研新材作为国有企业，专注半导体靶材及高纯金属原料，着力攻克国产替代技术难题；隆华科技靶材业务来自收购，目前用于平板显示领域。
溅射工艺和蒸镀工艺的比较
溅射工艺和蒸镀工艺的比较
溅射工艺和蒸镀工艺是两种常用的薄膜镀带工艺，它们在原理、应用范围和特点等方面有所区别。
1. 原理：溅射工艺是通过高能量离子轰击靶材，将靶材表面的原子或分子弹出并沉积在基材上形成薄膜。
蒸镀工艺是利用热量将源材料加热至蒸发状态，然后沉积在基材上。
2. 应用范围：溅射工艺适用于多种材料的薄膜制备，包括金属、合金、氧化物等。
蒸镀工艺一般用于制备金属薄膜。
3. 特点：
- 溅射工艺：镀膜速度较快，沉积层致密，有较好的附着力和均匀性，可以制备厚膜；但是设备复杂，成本高，镀膜过程中可能会有靶材的成分污染。
- 蒸镀工艺：设备简单，成本相对较低，镀膜过程对基材要求较低，适合大面积镀膜；但是镀层致密性和附着力较差，容易受到环境条件的影响。
由于溅射工艺和蒸镀工艺各自具有独特的特点，所以在不同的应用场景中会有不同的选择。
磁控溅射技术
磁控溅射技术磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。
氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。
二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，最终沉积在基片上。
磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。
电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。
但一般基片与真空室及阳极在同一电势。
磁场与电场的交互作用（ E X B drift）使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。
至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。
磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。
在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。
所不同的是电场方向，电压电流大小而已。
真空镀膜过程均匀性真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。
所以对于不同原理的真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。
并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念：1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
3薄膜制备技术(PVD)(溅射)解析
下图是在45kV加速电压条件下各种入射离子轰击Ag、Cu、Ta表面时得到的 溅射产额随离子的原子序数的变化。易知，重离子惰性气体作为入射离子 时的溅射产额明显高于轻离子。但是出于经济方面的考虑，多数情况下均 采用Ar离子作为薄膜溅射沉积时的入射离子。
c、离子入射角度对溅射产额的影响
随着离子入射方向与靶面法线间夹 角θ的增加，溅射产额先呈现 1/cosθ 规律的增加，即倾斜入射 有利于提高溅射产额。0-60度左右 单调增加，当入射角θ接近70-80 度角时，达到最高，入射角再增加， 产额迅速下降。离子入射角对溅射 产额的影响如图。
（2) 各种物质都有自已的溅射阀值，大部分金属的溅射阀值在 10~40eV，只有当入射离子的能量超过这个阀值，才会实现对该物质 表面原子的溅射。物质的溅射阀值与它的升华热有一定的比例关系。
b、入射离子种类和被溅射物质种类
下图是在加速电压为400V、Ar离子入射的情况下，各种物质的溅射产额的 变化情况。易知，溅射产额呈现明显的周期性。
气体放电现象 气体放电是离子溅射过程的基础，下面简单讨论一下 气体放电过程。 开始：电极间无电流通过，气体原子多处于中性，只有 少量的电离粒子在电场作用下定向运动，形成极微弱的 电流。随电压升高，电离粒子的运动速度加快，则电流 随电压而上升，当粒子的速度达饱和时，电流也达到一 个饱和值，不再增加（见第一个垂线段）； 汤生放电：电压继续升高，离子与阴极靶材料之间、电 子与气体分子之间的碰撞频繁起来，同时外电路使电子 和离子的能量也增加了。离子撞击阴极产生二次电子， 参与气体分子碰撞，并使气体分子继续电离，产生新的 离子和电子。这时，放电电流迅速增加，但电压变化不 大，这一放电阶段称为汤生放电。 电晕放电：汤生放电的后期称为电晕放电，此时电场强度 较高的电极尖端出现一些跳跃的电晕光斑。
薄膜制备方法
薄膜制备方法1.物理气相沉积法（PVD）：真空蒸镀、离子镀、溅射镀膜2.化学气相沉积法（CVD)：热CVD、等离子CVD、有机金属CVD、金属CVD。
一、真空蒸镀即真空蒸发镀膜，是制备薄膜最一般的方法。
这种方法是把装有基片的真空室抽成真空，使气体压强达到10¯²Pa以下，然后加热镀料，使其原子或者分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到温度较低的基片表面，凝结形成固态薄膜。
其设备主要由真空镀膜室和真空抽气系统两大部分组成。
保证真空环境的原因有①防止在高温下因空气分子和蒸发源发生反应，生成化合物而使蒸发源劣化。
②防止因蒸发物质的分子在镀膜室内与空气分子碰撞而阻碍蒸发分子直接到达基片表面，以及在途中生成化合物或由于蒸发分子间的相互碰撞而在到达基片前就凝聚等③在基片上形成薄膜的过程中，防止空气分子作为杂质混入膜内或者在薄膜中形成化合物。
蒸发镀根据蒸发源的类别有几种:⑴、电阻加热蒸发源。
通常适用于熔点低于1500℃的镀料。
对于蒸发源的要求为a、熔点高b、饱和蒸气压低c、化学性质稳定，在高温下不与蒸发材料发生化学反应d、具有良好的耐热性，功率密度变化小。
⑵、电子束蒸发源。
热电子由灯丝发射后，被电场加速，获得动能轰击处于阳极的蒸发材料上，使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀膜。
特别适合制作高熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。
优点有a、电子束轰击热源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度，可以使高熔点（可高达3000℃以上）的材料蒸发，并且有较高的蒸发速率。
b、镀料置于冷水铜坩埚内，避免容器材料的蒸发，以及容器材料与镀料之间的反应，这对于提高镀膜的纯度极为重要。
c、热量可直接加到蒸发材料的表面，减少热量损失。
⑶、高频感应蒸发源。
将装有蒸发材料的坩埚放在高频螺旋线圈的中央，使蒸发材料在高频电磁场的感应下产生强大的涡流损失和磁滞损失（铁磁体），从而将镀料金属加热蒸发。
常用于大量蒸发高纯度金属。
分子束外延技术（molecular beam epitaxy,MBE)。
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一、溅射靶材工具镀膜工业非凡物质奇妙世界工具镀膜常应用于车削刀具、机械手、模具等各种机械及冶金用途。
刀具、模具的超硬保护层，膜系包括TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、DLC等，镀层产品包括钻头、铣刀、齿轮刀具、丝锥、剪刀、切刀、顶头、冲模等。
膜层厚度一般为2~10μm，膜层要求高硬度，低磨损，耐冲击，高附着型等，其技术层次高于装饰镀膜。
常用靶材与装饰镀膜基本相同，为Ti、Al、Cr、C、Ti/Al等，常通入N2, O2, C2H2 等反应气体，除了以氮化物为主要膜层，还多了类金刚钻膜(Diamond Like Coating, DLC)。
产品应用为了追求更佳的膜层机械性质，合金靶材也已经被大量采用在刀具上，如Ti/Si、Cr/Si、Cr/Al、Ti/Cr、Al/Ti/Si、Al/Cr/Si等。
而且持续有新的多元合金正被开发测试中，制造工艺分为真空熔炼工艺、挤压熔炼工艺、热等静压工艺、热压烧结工艺等，不同的方法制出的靶材特性各有不同。
装饰镀膜工业非凡物质奇妙世界应用真空阴极电弧源沉积技术 (Cathodic Arc Coating) 可在大量民生用五金件上镀上不同的颜色，做为装饰用途，与一般表明处理用的电镀，烤漆相比，有高硬度，高亮度，抗蚀氧化，不易脱落，不掉色等优异特色。
目前市场上最常见的卫浴五金（莲蓬头、水龙头等），建筑五金（门锁、门把、电梯板），汽车五金（后视镜），机壳（手机、电脑等），装饰配件（发簪、纽扣）等都已大量采用此种镀膜技术。
镀膜产品包括表件、日用五金件、卫浴洁具、建筑五金件、表壳、表带、小饰品、不锈钢板等等，彩色膜除仿金色外，还有枪黑、乌黑、玫瑰金、棕色、蓝色、绿色、灰色、银色以及幻彩等等。
常用的靶材有Ti、Zr、Cr、C、TiAl等几种，通入N2，O2，C2H2等气体后，可形成金黄，古铜，灰黑等多种不同色调。
膜层一般在1um 以下。
具备开发新色彩能力已经成为装饰镀膜业者极力争取的技术优势。
光学/光通讯工业非凡物质奇妙世界制备光学薄膜可用来得到各种各样的光学特性，阿石创可提供光学镜片、晶体以及光通讯行业镀膜所需用到的高纯度靶材，产品包括硅靶、铌靶、钽靶、二氧化硅靶、钛靶等。
热反射汽车玻璃非凡物质奇妙世界热反射镀膜玻璃又称控制镀膜玻璃，也就是通常说的镀膜玻璃，是指具有反射太阳能作用的镀膜玻璃。
一般是通过在玻璃表面镀覆金属或者金属氧化物薄膜，以达到大量反射太阳辐射和光的目的，热反射玻璃具有良好的遮光性能和隔热性能。
近年来热反射镀膜玻璃在宾馆、饭店、商业场所得到较多应用，随着节能问题的日益突出，热反射玻璃在南方民用住宅中亦得到了应用。
热反射汽车玻璃：使太的红外线有效的被反射（20~25%），阻隔热能进入车体（隔热性能>30%），降低空调负荷，同时维持良好的透光性（70~75%），保持视野的清晰。
阿石创可为客户提供其镀膜常用到的Cr、Fe、Sn、Si、Zn、Mn、Ti、Al、Ag、Ni、Ni/Cr、Cu、Ni/Cu、SS等不同规格材质的靶材，纯度要求从99%~99.9%不等。
低辐射建筑玻璃非凡物质奇妙世界Low-E(低辐射镀膜玻璃)建筑玻璃，它是在玻璃表面镀银膜或掺氟的氧化锡膜后，利用上述膜层反射远红外线，达到隔热、保温的目的。
并具有可见光高透过率（自然采光），低反射（低光污染），紫外线及近红外线低透过率（遮阳）的效果。
真空磁控溅射Low-E镀膜中空玻璃具有最低的辐射率（0.08~0.15），能够有效降低室热能的流失，因此是最佳的“采光节能系统”。
其使用靶材以大型平面靶和喷涂/浇铸旋转靶材为主，为适合不同的膜层设计，靶材有如下的多种选择。
Ag、Ni/Cr、Sn(SnO2 Film)、Ti/TiO2 (TiO2 Film)、Zn(ZnOx Film)、Si/SiAl (SiN x Film)、ZnAl、ZnSn、ZnSnSb、Cr、Nb、Nb2O5等，阿石创可为客户提供以上不同规格材质的溅射靶材，纯度要求从99%~99.9%不等，可适各种镀膜系统。
其中一些脆性材料（SiAl, Si, TiO2），需要用等离子热喷涂工艺制作，其材质具有低含氧量及高清洁度。
硅薄膜电池非凡物质奇妙世界目前太阳能电池的主流为结晶硅制程，单晶或多晶硅基板形成P/N接面，再加上Ag浆印刷电路而成，转换效率11~16%（最高16~24%）。
受限于硅晶的供应紧，体积过大，及重量过重，薄膜太阳能电池成为新的趋势走向。
薄膜太阳能电池分为硅薄膜及化合物半导体二大类。
硅薄膜技术（转换效率5~8%）又可分为非晶硅a-Si，微晶硅uc-Si，及薄膜多晶硅Poly-Si三种材料的组成。
由CVD法生长的a-Si搭配uc-Si或Poly-Si，形成多层堆叠结构，可改善光劣化现象，提高转换效率。
硅薄膜电池要在基板或硅层上镀TCO膜（ITO,AZO,ZnO,SnO2）和金属膜（Al,Ag,NiV）做为导电层，TCO膜是为了改善电池的透光性。
阿石创可为该领域提供ITO、AZO、ZnO、SnO2 、Al、Ag、NiV等不同材质及规格的溅射靶材。
化合物半导体薄膜电池非凡物质奇妙世界化合物半导体薄膜太阳能电池主要分为CdTe和CIGS（CuInGaSe）二大类。
用CdTe/CdS和CIGS/CdS取代硅晶的P/N接面，可改善光电转换效率（CdTe – 8~10%, CIGS – 10~12%）。
因材料不同，适用的电极层及TCO层材料也不同。
CdTe时采用ITO、SnO2、 Cu or Cr；CIGS 时采用ITO, ZnO, AZO, Mo。
CIGS膜层不易直接以溅镀法完成，因此采用各种次合金的共镀制程，阿石创可提供材料有CuInGa、CuInSe、InGaSe、CuSe、CuGa、CuIn、InSe,、Cu、In、Ga、Se等。
新的透明半导体材料有 InGaZnO4、SrCu2O2、CuAlO2、CuCrO2等。
光热管薄膜非凡物质奇妙世界另外使用太阳能做完加热用途的光热管(太阳能热水器真空管)也需要在表面镀膜，以增强光的吸收性，常用靶材有SiAl，Si等。
液晶面板(LCD)非凡物质奇妙世界液晶显示器（TFT-LCD）已取代阴极管（CRT）成为显示器的主流。
其制程主要分为三段，第一为阵列基板（Array）制程，主要是在玻璃基板上制作薄膜电晶体（TFT）。
第二段为Cell制程，主要是将阵列基板与彩色滤光片结合，并在二片玻璃基板之间灌入液晶，第三段为Module模组制程，主要是将Cell制程的半成品与背光板，偏光板，IC电路，外框等多种组建组装起来。
其中阵列基板制程和彩色滤光片基本上是以溅射镀膜制程完成，需要高均匀性和平坦性的薄膜，靶材要求大型化、高密度及细晶。
阿石创可为用户提供显示器使用的使用的高品质靶材，其种类包括：1、透明电极材料：ITO2、阻隔层材料：Mo、Cr3、介电材料：Al2O3、SiO24、电极材料：Al、Cr、Ni、Ta、Nb5、黑色矩阵材料：Cr、Ta触摸屏(TP)非凡物质奇妙世界触摸面板（TP）是21世纪的人机界面，主要为电阻式，其次为电容式。
结构主要是ITO玻璃（基材）及ITO PET Film(表面)，加上其间的阻隔材和导电胶组合而成。
镀膜制程常使用的靶材是ITO，Mo，Al, SiO2。
屏蔽镀膜非凡物质奇妙世界真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点，广泛应用于通讯制品(移动)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。
同时适用于各种塑胶制品的金属屏蔽（PC、PC+ABS、ABS等）。
屏蔽（EMI）溅射镀膜具有以下特点：1、价格低廉；2、金属薄膜厚度只有0.5～2μm，不影响装配使用；3、环保制程，绝对环保无污染；4、溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、SiO2等）；5、被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、瓷等）；6、膜质致密均匀、膜厚容易控制；7、附着力强，可同时搭配多种不同溅射材料镀制多层膜。
阿石创可为客户提供，Ag、Cu、Al、Cr、Ni/Cr、SS等靶材。
二、蒸镀膜料低折射率材料非凡物质奇妙世界低折射率材料MU1SiO2中折射率材料非凡物质奇妙世界中折射率材料注：蒸发源 E—电子枪 B—电阻加热氧化铝高折射率材料非凡物质奇妙世界高折射率材料注：蒸发源 E—电子枪 B—电阻加热Ti2O3HfO2Nb2O5氧化锆金属与合金薄膜材料非凡物质奇妙世界金属膜具有反射率高、截止带宽、中性好以及偏振效应小等优点，因此它们对于设计一些特殊应用的膜系具有重要的作用。
锡SnNi光学性能可变薄膜材料非凡物质奇妙世界在固体和液体中，分子结构、对称性及能带的可逆变换是一种很普通的现象。
目前所知道的这种可变换的产生既可以是渐进的也可以是突变的，二在发生突变的可逆变换是，则是非常有意义的。
这种变换可用电的方法、热的方法、加压的方法或暴露于紫外--可见辐射的方法进行诱导。
在可见光围用光谱的变化、显著地着色响应这些激励的材料分别是电致变色显示材料、热致变色显示材料、受压变色显示材料或光致变色显示材料。
电致变色现象是一种与低电压下电化学诱导氧化还原反应相关的透射率或反射率可逆的看得见的变化，其典型的直流电压大约为±1V。
将变色材料沉积在透明导电的电极上，比如涂SnO2：F或铟--锡--氧化物的玻璃上。
将电极浸在含有碱离子的一种适当的电解液中或者在某些有机薄膜的情况下，，将电极浸没在一种适宜的阴离子电解液中。
其代表材料有WO3、MO3 。
热致变色材料是一些过渡性金属化合物可见光区吸收光谱的变化因金属离子周围环境变化而发生变色的材料。
其代表材料有VO2、Ag2S、FeS 。
受压变色显示材料是一些由于压力的变化材料的晶格发生急剧的体积变换，使材料结构进行半导体--金属的转换，材料呈现急剧的光学变换。
其代表材料有：SmS、EuTe 。
光致变色显示材料：在可见光、紫外线等不同波段的光化辐射下看的见颜色变化的一些薄膜材料。
其代表材料有WO3、MoO3、AgCl--CuCl 。
导电膜 AZO氧化铝锌,ITO氧化铟锡非凡物质奇妙世界导电膜 AZO氧化铝锌,ITO氧化铟锡ITO防水防油膜FY-1防水膜，FS-1防油膜非凡物质奇妙世界防水防油膜FY-1防水膜，FS-1防油膜防油膜。