MEMS麦克风的基本原理

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关于麦克风的参数介绍-驻极体麦克风(ECM)和硅麦(MEMS)

关于麦克风的参数介绍-驻极体麦克风(ECM)和硅麦(MEMS)

关于麦克风的参数介绍-驻极体麦克风(ECM)和硅麦(MEMS)1、麦克风的分类1.1、动圈式麦克风(Dynamic Micphone)原理:基本构造包含线圈、振膜、永久磁铁三部分。

当声波进⼊麦克风,振膜受到声波的压⼒⽽产⽣振动,与振膜在⼀起的线圈则开始在磁场中移动,根据法拉第的楞次定律,线圈会产⽣感应电流。

特性:动圈式麦克风因含有磁铁和线圈,不够轻便、灵敏度较低、⾼低频响应表现较差;优点是声⾳较柔润,适合⽤来收录⼈声。

应⽤:KTV场所。

1.2、电容式麦克风(Condenser Micphone)原理:根据电容两⽚隔板间距离的改变来产⽣电压变化。

当声波进⼊麦克风,振膜产⽣振动,使得振动膜和基板之间的距离会随着振动⽽改变,于是基板间的电容会变,根据Q=C*V(电容式麦克风中电容极板的电压会维持⼀个定值)得到变化的电荷量Q。

特性:灵敏度⾼,常⽤于⾼质量的录⾳。

应⽤:消费电⼦、录⾳室。

1.3、铝带式麦克风(Ribbon Micphone)原理:在磁铁两极间放⼊通常是铝制的波浪状⾦属箔带,⾦属薄膜受声⾳震动时,因电磁感应⽽产⽣信号。

1.4、碳精麦克风(Carbon Micphone)2、两种常⽤电容式麦克风的对⽐:驻极体电容麦克风(ECM)和微机电麦克风(MEMS Micphone)2.1、驻极体电容麦克风(Electret Condenser Micphone)原理:驻极体麦克风使⽤了可保有永久电荷的驻极体物质,不需要再对电容供电。

(若驻极体麦克风中内置放⼤电路,则需要供电)优点:技术成熟、价格便宜缺点:体积⼤,不⽅便SMT、引线长,造成信号衰减、⽣产⼯序多,⼀致性差、灵敏度不稳定2.2、微机电麦克风(MEMS Micphone)原理:微机电麦克风也称麦克风芯⽚或硅麦克风,硅麦⼀般都集成了前置放⼤器,甚⾄有些硅麦会集成模拟数字转换器,直接输出数字信号,成为数字麦克风。

优点:体积⼩,可SMT、产品稳定性好缺点:价格较⾼备注:⼀般情况下,我们把集成了前置放⼤器或者模拟数字转换器的麦克风称为拾⾳器(pickup)。

MEMS的原理及应用

MEMS的原理及应用

MEMS的原理及应用前言微机电系统(Micro Electro-Mechanical Systems,MEMS)是一种将微米尺度的机械元件和微电子元件集成在一起的技术。

它结合了机械学、电子学和计算机科学等领域的知识,广泛应用于各个领域。

本文将介绍MEMS的原理及其在不同领域的应用。

MEMS的原理MEMS的核心原理是利用微米尺度的机械结构来感知和操控物理量。

这些微米尺度的结构通常由硅或其他材料制成,并且与电子元件集成在一起。

MEMS器件利用微机械结构的运动或变形来实现各种功能。

下面是一些常见的MEMS原理:1.微加工技术:MEMS器件通常是通过光刻和微加工技术制作的。

这些技术允许制造出微米级别的机械结构和电子元件。

2.机械传感器:MEMS器件中最常见的一类是机械传感器,用于感知物理量如压力、加速度、温度等。

典型的机械传感器包括压力传感器、加速度传感器和陀螺仪等。

3.微操控器件:除了传感器,MEMS还包括微操控器件,用于操控物理量如运动、振动等。

例如,微镜头用于手机的自动对焦功能就是一种微操控器件。

4.集成电子元件:最重要的一点是,MEMS器件通常与集成电子元件一起工作。

传感器通过电子元件将感知到的物理量转化为电信号,而操控器件则接收电信号并操控相应的物理量。

这种集成使得MEMS器件具有高度的智能化和自动化能力。

MEMS的应用MEMS技术在各个领域都有广泛的应用。

下面列举了几个典型的应用领域:1. 电子设备•手机:MEMS技术使得手机具备了更多的功能,如自动对焦摄像头、陀螺仪和加速度传感器等。

•智能手表:智能手表中的MEMS技术可以实现计步器、心率监测和气压计等功能。

•耳机:MEMS技术可以用于制作微型麦克风和降噪器,提高音质和通话质量。

2. 医疗领域•生物传感器:MEMS技术可以用于制作微型生物传感器,实现疾病的早期诊断和监测。

•药物传递系统:利用MEMS技术,可以制作微型药物传递系统,实现精确的药物控制和释放。

MEMS麦克风的基本原理教学教材

MEMS麦克风的基本原理教学教材
•声学过载点(AOP)
•在麦克风声压级开始接近声学过载点之前,失真通常不会随着声压级升高而大幅增加。但是,当达到过载点时,失真开 始快速升高。麦克风声学过载点通常是指失真达到10%时的声压级。
频响 MEMS麦克风频响是在不同频率时指灵敏度的变化。麦克风频响通常在1 kHz 时设为0 dB,对不同频率下 的灵敏度进行归一化处理。大多数MEMS麦克风的灵敏度都低于100Hz,在出现Helmholtz谐振后开始上 升,达到大约4kHz至6kHz之间。这就是许多MEMS麦克风将频响指定在100Hz至10kHz之间的原因。不过, 高性能的MEMS麦克风在20Hz至20kHz全音频带内拥有较平坦的频响曲线。
• 除输出、地和VDD引脚外,大多数数字麦克风还有时钟输入和L/R控制输入。时钟输入用于控制Δ-Σ 调制器,将传感器的模拟信号转换成PDM数字信号。数字麦克风的典型时钟频率通常在1MHz至 3.5MHz之间。麦克风输出信号在所选时钟边沿进入适合的逻辑状态,在另半个时钟周期进入高阻抗 状态。这个两个数字麦克风的输入共用一条数据线。L/R输入确定有效数据是在哪一个时钟边沿上。
MEMS麦克风封装
• MEMS麦克风采用由基板和封装盖组成的空心封装,内部组件包括声学传感器 和接口ASIC。封装基板下面是焊盘,用于将麦克风焊接在电路板或挠性电路 上。在大多数MEMS麦克风的内部,MEMS声学传感器和接口ASIC是两颗独立 的芯片,为制作能够移动的结构,声学传感器的制造工艺经过优化改良,而 ASIC芯片则采用工业标准的CMOS制造工艺。ASIC通过引线键合方法连接到传 感器和基板,然后将封装盖扣在基板上并进行密封处理。
MEMS麦克风性能评测
•帕斯卡(Pa)是压力的线性国际单位制,表示单位面积上的压力(1Pa = 1N/m2)。不过,对数单位制更适用研究声压级 (SPL),因为人耳动态范围大,能够察觉从最低20微帕到高达20帕的声压。因此,麦克风的关键性能指标通常用分贝 (dB)表示,0dB SPL等于20µPa,1 Pa等于94dB SPL。下面的参数通常是最重要的麦克风性能指标:

MEMS麦克风.

MEMS麦克风.
传统驻极体麦克风装配方式 表面贴装硅麦克风
二、生产组装
传统驻极体麦克风,零部件繁多,生产工艺工序人工因素多,产 品性能一致性及品质一致性差。硅麦克风,全自动化生产,产品性能 一致性及品质一致性高。 传统ECM麦克风配件结构图 硅麦克风配件结构图
三、声学的电气参数的稳定度
传统驻极体麦克风,采取高电压将电荷驻存在驻极体材料上的工作原理, 电荷易受环境和使用条件影响,造成电荷逃逸,灵敏度降低。 硅麦克风采用偏置电压工作原理,无需驻存电荷,无需驻极体材料,产 品稳定性好。
Part to Part Matching:Magnitude and Phase Response
ECM vs. MEMS麦克风
一、表面贴装
相对于传统驻极体麦克风,具有耐高温、耐回流焊特性,可以直 接使用SMT生产方式组装,减少了烦琐的手工、半自动装配、电气性 能测试、返工等一系列生产成本,生产效率显著提高。
ECM的结构
驻极体麦克风由隔膜、驻极体、垫圈、外壳、背电极、 印制板、场效应管等7部分组成,其中最主要的部件为一片 单面涂有金属的驻极体薄膜与一个上面有若干小孔的金属电 极(即背电极)。其中驻极体面与背电极相对,中间有一个 极小的空气隙,它和驻极体构成了绝缘介质,而背电极和驻 极体上的金属层则构成一个平板电容器。
工艺步骤
从微机电麦克风的制造来看就目前的技术层面而言,集成 CMOS电路的MEMS元件可分为三种。Pre-CMOS MEMS 工艺:先 制作MEMS结构再制作CMOS元件;Intra-CMOS MEMS 工艺: CMOS与MEMS元件工艺混合制造;Post-CMOS MEMS 工艺:先实 现CMOS元件,再进行MEMS结构制造。一般而言,前两种方法 无法在传统的晶圆厂进行,而Post-CMOS MEMS 则可以在半导 体晶圆代工厂进行生产。 在Post-CMOS MEMS 工艺中需特别注意,不能让额外的热 处理或高温工艺影响到CMOS组件的物理特性及MEMS的应力状 态,以免影响到振膜的初始应力。鑫创科技公司克服了诸多 的技术难题,完全采用标准的CMOS工艺来同时制造电路元件 及微机电麦克风结构。

一种MEMS芯片及其制作方法、MEMS麦克风与流程

一种MEMS芯片及其制作方法、MEMS麦克风与流程

一种MEMS芯片及其制作方法引言MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems)芯片是一种集成了微观机械部件、电学元件和电子集成线路的微型器件。

它在现代电子技术中具有广泛的应用,如加速计、压力传感器、麦克风等。

本文将介绍一种基于MEMS技术的芯片及其制作方法。

背景MEMS芯片的发展源于集成电路技术的快速进展。

通过微电子加工工艺,可以将微观机械结构与电路部件相结合,从而实现功能更加复杂的微型器件。

在MEMS芯片中,传感器是常见的元件之一,而MEMS麦克风则是其中的重要应用之一。

MEMS麦克风MEMS麦克风是一种利用MEMS技术制作的微型麦克风。

它具有体积小、功耗低、灵敏度高等优点,广泛应用于消费电子产品、通信设备等领域。

下面将介绍一种MEMS麦克风的制作方法。

制备MEMS麦克风的流程1.基底制备:首先,选择适合的基底材料,常见的有硅(Si)基底。

然后,使用光刻工艺在基底表面形成薄膜层,通常使用光刻胶和掩膜进行图案定义。

2.薄膜沉积:在基底表面沉积一层薄膜,常见的材料包括金属薄膜、多层金属膜等。

薄膜沉积可以使用物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)等方法。

3.薄膜刻蚀:使用光刻工艺和刻蚀工艺将薄膜层进行图案定义和刻蚀,形成MEMS麦克风的微结构。

4.封闭结构:在微结构形成后,使用封闭工艺封闭MEMS麦克风的结构,保护内部部件免受环境影响。

5.封装:将封闭的MEMS麦克风器件进行封装,通常使用注塑成型或裸芯片直接封装等方式。

制备MEMS麦克风的优势制备MEMS麦克风采用了先进的微纳加工技术,具有以下优势:•小尺寸:MEMS麦克风的尺寸小,可以实现更小型化的产品设计。

•低功耗:由于MEMS麦克风的特殊结构,功耗较低,有利于延长电池寿命。

•高灵敏度:MEMS麦克风的微结构可以实现高灵敏度的声音接收,能够捕捉到更多细节。

•可靠性高:制备过程中采用精密的工艺控制和封装技术,提高了MEMS麦克风的可靠性。

MEMS麦克风的基本原理

MEMS麦克风的基本原理

MEMS麦克风封装
• MEMS麦克风采用由基板和封装盖组成的空心封装,内部组件包括声学传感器 和接口ASIC.封装基板下面是焊盘,用于将麦克风焊接在电路板或挠性电路上.在 大多数MEMS麦克风的内部,MEMS声学传感器和接口ASIC是两颗独立的芯片,为 制作能够移动的结构,声学传感器的制造工艺经过优化改良,而ASIC芯片则采用 工业标准的CMOS制造工艺.ASIC通过引线键合方法连接到传感器和基板,然后 将封装盖扣在基板上并进行密封处理.
•声学过载点AOP
•在麦克风声压级开始接近声学过载点之前,失真通常不会随着声压级升高而大幅增加.但是,当达到过载点时,失真开始快速 升高.麦克风声学过载点通常是指失真达到10%时的声压级.
频响 MEMS麦克风频响是在不同频率时指灵敏度的变化.麦克风频响通常在1 kHz 时设为0 dB,对不同频率下的 灵敏度进行归一化处理.大多数MEMS麦克风的灵敏度都低于100Hz,在出现Helmholtz谐振后开始上升,达到 大约4kHz至6kHz之间.这就是许多MEMS麦克风将频响指定在100Hz至10kHz之间的原因.不过,高性能的 MEMS麦克风在20Hz至20kHz全音频带内拥有较平坦的频响曲线.
• 数字麦克风输出相对来说具有较高的抗噪性,但是信号完整性却是一个令人们关心的问题,因为寄生 电容以及麦克风输出与系统芯片之间的电感导致信号失真.阻抗失匹也会产生反射问题,若数字麦克 风与系统芯片间隔较大,反射现象将会导致信号失真.
• 虽然数字麦克风不需要编解码器,但是,脉冲密度调制输出的单比特PDM格式在大多数情况下必须转 转换成多比特脉冲代码调制PCM格式.很多编解码器和系统芯片都有PDM输入,其内部滤波器负责将 PDM数据转换成PCM格式.微控制器也使用同步串行接口捕获数字麦克风的PDM数据流,然后通过软 件滤波器将其转换成PDM格式.

MEMS(数字)麦克风基本知识

MEMS(数字)麦克风基本知识
MEMS Microphone Wafer & MEMS Die
MEMS Wafer
MEMS Die
MEMS Microphone 产品简介
MEMS Microphone Profile
Acoustic port hole
W
H
4
1
L
3
2
PIN# FUNCTION 1.OUTPUT, 2.NO CONNECTION 3.GROUND, 4.POWER
Stage
Temperature Profile
Time (Maximum)
Pro-head
170~180 ℃
120sec.
Solder Melt
Above 230 ℃
100sec.
Peak
260 ℃ Maximum
30sec.
Production Process
Wafer Fabrication
>58dB
RF-filtering capacitance
10pF, 33pF, both or none
Change in sensitivity(电压特性) <1dB across voltage range
Standard operating temperature -40℃ to + 100℃
Packaging/Cutting
Testing / Marking / Taping
Shipping Inspection
Packing
Reliability Test
MEMS Microphone 产品简介
Application of Product
MEMS Wafer Fab. < MEMS Microphone >

MEMS麦克风工作原理及应用于助听器的前景

MEMS麦克风工作原理及应用于助听器的前景

MEMS麦克风工作原理及应用于助听器的前景因为人口老龄化和听力丧失人群的显然增强,助听器市场不断增长,但其惹眼的形状和很短的电池寿命让许多人失去爱好。

随着听力丧失现象变得越发常见,人们将寻求越发小巧、更有效、更高品质的助听器。

助听器信号链的前端是麦克风,它检测语音和其他环境噪声。

因此,充实音频捕获可以提高信号链整体的性能并降低功耗。

麦克风是把声学信号转换为电信号以供助听器音频信号链处理的。

有许多技术可用于这种声电转换,但麦克风是其中尺寸最小、精度最高的一类麦克风。

电容麦克风中的薄膜随着声学信号而运动,这种运动引起电容变幻,进而产生电信号。

驻极体电容麦克风(ECM)是助听器中用法最广泛的技术。

ECM采纳可变电容,其一个板由具有永远电荷的材料制成。

ECM在当今助听行业声名显赫,但这些设备背后的技术自1960年月以来并无多大变幻。

其性能、可重复性以及相对于温度和其他环境条件的稳定性不是十分好。

助听器以及其他注意高性能和全都性的应用,为新型麦克风技术的进展制造了机会。

新技术应该能充实上述缺点,让创造商生产出更高质量、越发牢靠的设备。

微机电系统()技术是电容麦克风变革的中坚力气。

MEMS麦克风利用了过去数十年来硅技术的巨大长进,包括超小型创造结构、精彩的稳定性和可重复性、低功耗,全部这些都已成为硅工业不折不扣的要求。

迄今为止,MEMS麦克风的功耗和噪声水平还是相当高,不宜用于助听器,但满足这两项关键要求的新器件已经浮现,正在掀起助听器麦克风的下一波创新浪潮。

MEMS麦克风工作原理像ECM一样,MEMS麦克风也是电容麦克风。

MEMS麦克风包含一个灵便悬浮的薄膜,它可在一个固定背板之上自由移动,全部元件均在一个硅晶圆上创造。

该结构形成一个可变电容,固定电荷施加于薄膜与背第1页共4页。

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严密控制灵敏度 • 在执行噪声抑制和声波聚束等功能的性能算法中,我们通常假设麦克风阵列中的每个麦克风 单元具有相同的灵敏度,因此,麦克风单元之间的灵敏度变化将会影响算法的性能。 • 这个问题对灵敏度匹配提出了较高的要求。MEMS麦克风的灵敏度公差通常为±3 dB,但是 麦克风公差可降到±1 dB,具体做法是,按照更严格的公差标准筛选麦克风(产品分级), 且/或优调麦克风ASIC,MEMS麦克风需要在封 装上开孔。声孔位置可以在封装盖上(上置声孔)或在焊 盘附近(下置声孔)。下置声孔麦克风还要求在电路板上 的麦克风安装位置开一个孔,让声音能够穿过电路板传 入麦克风声孔。麦克风是选用上置声孔还是下置声孔, 通常取决于多种因素,例如,麦克风的安装位置和厂家 的考虑。性能也是麦克风选型的一个主要因素,因为上 置声孔麦克风的性能通常低于下置声孔麦克风。但是, 高性能上置声孔麦克风的问世,例如,意法半导体的 MP34DT01,彻底颠覆了上置声孔麦克风的性能。 • 声学传感器振膜将MEMS麦克风内部分成两部分。声孔 与传感器振膜之间区域通常称为前室,振膜的另一部分 称作后室(见图5)。下置声孔麦克风通常将传感器直接置 于声孔上,这种设计有多个好处。




MEMS麦克风封装
• MEMS麦克风采用由基板和封装盖组成的空心封装,内部组件包括声学传感器 和接口ASIC。封装基板下面是焊盘,用于将麦克风焊接在电路板或挠性电路 上。在大多数MEMS麦克风的内部,MEMS声学传感器和接口ASIC是两颗独立 的芯片,为制作能够移动的结构,声学传感器的制造工艺经过优化改良,而 ASIC芯片则采用工业标准的CMOS制造工艺。ASIC通过引线键合方法连接到传 感器和基板,然后将封装盖扣在基板上并进行密封处理。
频响 MEMS麦克风频响是在不同频率时指灵敏度的变化。麦克风频响通常在1 kHz 时设为0 dB,对不同频率下 的灵敏度进行归一化处理。大多数MEMS麦克风的灵敏度都低于100Hz,在出现Helmholtz谐振后开始上 升,达到大约4kHz至6kHz之间。这就是许多MEMS麦克风将频响指定在100Hz至10kHz之间的原因。不过, 高性能的MEMS麦克风在20Hz至20kHz全音频带内拥有较平坦的频响曲线。 电源抑制比(PSR) • 麦克风电源抑制比是评价麦克风防止噪声从电源输入端进入输出端的能力指标。电源抑制比通常是 在音频带内使用通过仿真GSM蜂窝无线电产生的TDMA噪声的217Hz方波和/或扫描正弦波来指定。
前言
• 微机电系统(MEMS)技术的问世和应用让麦克风变得越 来越小,性能越来越高。MEMS麦克风具有诸多优点,例 如,高信噪比,低功耗,高灵敏度,所用微型封装兼容贴 装工艺,回流焊对MEMS麦克风的性能无任何影响,而且 温度特性非常出色。
MEMS麦克风的声学传感器
• MEMS麦克风所用的声学传感器是利用半导体生产线制作且通过高度自动化过 程封装的芯片。MEMS麦克风的制造过程是,首先,在晶圆上沉积数层不同的 物质,然后蚀去无用的物质,在基础晶片上形成一个腔室,在腔室上覆盖一 层能够运动的振膜和一个固定的背板。传感器背板具有优良的刚性,采用通 孔结构,通风性能优异;而振膜是一个很薄的实心结构,当声波引起气压变 化时,振膜将会弯曲。 振膜较薄,易弯曲。当声波引起的气压变化时,振膜会随着气压变化而弯曲; 背板较厚且多孔,当空气流过时,背板保持静止。当振膜运动时,振膜与背 板之间的电容量将会变化。ASIC器件可将这种电容变化转换成电信号。
更高信噪比 • MEMS麦克风产品性能正在不断提高。几年前,信噪比还是在55 -58 dB区间,如今,已经达到6366dB,拾音信号更加清晰,在同等清晰度下,麦克风的应用距离变得更远。自动语音识别算法取得 良好的识别率需要更高的信噪比。 更高声压级 • 很多用户需要声学过载点更高的麦克风,防止在吵闹的环境中麦克风失真。在声压级高于声学过载 点时,麦克风将会产生削波失真,导致吵闹环境的录音(例如摇滚乐)无法使用。

MEMS麦克风ASIC
• 在MEMS麦克风内,ASIC芯片利用电荷泵在麦克风振膜上放置一个固定的参考电荷。当振膜运动导 致振膜与背板之间的电容量发生变化时,ASIC测量电压变化。模拟MEMS麦克风的输出电压与瞬间 气压成正比。模拟麦克风通常只有三个引脚:输出、电源电压 (VDD)和地。虽然模拟MEMS麦克风的 接口在原理上比较简单,但是,为避免在麦克风输出与信号接收芯片的输入之间出现拾起噪音,模 拟信号要求工程师必须精心设计印刷电路板和线缆。大多数应用还需要低噪音频模数转换器,把模 拟麦克风输出转换成数字格式,用于后序处理和/或传输。 顾名思义,数字MEMS麦克风的输出为数字信号,可在高低逻辑电平之间转换。大多数数字麦克风 采用脉冲密度调制技术 (PDM),生成过采样率较高的单个比特的数据流。脉冲密度调制麦克风的脉 冲密度与瞬间空气压力级成正比。脉冲密度调制技术与D类功放所用的脉宽调制(PWM)技术相似, 不同之处是,脉宽调制技术的脉冲间隔时间是定量,使用脉宽给信号编码,而脉冲密度调制则相反, 脉宽是定量,使用脉冲间隔时间给信号编码。 除输出、地和VDD引脚外,大多数数字麦克风还有时钟输入和L/R控制输入。时钟输入用于控制Δ-Σ 调制器,将传感器的模拟信号转换成PDM数字信号。数字麦克风的典型时钟频率通常在1MHz至 3.5MHz之间。麦克风输出信号在所选时钟边沿进入适合的逻辑状态,在另半个时钟周期进入高阻抗 状态。这个两个数字麦克风的输入共用一条数据线。L/R输入确定有效数据是在哪一个时钟边沿上。 数字麦克风输出相对来说具有较高的抗噪性,但是信号完整性却是一个令人们关心的问题,因为寄 生电容以及麦克风输出与系统芯片之间的电感导致信号失真。阻抗失匹也会产生反射问题,若数字 麦克风与系统芯片间隔较大,反射现象将会导致信号失真。 虽然数字麦克风不需要编解码器,但是,脉冲密度调制输出的单比特PDM格式在大多数情况下必须 转转换成多比特脉冲代码调制(PCM)格式。很多编解码器和系统芯片都有PDM输入,其内部滤波器 负责将PDM数据转换成PCM格式。微控制器也使用同步串行接口捕获数字麦克风的PDM数据流,然 后通过软件滤波器将其转换成PDM格式。
声波聚束 • 两个以上的麦克风还用于执行声波聚束功能,处理麦克风阵列的输出信号,提高沿某一个方 向的灵敏度,同时抑制其它方向的声音。多数麦克风提供全向输出,即所有方向的灵敏度相 同,但是,在多数情况下,设计人员需要将灵敏度聚焦于某一个方向,并降低其它方向的灵 敏度,以提高音质的清晰度。声波聚束利用不同方向的声音的相位差,将麦克风的灵敏度聚 焦于某一个方向。声波聚束还能用于确定音源方位。声波聚束特别适用于麦克风与讲话人距 离较远的应用场合,例如,居室、会议室、车内。其它应用情景包括在吵闹的环境内使用麦 克风或视频会议。
降低环境噪声 • 很多智能手机和平板电脑为实现录像等功能,都开始安装多个麦克风。降低环境噪声是多麦 克风组合的另一种常见应用。很多智能手机在顶部或背面装有一支麦克风,用于检测周围环 境噪声,然后从话筒输出中减去环境噪声成份,从而提高音频信号的纯净度。以录像为主要 用途的麦克风经常用于降低环境噪声。




大多数MEMS麦克风的灵敏度随频率升高而提高,这是声孔的空气与麦克风前室的空气相互 作用的结果。这种交互作用产生了Helmholtz谐振,这与吹瓶产生的声音的现象相同。像吹瓶 子一样,空气容积越小,谐振频率越高;反之,空气容积越大,谐振频率越低。下置声孔麦 克风将声学传感器直接置于声孔之上,这样设计导致前室变小,从而导致Helmholtz谐振的中 心频率提高。因为Helmholtz谐振通常位于音频带的高频部分,所以提高的谐振频率使频响变 得更加平坦。 将声学传感器直接置于声孔上还有助于产生更大的后室。后室空气容积变大后,声波更容易 推动振膜运动,从而提高麦克风的灵敏度和信噪比。后室空气容积变大还能提高麦克风的低 频响应。上置声孔麦克风的结构与下置声孔麦克风相似,都是将声学传感器和接口芯片安装 在基板上,采用空心的密闭封装。这两种麦克风的唯一区别是,上置声孔的麦克风是将传声 孔置于封装盖上,而下置声孔麦克风是将传声孔放在基板上。因此,将传声孔从基板移到封 装盖后,以前下置声孔麦克风的前室变成了上置声孔麦克风的后室,而后室则变成了前室。 传统上置声孔麦克风的后室空气容积较小,推动振膜运动的难度增加,这破坏了声学传感器 的灵敏度,导致信噪比降低。此外,在声孔与振膜之间的前室空气容积变大后,谐振频率将 会降低,从而影响麦克风的高频响应。综上所述,不论是低频还是高频,上置声孔麦克风的 信噪比和频响两项指标都相对较差,性能不如下置声孔麦克风出色。 而意法半导体的MP34DT01上置数字MEMS麦克风却是一个例外。意法半导体独有的封装技术 将MEMS传感器和接口芯片安装在MP34DT01封装盖的内侧,将传感器直接置于声孔的下面 (见图7 和8)。这种设计方法可获得小前室和大后室,让MP34DT01取得与下置声孔麦克风 MP34DB01相同的性能。
更小封装 • 随着消费者对轻薄产品的需求日益提高,MEMS麦克风正在不断缩小封装。早期的MEMS麦克风封装 尺寸为3.76mm x 4.72mm x 1.25mm,如今,3mm x 4mm x 1mm和2.95mm x 3.76mm x 1mm是常见的 封装尺寸。更新的MEMS麦克风为2.5mm x 3.35mm x 0.98mm和 2.65mm x 3.5mm x 0.98mm。这种小 型化趋势将会持续下去,不过,随着封装缩小,后室面积也会随之缩减,音质提升甚至保持现有水 平都会变得很难。
MEMS麦克风性能评测 • 帕斯卡(Pa)是压力的线性国际单位制,表示单位面积上的压力(1Pa = 1N/m2)。不过,对数单位制更适用研究声压级 (SPL),因为人耳动态范围大,能够察觉从最低20微帕到高达20帕的声压。因此,麦克风的关键性能指标通常用分 贝(dB)表示,0dB SPL等于20µPa,1 Pa等于94dB SPL。下面的参数通常是最重要的麦克风性能指标: • 信噪比(SNR) • 信噪比(SNR)通常是最重要的麦克风性能指标。信噪比是麦克风的灵敏度与背景噪声的差值,通常用dB表示。现有 MEMS麦克风的信噪比是在56dB至66dB之间。 • 灵敏度 • 麦克风灵敏度是用于测量麦克风对已知声压级的响应能力。灵敏度通常在94dB 声压级(1 Pa)条件下使用1kHz频率进 行测量的结果。模拟麦克风的灵敏度通常表示为相对于1V RMS信号的分贝数(dBV),而数字麦克风的灵敏度通常表示 为相对于麦克风满量程输出的分贝数(dB FS)。 • 背景噪声 • 麦克风的背景噪声又称本底噪声,是指在较安静的环境内,麦克风输出中的噪声量。声学传感器和接口ASIC都会向 麦克风输出信号注入噪声。传感器噪声是空气分子随机布朗运动产生的,而ASIC的噪声源则是前置放大器,数字麦 克风ASIC的噪声源是Δ-Σ调制器。应在全音频带内测量背景噪声,而A加权滤波器用于更精确地测量人耳能够听到的 噪声级。 • 背景噪声不总是出现在麦克风数据表内,但是,只要用灵敏度减去信噪比即可算出背景噪声,数值单位为dBV或dB FS。从测量灵敏度(通常是94 dB SPL)的声压级中减去信噪比,可以算出用等效输入噪声表示的背景噪声,单位为 dB SPL。 • 失真(THD) • 失真是测量麦克风拾音精度的指标。失真的条件通常是在94 dB – 100 dB SPL范围内,表示在正常声压级条件下音频 信号的质量。 • 声学过载点(AOP) • 在麦克风声压级开始接近声学过载点之前,失真通常不会随着声压级升高而大幅增加。但是,当达到过载点时,失 真开始快速升高。麦克风声学过载点通常是指失真达到10%时的声压级。
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