铝靶材
铝靶技术规格
铝靶技术规格
铝靶的纯度以及各种特性指标非常重要。
比如超高纯度的铝铸锭中，钠（Na）、钾（K）和锂（Li）的含量不超过0.2ppm，铀（U）和钍（Th）的含量不超过1ppb，其他杂质元素的总量不超过5ppm。
气体元素如碳（C）、氮（N）、氧（O）、氢（H2）、硫（S）等需满足现有电子国标的要求。
对于大尺寸（直径>180mm）的铸锭，其铸造缺陷率应小于或等于0.2%。
铝靶的长度应大于或等于1700mm，宽度应大于或等于1200mm。
铝靶的晶粒尺寸应小于或等于300μm，晶粒取向应以（200）面织构为主。
此外，铝靶的加工精度应达到尺寸公差±0.2mm，表面粗糙度为0.8μm。
与背板的焊接结合率应大于或等于98%，局部最大缺陷尺寸应小于2%。
最后，靶材的表面清洁度需要符合电子级的要求。
如果需要了解更多信息，建议咨询相关专家或查阅专业书籍。
氧化锌铝靶材-最新国标
氧化锌铝靶材1范围本文件规定了氧化锌铝靶材的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输与贮存、随行文件和订货单内容。
本文件适用于由ZnO 和Al 2O 3按照一定比例混合的氧化锌铝靶材（以下简称AZO），用于薄膜太阳能电池镀膜和建筑节能玻璃镀膜。
2规范性引用文件下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。
其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
GB/T 8411.2陶瓷和玻璃绝原材料第2部分：试验方法。
GB/T 8170数值修约规则与极限数值的表示和判断。
GB/T 6394金属平均晶粒尺寸测定方法。
GB/T 6569精细陶瓷弯曲强度试验方法。
GB/T 16535精细陶瓷线热膨胀系数试验方法顶杆法。
SL 499钻孔应变法测量残余应力的标准测试方法。
3术语和定义下列术语和定义适用于本标准。
3.1表观密度density每单位体积物质的质量。
3.2相对密度relative densityAZO 表观密度与理论密度的比值。
AZO 质量百分比ZnO :Al 2O 3=98:2时，AZO 理论密度以5.57g/cm 3计算。
AZO 质量百分比ZnO :Al 2O 3=98.85:1.15时，AZO 理论密度以5.59g/cm 3计算。
4分类AZO 分为平面靶和管状靶，按ZnO 和Al 2O 3的比例分为两个个牌号：AZO-1、AZO-25技术要求5.1化学成分5.1.1主要成分5.1.1.1牌号AZO-1的质量比ZnO :Al 2O 3=98:2，Al 2O 3的偏差为±0.1。
5.1.1.2牌号AZO-2的质量比ZnO :Al 2O 3=98.85:1.15，Al 2O 3的偏差为±0.05。
5.1.2杂质成分AZO 的杂质成分应符合表1的规定。
表1AZO 杂质成分杂质含量，不大于（×10-4）%Fe Cu Pb Cd Mn Cr Ni Na Si Ca 201020105101020100205.1.3其他需方如对AZO 的化学成分有特殊要求时，由供需双方商定。
铝靶材用途
铝靶材用途
铝靶材是指用于制备薄膜或化合物的物质，通常由高纯度铝金属制成。
它们在物理学、光学、电子学和其他工业领域有广泛的应用，主要用于以下方面：
1.薄膜制备：铝靶材可以用于制备高质量的薄膜，这些薄膜可以在光学、电子和其他工业领域中使用。
2.航空航天：航空航天和航空航天应用需要轻松、高强度和抗腐蚀性能良好的材料。
铝靶材可以用于制备这些材料。
3.能源产业：铝靶材还可以用于制备太阳能电池板、燃料电池和锂离子电池等电池材料。
4.医疗行业：铝靶材可用于制备医疗设备、医用电子元件和放射性核素等物质，如PET扫描器，这些元件在医疗诊断和治疗方面具有重要作用。
总之，铝靶材在制备薄膜、制备材料和制备元件方面具有广泛的应用，这些应用涵盖了许多不同的工业领域。
一种氧化铝靶材及其制备方法与流程
一种氧化铝靶材及其制备方法与流程氧化铝是一种重要的高温材料，具有高强度、高硬度、高耐磨性、高抗腐蚀性等优异性能，被广泛应用于制造高温结构材料、电子元件、高温陶瓷、化学仪器等领域。
氧化铝靶材作为电子薄膜行业中的一种重要原材料，主要用于制备薄膜材料和涂层材料，逐渐成为各行各业的必需品。
本文将介绍一种氧化铝靶材及其制备方法与流程。
一、氧化铝靶材的特点和应用氧化铝靶材主要由氧化铝、高纯度金属铝和添加剂组成。
氧化铝是主要组分，能够提供较高的离子源通量、良好的膜品质、高的化学稳定性和高热稳定性。
同时，添加少量的其它元素，如锆、钛、钽等，可以显著提高氧化铝膜的质量和性能。
氧化铝靶材具有以下特点：1.高化学纯度，能够更好地满足电子工业的要求；2.低杂质含量，保证了膜层的纯度和稳定性；3.良好的膜形成能力和稳定性，有利于薄膜和涂层的均匀性和稳定性；4.优异的化学性质和热稳定性，能够在高温和恶劣的环境下稳定工作。
氧化铝靶材主要应用于以下领域：1.光学薄膜：用于制备高折射率的光学薄膜；2.电子薄膜：用于制备金属铝、钨、钼等金属材料的电子薄膜；3.陶瓷工业：用于制备高温陶瓷材料和瓷砖；4.化学仪器：用于制造高温化学反应器和高温储罐等化学仪器。
二、氧化铝靶材的制备方法氧化铝靶材的制备方法可以分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）两种：1. 物理气相沉积（PVD）物理气相沉积是将纯净的气体物理上沉积在材料表面，经过集束照射、蒸发、沉积等过程，产生高质量且良好品质的薄膜。
其中，镀膜材料被置于真空室内，在一定条件下通入气体或对材料进行激发，将材料表面的原子排布“强制”改变到其最稳定的状态，形成薄膜。
PVD方法的优点是：薄膜制备速度快、温度低、成分均匀、厚度可控等。
PVD方法的具体步骤如下：1.材料准备：将氧化铝和高纯度金属铝粉末按照一定比例混合，并将添加剂如锆、钛、钽等添加至混合粉末中，混合均匀后进行筛分。
然后将混合后的粉末压成块状或圆柱状的坯体；2.坯体加工：将压缩成坯体的混合粉末进行切割、研磨、抛光等加工，使其达到所需尺寸的要求。
2023年铝钕合金(AL-ND)靶材行业市场发展现状
2023年铝钕合金（AL-ND）靶材行业市场发展现状铝钕合金（AL-ND）靶材是一种在半导体、太阳能、光学和磁性材料等领域应用广泛的材料，与纯铝靶材相比，它具有更好的热导性、更高的蒸发速率和更长的使用寿命，因此更受制造商的欢迎。
市场需求趋势随着半导体和光电子行业的不断发展，铝钕合金靶材的需求量也在逐年增长。
尤其是新兴领域的快速发展，如物联网、智能家居、人工智能等，对半导体的需求快速增长，推动了铝钕合金靶材市场的持续发展。
市场主要应用铝钕合金靶材的主要应用领域包括：1.半导体工业 - 铝钕合金靶材是制造各种芯片和存储器的核心材料，如存储芯片、模拟器件、逻辑芯片和微处理器等。
2.太阳能电池板 - 铝钕合金靶材可以用于生产太阳能电池板，提高光伏转换率。
3.光学领域 - 铝钕合金靶材可以制造光学镀膜、光学玻璃和单晶体材料。
4.磁性材料 - 铝钕合金靶材可以用于制造高性能磁性材料，如硬磁盘驱动器和铁氧体材料。
市场竞争下的发展趋势由于铝钕合金靶材的价格相对较高，因此在市场上出现了大量的竞争品牌。
目前，市场上主要的品牌包括美国的Kurt J. Lesker和Tosoh、日本的Sumitomo Metal Mining和ULVAC和韩国的KINIK。
在竞争中，品牌不断通过技术升级和创新来增加市场份额。
例如，SUMCO光刻互连材料（大阪SUMITOMO刻蚀材料）公司近年来推出的铝钕合金靶材在纯度、制造工艺和磁性等方面都有所改进。
另外，市场上的铝钕合金靶材制造商还在积极研究开发新的材料型号，以满足不断变化的市场需求，开发高性能、低成本的铝钕合金靶材。
市场前景展望随着半导体和光电子领域的不断进步和发展，铝钕合金靶材将继续受到市场的青睐。
预计未来几年，该市场将保持稳定增长。
同时，伴随半导体领域中新型制造技术和新材料的涌现，铝钕合金靶材市场也将诞生更多新的机会和挑战。
2024年铝钕合金(AL-ND)靶材市场前景分析
2024年铝钕合金（AL-ND）靶材市场前景分析1. 简介铝钕合金（AL-ND）靶材是一种广泛应用于电子、光学、涂层等行业的重要材料。
本文将对铝钕合金靶材市场的前景进行分析，探讨其发展趋势和市场潜力。
2. 市场需求分析铝钕合金靶材由于其具有优异的物理和化学性能，在多个领域均有需求。
以下是铝钕合金靶材主要应用领域的市场需求分析：2.1 电子行业在电子行业中，铝钕合金靶材主要用于制备薄膜材料、封装材料和半导体材料。
随着电子产品市场的不断扩大，对于高性能金属材料的需求也在增加，这为铝钕合金靶材市场带来了巨大的潜力。
2.2 光学行业铝钕合金靶材具有优异的光学性能，如优良的反射性能和高透过率，广泛应用于光学薄膜涂层、光学器件和光学反射镜等方面。
随着光学行业的快速发展，对铝钕合金靶材的需求也呈现出增长的趋势。
2.3 涂层行业铝钕合金靶材在涂层行业中被广泛应用，主要用于制备具有高硬度、高耐磨性和高耐腐蚀性的涂层材料。
由于对涂层材料性能要求的提高，铝钕合金靶材市场的需求也在逐渐增加。
3. 市场发展趋势3.1 新材料需求的增长随着科技的不断进步和应用领域的不断扩大，对于新材料的需求也在不断增加。
铝钕合金靶材作为一种新型的金属材料，具有良好的性能和应用前景，因此其市场前景十分广阔。
3.2 技术创新的推动随着制备材料技术的不断进步，铝钕合金靶材的生产工艺也得到了改进和优化。
新的制备方法和工艺使得铝钕合金靶材的成本降低，同时也提高了其性能和稳定性。
这将进一步推动铝钕合金靶材市场的发展。
3.3 国家政策的支持在提倡绿色环保和高新技术发展的背景下，铝钕合金靶材作为一种绿色环保的材料受到了政府的支持和重视。
政府在资金、政策和市场方面的支持，将为铝钕合金靶材市场的发展提供有力支撑。
4. 市场竞争现状目前，国内外市场上已有一些企业开始涉足铝钕合金靶材领域，并推出相关产品。
这些企业通过技术创新、质量控制和市场拓展等手段，竞争激烈。
高纯铝靶材市场分析报告
高纯铝靶材市场分析报告1.引言1.1 概述概述：高纯铝靶材是一种用于制备薄膜材料的重要材料，具有纯度高、热导率高、化学稳定等特点，被广泛应用于光电子、显示器件、太阳能电池等领域。
本文将对高纯铝靶材市场进行全面分析，包括市场现状、发展趋势、市场机遇与挑战等方面，旨在帮助读者深入了解高纯铝靶材市场，为相关行业提供参考和指导。
1.2 文章结构文章结构部分的内容可以包括以下信息：本报告分为引言、正文和结论三部分。
引言部分主要概述高纯铝靶材市场分析报告的背景和意义，以及总结本篇报告的目的。
正文部分包括高纯铝靶材的定义与特点、市场现状分析以及市场发展趋势预测。
结论部分将分析市场机遇与挑战，提出建议与展望，并对整个报告进行总结。
通过以上结构的安排，本报告将全面展现高纯铝靶材市场的分析情况，为相关行业提供参考和指导。
1.3 目的目的部分的内容：本报告旨在对高纯铝靶材市场进行全面分析，探讨其定义、特点、市场现状及发展趋势，并提出市场机遇与挑战，以及针对市场发展的建议与展望。
通过对市场进行深入研究和分析，旨在为相关行业提供有益的参考和决策依据，促进高纯铝靶材市场的健康发展。
文章1.4 总结部分的内容可以包括对整篇文章的主要内容进行概括和总结，强调高纯铝靶材市场的重要性和发展前景。
同时，可以提出对于未来市场发展的展望和建议，以及对市场机遇与挑战的分析。
这部分内容应该简洁明了，让读者对整篇文章的主要观点有一个清晰的了解。
2.正文2.1 高纯铝靶材的定义与特点2.1.1 定义高纯铝靶材是一种用于物理蒸发沉积和磁控溅射制备薄膜的重要材料，其纯度通常达到99.999以上。
它是一种用途广泛的材料，可应用于光学涂层、导电膜、防腐蚀涂层等领域。
2.1.2 特点高纯铝靶材具有以下特点：- 高纯度：其纯度通常在99.999以上，能够有效保证薄膜制备的质量和性能。
- 耐腐蚀性：高纯铝靶材具有较好的耐腐蚀性能，能够在复杂的工艺环境下稳定工作。
平面锌铝靶
平面锌铝靶平面锌铝靶是一种常用的材料，具有广泛的应用领域。
本文将从材料特性、制备方法、应用领域等方面对平面锌铝靶进行介绍。
一、材料特性平面锌铝靶由锌和铝两种元素组成，其化学式为Zn-Al。
该材料具有以下特性：1. 高熔点：平面锌铝靶的熔点较高，可达到约420℃，使其能够在高温环境下稳定工作。
2. 良好的导电性：平面锌铝靶具有良好的电导性能，适用于电子器件的制备。
3. 耐腐蚀性：平面锌铝靶对于大多数酸、碱等腐蚀性物质具有较高的抗腐蚀性能。
4. 良好的热稳定性：平面锌铝靶在高温环境下能够保持稳定性能，不易发生相变或氧化。
二、制备方法平面锌铝靶的制备方法主要有物理气相沉积法和磁控溅射法。
其中，磁控溅射法是较常用的制备方法，其步骤如下：1. 准备锌和铝的纯度较高的靶材。
2. 将靶材放置在真空室内的靶枪上。
3. 通过施加外加电场，使靶材释放离子。
4. 离子在真空室内被加热并加速，最终沉积在基底材料上。
三、应用领域平面锌铝靶由于其特殊的材料性质，被广泛应用于以下领域：1. 薄膜制备：平面锌铝靶可用于薄膜的制备，如光学薄膜、防腐蚀薄膜等。
通过磁控溅射等技术，可在基底材料上沉积出具有特定功能的薄膜。
2. 电子器件制造：平面锌铝靶的导电性能优良，可用于电子器件的制造，如集成电路、太阳能电池等。
3. 表面改性：平面锌铝靶可通过溅射技术在材料表面形成一层薄膜，从而改变其表面性质，如增加硬度、改善耐蚀性等。
4. 光学应用：平面锌铝靶的高熔点和良好的光学性能使其在光学器件制备领域具有重要应用，如制备光学镀膜等。
总结：平面锌铝靶是一种具有高熔点、良好导电性、耐腐蚀性和热稳定性的材料。
通过磁控溅射等制备方法，可以制备出具有特定功能的薄膜。
广泛应用于薄膜制备、电子器件制造、表面改性和光学应用等领域。
平面锌铝靶的特性和应用使其成为材料科学和工程领域的重要研究对象。
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铝
概况（Survey）：
铝（英语：Aluminium / Aluminum）是化学元素。
化学符号是Al。
原子序数是13。
性状（Character）：
铝有特殊化学、物理特性，是当今工业常用金属之一，不仅重量轻，质地坚，而且具有良好延展性、导电性、导热性、耐热性和耐核辐射性，是国家经济发展的重要基础原材料。
铝在空气中会迅速形成一层致密的氧化铝薄膜，阻止腐蚀的继续进行。
物理性质（Physical property）：
状态：固态
密度（接近室温）：2.70 g²cm−3
熔点时液体密度：2.375 g²cm−3
熔点：933.47 K，660.32 °C，1220.58 °F 沸点：2792 K，2519 °C，4566 °F
熔化热：10.71 kJ²mol−1
汽化热：294.0 kJ²mol−1
比热容：24.200 J²mol−1²K−1原子性质（Atomic properties）：
氧化态：3, 2, 1（两性氧化物）
电负性：1.61（鲍林标度）
原子半径：143 pm
共价半径：121±4 pm
范德华半径：184 pm
铝靶
名称规格尺寸纯度
铝丝（Al）Φ0.2—1.0mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.9995+%
99.9999% 99.9999+%
Φ1.0—3.0mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.9995+%
99.9999% 99.9999+%
Φ3.0—6.0mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.9995+%
99.9999% 99.9999+%
铝片（Al）（50*50*0.2-1.5mm）99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
（100*100*0.2-1.5mm）99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
（200*250*0.2-1.5mm）99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
铝棒（Al）Φ（10-152.4）*1000mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ25.4*1000mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ50.8*500mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ76.2*200mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ101.6*200mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ127*200mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ152.4*200mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
铝粒（Al）1-10mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ2*10mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ3*3mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ3*10mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ6*6mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
Φ6*12mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
铝块（Al）10-100mm 99.9% 99.99% 99.999% 99.999+%
99.9999% 99.9999+%
铝粉（Al）0.5-75um 99.5% 99.9% 99.95% 99.99%。