Topometrix AFM procedure

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表面粗糙度的国家标准主要术语及定义

表面粗糙度的国家标准主要术语及定义

表面粗糙度的国家标准主要术语及定义1)表面粗糙度取样长度取样长度是用于判断和测量表面粗糙度时所规定的一段基准线长度,它在轮廓总的走向上取样。

(2)表面粗糙度评定长度Ln由于加工表面有着不同程度的不均匀性,为了充分合理地反映某一表面的粗糙度特性,规定在评定时所必须的一段表面长度,它包括一个或数个取样长度,称为评定长度Ln。

(3)表面粗糙度轮廓中线m轮廓中线m是评定表面粗糙度数值的基准线。

评定参数及数值国家规定表面粗糙度的参数由高度参数、间距参数和综合参数组成。

表面粗糙度高度参数共有三个:(1)轮廓算术平均偏差Ra在取样长度l内,轮廓偏距绝对值的算术平均值。

(2)微观不平度十点高度Rz在取样长度内最大的轮廓峰高的平均值与五个最大的轮廓谷深的平均值之和。

(3)轮廓最大高度Ry在取样长度内,轮廓峰顶线和轮廓谷底线之间的距离。

表面粗糙度间距参数共有两个:(4)轮廓单峰平均间距S两相邻轮廓单峰的最高点在中线上的投影长度Si,称为轮廓单峰间距,在取样长度内,轮廓单峰间距的平均值,就是轮廓单峰平均间距。

(5)轮廓微观不平度的平均间距Sm含有一个轮廓峰和相邻轮廓谷的一段中线长度Sm i,称轮廓微观不平间距。

表面粗糙度综合参数(6)轮廓支承长度率t p轮廓支承长度率就是轮廓支承长度n p与取样长度l之比。

表面粗糙度标准的提出和发展与工业生产技术的发展密切相关,它经历了由定性评定到定量评定两个阶段。

表面粗糙度对机器零件表面性能的影响从1918年开始首先受到注意,在飞机和飞机发动机设计中,由于要求用最少材料达到最大的强度,人们开始对加工表面的刀痕和刮痕对疲劳强度的影响加以研究。

但由于测量困难,当时没有定量数值上的评定要求,只是根据目测感觉来确定。

在20世纪20~30年代,世界上很多工业国家广泛采用三角符号(??)的组合来表示不同精度的加工表面。

为研究表面粗糙度对零件性能的影响和度量表面微观不平度的需要,从20年代末到30年代,德国、美国和英国等国的一些专家设计制作了轮廓记录仪、轮廓仪,同时也产生出了光切式显微镜和干涉显微镜等用光学方法来测量表面微观不平度的仪器,给从数值上定量评定表面粗糙度创造了条件。

一种分子印迹聚合物模板分子洗脱的方法

一种分子印迹聚合物模板分子洗脱的方法

一种分子印迹聚合物模板分子洗脱的方法
分子印迹聚合物模板洗脱法是一种重要的分离技术,它主要用于
从混合物中分离特定类型的分子。

它有效地结合了分子印迹技术和聚
合物洗脱技术。

分子印迹聚合物模板洗脱法是基于“环回”概念,即精选的特定
分子模板可以通过与目标分子的非特异性相互作用,在聚合物胶体中
形成“环”,用以把部分特定的分子存留,从而实现其与其余分子的
分离。

我们可以在聚合物胶体中制备一个含有分子印迹分子的“模板”空间,其可以结合和与放大特定分子的各种非特异性亲和作用以及依
赖于模板洗脱的特性,用来分离亲和的分子类型。

此外,该技术还可
以很容易地在模板和分子进行换档,用以将新的对象分子与旧的模板
成功分离,实现延续的应用。

分子印迹聚合物模板洗脱法通过使用分子印迹模板在大量混合物
中选择性捕获细胞底物,实现特异性的分离。

这些聚合物具有良好的
适应性和条件可控性。

它们还具有高选择性、高分级精度、高分离效率、低消耗以及可重复使用等显著特点。

同时,因为模板的非特异性
作用,它的操作程序也相对简单,即便是在比较复杂的混合物中也能
获得较好的效果。

总的来说,分子印迹聚合物模板洗脱技术是一种特殊的分离技术,它可以实现从混合物中选择性捕获和分离出指定的分子,值得我们深
入研究和发展。

afm测试流程

afm测试流程

afm测试流程AFM测试流程Atomic Force Microscopy(AFM)是一种高分辨率的表面形态分析技术,可用于获取材料表面的三维形态信息。

在进行AFM测试之前,需要进行一系列的准备工作。

下面将详细介绍AFM测试的流程。

一、样品准备1. 样品制备根据实验要求,制备需要测试的样品。

样品可以是各种材料,如金属、半导体、聚合物等。

2. 样品清洗使用去离子水和乙醇等溶液对样品进行清洗,以去除表面污染物和灰尘等杂质。

3. 样品固定将样品固定在AFM扫描台上,并保持平稳不动。

二、仪器设置1. 扫描参数设置根据实验要求设置扫描参数,包括扫描速度、扫描范围和采集点数等。

2. 选择探针根据需要选择合适的探针,并安装在探头支架上。

3. 探头校准使用标准校准样品对探头进行校准,确保探针能够正常工作并获得正确的数据。

三、开始测试1. 执行预扫描在进行正式扫描之前,需要进行预扫描以确定样品的表面形貌和位置。

2. 开始扫描设置好扫描参数后,开始对样品进行扫描。

在扫描过程中,可以观察到样品表面的三维形态信息,并记录下来。

3. 数据处理将获得的数据导入相应的软件中进行处理和分析。

可以对数据进行滤波、平滑、剖面分析等操作,以获取更加精确的结果。

四、结束测试1. 停止扫描当测试完成后,停止扫描并将探针移开。

2. 拆卸探头将探头从支架上拆卸下来,并清洗干净。

3. 关闭仪器关闭AFM仪器并做好相关记录和存档工作。

总结AFM测试是一种高分辨率的表面形态分析技术,在材料科学、纳米技术等领域有着广泛的应用。

在进行AFM测试之前,需要进行充分的样品准备和仪器设置,并严格按照流程操作。

通过正确地执行AFM测试流程,可以获得高质量的数据和精确的结果。

afm的制样方法

afm的制样方法

afm的制样方法AFM(Atomic Force Microscopy)是一种常用的制样方法,它可以用来研究材料的表面形貌和性质。

本文将介绍AFM的制样方法及其应用。

AFM的制样方法包括样品准备、扫描和图像分析三个步骤。

在样品准备阶段,需要将待测样品固定在AFM的样品台上。

通常,样品可以直接固定在样品台上,也可以通过粘贴剂或夹具固定在样品台上。

固定后,需要使用显微镜等工具来观察样品的位置和形貌,确保样品固定正确。

接下来是扫描步骤。

AFM通过探针对样品表面进行扫描,探针可以是金属或半导体材料制成的。

在扫描之前,需要根据不同的实验目的选择合适的探针,并将其安装到AFM的扫描头上。

在扫描过程中,扫描头会沿着样品表面移动,并通过探针对样品表面进行力学或电学的测量。

测量的结果会通过探针与样品表面之间的相互作用力来反映,这些力可以是原子间的吸引力或排斥力,也可以是电荷间的相互作用力。

通过扫描,可以获取到样品表面的形貌和性质信息。

最后是图像分析步骤。

在扫描完成后,需要对得到的图像进行分析和处理。

首先,可以对图像进行滤波处理,去除噪声和干扰。

然后,可以使用图像处理软件进行图像增强和分析。

例如,可以通过测量图像中的高度差来确定样品表面的粗糙度,或者通过测量图像中的力学变形来研究样品的弹性性质。

此外,还可以对图像进行三维重建,以获得更加直观的样品形貌信息。

AFM的制样方法在各个领域都有广泛的应用。

在材料科学领域,可以利用AFM来研究材料的表面形貌、纳米结构和力学性质。

在生物医学领域,AFM可以用来观察和测量生物分子、细胞和组织的形貌和力学性质。

在纳米科技领域,AFM可以用来制备纳米结构和纳米器件,并研究其性质和应用。

此外,AFM还可以用于纳米材料的质量检测、纳米加工和纳米尺度下的力学测试等方面。

AFM的制样方法是一种重要的表面形貌和性质研究工具,可以广泛应用于材料科学、生物医学和纳米科技等领域。

通过合理的样品准备、精确的扫描和准确的图像分析,可以获得高质量的样品表面形貌和性质信息,为科学研究和工程应用提供有力支持。

jp1

jp1

用扫描隧道显微镜和隧道谱标定Keggin型杂多酸混合阵列的位置把Keggin型杂多酸混合阵列放置在高定向热解石墨表面,利用扫描隧道显微镜(STM)和隧道谱(TS)研究,使我们能够测试这种技术在辨别结构相似分子上的能力。

为了得到扫描隧道显微镜的测量结果,使杂多酸水溶液的等摩尔混合物沉积在石墨表面。

对Keggin型杂多酸,磷钨酸和磷钼酸阴离子具有相同的净阴离子电荷和补偿阳离子(质子),石墨表面上形成一个类似其纯组分形成有序的二维阵列。

阵列的周期性可以与纯的Keggin型杂多酸的形状和尺寸吻合的很好。

从混合阵列扫描隧道显微镜的图像上很容易看出来,它的表面形貌呈现出一些地方相对于别的更亮;相对明亮的比例合意的就好像设计好的一样。

它们在表面上的有序阵列分配似乎是随机的。

隧道谱的测量结果显示明亮的波纹是[PW12O40] 3 -阴离子和不那么明亮的波纹是[PMo12O40] 3 -阴离子。

它成功的表明,从几何结构和尺寸上难以区分的杂多酸,在使用扫描隧道显微镜的情况下,可以通过它们在空气中不同的电子特性来区分。

简介尽管扫描隧道显微镜(STM)的主要用途之一仍然是表面结构解析,1-3但是这种技术在现实空间原子水平上同时解决位置和化学性质的能力,这种能力使得它非常适合研究表面化学过程。

我们一直对化学性质,键的几何特征,吸附位,化学吸附物种的包覆很感兴趣。

4-7化学吸附物种包括反应物,产物和一些反应的中间体。

原则上,关于水平底面表面的分子取向应该和化学吸附物种一样通过STM观察。

这些资料可以反过来有助于阐明反应机制,也许会引导新的表面设计,尤其是固体催化剂,以便进行反应的选择性。

以我们对化学反应的途径和机理的理解,在现实空间的化学反应的表面成像上迈出的重要的一步是通过扫描隧道显微镜对两种不同的吸附物种的成像以及辨别它们的能力。

当不同物种在尺寸上有明显差异的时候这个任务变得容易一些,但是当它们的结构和尺寸都很相似的时候这个任务变得很困难。

水平表面粗糙度检测办法(初稿)2

水平表面粗糙度检测办法(初稿)2

水平表面粗糙度检测办法摘要表面粗糙度是指零件表面上具有较小间距和微小峰谷所组成的微观几何形状特征。

它主要是由机械加工形成的(表面粗糙度、表面波纹度、表面缺陷、表面几何形状),直接影响机械零件的配合性质,表面的耐磨性、抗腐蚀性、疲劳强度、密封性、导热性及使用寿命。

本文对水平表面粗糙度检测办法进行了介绍。

首先,对表面粗糙度的概念,产生原因,以及衡量粗糙度的一些参数进行了说明,并且列举了表面粗糙度的检测程序。

文章着重介绍表面粗糙度的检测方法,列举了样板比较法,光切法,干涉显微镜法,光学触针法,并对每种方法的检测原理,检测步骤及结果分析进行了详细的论述。

文章最后介绍了样板比较法在检测铸铁表面粗糙度的应用以及光切法在动态表面粗糙度检测中的应用。

关键词水平表面粗糙度;样板比较法;光切法;干涉显微镜法;光学触针法The surface roughness detect methodAbstractSurface roughness is the distance between the surface and has a smaller peak which consists of tiny micro-geometry characteristics. It is mainly formed by machining (surface roughness, surface waviness, surface defects, surface geometry), a direct impact on the nature of mechanical components with the surface of the wear resistance, corrosion resistance, fatigue strength, tightness,thermal conductivity and useful life.This paper level surface roughness to detect method were introduced. First of all, on the surface roughness, the concept of causes, and how to measure roughness some parameters were explained, and enumerates the surface roughness of test procedures. This article mainly surface roughness detection methods, lists the example comparison, light intercept method, interference microscope method, optical touch acupuncture, and the detection principle of each method, detection procedure and the results are discussed in detail. Finally, the article introduces the model comparison method in detecting cast iron surface roughness of application and light cutting methods in dynamic surface roughness detection application.Keywords Level surface roughnes; Example comparison;Light intercept methodInterference microscope method;Optical touch stitches目录摘要 (I)ABSTRACT (II)第一章绪论 (1)1.1本文的主要研究目的及意义 (1)1.2表面粗糙度检测办法国内外研究现状 (1)1.3本文的主要内容 (2)第二章粗糙度简介 (3)2.1表面粗糙度概念 (3)2.2表面粗糙度产生原因 (3)2.3粗糙度基本参数 (3)2.3.1最大粗糙度Ry (3)2.3.2十点平均粗糙度(RzJIS) (3)2.3.3算术平均粗糙度Ra (4)2.4表面粗糙度的检测程序 (5)第三章水平表面粗糙度检测办法 (6)3.1样板比较法 (6)3.1.1样板比较法简介 (6)3.1.2样块的分类及参数值 (8)3.1.3样块的制造方法 (8)3.1.4样块的表面特征 (8)3.2光切法 (8)3.2.1物镜的选择、安装 (9)3.2.2光带的出现、调整 (9)3.2.3仪器的调整与校验 (10)3.2.4工件的安置与固定 (10)3.2.5正确的调焦与查验 (11)3.2.6合理的定度与取值 (11)3.2.7准确的读数与计算 (12)3.3干涉显微镜法 (12)3.4光学触针法 (15)3.4.1光学触针法简介 (15)3.4.2 滤波 (16)3.4.3轮廓仪产品简介 (17)第四章水平表面粗糙度检测的应用 (19)4.1样板比较法在检测铸造表面粗糙度中应用 (19)4.1.1范围 (19)4.1.2表面特征 (19)4.1.3分类及表面粗糙度参数 (19)4.1.4结构与尺寸 (19)4.2光切法在动态表面粗糙度检测中的应用 (20)4.2.1系统原理及构成 (20)4.2.2系统检测精度的对比实验 (22)4.2.3动态检测实验 (22)4.2.4振动对动态检测影响的实验 (23)4.2.5 速度对动态检测影响的实验 (23)结论 (26)参考文献 (27)致谢 (28)第一章绪论1.1本文的主要研究目的及意义随着现代化工业生产的不断发展,对产品的质量提出了越来越高的要求.如既要求产品具有长的和没有麻烦的使用寿命,又要利于能源的再利用和环境保护,保证产品的三个阶段.制造—使用—垃圾/再循环,协调发展.各制造商竞相生产具有优势性的零缺陷产品,以增强其市场的竞争能力,对零件表面的物理和几何性能提出了非常苛刻的要求.这就使仪器制造商生产性能更好、更全面,精度更高的检测设备。

afm的原理及应用

AFM的原理及应用1. 原理介绍原子力显微镜(Atomic Force Microscope,简称AFM)是一种高分辨率的表面显微镜,它利用探针与样品表面之间的相互作用力来获取表面的形貌和力学性质。

AFM基于扫描探针显微镜(Scanning Probe Microscopy,SPM)的原理,通过在纳米尺度上运动和感测探针与样品之间的相对运动,实现对样品表面的观测和测量。

AFM的工作原理可简述为:在AFM扫描过程中,探针通常由细尖部分和弹性探针杆组成。

通过控制探针与样品之间的相互作用力,从而感知探针的纵向位移,并进一步确定样品表面的形状特征。

AFM的三个基本测量模式包括接触模式、非接触模式和静电模式。

在接触模式下,探针与样品表面保持接触;在非接触模式下,探针与样品之间保持较小的相互作用力;而在静电模式下,探针通过测量静电相互作用力来获取样品表面信息。

2. 应用领域2.1 表面形貌观测AFM是一种非常有用的工具,可用于观察样品表面的形貌。

由于AFM的高分辨率和高灵敏度,它可以显示出样品表面的纳米级别的细微结构。

因此,在材料科学、纳米技术等领域,AFM被广泛应用于表面形貌的观测和分析。

2.2 力学性质测量AFM可测量样品表面的力学性质,如硬度、弹性模量等。

通过在探针尖端施加力量,AFM可以获得相应的力变形曲线,从而计算出样品的力学性质。

这种力变形曲线可以用来研究纳米材料的力学行为,对于材料本质的研究具有重要意义。

2.3 生物分子观测由于AFM可以在液体环境中工作,它在生物领域也得到广泛应用。

AFM可以用于观测生物分子的结构和形态,并研究其相互作用力。

这对于生物学研究和生物医学领域的应用有着重要意义,例如蛋白质的形状和功能研究、生物体表面的结构观察等。

2.4 电子学器件研究对于电子学器件的研究,AFM可以提供非常有价值的信息。

例如,在集成电路领域,使用AFM可以观测杂质、缺陷和界面的形态和特征,从而帮助改进电子器件的制造工艺和性能。

afm的操作原理应用

AFM的操作原理应用1. 什么是AFM?AFM(Atomic Force Microscopy,原子力显微镜)是一种高分辨率、非接触的显微镜技术,用于观察微观尺度下的表面形貌和力交互作用。

其操作原理基于扫描探针在样品表面上的运动,通过测量探针和样品之间的相互作用力来获取表面形貌信息。

2. AFM的操作原理AFM的操作原理主要包括以下几个方面:2.1 探针和样品之间的相互作用力AFM利用探针和样品之间的相互作用力来获取表面形貌信息。

探针通常是一根极细的尖端,通过弹簧的方式固定在探针臂上,并且可以通过微米级别的位移来控制探针与样品的距离。

当探针离开样品时,无论是吸引力作用力还是排斥力作用力都被忽略。

当探针接近样品表面时,探针和样品之间产生相互作用力,具体包括吸引力、排斥力以及分子键作用力等。

2.2 探针的微米级别位移和偏斜检测AFM的探针通常是通过一套压电陶瓷进行微米级别的位移和偏斜检测。

压电陶瓷的位移是通过施加电压实现的,可以控制探针与样品之间的距离以及探针在垂直和水平方向上的偏斜。

2.3 探针的扫描运动AFM的操作是通过控制探针在样品表面上的运动来获取表面形貌信息。

探针的扫描运动通常采用扫描控制系统来实现,通过激光光束的反射来监测探针的位置,并通过反馈控制系统对探针的位置进行调整。

2.4 图像生成和数据处理AFM的操作原理中,图像的生成通常是通过探针在样品表面上的扫描运动来实现的。

扫描过程中,探针记录了不同位置的相互作用力信息,通过将这些数据进行处理和分析,可以生成高分辨率的表面形貌图像。

3. AFM的应用AFM作为一种高分辨率的显微镜技术,具有广泛的应用领域,包括但不限于以下几个方面:3.1 表面形貌分析AFM可以提供高分辨率的表面形貌信息,在材料科学、纳米技术等领域中得到广泛应用。

通过观察表面形貌的变化,可以研究纳米尺度下的材料特性以及表面结构的固态变化机制。

3.2 生物力学研究AFM可以应用于生物学研究中,通过测量生物样品表面的力交互作用力来研究细胞、细胞器和生物大分子等的力学特性。

afm操作手册

扫描探针显微镜 (SPM)
扫描隧道 显微 (STM)
原子力显 微镜 (AFM)
摩擦力 显微镜 (LFM)
磁力显微 镜 (MFM)
化学力显 微镜 (CFM)
等等
发展历史
z 1982年G.Binnig和H.Rohrer等成功研制了一种显微镜—— 扫描隧道显微镜( Scanning Tunneling Microscope,STM) 使得人们能够以原子级的分辨率来观察微观世界,研究原 子、分子的空间排列方式及其物理、化学性质。为此 G.Binnig和H.Rohrer获得了1986年的诺贝尔物理学奖。 z 1986年Bining、Quate和Gerber发明了原子力显微镜 (Atomic Force Microscope,AFM)。AFM不受样品导电性的 限制,而且还可以在空气、液体等环境中对样品进行观测。 更重要的是AMF还能以较高的分辨率(X-Y方向上0.1-1.0 nm ,Z方向上0.01nm)给出样品表面形貌的三维信息。
Hard Disk
magnetic tape
Height
phase
0微米
六、扫描隧道显微镜(STM)
扫描隧道显微镜(STM)的基本原理是利用量子力学中的隧道效应,在样品与探 针之间加一定的电压,当样品与针尖距离非常接近时,样品和针尖之间将产生 隧道电流。通过检测这种电流就可以得到关于样品表面形态和结构的信息。
偏移偵測器 雷射光
磁性探針 磁場 樣品
MFM测量模式
直流模式的扫描方式,类似于非接触式原子力显微镜,差异点仅 在于探针与样品之间作用力的不同。所应用的理论,是由Zeeman 能量法获得,亦即磁力是磁矩(m)乘以磁场的空間梯度(∆H),磁 力的大小可由微悬臂的偏移量乘以微悬臂的弹性系数而得知。

应用均匀设计优化提取绞股蓝多糖工艺的研究大学毕业论文英文文献翻译

毕业设计(论文)外文文献翻译文献、资料中文题目:应用均匀设计优化提取绞股蓝多糖工艺的研究文献、资料英文题目:Optimization of polysaccharides extraction fromGynostemma pentaphyllum Makino using Uniform Design 文献、资料来源:文献、资料发表(出版)日期:院(部):专业:班级:姓名:学号:指导教师:翻译日期:2017.02.14应用均匀设计优化提取绞股蓝多糖工艺的研究罗巅辉王昭晶蔡婀娜摘要:本文应用均匀设计优化提取绞股蓝多糖提取率的工艺条件,对以下四个工艺条件进行了研究,包括水提时间(min),料液比(g/ml),浸泡时间(min),水提温度(℃) 。

确定了优化条件,并通过数学模型绘制了三维响应曲面图。

T检验和P值表明浸泡时间和水提时间(X2X4)在响应值中出现了互动效应,接着还出现了水萃取时间 (X4)的线性项,浸泡时间和水提温度(X2X3)的互动效应。

考虑到效率因素,绞股蓝萃多糖提取的优化条件是:料液比比为1:67,浸泡时间10分钟,水提温度为95℃,水提时间为15分钟。

在优化条件下,多糖提取率为11.29%,接近预测提取率。

因此,应用均匀设计法从绞股蓝中提取多糖,能够极大缩短提取时间。

关键词:绞股蓝;多糖;提取;均匀设计摘要1.前言 (2)2.材料与方法 (3)2.1实验材料与仪器 (3)2.2绞股蓝中多糖的提取 (3)2.3多糖含量的测定 (3)2.4多糖提取率的计算 (3)2.5多糖提取因素的研究 (3)2.6实验设计和数据分析 (3)3.1单因素的实验结果 (5)3.1.1浸泡时间对多糖提取率的影响 (5)3.1.2料液比对多糖提取率的影响 (5)3.1.3.水提温度对多糖提取率的影响 (6)3.1.4水提时间对多糖提取率的影响 (6)3.2数据分析和均匀设计 (7)4.结论 (11)碳水化合物能够作为细胞的结构组成部分和能量源泉,这一点是大家所公认的。

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Procedure for use of Topometrix Explorer AFM1. Turn on both computer and TV monitors.2. Gently flip over AFM head and let it rest on holding pedestal.3. Mount half-moon shaped tip onto magnetic holder. Make sure tip is securely seated withfirm contact to back of magnetic holder and reasonably aligned.4. Mount sample puck onto magnetic base.5. Rotate both probe height screws in a clockwise direction one-half rotation to ensurecantilever is higher than sample surface.6. Gently grasp front sides of AFM head and flip over while securing holding with thepedestal.7. Place left rear screw mount in its proper resting groove followed by right rear screwmount into its proper resting groove and slowly begin dropping down AFM head until the front screw mount comes into contact with its proper resting groove. Keep watch on the TV monitor while doing this to ensure cantilever does not crash down onto sample.8. Double Click on SPM lab icon to open software program.9. Click on Image Acquisition icon (Cantilever image) located on top right of Tool bar.10. Click Ok once inside the Scanner Selection menu.11. Click Engage to apply voltage to the AFM head.12. Turn laser ON using High intensity setting.13. Slowly lower cantilever tip using the lower tip icon until the tip is just above samplesurface but not touching. Be aware of the tip shadow as a reference as to how high above the sample the tip is.14. Enter the T-B mode. Adjust the mirror using the Mirror adjustment knob(the longerknob on the left side of AFM head) until the signal is approximately 0nA. Continueadjusting mirror until signal trace crosses the 0nA level in both positive and negativeregions before setting the signal at 0nA.15. Enter the L-R mode. Adjust the photodiode using the Photodetector alignment knob(the shorter knob on the left side of AFM head) until the signal is approximately 0nA.Continue adjusting mirror until signal trace crosses the 0nA level in both positive andnegative regions before setting the signal.16. The laser signal should now be centered on the photodiode quadrants.17. Enter the Sum mode. Carefully make fine adjustments to the laser alignment screws(one at a time) to maximize the laser signal. For quality images, laser signal should be >11nA.18. Repeat steps 13 and 14 to re-center the laser signal. Check Sum signal again to ensuresignal is maximized.19. Set the initial scan parameters in the Acquisition Control Panel.These should be:Setpoint: 0.0nAScan Range: 20.00 um (can be adjusted later depending on sample size)Scan Rate: 20um/sResolution: 300Proportional gain: 1.0Integral gain: 0.520. Enter T-B mode. Decrease signal trace to approximately 50nA.21. Click the Tip Approach button. This will engage the 5-10 second computer automatedtip approach to the sample surface. Observe the signal trace increasing as the tip moves close to sample surface. At roughly the setpoint (0nA), the signal trace should display a momentary spike. This is an indication of the tip penetrating the water vapor layer on the sample surface and a good reference that the tip is in contact with sample.22. Verify the system is indeed in feedback mode by clicking on the Sensor Responsebutton. A positive sloping Deflection vs. Distance curve should be displayed with data points approximately lining up with the linear plot line.23. If system fails to reproduce the positive slope, a False Feedback error message willappear. Click on the Raise Tip button (once) to get out of feedback. In T-B mode try decreasing signal current more negative. Repeat steps 21-23.24. Initiate Line Scan to ensure that the probe tip is performing a level scan with the tipparallel to the sample surface. The slope (∆Z) of line scan should be approximately100-200nm/100µm. If this value is larger, adjust the left and right heightadjustment knobs until the proper ∆Z is achieved. For further instructions, referto “leveling procedure” sign posted on the side of computer monitor.25. The AFM is now ready to begin image acquisition. Click on the Instant Scan button tobegin scanning.26. During image acquisition, adjust scan mode and feedback parameters to achieve anoptimal image. Remember to restart the scan after changes have been made.27. After experiments are finished, turn off both monitors.28. Sign out logbook.Additional Procedure for Tapping Mode Operation1. Use same procedure as above for sample mounting and laser alignment.2. Before beginning cantilever tip tuning procedure be sure to enter the T-B Mode.3. Select Setup-> Non-Contact.4. Once the Non-Contact control window is loaded, select the Active box.5. Make sure the Amplitude button in the mode section is selected.6. Set the tune parameters to proper values which correspond to the installed Z scanner:Range: 0-600 HzDrive Amplitude: .2V (Note: Do not exceed .5V)Drive Frequency: To be determined by the cantilever resonance peakInput Gain: 27. Click the Spectrum button. At this time the system will sweep across the givenfrequency range and will then display the cantilever resonance peak.8. Click the left mouse button onto the narrow peak. This will be the cantilever resonancepeak. Then click the right mouse button to set the drive frequency, which will be used, for imaging.9. Adjust the Drive Amplitude value so that the free-oscillation amplitude (displayed onthe oscilloscope’s Internal Feedback signal of the T-B mode) is between –30 and –50nA.10. Adjust the Set Point value to be 50%.11. Drop tip down until cantilever tip is just above sample surface. Make sure the T-B modeis selected and begin Tip Approach sequence. This will bring tip into feedback mode at 50% of registered amplitude. Do Not Use the Sensor Response function while using the microscope in Non-Contact Mode.12. Initiate the Line Scan button to make sure the slope (∆Z) of line scan is approximately100-200nm/100µm. If it is larger, adjust the left and right height adjustment knobs until the proper ∆Z is achieved. For further instructions see the leveling procedure. 13. Proceed with normal operations for obtaining images.。

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