模拟电子技术-第3章-场效应管及其基本电路

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第3章 场效应管及其基本放大电路 参考答案

第3章 场效应管及其基本放大电路 参考答案

第 3章 场效应管及其基本放大电路3.1填空题(1)按照结构,场效应管可分为 。

它属于 型器件,其最大的优点是 。

(2)在使用场效应管时,由于结型场效应管结构是对称的,所以 极和 极可互换。

MOS 管中如果衬底在管内不与 极预先接在一起,则 极和 极也可互换。

(3)当场效应管工作于恒流区时,其漏极电流D i 只受电压 的控制,而与电压 几乎无关。

耗尽型D i 的表达式为 ,增强型D i 的表达式为 。

(4)一个结型场效应管的电流方程为2GS D 161mA 4U I=×− ,则该管的DSS I = ,p U = 。

(5)某耗尽型MOS 管的转移曲线如习题3.1.5图所示,由图可知该管的DSS I = ,p U = 。

(6)N 沟道结型场效应管工作于放大状态时,要求GS 0u ≥≥ ,DS u > ;而N 沟道增强型MOS 管工作于放大状态时,要求GS u > ,DS u > 。

(7)耗尽型场效应管可采用 偏压电路,增强型场效应管只能采用 偏置电路。

(8)在共源放大电路中,若源极电阻s R 增大,则该电路的漏极电流D I ,跨导m g ,电压放大倍数 。

(9)源极跟随器的输出电阻与 和 有关。

答案:(1)结型和绝缘栅型,电压控制,输入电阻高。

(2)漏,源,源,漏,源。

(3)GS u ,DS u ,2GS D DSS P 1u i I U =− ,2GS D DO T 1u i I U=−。

(4)16mA ,4V 。

(5)习题3.1.5图4mA ,−3V 。

(6)p U ,GS p u U −,T U ,GS T u U −。

(7)自给,分压式。

(8)减小,减小,减小。

(9)m g ,s R 。

3.2试分别画出习题3.2图所示各输出特性曲线在恒流区所对应的转移特性曲线。

解:3.3在带有源极旁路电容s C 的场效应管放大电路如图3.5.6(a )所示。

若图中的场效应管为N 沟道结型结构,且p 4V U =−,DSS 1mA I =。

完整版)模拟电子技术基础-知识点总结

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完整版)模拟电子技术基础-知识点总结共发射极、共基极、共集电极。

2.三极管的工作原理---基极输入信号控制发射结电流,从而控制集电极电流,实现信号放大。

3.三极管的放大倍数---共发射极放大倍数最大,共集电极放大倍数最小。

三.三极管的基本放大电路1.共发射极放大电路---具有电压放大和电流放大的作用。

2.共集电极放大电路---具有电压跟随和电流跟随的作用。

3.共基极放大电路---具有电压放大的作用,输入电阻较低。

4.三极管的偏置电路---通过对三极管的基极电压进行偏置,使其工作在放大区,保证放大电路的稳定性。

四.三极管的应用1.放大器---将弱信号放大为较强的信号。

2.开关---控制大电流的通断。

3.振荡器---产生高频信号。

4.稳压电源---利用三极管的负温度系数特性,实现稳定的输出电压。

模拟电子技术复资料总结第一章半导体二极管一.半导体的基础知识1.半导体是介于导体和绝缘体之间的物质,如硅Si、锗Ge。

2.半导体具有光敏、热敏和掺杂特性。

3.本征半导体是纯净的具有单晶体结构的半导体。

4.载流子是带有正、负电荷的可移动的空穴和电子,是半导体中的两种主要载流体。

5.杂质半导体是在本征半导体中掺入微量杂质形成的半导体。

根据掺杂元素的不同,可分为P型半导体和N型半导体。

6.杂质半导体的特性包括载流子的浓度、体电阻和转型等。

7.PN结是由P型半导体和N型半导体组成的结,具有单向导电性和接触电位差等特性。

8.PN结的伏安特性是指在不同电压下,PN结的电流和电压之间的关系。

二.半导体二极管半导体二极管是由PN结组成的单向导电器件。

1.半导体二极管具有单向导电性,即只有在正向电压作用下才能导通,反向电压下截止。

2.半导体二极管的伏安特性与PN结的伏安特性相似,具有正向导通压降和死区电压等特性。

3.分析半导体二极管的方法包括图解分析法和等效电路法等。

三.稳压二极管及其稳压电路稳压二极管是一种特殊的二极管,其正常工作状态是处于PN结的反向击穿区,具有稳压的作用。

模拟电子技术(3)--场效应管及其基本放大电路

模拟电子技术(3)--场效应管及其基本放大电路

第3章 场效应管及其基本放大电路试卷3.1判断下列说法是否正确,用“√”和“ ”表示判断结果填入空内1. 结型场效应管外加栅源电压u GS应使栅源间的耗尽层承受反偏电压,才能保证其输入电阻R G大的特点。

( )2. 耗尽型MOS管在栅源电压u GS为正或为负时均能实现压控电流的作用。

( )3. 若耗尽型N沟道MOS管的栅源电压u GS大于零,则其输入电阻会明显变小。

( )4. 工作于恒流区的场效应管,低频跨导g m与漏极电流I DQ成正比。

( )5. 增强型MOS管采用自给偏压时,漏极电流i D必为零。

( )【解3.1】:1. √ 2.√ 3.× 4.× 5.√3.2选择填空1. 场效应管的栅-源之间的电阻比晶体管基-射之间的电阻 。

A.大 B.小 C.差不多2. 场效应管是通过改变 来改变漏极电流的。

所以是 控制型器件。

A.栅源电压 B.漏源电压 C.栅极电流D.电压 E.电流3. 用于放大时,场效应管工作在特性曲线的 。

A.可变电阻区 B.恒流区 C.截止区4. N沟道结型场效应管中参加导电的载流子是 。

A.自由电子和空穴 B.自由电子 C.空穴5. 对于结型场效应管,当︱u GS︱︱U GS(off)︱时,管子一定工作在 。

A.恒流区 B.可变电阻区 C.截止区 B.击穿区6. 当栅源电压u GS=0V时,能够工作在恒流区的场效应管有 。

A.结型场效应管 B.增强型MOS管 C.耗尽型MOS管7. 某场效应管的开启电压U GS(th)=2V,则该管是 。

A.N沟道增强型MOS管 B.P沟道增强型MOS管C.N沟道耗尽型MOS管 D.P沟道耗尽型MOS管8. 共源极场效应管放大电路,其输出电压与输入电压 ;共漏极场效应管放大电路,其输出电压与输入电压 。

A.同相 B.反相【解3.2】:1.A 2.A,D 3.B 4.B 5.C 6.A C 7.A 8.B,A3.3判断图T3.3所示各电路能否进行正常放大?如果不能,指出其中错误,并加以改正。

电子技术基础第三章场效应管及其放大电路

电子技术基础第三章场效应管及其放大电路
• JFET是利用PN结反向电压对耗尽层厚度的控制, 来改变导电沟道的宽窄,从而控制漏极电流的大小。
• 预夹断前iD与vDS呈近似线性关系;预夹断后, iD趋于 饱和。
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思考:为什么JFET的输入电阻比BJT高得多?
场效应管的应用小结
• 一是当作压控可变电阻,即非线性电阻来使用, VGS的绝对值 越大,导电沟道就越窄,对应的导电沟道电阻越大,即电压 V电G阻S控使制用电时阻,的导大电小沟,道管还子没工有作出在现可预变夹电断阻;区,当作压控可变
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场效应管的分类
场效应管 FET
结型
JFET
IGFET ( MOSFET ) 绝缘栅型
N沟道 P沟道 增强型
耗尽型
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N沟道 P沟道
N沟道 P沟道
第二节 结型场效应管(JFET)的 结构和工作原理
一、结型场效应管的结构
二、结型场效应管的工作原理
三、结型场效应管的特性曲线 及参数
UDS(sat) ≤│Up│。
JFET的三个状态
• 恒流区(放大区、饱和区) • 可变电阻区 • 截止区
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小结
• 沟道中只有一种类型的多数载流子参与导电,所以 场效应管也称为单极型三极管。
• JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的,因此 iG0,输入电阻很高。
• JFET是电压控制电流器件,iD受vGS控制。
第一节 场效应管概述 第二节 结型场效应管的结构和工作原理 第三节 绝缘栅场效应管的结构和工作原理 第四节 场效应管放大电路
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• 3-1 • 3-4 • 3-6 • 3-12
作业
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模拟电子技术基础A 第3章习题的答案-PPT课件

模拟电子技术基础A 第3章习题的答案-PPT课件

U GS 2 ID ID S( 1 ) S U GS (o f) f
2. 两种基本接法电路的分析:CS、CD
2)动态性能指标的计算:微变等效电路
2 gm ID ID O Q U G S (th )
2 g ID ID m S S Q U G S (o ff)
3-3已知某N沟道结型场效应管的UGS(off)=- 5V。下表给出 四种状态下的UGS和UDS 的值,判断各状态下的管子工作在什 么区。( a.恒流区 b.可变电阻区 c.截止区 )
2. 两种基本接法电路的分析:CS、CD 1)静态工作点的分析计算。 • 利用场效应管栅极电流为0,得到栅源电压与 漏极电流之间关系式。 • 列出场效应管在恒流区的电流方程。 联立上述两方程,求解UGSQ和IDQ,并推算 UDSQ。 • 注意解算后应使得管子工作在恒流区。
5
U 2 GS ID IDO ( 1 ) U GS (th )

3-7:如图所表示的电路图。已知 UGS=-2V,场 效应管子的IDSS=2mA,UGS(off)=-4V。
• 1.计算ID和Rs1的值。
解:
I I ( 1 ) 0 . 5 m A D Q D S S U G S ( o f f)
2
U G S Q
U GSQ U GQ U SQ 2V RS1 U GSQ ID 2V 4 k 0 . 5 mA
3-4: 判断图所示的电路能否正常放大 ,并说明原因。
• 绝缘栅型N沟道耗尽型ห้องสมุดไป่ตู้场效应管。 • 因为没有漏极电阻, 使交流输出信号到地 短路uo无法取出。 • 不能。
3-4: 判断图所示的电路能否正常放大 ,并说明原因。
• 满足正常放大条件。 如在输入端增加大电 阻RG,可有效提高输入 电阻。 • 能。

第三章场效应管及其放大电路

第三章场效应管及其放大电路

第三章 场效应管及其放大电路1. JEFT 有两种类型,分别是N 沟道结型场效应管和P 沟道结型场效应管2. 在JFET 中:(1) 沟道夹断:假设0=DS v ,如图所示。

由于 0=DS v ,漏极和源极间短路,使整个沟道内没有压降,即整个沟道内的电位与源极的相同。

令反偏的栅-源电压GS v 由零向负值增大,使PN 结处于反偏状态,此时,耗尽层将变宽;由于在结型场效应管制作中,P 区的浓度远大于N 区的浓度,所以,耗尽层主要在N 沟道内变宽,随着耗尽层宽度加大,沟道变窄,沟道内的电阻增大。

继续反响加大GS v ,耗尽层将在沟道内合拢,此时,沟道电阻將变的无穷大,这种现象成为沟道夹断(2)在DS v 较小时,DS v 的加大虽然会增大沟道内的电阻,但这种影响不是很明显,沟道仍处于比较宽的状态,即沟道的电阻在DS v 比较小的时候基本不变,此时加大DS v ,会使D i 迅速增加,D i 与DS v 近似为线性关系。

加大DS v ,沟道内的耗尽层会逐渐变宽,沟道电阻增加,D i 随DS v 的上升,速度会变缓。

当||P DSV v =时,楔形沟道会在A 点处合拢,这种现象称为预夹断。

3. 解:(1)(a )为N 沟道场效应管 (b )为P 沟道场效应管(2)(a )V V P4-= (b )V V P 4= (3)(a )A I DSS 5= (b )A I DSS 5-=(4)电压DS v 与电流D i 具有相同的极性且与GS v 极性相反,因而,电压DS v 的极性可根据D i 或GS v 的极性判断4.解:当JFET 工作在饱和区时,有关系式:2)1(PGS DSS D V V I i -= 5. 解:在P 沟道JFET 中,要求栅-源电压GS v 极性为正,漏源电压DS v 的极性为负,夹断电源P V 的极性为正6. 解:MOS 型场效应管的详细分类7. 解:耗尽型是指,当0=GS v 时,即形成沟道,加上正确的GS v 时,能使对数载流子流出沟道,因而“耗尽”了载流子,使管子转向截止。

《模拟电子技术基础》第3章 双极型晶体管及其基本放大电路

《模拟电子技术基础》第3章 双极型晶体管及其基本放大电路

3.2 双极型晶体管
3.2.4 晶体管的共射特性曲线
2.输出特性曲线—— iC=f(uCE) IB=const
以IB为参变量的一族特性曲线
(1)当UCE=0V时,因集电极无收集
作用,IC=0;
(2)随着uCE 的增大,集电区收集电
子的能力逐渐增强,iC 随着uCE 增加而
增加;
(3)当uCE 增加到使集电结反偏电压
电压,集电结应加反向偏置电压。
3.2 双极型晶体管
3.2.3 晶体管的电流放大作用
1. 晶体管内部载流子的传输
如何保证注入的载流
子尽可能地到达集电区?
P
N
IE=IEN + IEP
IEN >> IEP
IC= ICN +ICBO
ICN= IEN – IBN
IEN>> IBN
ICN>>IBN
N
IEP
IE
3. 晶体管的电流放大系数
(1) 共基极直流电流放大系数
通常把被集电区收集的电子所形成的电流ICN 与发射极电流
IE之比称为共基电极直流电流放大系数。

I CN

IE
由于IE=IEP+IEN=IEP+ICN+IBN,且ICN>> IBN,ICN>>IEP。通常ത
的值小于1,但≈1,一般

为0.9-0.99。

3.2 双极型晶体管
3.2.3 晶体管的电流放大作用
3. 晶体管的电流放大系数
(2) 共射极直流电流放大系数
I C I CN I CBO I E I CBO ( I C I B ) I CBO

模拟电子技术课后习题答案第三章场效应管及其放大电路答案

模拟电子技术课后习题答案第三章场效应管及其放大电路答案

习题3-1 场效应管沟道的预夹断和夹断有什么不同? 解:当U DS 增加到U DS =U GS ,即U GD =U GS -U DS = U GS (th )时,漏极附近的耗尽层将合拢,称为预夹断。

预夹断后,沟道仍然存在,夹断点的电场强度大,仍能使多数载流子(电子)作漂移运动,形成漏极电流I DSS 。

若U DS 继续增加,使U DS >U GS -U GS (th ),即U GD <U GS (th )时,耗尽层合拢部分会增加,并自夹断点向源极方向延伸,此时夹断区的电阻越来越大,但漏极电流I D 却基本趋于饱和,不随U DS 的增加而增加。

3-2 如何从转移特性上求g m 值? 解: 利用公式gsdm dU dI g求g m 值。

3-3 场效应管符号中,箭头背向沟道的是什么管?箭头朝向沟道的是什么管? 解:箭头背向沟道的是P 沟道;箭头朝向沟道的是N 沟道。

3-4 结型场效应管的U GS 为什么是反偏电压? 解:若为正偏电压,则在正偏电压作用下,两个PN 结耗尽层将变窄,I D 的大小将不受栅-源电压U GS 控制。

3-5如图3-20所示转移特性曲线,指出场效应管类型。

对于耗尽型管,求U GS (off )、I DSS ;对于增强型管,求U GS (th )。

解:a P 沟道增强型。

U GS (th )=-2Vb P 沟道结型。

U GS (off )=3V 、I DSS =4mA3-6如图3-21所示输出特性曲线,指出场效应管类型。

对于耗尽型管,求U GS (off )、I DSS ;对于增强型管,求U GS (th )。

解:a N 沟道增强型。

U GS (th )=1Vb P 沟道结型。

U GS (off )=1V 、I DSS =1.2mAGS /Va-2 -1 图3-20 习题3-5图 U GS /Vb3-7 如图3-22所示电路,场效应管的U GS (off )=-4V ,I DSS =4mA ;计算静态工作点。

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7
二、结型场效应管的工作原理
iD f (uGS, uDS)
D
N
G
P
P
S
(a) UGS =0,沟道最宽
图3.1.2栅源电压UGS对沟道的控制作用示意图
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D
横向电场作用:
P
P
UGS S
︱UGS︱↑ → PN结耗尽层宽度↑ →沟道宽度↓
(b) UGS负压增大,沟道变窄 图3.1.2栅源电压UGS对沟道的控制作用示意图
1.简介 栅极与沟道之间隔了一层很薄的绝缘体,其阻 抗 比 JFET 的 反 偏 PN 结 的 阻 抗 更 大 。 功 耗 低 , 集成度高。
绝缘体一般为二氧化硅(SiO2),这种IGFET 称为金属——氧化物——半导体场效应管,用符号
MOSFET 表 示 ( Metal Oxide Semiconductor

-0.5V


-1V
穿 区

-1.5V
1
-2V
0 5
截止区
UGSoff
10
15
20 uDS /V
图3.1.4 (a) JFET的输出特性曲线
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(1)可变电阻区
uGS>UGSoff; uGD>UGSoff 或uDS<uGS-UGSoff
14
iD /mA
可 变 u DS = uGS-UGSoff
第3章场效应晶体管及其放大电路
3.1场效应晶体管
3.1.1 结型场效应管
一、结型场效应管的结构
二、结型场效应管的工作原理
三、特性曲线
1.输出特性曲线
2.转移特性曲线
3.1.2 绝缘栅场效应管(IGFET)
一、N沟道增强型MOSFET
二、N沟道耗尽型 MOSFET
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iD
IDSS (1
uG S U G Soff
)2
那么
gm
diD duGS
Q
IDSS (1 uGS ) 2IDSS
)2
3
IDSS饱和电流,
2
表示uGS=0时的iD值;
1
UGSoff夹断电压,
0
uGS /V
表示uGS=UGSoff时iD=0。
为保证场效应管正常工作,PN结必须加反向偏置电压。
图3.1.4(b) JFET的转移特性曲线
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3.1.2 绝缘栅场效应管(IGFET)
N+
N+
导电沟道(反型层)
P型衬底
பைடு நூலகம்
B
UGS=0,导电沟道已形成
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iD/mA
uDS uGS UGSoff + 6V
4 UGS=+ 3V
3 0V
2 -3V
1
0
5
10
15
20 uDS/V
(b)
图3.1.10N沟道耗尽型MOS管的特性及符号
(a)转移特性;(b)输出特性;(c)电路符号
金属(A1) S
G
N+
D 绝缘层(SiO2)
N+
半导体
P 型硅衬底
衬底引线 B
N沟道增强型MOSFET的结构示意图和符号.avi
图3.1.5 MOSFET结构示意图(b)剖面图
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2.N沟道增强型MOSFET的工作原理
S
N+
GD
N+
PN结(耗尽层)
P型衬底
UGS=0,导电沟道未形成
Field Effect Transistor)。此外,还有以氮化硅
为绝缘体的MNSFET等。
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2.分类 MOSFET
N沟道 P沟道
增强型 N-EMOSFET 耗尽型 N-DMOSFET 增强型 P-EMOSFET 耗尽型 P-DMOSFET
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UDS UGS
N+
N+
预夹断
P 型衬底 B
图3.1.8 uDS增大,沟道预夹断时情况
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27
UDS UGS
N+
N+
P 型衬底
B
漏源电压VDS对沟道的影响.avi
uDS增大,沟道预夹断后情况
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绝缘栅场效应管 IGFET (Insulated Gate FET)
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5
3.1场效应晶体管
3.1.1 结型场效应管
一、结型场效应管的结构
Drain 漏极
D
Gate栅极
G
N
P
型 沟
P

Source源极 S
ID
实际 G 流向
D 箭头方向表示栅 源间PN结若加 正向偏置电压时
2
2
1
1
流 -1V 区 -1.5V
-2V
0
-3 -2 -1 0 uGS/V
5 10 15 20
从输出特性曲线作转移特性曲线示意图
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击 穿 区
UGSoff uDS/V
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iD /mA 恒流区中:
IDSS
UGSoff -3 -2 -1
5
4
iD
IDSS (1
uGS U G Sof f
Au、Ri、Ro、Uom)的分析方法。
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4
双极型晶体管主要是利用基区非平衡少数载流 子的扩散运动形成电流。
场效应晶体管(场效应管)利用多数载流子的 漂移运动形成电流。
场效应管FET (Field Effect Transistor)
结型场效应管JFET (Junction FET)
1
3.1.3 场效应管的参数
一、直流参数
二、极限参数
三、交流参数
3.2 场效应管工作状态分析及其偏置电路 3.2.1 场效应管工作状态分析 一、各种场效应管的符号对比
二、各种场效应管的特性对比
三、BJT与FET工作状态的对比
四、场效应管工作状态的判断方法
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2
3.2.2 场效应管偏置电路
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3. N沟增强型MOSFET的输出特性曲线
iD
uDS uGS UGSth






区 区
0 截止区
(1)截止区
UGS = 6V
5V 击
4V
穿
3V

2V
uGS<UGSth (2)可变电阻区
uGS>UGSth; uGD>UGSth
uDS 或uDS<uGS-UGSth
图3.1.9N沟增强型MOSFET的输出特性曲线
图3.1.4 (a) JFET的输出特性曲线
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2.转移特性曲线
iD f (uGS) uDS C uGS≤0, iD≥0
转移特性曲线.avi IDSS
iD/mA iD/mA
4
4
3
3
uDS = uGS - UGSoff UGS =0V
恒 -0.5V
UGSoff
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二、极限参数
(1)栅源击穿电压U(BR)GSO。 (2)漏源击穿电压U(BR)DSO。 (3)最大功耗PDM:PDM=ID·UDS
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三、交流参数
1.跨导gm
gm
diD duG S
uDS C
(mΑ / V)
对JFET和DMOSFET
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iD
iD
I DSS
(1
uGS U G Sof f
)2
D
IDSS
B
G
UGSoff
0
uGS
S
(a)
(c)
图3.1.10N沟道耗尽型MOS管的特性及符号
(a)转移特性;(b)输出特性;(c)电路符号
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3.1.3 场效应管的参数
S 栅极电流的实际 流动方向
(a)N沟道JFET
结型场效应三极管的结构.avi
图3.1.1结型场效应管的结构示意图及其表示符号
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6
D
ID
P
D
G

N
N


实际
G
流向
S
S
(b)P沟道JFET
图3.1.1结型场效应管的结构示意图及其表示符号
2021年1月24日星期日
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结型场效应三极管漏源电压对沟道的控制作用.avi
2021年1月24日星期日
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12
沟道夹断 uGS UGSoff
沟道预夹断 uGS UGSoff;
uGD UGSoff
or uDS uDG uGS uGS UGSoff
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