材料现代分析方法期末考试题与答案

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材料现代测试分析方法期末考试卷与答案

材料现代测试分析方法期末考试卷与答案

江西省理工大学材料分析测试题(可供参考)一、名词解释(共有20分,每小题2分.)1.辐射的发射:指物质吸收能量后产生电磁辐射的现象.2.俄歇电子:X射线或电子束激发固体中原子内层电子使原子电离,此时原子(实际是离子)处于激发态,将发生较外层电子向空位跃迁以降低原子能量的过程,此过程发射的电子.3.背散射电子:入射电子与固体作用后又离开固体的电子.4.溅射:入射离子轰击固体时,当表面原子获得足够的动量和能量背离表面运动时,就引起表面粒子(原子、离子、原子团等)的发射,这种现象称为溅射.5.物相鉴定:指确定材料(样品)由哪些相组成.6.电子透镜:能使电子束聚焦的装置.7.质厚衬度:样品上的不同微区无论是质量还是厚度的差别,均可引起相应区域透射电子强度的改变,从而在图像上形成亮暗不同的区域,这一现象称为质厚衬度.8.蓝移:当有机化合物的结构发生变化时,其吸收带的最大吸收峰波长或位置(最大)向短波方向移动,这种现象称为蓝移(或紫移,或“向蓝”).9.伸缩振动:键长变化而键角不变的振动,可分为对称伸缩振动和反对称伸缩振动.10.差热分析:指在程序控制温度条件下,测量样品与参比物的温度差随温度或时间变化的函数关系的技术.二、填空题(共20分,每小题2分.)1.电磁波谱可分为三个部分,即长波部分、中间部分和短波部分,其中中间部分包括(红外线)、(可见光)和(紫外线),统称为光学光谱.2.光谱分析方法是基于电磁辐射与材料相互作用产生的特征光谱波长与强度进行材料分析的方法.光谱按强度对波长的分布(曲线)特点(或按胶片记录的光谱表观形态)可分为(连续)光谱、(带状)光谱和(线状)光谱3类.3.分子散射是入射线与线度即尺寸大小远小于其波长的分子或分子聚集体相互作用而产生的散射.分子散射包括(瑞利散射)与(拉曼散射)两种.4.X射线照射固体物质(样品),可能发生的相互作用主要有二次电子、背散射电子、特征X射线、俄歇电子、吸收电子、透射电子5.多晶体(粉晶)X射线衍射分析的基本方法为(照相法)和(X射线衍射仪法).6.依据入射电子的能量大小,电子衍射可分为(高能)电子衍射和(低能)电子衍射.依据电子束是否穿透样品,电子衍射可分为(投射式)电子衍射与(反射式)电子衍射.7.衍射产生的充分必要条件是((衍射矢量方程或其它等效形式)加F2≠0).8.透射电镜的样品可分为(直接)样品和(间接)样品.9.单晶电子衍射花样标定的主要方法有(尝试核算法)和(标准花样对照法).10.扫描隧道显微镜、透射电镜、X射线光电子能谱、差热分析的英文字母缩写分别是( stm )、(tem)、(xps)、( DTA ).11. X 射线衍射方法有劳厄法、转晶法、粉晶法和衍射仪法 .12. 扫描仪的工作方式有连续扫描和步进扫描两种.13. 在 X 射线衍射物相分析中,粉末衍射卡组是由粉末衍射标准联合委员会编制,称为JCPDS卡片,又称为 PDF 卡片.14. 电磁透镜的像差有球差、色差、轴上像散和畸变 .15. 透射电子显微镜的结构分为光学成像系统、真空系统和电气系统.16. 影响差热曲线的因素有升温速度、粒度和颗粒形状、装填密度和压力和气氛 .三、判断题,表述对的在括号里打“√”,错的打“×”(共10分,每小题1分)1.干涉指数是对晶面空间方位与晶面间距的标识.晶面间距为d110/2的晶面其干涉指数为(220).(√)2.倒易矢量r HKL的基本性质为:r HKL垂直于正点阵中相应的(HKL)晶面,其长度r HKL等于(HKL)之晶面间距d HKL的2倍.(×)倒数3.分子的转动光谱是带状光谱.(×)线状光谱4.二次电子像的分辨率比背散射电子像的分辨率低.(×)高5.一束X射线照射一个原子列(一维晶体),只有镜面反射方向上才有可能产生衍射.(×)6.俄歇电子能谱不能分析固体表面的H和He.(√)7.低能电子衍射(LEED)不适合分析绝缘固体样品的表面结构.(√)8.d-d跃迁受配位体场强度大小的影响很大,而f-f跃迁受配位体场强度大小的影响很小.(√)9.红外辐射与物质相互作用产生红外吸收光谱必须有分子极化率的变化.(×)10.样品粒度和气氛对差热曲线没有影响.(×)四、单项选择题(共10分,每小题1分.)1.原子吸收光谱是(A).A、线状光谱B、带状光谱C、连续光谱2.下列方法中,( A )可用于测定方解石的点阵常数.A、X射线衍射线分析B、红外光谱C、原子吸收光谱 D 紫外光谱子能谱3.合金钢薄膜中极小弥散颗粒(直径远小于1m)的物相鉴定,可以选择(D ).A、X射线衍射线分析B、紫外可见吸收光谱C、差热分析D、多功能透射电镜4.几种高聚物组成之混合物的定性分析与定量分析,可以选择(A ).A、红外光谱B、俄歇电子能谱C、扫描电镜D、扫描隧道显微镜5.下列( B)晶面不属于[100]晶带.A、(001)B、(100)C、(010)D、(001)6.某半导体的表面能带结构测定,可以选择(D ).A、红外光谱B、透射电镜C、X射线光电子能谱 D 紫外光电子能谱7.要分析钢中碳化物成分和基体中碳含量,一般应选用(A )电子探针仪,A、波谱仪型B、能谱仪型8.要测定聚合物的熔点,可以选择( C ).A、红外光谱B、紫外可见光谱C、差热分析D、X射线衍射9.下列分析方法中,(A )不能分析水泥原料的化学组成.A、红外光谱B、X射线荧光光谱C、等离子体发射光谱D、原子吸收光谱10.要分析陶瓷原料的矿物组成,优先选择( C ).A、原子吸收光谱B、原子荧光光谱C、X射线衍射D、透射电镜11.成分和价键分析手段包括 b(a)WDS、能谱仪(EDS)和 XRD (b)WDS、EDS 和 XPS(c)TEM、WDS 和 XPS (d)XRD、FTIR 和 Raman12.分子结构分析手段包括 a(a)拉曼光谱(Raman)、核磁共振(NMR)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)(b)NMR、FTIR 和 WDS(c)SEM、TEM 和 STEM(扫描透射电镜)(d) XRD、FTIR 和 Raman13.表面形貌分析的手段包括 d(a)X 射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM) (b) SEM 和透射电镜(TEM)(c) 波谱仪(WDS)和 X 射线光电子谱仪(XPS) (d) 扫描隧道显微镜(STM)和SEM14.透射电镜的两种主要功能: b(a)表面形貌和晶体结构(b)内部组织和晶体结构(c)表面形貌和成分价键(d)内部组织和成分价键五、简答题(共40分,每小题8分)答题要点:1.简述分子能级跃迁的类型,比较紫外可见光谱与红外光谱的特点.答:分子能级跃迁的类型主要有分子电子能级的跃迁、振动能级的跃迁和转动能级的跃迁.紫外可见光谱是基于分子外层电子能级的跃迁而产生的吸收光谱,由于电子能级间隔比较大,在产生电子能级跃迁的同时,伴随着振动和转动能级的跃迁,因此它是带状光谱,吸收谱带(峰)宽缓.而红外光谱是基于分子振动和转动能级跃迁产生的吸收光谱.一般的中红外光谱是振-转光谱,是带状光谱,而纯的转动光谱处于远红外区,是线状光谱.2.简述布拉格方程及其意义.答:晶面指数表示的布拉格方程为2d hkl sin=n,式中d为(hkl)晶面间距,n为任意整数,称反射级数,为掠射角或布拉格角,为X射线的波长.干涉指数表示的布拉格方程为2d HKL sin=.其意义在于布拉格方程表达了反射线空间方位()与反射晶面面间距(d)及入射线方位()和波长()的相互关系,是X射线衍射产生的必要条件,是晶体结构分析的基本方程.3.为什么说扫描电镜的分辨率和信号的种类有关试将各种信号的分辨率高低作一比较.答:扫描电镜的分辨率和信号的种类有关,这是因为不同信号的性质和来源不同,作用的深度和范围不同.主要信号图像分辨率的高低顺为:扫描透射电子像(与扫描电子束斑直径相当)二次电子像(几nm,与扫描电子束斑直径相当)>背散射电子像(50-200nm)>吸收电流像特征X射图像(100nm-1000nm).4.要在观察断口形貌的同时,分析断口上粒状夹杂物的化学成分,选择什么仪器简述具体的分析方法.答:要在观察断口形貌的同时,分析断口上粒状夹杂物的化学成分,应选用配置有波谱仪或能谱仪的扫描电镜.具体的操作分析方法是:先扫描不同放大倍数的二次电子像,观察断口的微观形貌特征,选择并圈定断口上的粒状夹杂物,然后用波谱仪或能谱仪定点分析其化学成分(确定元素的种类和含量).5.简述影响红外吸收谱带的主要因素.答:红外吸收光谱峰位影响因素是多方面的.一个特定的基团或化学键只有在和周围环境完全没有力学或电学偶合的情况下,它的键力常数k值才固定不变.一切能引起k值改变的因素都会影响峰位变化.归纳起来有:诱导效应、共轭效应、键应力的影响、氢键的影响、偶合效应、物态变化的影响等.6.透射电镜主要由几大系统构成各系统之间关系如何答:四大系统:电子光学系统,真空系统,供电控制系统,附加仪器系统.其中电子光学系统是其核心.其他系统为辅助系统.7.透射电镜中有哪些主要光阑分别安装在什么位置其作用如何答:主要有三种光阑:①聚光镜光阑.在双聚光镜系统中,该光阑装在第二聚光镜下方.作用:限制照明孔径角.②物镜光阑.安装在物镜后焦面.作用: 提高像衬度;减小孔径角,从而减小像差;进行暗场成像.③选区光阑:放在物镜的像平面位置.作用: 对样品进行微区衍射分析.8.什么是消光距离影响晶体消光距离的主要物性参数和外界条件是什么答:消光距离:由于透射波和衍射波强烈的动力学相互作用结果,使I0和Ig在晶体深度方向上发生周期性的振荡,此振荡的深度周期叫消光距离.影响因素:晶胞体积,结构因子,Bragg角,电子波长.。

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案一、选择题(每题2分,共20分)1. 下列哪一项不是材料现代测试分析方法?A. 扫描电子显微镜(SEM)B. 光学显微镜(OM)C. 质谱仪(MS)D. 能谱仪(EDS)2. 在材料现代测试分析中,哪种技术可以用于测量材料的晶体结构?A. X射线衍射(XRD)B. 原子力显微镜(AFM)C. 扫描隧道显微镜(STM)D. 透射电子显微镜(TEM)3. 下列哪种测试方法主要用于分析材料的表面形貌?A. 扫描电子显微镜(SEM)B. 透射电子显微镜(TEM)C. 原子力显微镜(AFM)D. 光学显微镜(OM)4. 在材料现代测试分析中,哪种技术可以用于测量材料的磁性?A. 振动样品磁强计(VSM)B. 核磁共振(NMR)C. 红外光谱(IR)D. 紫外可见光谱(UV-Vis)5. 下列哪种测试方法可以同时提供材料表面形貌和成分信息?A. 扫描电子显微镜(SEM)B. 原子力显微镜(AFM)C. 能谱仪(EDS)D. 质谱仪(MS)二、填空题(每题2分,共20分)1. 扫描电子显微镜(SEM)是一种利用_____________来扫描样品表面,并通过_____________来获取样品信息的测试方法。

2. 透射电子显微镜(TEM)是一种利用_____________穿过样品,并通过_____________来观察样品内部结构的测试方法。

3. 原子力显微镜(AFM)是一种利用_____________与样品表面相互作用,并通过_____________来获取表面形貌和力学性质的测试方法。

4. 能谱仪(EDS)是一种利用_____________与样品相互作用,并通过_____________来分析样品成分的测试方法。

5. 振动样品磁强计(VSM)是一种利用_____________来测量样品磁性的测试方法。

三、简答题(每题10分,共30分)1. 请简要介绍扫描电子显微镜(SEM)的工作原理及其在材料测试中的应用。

《材料现代分析方法》练习与答案

《材料现代分析方法》练习与答案

第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是( B )A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;2.M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称( B )A.Kα;B. Kβ;C.Kγ;D. Lα。

3.当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选(C)A.Cu;B. Fe;C.Ni;D. Mo。

4.当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称( A )A.短波限λ0;B.激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生(D )(多选题)A.光电子;B.二次荧光;C.俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1.随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。

()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。

()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。

()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。

( ) 5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。

( )三、填空题1.当X射线管电压超过临界电压就可以产生连续X射线和特征X 射线。

2. X射线与物质相互作用可以产生俄歇电子、透射X射线、散射X射线、荧光X射线、光电子、热、、。

3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。

4. X射线的本质既是波长极短的电磁波也是光子束,具有波粒二象性性。

5.短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。

习题1. X 射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2. 分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuK αX 射线激发Cu Kα荧光辐射;(2)用CuK βX射线激发CuK α荧光辐射;(3)用CuK αX 射线激发Cu Lα荧光辐射。

3. 什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”?4. X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5. 产生X 射线需具备什么条件?6. Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7. 计算当管电压为50 kv 时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案第一部分:选择题(共10题,每题2分,共20分)1. 以下哪项不是材料现代测试分析的主要方法?- A. X射线衍射分析- B. 扫描电子显微镜分析- C. 质谱分析- D. 核磁共振分析2. 在材料现代测试分析中,以下哪种方法适用于分析材料的晶体结构?- A. 红外光谱分析- B. 热重分析- C. X射线衍射分析- D. 高效液相色谱分析3. 以下哪项不是扫描电子显微镜分析的主要应用?- A. 表面形貌观察- B. 元素分析- C. 晶体结构分析- D. 电子能谱分析4. 质谱分析主要用于检测和分析材料中的什么?- A. 元素成分- B. 分子结构- C. 表面形貌- D. 晶体结构5. 核磁共振分析常用于确定材料中的什么信息?- A. 元素含量- B. 晶体结构- C. 分子结构- D. 表面形貌6. 以下哪种方法适用于分析材料的热性能?- A. 红外光谱分析- B. 热重分析- C. 扫描电子显微镜分析- D. 核磁共振分析7. 在材料现代测试分析中,以下哪种方法适用于分析材料的表面形貌?- A. 红外光谱分析- B. 扫描电子显微镜分析- C. X射线衍射分析- D. 质谱分析8. 以下哪项不是红外光谱分析的主要应用?- A. 元素分析- B. 分子结构分析- C. 表面形貌观察- D. 化学成分分析9. 在材料现代测试分析中,以下哪种方法适用于分析材料的化学成分?- A. 红外光谱分析- B. 热重分析- C. X射线衍射分析- D. 高效液相色谱分析10. 高效液相色谱分析主要用于检测和分析材料中的什么?- A. 元素成分- B. 分子结构- C. 化学成分- D. 表面形貌第二部分:简答题(共5题,每题10分,共50分)1. 简述材料现代测试分析的意义和应用范围。

2. 请列举并解释任意两种材料现代测试分析方法。

3. 简述扫描电子显微镜分析的原理和应用领域。

现代化材料分析测试方法期末试题及解答

现代化材料分析测试方法期末试题及解答

现代化材料分析测试方法期末试题及解答试卷分析本试卷主要考察了现代化材料分析测试方法的基本概念、原理、技术及其应用。

试题涵盖了各种测试方法的特点、优缺点、适用范围以及相关设备的操作和维护等内容。

试题部分一、选择题(每题2分,共20分)1. 下列哪一项不属于材料分析测试方法的分类?A. 物理方法B. 化学方法C. 力学方法D. 生物学方法2. 扫描电子显微镜(SEM)的分辨率通常高于透射电子显微镜(TEM)。

其主要原因是?A. 加速电压更高B. 样品制备更简单C. 电磁透镜的放大倍数更大D. 信号采集方式更优越3. 在能谱分析中,能量色散谱(EDS)与波谱分析(WDS)的主要区别是什么?A. 能量分辨率不同B. 信号采集方式不同C. 检测元素种类不同D. 谱图形态不同4. 以下哪种测试方法可以同时获得材料的微观形貌和成分信息?A. X射线衍射B. 光学显微镜C. 扫描电子显微镜D. 原子力显微镜5. 某同学在使用X射线光电子能谱(XPS)进行分析时,发现获取的信号强度较低。

可能的原因是?A. 样品制备不充分B. 仪器灵敏度不够C. 加速电压设置不当D. 样品与仪器接触不良二、简答题(每题5分,共25分)6. 请简述透射电子显微镜(TEM)的工作原理及其在材料分析中的应用。

7. 什么是拉曼光谱?请列举其在材料分析中的应用。

8. 请简述原子力显微镜(AFM)的工作原理及其在材料分析中的优势。

三、论述题(每题10分,共30分)9. 论述能谱分析(EDS)在材料分析中的应用范围及其局限性。

10. 结合实际情况,论述现代化材料分析测试方法在科研和工业领域的应用前景。

答案部分一、选择题答案1. D2. D3. A4. C5. B二、简答题答案6. 透射电子显微镜(TEM)的工作原理是利用电子束透过样品,样品对电子束产生散射和吸收,形成衍射图样和吸收图像。

在材料分析中,TEM可以用于观察材料的微观结构、晶体学分析、相变研究等方面。

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案

期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案第一部分:选择题1. 在材料现代测试分析方法中,下列哪种方法可以用来确定材料的成分?- A. 热分析法- B. 机械测试法- C. 磁性测试法- D. 光谱分析法- 答案:D2. 材料现代测试分析方法的主要目的是什么?- A. 确定材料的力学性能- B. 分析材料的热性能- C. 评估材料的化学稳定性- D. 确定材料的组成和结构- 答案:D3. 以下哪种测试方法可以用来评估材料的耐腐蚀性能?- A. 硬度测试- B. 疲劳测试- C. 电化学测试- D. 热膨胀测试- 答案:C4. 材料的断裂韧性可以通过下列哪种测试方法进行评估?- A. 硬度测试- B. 拉伸测试- C. 冲击测试- D. 磁性测试- 答案:C5. 下列哪种测试方法可以用来评估材料的疲劳寿命?- A. 硬度测试- B. 拉伸测试- C. 冲击测试- D. 疲劳测试- 答案:D第二部分:简答题1. 简要解释材料现代测试分析方法的定义和作用。

答案:材料现代测试分析方法是一种使用现代科学技术手段对材料进行分析和测试的方法。

它的作用是确定材料的组成、结构和性能,以便评估材料的适用性和可靠性。

2. 举例说明材料现代测试分析方法在工程领域中的应用。

答案:材料现代测试分析方法在工程领域中有广泛的应用。

例如,在航空航天工程中,可以使用材料现代测试分析方法来评估航天器的耐热性能和抗腐蚀性能,以确保航天器在极端环境下的安全运行。

在建筑工程中,可以使用材料现代测试分析方法来评估建筑材料的力学性能和耐久性,以确保建筑物的结构安全可靠。

3. 请简要描述一种材料现代测试分析方法,并说明其适用性。

答案:一种材料现代测试分析方法是扫描电子显微镜(SEM)分析。

它通过扫描材料表面并记录电子显微图像,可以对材料的形貌、结构和成分进行分析。

SEM分析适用于对材料的微观结构和成分进行研究,可以用于材料的质量控制、故障分析和新材料的研发。

现代材料分析期末试题及答案

现代材料分析期末试题及答案

现代材料分析期末试题及答案文中为了方便阅读,以下试题和答案以表格形式展示,每个问题后面紧跟着对应的答案。

试题:1. 简述材料分析的定义和目的。

2. 请列举常用的材料分析方法及其原理。

3. 什么是扫描电子显微镜(SEM)?简述其工作原理。

4. 请描述二次离子质谱(SIMS)的原理和应用。

5. 简要介绍透射电子显微镜(TEM)的原理与特点。

6. 现代材料分析在材料科学研究和工程应用中的重要性。

答案:1. 材料分析是通过对材料进行测试和研究,以获取关于材料化学成分、微结构和性质等方面的信息的科学方法。

其目的是为了了解材料的组成、结构和性能,以帮助解决材料相关问题和优化材料的设计与应用。

2. 常用的材料分析方法及其原理包括:- X射线衍射(XRD):利用材料中晶格的周期性排列产生的衍射现象,分析材料的晶体结构和晶体取向。

- 扫描电子显微镜(SEM):利用电子束与材料相互作用的信号,获得材料的表面形貌、元素分布和晶粒结构等信息。

- 透射电子显微镜(TEM):利用电子束通过材料的透射或散射,观察材料的微观结构、晶体缺陷等。

- 能谱分析(EDS):在扫描电子显微镜(SEM)等仪器中,通过分析电子束与材料相互作用所产生的能量损失,确定样品中元素的种类和含量。

- 热重分析(TG):通过持续加热或冷却材料,并测定其质量变化,分析材料的热稳定性、热分解反应和含水量等。

- 红外光谱(IR):利用材料对红外辐射的吸收和散射,分析材料的化学结构和功能基团等。

3. 扫描电子显微镜(SEM)是一种利用电子束与材料作用产生的信号来观察样品表面形貌和元素分布的仪器。

它的工作原理是: - 使用电子枪产生高能电子束。

- 电子束经过透镜系统聚焦并打到样品表面。

- 与样品相互作用的电子束与样品表面的物质相互作用,产生多种信号,例如二次电子、反射电子、散射电子和X射线等。

- 探测器接收这些信号,并将信号转化为图像或者能量谱图等数据形式。

- 经过信号处理和图像重建处理后,我们可以观察到样品表面的形貌、元素分布、晶粒结构等信息。

期末考试卷-现代材料测试分析法与答案

期末考试卷-现代材料测试分析法与答案

期末考试卷-现代材料测试分析法与答案一、选择题1. 下列哪种测试方法不适用于现代材料的分析?A. X射线衍射B. 热重分析C. 磁力显微镜观察D. 电子显微镜观察正确答案:C2. 现代材料测试分析法的目的是什么?A. 确定材料的物理性质B. 评估材料的化学成分C. 分析材料的力学性能D. 检测材料的表面缺陷正确答案:B3. 下列哪种测试方法可以用于测定材料的热稳定性?A. 热重分析B. 磁力显微镜观察C. X射线衍射D. 电子显微镜观察正确答案:A4. 现代材料测试分析法中,常用的表面缺陷检测方法是:A. 热重分析B. 磁力显微镜观察C. X射线衍射D. 电子显微镜观察正确答案:B5. X射线衍射是一种常用的测试方法,其主要用途是:A. 分析材料的化学成分B. 检测材料的表面缺陷C. 确定材料的物理性质D. 分析材料的晶体结构正确答案:D二、简答题1. 简要说明热重分析的原理和应用。

热重分析是一种通过测量材料在加热过程中质量的变化来分析材料性质的方法。

它基于材料在不同温度下的热稳定性不同的原理,通过测量样品在加热过程中的质量变化来评估材料的热稳定性。

热重分析广泛应用于材料科学、化学工程和环境科学等领域,用于研究材料的热分解、热失重、腐蚀性等性质。

2. 简要说明磁力显微镜观察的原理和应用。

磁力显微镜观察是一种通过使用磁场来观察材料的磁性和磁结构的方法。

它利用材料的磁性与磁场的相互作用,通过观察材料在磁场中的行为来推断材料的磁性和磁结构。

磁力显微镜观察广泛应用于材料科学、磁学和电子学等领域,用于研究材料的磁性、磁相变、磁畴结构等性质。

三、解答题1. 现代材料测试分析法存在哪些优势?现代材料测试分析法具有以下优势:- 准确性:现代测试方法能够提供精确的数据和结果,用于准确评估材料的性能和特性。

- 高效性:现代测试方法通常能够在短时间内完成测试,提高了工作效率。

- 非破坏性:大部分现代测试方法是非破坏性的,可以对材料进行分析而不损坏其结构和性能。

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材料现代分析方法期末考试题与答案work Information Technology Company.2020YEAR1.名词解释:相干散射(汤姆逊散射):入射线光子与原子内受核束缚较紧的电子(如内层电子)发生弹性碰撞作用,仅其运动方向改变而没有能量改变的散射。

又称弹性散射;不相干散射(康普顿散射):入射线光子与原子内受核束缚较弱的电子(如外层电子)或晶体中自由电子发生非弹性碰撞作用,在光子运动方向改变的同时有能量损失的散射。

又称非弹性散射;荧光辐射:物质微粒受电磁辐射激发(光致激发)后辐射跃迁发射的光子(二次光子)称为荧光或磷光,吸收一次光子与发射二次光子之间延误时间很短(10-8~10-4s)称荧光,延误时间较长(10-4~10s)则为磷光;(有待确定)俄歇效应:如原子的退激发不以发射X射线的方式进行则将以发射俄歇电子的德方式进行,此过程称俄歇过程或俄歇效应;吸收限:当入射X射线光子能量达到某一阈值可击出物质原子内层电子时,产生光电效应。

与此能量阈值相应的波长称为物质的吸收限。

晶面指数与晶向指数:为了表示晶向和晶面的空间取向(方位),采用统一的标识,称为晶向指数和晶面指数;晶带:晶体中平行于同一晶向的所有晶面的总体干涉面:晶面间距为d HKL/n、干涉指数为nh、 nk、 nl的假想晶面称为干涉面X射线散射:X射线衍射:X射线反射:结构因子:晶胞沿(HKL)面反射方向的散射波即衍射波F HKL是晶胞所含各原子相应方向上散射波的合成波,表征了晶胞的衍射强度;多重因子:通常将同一晶面族中等同晶面组数P称为衍射强度的多重性因数。

罗仑兹因子:系统消光:因︱F︱2=0而使衍射线消失的现象称为系统消光。

2.讨论下列各组概念中二者之间的关系:1)同一物质的吸收谱和发射谱;答:当构成物质的分子或原子受到激发而发光,产生的光谱称为发射光谱,发射光谱的谱线与组成物质的元素及其外围电子的结构有关。

吸收光谱是指光通过物质被吸收后的光谱,吸收光谱则决定于物质的化学结构,与分子中的双键有关。

2)X射线管靶材的发射谱与其配用的滤波片的吸收谱。

答:可以选择λK刚好位于辐射源的Kα和Kβ之间的金属薄片作为滤光片,放在X射线源和试样之间。

这时滤光片对Kβ射线强烈吸收,而对Kα吸收却少。

3.X射线的本质是什么?答:X射线是一种电磁波,有明显的波粒二象性。

4.如何选用滤波片的材料?如何选用X射线管的材料?答:选择λK刚好位于辐射源的Kα和Kβ之间的金属薄片作为滤光片,滤波片是根据靶元素确定的。

经验规律:当靶固定后应满足当Z 靶<40时,则Z片=Z靶–1;当Z靶≥40时,则Z片=Z靶–2;若试样的K系吸收限为λK,应选择靶的Kα波长稍大于并尽量靠近λK,这样不产生荧光,并且吸收又最小。

经验公式:Z靶≤Z试样+1。

5.实验中选择X射线管以及滤波片的原则是什么?已知一个以Fe为主要成分的样品,试选择合适的X射线管和合适的滤波片。

答:实验中选择X射线管的原则是为避免或减少产生荧光辐射,应当避免使用比样品中主元素的原子序数大2~6(尤其是2)的材料作靶材的X射线管。

选择滤波片的原则是X射线分析中,在X射线管与样品之间一个滤波片,以滤掉Kβ线。

滤波片的材料依靶的材料而定,一般采用比靶材的原子序数小1或2的材料。

以分析以铁为主的样品,应该选用Co或Fe靶的X射线管,同时选用Fe和Mn为滤波片。

6.试画出下列晶向及晶面(均属立方晶系):[111],[121],[21],(00),[110],(123),(21)。

答:(晶面),[晶向],图见书16页7.下面是某立方晶系物质的几个晶面,试将它们的面间距从大到小按次序重新排列:(12),(100),(200),(11),(121),(111),(10),(220),(130),(030),(21),(110)。

答:,它们的面间距从大到小按次序是:(100)、(110)、(111)、(200)、(-210)、(121)、(220)、(2-21)、(030)、(130)、(-311)、(12-3)。

8.证明()、()、()晶面属于[111]晶带。

答:已知一个晶面 (hkl) 和它所属的晶带[uvw],根据解析几何中直线与平面的关系,从很容易得到二者之间的关系:hu+kv+lw=0通常把这个关系式称为晶带定律。

9.判别下列哪些晶面属于[11]晶带:(0),(1),(231),(211),(01),(13),(12),(12),(01),(212)。

答:公式如8题。

10.晶面(110)、(311)、(132)是否属于同一晶带晶带轴是什么再指出属于这个晶带的其他几个晶面。

答:公式如8题,貌似题目有问题11.试计算(11)及(2)的共同晶带轴。

答:公式如8题,[112]12.试述布拉格公式2dHKLsinθ=λ中各参数的含义,以及该公式有哪些应用?答:d HKL表示HKL晶面的面间间距,θ角表示掠过角或布拉格角,即入射X射线或衍射线与面间间的夹角,λ表示入射X射线的波长。

该公式有二个方面用途:(1)已知晶体的d值。

通过测量θ,求特征X射线的λ,并通过λ判断产生特征X射线的元素。

这主要应用于X射线荧光光谱仪和电子探针中。

(2)已知入射X射线的波长,通过测量θ,求晶面间距。

并通过晶面间距,测定晶体结构或进行物相分析。

13.当波长为λ的X射线在晶体上发生衍射时,相邻两个(hkl)晶面衍射线的波程差是多少?相邻两个HKL干涉面的波程差又是多少?答:当波长为λ的X射线照射到晶体上发生衍射,相邻两个(hkl)晶面的波程差是nλ,相邻两个(HKL)晶面的波程差是λ14.“一束X射线照射一个原子列(一维晶体),只有镜面反射方向上才有可能产生衍射线”,此种说法是否正确?答:不正确,因为一束X射线照射一个原子列上,原子列上每个原子受迫都会形成新的X射线源向四周发射与入射光波长一致的新的X射线,只要符合光的干涉三个条件(光程差是波长的整数倍),不同点光源间发出的X射线都可产生干涉和衍射。

镜面反射,其光程差为零,是特殊情况。

15.α-Fe属立方晶系,点阵参数a=0.2866nm。

如用CrKαX射线(λ=0.2291nm)照射,试求(110)、(200)及(211)可发生衍射的掠射角。

答:,2d HKL sinθ=λ,得θ16.原子散射因数的物理意义是什么某元素的原子散射因数与其原子序数有何关系答:原子散射因数f 是以一个电子散射波的振幅为度量单位的一个原子散射波的振幅。

也称原子散射波振幅。

它表示一个原子在某一方向上散射波的振幅是一个电子在相同条件下散射波振幅的f倍。

它反映了原子将X射线向某一个方向散射时的散射效率。

原子散射因数与其原子序数有何关系,Z越大,f 越大。

因此,重原子对X射线散射的能力比轻原子要强。

17.总结简单点阵、体心点阵和面心点阵衍射线的系统消光规律。

答:简单点阵不存在系统消光,体心点阵衍射线的系统消光规律是(h+k+l)偶数时出现反射,(h+k+l)奇数时消光。

面心点阵衍射线的系统消光规律是h,k,l全奇或全偶出现反射,h,k,l有奇有偶时消光。

18.洛伦兹因数是表示什么对衍射强度的影响其表达式是综合了哪几个方面考虑而得出的答:罗仑兹因数是三种几何因子对衍射强度的影响,第一种几何因子表示衍射的晶粒大小对衍射强度的影响,罗仑兹第二种几何因子表示晶粒数目对衍射强度的影响,罗仑兹第三种几何因子表示衍射线位置对衍射强度的影响。

19.试述衍射强度公式中各参数的含义?答:X射线衍射强度的公式式中各参数的含义是:I0为入射X射线的强度;λ为入射X射线的波长;R为试样到观测点之间的距离;V为被照射晶体的体积;V c为单位晶胞体积;P为多重性因子,表示等晶面个数对衍射强度的影响因子;F为结构因子,反映晶体结构中原子位置、种类和个数对晶面的影响因子;A(θ)为吸收因子,圆筒状试样的吸收因子与布拉格角、试样的线吸收系数μl和试样圆柱体的半径有关;平板状试样吸收因子与μ有关,而与θ角无关。

φ(θ)为角因子,反映样品中参与衍射的晶粒大小,晶粒数目和衍射线位置对衍射强度的影响;e-2M为温度因子20.某斜方晶体晶胞含有两个同类原子,坐标位置分别为:(,,1)和(,,),该晶体属何种布拉菲点阵?写出该晶体(100)、(110)、(211)、(221)等晶面反射线F2值。

答:F=fe2PI i(3/4H+3/4K+L)+fe2PI i(1/4H+1/4K+1/2L)(100),F=0, F2=0;(110),F=-2f, F2=4f2;(211),F=2f, F2=4f2;(221),F=0, F2=021.说明原子散射因子、结构因子F 、结构振幅各自的物理意义。

答:原子散射因子:原子散射振幅与电子散射波振幅之比f=E_a/E_e 结构因子:晶胞所含个原子相应方向上散射波的合成波。

结构振幅:晶胞散射波幅和电子散射波幅振幅之比│F│=E_b/E_e干涉函数:小晶体散射波强度与晶胞散射波强度之比│G│^2=I_m/I_b22.金刚石晶体属面心立方点阵,每个晶胞含8个原子,坐标为:(0,0,0)、(,,0)、(,0,)、(0,,)、(,,)、(,,)、(,,)、(,,)原子散射因子a ,求其系统消光规律(F 2最简表达式),并据此说明结构消光的概念。

答: = 式中|Fs|为晶体点阵中各结点的结构振幅,|Fc| 为晶胞的结构振幅。

由上式可知,|Fs|2=0 或|Fc|2=0均可使|F(hkl)|2=0,从而使上式晶体衍射线强度I c 为零,这种满足布喇格方程条件但衍射线强度为零的现象称之为消光。

晶体所属的点阵类型不同,使|F c |2=0的h 、k 、l c |F s |2=0的指数规律不同,所以,称|F c |2=0的条件为点阵消光条件;|F(hkl)|2=0的条件为结构消光条件。

实际晶体中,位于阵点上的结构基元若非由一个原子组成,则结构基元内各原子散射波间相互干涉也可能产生F 2=0的现象。

此种在点阵消光的基础上,因结构基元内原子位置不同而进一步产生的附加消光现象,称为结构消光(补充)。

23.“衍射线在空间的方位仅取决于晶胞的形状与大小,而与晶胞中的原子位置无关;衍射线的强度则仅取决于晶胞中原子位置,而与晶胞形状及大小无关”,此种说法是否正确?答:衍射线在空间的方位主要取决于晶体的面间间距,或者晶胞的大小。

衍射线的强度主要取决于晶体中原子的种类和它们在晶胞中的相对位置。

(有待补充)24.用单色X 射线照射圆柱多晶体试样,其衍射线在空间将形成什么图案为摄取德拜图相,应当采用什么样的底片去记录答:用单色X 射线照射圆柱多晶体试样,其衍射线在空间将形成一组锥心角不等的圆锥组成的图案;为摄取德拜图相,应当采用带状的照相底片去记录。

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