真空镀膜之基础与应用
真空镀膜技术基础篇
磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长 产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为 最具发展前途的重要技术之一 ，并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市
③膜和基体附着强度好，膜层牢固． ④不产生废液，可避免对环境的污染．
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二、真空镀膜技术及其特点
表一：镀膜方法比较
项目 电镀法
原理
待镀物件 镀膜材料
镀层
应用
操作条件
真空vacuum：在指定空间内，低于环境大气压力的气体状态。
真空度degree of vacuum：表示真空状态下气体的稀薄程度，通常用压力值来表示。
真空区域ranges of vacuum：真空区域大致划分如下：
真空区域
低真空 中真空 高真空 超高真空
压力
Pa 105～102 102～10-1 10-1～10-5 〈10-5
反应性真空溅射 reactive vacuum sputtering：通过与气体的反应获得理想化学成 分的膜层材料的真空溅射。
物理气相沉积；PVD physical vapor deposition：在真空状态下，镀膜材料经蒸发 或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。
化学气相沉积；CVD chemical vapor deposition：一定化学配比的反应气体，在特 定激活条件下（通常是一定高的温度），通过气相化学反应生成新的膜层材料沉积 到基片上制取膜层的一种方法。
真空镀膜机相关知识简单介绍
真空镀膜机相关知识简单介绍真空镀膜机是一种常见的表面处理设备，用于给各种物体表面镀上不同的金属、化合物或其他材料，以改变物体的物理性质和化学性质。
本文将介绍真空镀膜机的基本原理、应用领域和主要组成部分。
基本原理真空镀膜机利用真空环境下金属或其他材料的蒸发性质，通过加热材料在真空室内蒸发，使蒸汽在真空室内扩散、沉积在物体表面，形成一层非常薄的镀层。
通俗地说，真空镀膜就是将一种材料“喷”到另一种材料上，形成一层新的物质。
在真空中，各种气体的压强和密度非常低，因此可以有效地防止被镀物表面吸收其它气体，避免对镀层的影响。
出于安全考虑，通常采用金属或化合物中的稳定元素进行镀膜。
应用领域真空镀膜机广泛应用于不同行业，包括但不限于：1.电子器件制造业。
例如，应用在LED、红外传感器、太阳能电池、太赫兹探测器、光电器件中等的金属薄膜制备。
2.制品装饰领域。
例如，应用于家具、灯饰、珠宝、手表、手机外壳等产品的表面镀膜。
3.化工和材料科学领域。
例如，应用在新材料的制备、研究和改性中。
主要组成部分真空镀膜机通常由以下几个主要组成部分构成：1.真空室：是镀膜的核心部分。
真空室通常采用不同材质，如不锈钢、玻璃、陶瓷、石英等。
真空室外设有加热器和冷却器以调节温度。
2.加热系统：主要用于加热镀膜材料并使其蒸发。
加热系统应具有精度、稳定性和安全性。
3.泵、管道和阀门：主要用于真空室内气体的排放和进出口控制。
4.控制系统：用于控制加热、通气和真空度等参数。
5.监控系统：用于监控真空度、温度、压力等参数。
通常采用传感器和计算机技术，在运行时实时监测并反馈给操作者。
总结真空镀膜机作为一种常见的表面处理设备，具有广泛的应用领域和多样化的镀膜材料选择。
运用科学的理论和技术，充分掌握真空镀膜机的基本原理和组成部分，可以达到更高的制备效率和更好的镀膜效果。
培训系列之真空镀膜技术基础
真空镀膜技术的材料
金属材料：如金、银、铜等，具有良好的导电性和反射性
非金属材料：如碳、氮、氧等，可以用于制造各种薄膜
陶瓷材料：如氧化铝、氧化硅等，具有较高的硬度和耐腐蚀性
玻璃材料：如硼硅酸盐玻璃、石英玻璃等，具有较好的透过性和化学 稳定性
高分子材料：如聚乙烯、聚四氟乙烯等，具有较好的柔韧性和耐候性
真空镀膜技术的基本原理是利用 物理或化学方法，将材料从蒸发 源或溅射源中蒸发或溅射出来， 然后在真空中沉积到基底表面。
空镀膜技术的应用领域
光学应用：提高光学元件的 透过率和反射率
电子应用：提高电子元件的 导电性和绝缘性
装饰应用：为金属表面赋予 美丽的外观和耐腐蚀性
机械应用：提高机械零件的 硬度和耐磨性
薄膜质量高：真空镀膜技术可以获得高质量的薄膜，具有高纯度、高密度和良好的 均匀性。
适用范围广：真空镀膜技术可以应用于各种材料表面，如金属、陶瓷、玻璃等，并 且可以制备多种功能的薄膜，如金属膜、介质膜、半导体膜等。
操作简便：真空镀膜技术操作简单，易于控制，可以连续稳定地生产高质量的薄膜。
环保性好：真空镀膜技术是一种环保型的生产技术，不会产生有害物质，对环境和 人体健康没有负面影响。
真空技术：真空镀膜技 术的基本原理是利用真 空技术，在真空环境下 进行薄膜的沉积。
薄膜沉积：在真空环境 下，通过蒸发、溅射、 化学气相沉积等方法， 将材料沉积在基底表面 形成薄膜。
物理过程：薄膜的 沉积过程涉及物理 和化学过程，如分 子运动、表面吸附、 化学反应等。
薄膜特性：真空镀膜技 术可以制备出具有优异 性能的薄膜，如高硬度、 高耐磨性、高耐腐蚀性 等。
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真空镀膜技术基 础
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《真空镀膜技术》课件
镀膜时间过长或过短都会影响薄膜的 质量和性能，需要根据工艺要求进行 选择。
04
真空镀膜技术的研究进展
高性能薄膜材料的制备与应用
高性能薄膜材料的制备
随着科技的发展，真空镀膜技术已经能够制备出具有优异性能的薄膜材料，如金刚石薄膜、类金刚石 薄膜、氮化钛薄膜等。这些高性能薄膜材料在刀具、模具、航空航天等领域具有广泛的应用前景。
详细描述
金属薄膜主要用于制造各种电子器件，如集 成电路、微电子器件、传感器等。通过在电 子器件表面镀制金属薄膜，可以起到导电、 导热、抗氧化等作用，提高电子器件的性能 和稳定性。此外，金属薄膜还可以用于制造
磁性材料，如磁记录介质、磁流体等。
功能薄膜的制备与应用
要点一
总结词
功能薄膜在真空镀膜技术中具有广泛的应用前景，可用于 制造各种新型材料和器件。
VS
面临的挑战
尽管真空镀膜技术具有广泛的应用前景和 巨大的发展潜力，但仍面临许多挑战和难 点。例如，如何提高薄膜的附着力和稳定 性、如何降低生产成本和提高生产效率等 。
05
真空镀膜技术的应用实例
光学薄膜的制备与应用
总结词
光学薄膜在真空镀膜技术中具有广泛应用， 主要用于提高光学器件的性能和降低光损失 。
光学领域
用于制造光学元件，如反射镜 、光学窗口等，提高其光学性 能和抗磨损能力。
建筑领域
用于建筑玻璃、陶瓷等材料的 表面装饰和防护，提高其美观 度和耐久性。
02
真空镀膜技术的基本原理
真空环境的形成与维持
真空环境的形成
通过机械泵、分子泵、离子泵等抽气 设备，将容器内的气体逐渐抽出，形 成真空状态。
关闭加热系统和真空泵， 完成镀膜过程。
真空镀膜实验报告
真空镀膜实验报告真空镀膜实验报告引言：真空镀膜技术是一种将金属薄膜沉积在基材表面的方法，通过控制沉积参数和真空环境，可以获得具有特殊功能和性能的薄膜材料。
本实验旨在探究真空镀膜技术的原理和应用，以及分析实验结果。
一、实验原理真空镀膜技术是利用真空环境下的物理或化学过程，在基材表面形成一层金属薄膜。
实验中，我们使用了蒸发镀膜的方法。
首先，将金属材料（如铝）置于真空腔体中的加热器内，然后加热金属材料，使其蒸发成气体。
蒸发的金属气体通过减压系统，进入到基材表面，形成金属薄膜。
二、实验步骤1. 准备基材：将需要镀膜的基材（如玻璃片）进行清洗和处理，以确保表面干净和平整。
2. 装置真空镀膜设备：将基材放置在真空腔体中，确保基材与蒸发源之间的距离适当，并调整真空度。
3. 加热蒸发源：打开加热器，将金属材料加热至蒸发温度，使其蒸发成气体。
4. 控制沉积速率：通过控制蒸发源的温度和真空度，调节金属气体的流量和速率，以控制金属薄膜的厚度和均匀性。
5. 结束镀膜：达到所需的薄膜厚度后，关闭加热器和真空泵，待系统冷却后取出基材。
三、实验结果与分析通过实验，我们成功制备了一层铝薄膜。
观察镀膜表面，可以发现薄膜均匀、光滑，并且与基材紧密结合。
这是因为在真空环境下，金属气体分子自由扩散，避免了空气中的杂质和氧化物对薄膜形成的干扰。
此外，薄膜的厚度也可以通过调节蒸发源的温度和时间来控制，实验中我们制备了不同厚度的铝薄膜。
四、应用前景真空镀膜技术在许多领域具有广泛的应用前景。
首先，它可以用于制备具有特殊功能的薄膜材料，如防反射涂层、导电薄膜、光学滤波器等，广泛应用于光学、电子、航空航天等领域。
其次，真空镀膜技术还可以用于改善材料的表面性能，如增加材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性等。
此外，真空镀膜技术还可以用于制备纳米材料和纳米结构，用于研究纳米尺度下的物理和化学性质。
结论：通过本次实验，我们深入了解了真空镀膜技术的原理和应用。
实验结果表明，真空镀膜技术可以制备出具有特殊功能和性能的薄膜材料，并且具有广泛的应用前景。
光学真空镀膜原理应用光谱培训
光学真空镀膜原理应用光谱培训一、引言光学真空镀膜是一种将金属薄膜蒸发到基板表面，从而形成光学薄膜的技术。
在光谱领域，光学薄膜通常用于制造滤光片、反射镜、抗反射镜等光学元件。
在光学薄膜应用中，了解其原理和光谱性能对于从事光学工程的人员至关重要。
因此，光学真空镀膜原理应用光谱培训成为了一个热门话题。
二、光学真空镀膜原理光学真空镀膜是通过真空蒸发技术将金属薄膜沉积到基板表面上，以改变基板表面的光学性能。
其原理主要包括蒸发源、基板、真空系统和控制系统四个方面。
蒸发源是提供蒸发材料的平台，通过加热将蒸发材料转化为蒸汽进行沉积；基板是接收蒸发材料的表面，其材料和形状会影响光学薄膜的性能；真空系统是提供高真空环境的设备，用于保证蒸发材料的纯净度和沉积膜层的致密性；控制系统是对蒸发源、基板和真空系统进行操作和监控的程序。
三、光学薄膜的应用光学薄膜的应用范围非常广泛，主要包括滤光片、反射镜、抗反射镜、光学膜片等领域。
在这些应用中，光学薄膜主要发挥了波长选择、反射、透射和吸收等特性。
例如，在滤光片中，可以利用光学薄膜的反射特性来实现波长的选择性；在反射镜中，可以利用光学薄膜的反射特性来实现高反射率；在抗反射镜中，可以利用光学薄膜的透射特性来减少光学器件的反射损失。
四、光学真空镀膜的光谱性能光学真空镀膜的光谱性能主要包括透射率、反射率、吸收率和相位变化等指标。
这些指标是用来评价光学薄膜在特定波长下的光学特性的重要参数。
透射率是表示光线从光学薄膜表面透过的比例，反射率是表示光线从光学薄膜表面反射的比例，吸收率是表示光线被光学薄膜吸收的比例，相位变化是表示光线经过光学薄膜后的相位变化。
五、光学真空镀膜的培训和研究光学真空镀膜的培训和研究主要包括对其原理、设备和应用进行系统的学习和实践。
在培训中，学员可以通过理论课程和实验操作来熟悉光学薄膜的制备工艺和光学性能测试。
在研究中，学者可以对光学薄膜的制备过程和机理进行深入探讨，以及开发新的光学薄膜材料和工艺。
pvd真空镀膜原理
pvd真空镀膜原理
PVD真空镀膜原理是基于物理气相沉积（PVD）技术的一个镀膜过程。
在该过程中，通过将材料加热到高温，并在低压下蒸发，形成薄膜并沉积在物体表面。
本文将详细阐述PVD真空镀膜原理及其应用。
一、准备工作
首先，需要将所需材料加入到熔融或固态加热器中，并将试件放置在沉积室内。
在开始蒸发前，需要将原料加热到一定温度，以使其变为蒸汽。
同时，要保证沉积室内的低压状态，使蒸发出的原料可以被吸附在试件表面。
二、蒸发过程
在低压状态下，原料加热器的温度升高，形成蒸汽。
蒸汽会沉积在试件表面，形成一个薄膜。
原料进入室内后首先经过气体介质，达到前室与后室间相对稳定的负压状态，然后通过中介层传递到材料表面，沉积在表面上形成膜层。
三、膜层形成
蒸发速率和失踪速率是影响膜层形成的两个主要因素。
如果蒸发速率比失踪速率快，就会在试件表面形成薄膜。
如果失踪速率比蒸发速率快，试件表面就不会形成薄膜。
因此，需要准确控制压力和温度，以保证形成均匀和质量稳定的薄膜。
四、应用
PVD真空镀膜技术广泛应用于表面处理、防腐蚀、电子器件等领域。
例如，在电子器件领域中，可以使用该技术制造光阴极、太阳能电池、LED、半导体器件等。
在航空、汽车、医疗等领域中，也可以使用它来提高材料的耐磨性、抗腐蚀性等性能。
总之，PVD真空镀膜技术是一种高效、环保和可靠的表面处理技术。
通过准确控制蒸发速率和失踪速率，可以形成具有高质量和均匀性的薄膜，大大提高了材料的性能和实用性。
真空镀膜技术基础
真空镀膜技术基础1.采用什么镀膜机？光学镀膜机多是基于PVD，即物理气相沉积的镀膜机。
国产机以南光和北仪为代表，进口机以德国的莱宝机，美国的Vecco机和日本的光驰机、昭和机为代表。
2.采用什么样的膜料气汽化方式？对于物理气相沉积型真空镀膜机，有三种汽化方式：热蒸发，溅射，离子镀。
目前国内在光学真空镀膜方面多采用热蒸发的方式。
溅射技术以磁控溅射为代表，溅射和离子镀的方式在大批量生产的表面处理、太阳能电池板生产中应用较多。
热蒸发又分为四种方式：电阻加热，电子束加热，电磁感应加热和激光束加热。
四种方式各有特点和优势，电磁感应加热适合大规模连续型设备，并且只能镀金属膜料；激光束加热方式目前尚不成熟；电阻加热方式使用最早，但不适合高熔点膜料，自动化程度低，适合镀制金属膜和膜层较少的膜系；电子束加热方式使用电子枪产生电子束通过聚焦集中于膜料上进行加热，该方法应用最广，自动化程度高，技术成熟。
3.如何精确控制膜层厚度？膜层厚度的控制方法有：目视法、光电极值法，石英晶振法和全光谱在线控制法等。
目视法最早应用，适合于膜层较少的可见光波段的膜系，人为误差较大；全光谱在线控制法适合宽波段膜系的镀制，可以实时反馈及时修正误差，但目前上不普及；光电极值法适合镀制单点要求的膜系，自动化程度不高；石英晶振法自动化程度最高，应用最为普及，他采用石英晶体的振动频率和质量的相关性来测定膜层的质量，从而根据密度换算成物理厚度。
采用石英晶振法控制膜层厚度，和电子束加热的方式相配合，可以实现镀制过程的高度自动化，确保工艺的重复性。
采用美国生产的360石英晶体控制仪，石英晶体探头表面镀金，其振动信号转换成电信号后，经后续电路处理，输入360石英晶体控制仪，实时输出结果，并反馈调节电子束能量，形成闭环控制，确保膜厚控制的精度。
4.如何加强曲面镀膜均匀性？理论上，当蒸发源为点源时，被镀件和蒸发源距离一样时满足均匀性，即蒸发源位于球心，被镀件位于同一球面；当蒸发源为面源时，符合余弦分布，既蒸发源和被镀件位于同一球面。
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– 以KHz為主 – 50KHz、100KHz、200KHz、300KHz為代表
• 直流電漿(Direct Current,簡稱DC)
– 頻率為0
3.3 真空電漿技術-濺鍍
3.3.1 雙靶濺鍍 3.3.2 電漿製程控制 3.3.3 電源供應器
Field Emission Panel
Electroluminiscence Display
Plasma Adresse Liquid Crystal Display
Multi Chip Modules Flex
Layer types
ITO, SiO2, Cr, CrOxNy, T-layer, Al, Ti, Ta, Mo
3.4.5 應用範圍
發光二極體與雷射 半導體
太陽能電池 平面顯像器
真空鍍膜 光碟與硬碟
微機電 光學元件 觸控面板 其他
3.4.6 產業範例1
3.4.7 產業範例2
4. 結論
• 真空鍍膜工業為高科技之基礎工業 • 真空電漿技術掌控目前與未來的科技發展 • 需要產官學合作投入更多的人力來發展本土技術 • 積極建立自主性、本土化的真空鍍膜工業
– 總和電性為零(中性)
3.2 電漿的存在
• 大自然
– 太陽：融熔態的電漿體
– 彗星的離子尾巴
– 南北極的極光
– 大氣的閃電
– 太空(95%以上)
• 電離層(通訊用的電波反射 層)
– 離地表300~500公里上空， 稀薄的大氣分子受到太陽光 中強大能量的ｘ光、超紫外 線及紫外線的照射，而離化 成電漿態
太陽能電池與平面顯示器生產線
3.4.3 捲膜式濺鍍系統
ITO PET捲膜生產線
3.4.4 應用的膜層種類
Display types
Liquid Crystal Display (TN, STN, TFT, Color Filter and Black Matrix) Plasma Display Panel
3.2.1.1 真空技術
• 真空腔體
• 抽氣系統
– SUS304、SUS316、石 英、玻璃、鋁合金
– 氣密 • O-ring (KF法蘭)
– 低真空(760~10-4 torr)
• 機械油迴轉幫浦 • 魯式助力幫浦 • 乾式迴轉幫浦
• 無氧銅Gasket(CF法蘭) • Load-Lock(閘閥)
待鍍物
工作壓力: 10-1~10-3 torr
2.1.4 多弧離子鍍膜 Multi-arc deposition
• 切削刀具 • 超硬鑽頭 • 外觀裝飾鍍膜
2.2 化學氣相沉積CVD (Chemical Vapor Deposition)
矽
氧 待鍍物
氣體噴嘴
RF電源
偏壓載具
工作壓力: 10-1~10-3 torr
3.3.3.4 電弧消除
3.4 產業應用實例-濺鍍
3.4.1 水平連續式濺鍍系統---垂直濺鍍
• 大樓帷幕玻璃(能源玻璃:Low-e glass) • 電腦護目鏡(鏡面與抗反射鍍膜) • 高階光學用途之反射鏡、濾光片
3.4.2 垂直連續式濺鍍系統---水平濺鍍
• STN、TFT、Color Filter • PDP • Solar Cell
• 日常生活中的電漿
– 日光燈、霓虹燈
– 鹵素燈：水銀燈、汞燈、疝 燈、HID (High Intensity Discharge)
– PDP電漿電視-Plasma Discharge Panel
– 傳統陰極射線管的電視與螢 幕
3.3 電漿的工業應用
• 電漿CVD • 電漿蝕刻 • 濺鍍 • 離子鍍 • 電漿顯示器 • 電漿核融合 • 電漿切割 • 電漿噴銲 • 電漿銲接
3.3.2.2 配置示意圖
3.3.3 電源供應器(脈衝直流)
3.3.3.1 3.3.3.2 3.3.3.3 3.3.3.4
操作模式 輸出波型與控制參數 雙靶接法 電弧消除
3.3.3.1 操作模式
• Dc+ • Dc• Up+ • Up• Bp
3.3.3.2 輸出波型與控制參數
3.3.3.3 雙靶接法
ITO, SiO2, Cr, Cu, Al, CrOxNy, T-layer ITO, Al, Ta, Mo, Cr, SiC Cermets,
SiO2, SiOxNy ITO, ZnS:Mn, ZnS:Tb,
SiOxNy, TaxOy ITO, Al, Cr, Cu
Cr, Cu, Al Interpose
待鍍物 氣體噴嘴
工作壓力: 10-4~10-6 torr
鍍材:
金屬如:
Al, Ag, Au, W, Cu, Ni, Cr 等
介電質材料如:
SiO2, TiO2, Ta2O5, Al2O3,
v
ITO, SnO2等
2.1.3 濺鍍Sputtering
直流電源
Al Ar+
真空腔體 鋁靶材 磁控濺鍍靶
接地
設備
真空鍍膜
基材 鍍材 膜層設計 鍍膜技術 製程
品質檢測
檢測
環境檢測
1.1 設備
• 真空腔體 • 真空幫浦 • 自動控制 • 感測元件
1.2 製程
• 基材
– 玻璃、塑膠、晶圓、金屬等
• 鍍材
– 金屬、介電質、半導體等
• 膜層設計
– 考慮適用的鍍膜材料、膜的 功能
• 鍍膜技術
– 考慮尺寸、基材、鍍材、功 能與適用的鍍膜方式
• 以濺鍍在PVD技術中佔最重要的角色
3.0 綱要
3.1 電漿的基本概念 3.2 產生真空電漿的基本要素 3.3 真空電漿的技術-濺鍍 3.4 產業應用實例-濺鍍
3.1 電漿的基本概念
• 兩岸的定義
– 台灣：電漿 – 大陸：等離子體
• 第四物質狀態
– 固體、液體、氣體 – 電漿(指所有物質)
• 電性
• 供氣系統
– 氣體導入
• 噴嘴 • 氣孔口徑與位置
– 流量控制
• 質流量控制器(Mass Flow Controller)
• 流量計(Flow Meter) • 針型閥(Needle Valve) • 壓電陶瓷閥(Piezo
Electric Valve:簡稱 PZT閥)
• 電控系統
– 工業電腦 – 可程式邏輯控制器 – 人機介面-觸控面板
1.3 檢測
• 品質檢測
– 光學特性 – 機械特性 – 電磁性
• 環境檢測
– 耐候性 – 化學特性
2. 真空鍍膜技術與設備的種類
技術種類
A. 物理氣相鍍膜(PVD) ‧ 熱蒸著 ‧ 濺鍍 ‧ 多弧離子鍍膜
設備種類
‧ 批次(batch)型態 ‧ 連續(inline)型態 ‧ 集合(cluster)型態 ‧ 捲膜(web)型態
輔仁大學物理系/所 啟動產業人力扎根計畫-真空鍍膜技術學程
｢薄膜應用專題｣系列演講
真空鍍膜之基礎與應用
歐特威科技股份有限公司 湛本岱
總綱
1. 構成真空鍍膜的基本要素 2. 真空鍍膜技術與設備的種類 3. 真空鍍膜技術與應用 - 濺鍍 4. 結論
1. 構成真空鍍膜的基本要素
真空腔體 真空幫浦 自動控制 感測元件
3.4.3 捲膜式濺鍍系統
• 高分子捲膜(PET ITO、軟性電路板用的薄銅) • 金屬捲片(裝飾、太陽能電池、燈具的反射片)
3.4.4 應用的膜層種類 3.4.5 應用範圍 3.4.6 產業範例1 3.4.7 產業範例2
3.4.1 水平連續式濺鍍系統
大樓惟幕玻璃生產線
3.4.2 垂直連續式濺鍍系統
3.3.2 電漿製程控制
3.3.2.1 工作原理 3.3.2.2 配置示意圖
3.3.2.1 工作原理
PEM
PEM software
Particle density Line intensity Actual value of density
Set-point value of density
Gas flow control
B. 化學氣相鍍膜(CVD) ‧ PECVD電漿輔助CVD ‧ ECR/ICP高密度電漿CVD
2.1.1 熱蒸著：鎢舟(鎢絲)型 待鍍物 氣體噴嘴 鍍材
工作壓力: 待鍍物
10-4~10-6 torr 氣體噴嘴
鎢舟
P
P
低電壓高電流電源供應器
鎢絲
2.1.2 熱蒸著：電子槍型
電子槍蒸發源
電子加速 撞擊鍍材
3.2.2 氣體
• 基本氣體
– Ar、He
• 反應氣體
– O2、H2、N2 – CF4、Cl2、HCl、BCl3、SF6
3.2.3 能量供應
• 微波電漿(Microwave,簡稱MW)
– 以GHz為主 – 2.45GHz為代表
• 射頻電漿(Radio Frequency,簡稱RF)
– 以MHz為主 – 13.56MH 電漿精煉 • 電漿熔融爐 • 電暈放電反應器 • 電漿放電洗淨 • 電漿開關 • 電漿磁流體 • 電漿照明
3.2 產生真空電漿的基本要素
3.2.1 真空技術 3.2.2 氣體 3.2.3 能量供應
3.2.1 真空技術
• 真空腔體 • 抽氣系統 • 供氣系統 • 電控系統
2.3 設備種類
• 批次(batch)型態 • 連續(inline)型態 • 捲膜(web)型態 • 集合(cluster)型態
3. 真空鍍膜技術與應用 - 濺鍍
• 真空電漿技術為現今高科技所依賴不可或 缺的重要科技
• 半導體工業、光電通訊工業、民生傳統工 業升級接需要這項重要的產業技術